JP2014056999A - パターニングされた有機電極を形成する方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】パターニングされた有機電極を形成する方法を提供する。
【解決手段】方法は、レーザプリンタにより、基板上にトナーのパターンを形成する工程Ｓ１と、ＰＥＤＯＴ及びＰＳＳを含有する溶液を前記基板上に供給する工程Ｓ２と、トナーを、トナー除去用の第１溶媒及びＰＳＳを選択的に除去する第２溶媒を含有する剥離液により剥離する工程Ｓ３と、を含む。一実施形態において、剥離液は、第１溶媒として、トルエンを含有し、第２溶媒として、エチレングリコールを含有していてもよい。また、剥離液は、１０質量％以上４０質量％以下のエチレングリコールを含んでいてもよい。更なる実施形態では、剥離液は、１０質量％以上３０質量％以下のエチレングリコールを含んでいてもよい。
【選択図】図１
【解決手段】方法は、レーザプリンタにより、基板上にトナーのパターンを形成する工程Ｓ１と、ＰＥＤＯＴ及びＰＳＳを含有する溶液を前記基板上に供給する工程Ｓ２と、トナーを、トナー除去用の第１溶媒及びＰＳＳを選択的に除去する第２溶媒を含有する剥離液により剥離する工程Ｓ３と、を含む。一実施形態において、剥離液は、第１溶媒として、トルエンを含有し、第２溶媒として、エチレングリコールを含有していてもよい。また、剥離液は、１０質量％以上４０質量％以下のエチレングリコールを含んでいてもよい。更なる実施形態では、剥離液は、１０質量％以上３０質量％以下のエチレングリコールを含んでいてもよい。
【選択図】図１
Description
本発明の実施形態は、パターニングされた有機電極を形成する方法に関するものである。
有機トランジスタは、可撓性、軽量性、薄さ、大面積での製造性、低コスト性といった種々の要因から、注目されている。有機トランジスタでは、一般的に、半導体層及び絶縁体層が、可溶性の有機材料を塗布、例えば、印刷することにより形成され、ゲート、ソース、及びドレインといった電極が、Ａｕといった金属の蒸着により形成される。上記半導体層に用いられる有機材料としては、アモルファスシリコンの移動度と同程度の材料、例えば、ペンタセンが知られている。
近年、有機トランジスタにおける電極を、有機材料を用いて形成する技術の研究が行われている。このような技術は、例えば、特許文献１に記載されている。特許文献１に記載された技術では、ＰＥＤＯＴ（ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン)）の液滴を基板上に滴下すること、又はＰＥＤＯＴ溶液をインクジェット印刷することにより、有機電極のパターニングを行っている。
しかしながら、インクジェット印刷では、ノズルから吐出する材料の粘性やｐＨの調整等が必要となるので、有機材料が有する特性を十分に利用することができない。また、リソグラフィ技術を用いて、有機材料をパターニングすることも考えられるが、レジスト剥離液に電極用の有機材料が曝される結果、電極の電気伝導率が劣化し得る。
このような背景から、本技術分野においては、パターニングされた有機電極の電気伝導率の劣化を抑制し且つ当該電気伝導率を向上させて、形成する方法が要請されている。
本願発明者は、レーザプリンタを用いて基板上にトナーのパターンを形成し、当該トナーのパターンをマスクとして、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを含有する溶液を基板上に供給し、トナー除去用の溶媒を含む剥離液を用いてトナーを剥離することにより、パターニングされた有機電極を形成する研究を行っている。この研究において、本願発明者は、剥離液に、トナー除去用の溶媒と共に、ＰＳＳを選択的に除去し得る溶媒（以下、「高導電化溶媒」という）を加えることで、トナーの剥離と有機電極の高電気伝導率化を同時に達成し得るという知見を得た。
一側面においては、上記知見に基づく方法であり、パターニングされた有機電極を形成する方法が提供される。この方法は、（ａ）レーザプリンタにより、基板上にトナーのパターンを形成する工程と、（ｂ）ＰＥＤＯＴ及びＰＳＳを含有する溶液を前記基板上に供給する工程と、（ｃ）トナーを、トナー除去用の第１溶媒及びＰＳＳを選択的に除去する第２溶媒を含有する剥離液により剥離する工程と、を含む。
本方法では、マスクとして機能するトナーが印刷された基板上に、ＰＥＤＯＴ及びＰＳＳを含有する溶液を供給することにより、パターニングされた有機電極が形成され、その後にトナーが剥離液により剥離される。有機電極が剥離液に曝されると、ＰＥＤＯＴに結合しているＰＳＳが当該剥離液中の第２溶媒、即ち高導電化溶媒により部分的に除去される。ここで、ＰＥＤＯＴは導電性高分子材料であり、ＰＳＳ（ポリ（４−スチレンスルホン酸））は絶縁性のドーパントである。したがって、この方法によれば、剥離液に有機電極が曝されて絶縁性のドーパントであるＰＳＳが高導電化溶媒により選択的に除去される結果、有機電極の電気伝導率の低下が抑制され且つ当該電気伝導率が向上される。また、トナーの除去と有機電極の電気伝導率の向上が一工程で同時に実現される。
一実施形態において、剥離液は、第１溶媒として、トルエンを含み、第２溶媒として、エチレングリコールを含んでいてもよい。
一実施形態において、剥離液は、１０質量％以上４０質量％以下のエチレングリコールを含んでいてもよい。かかる濃度で剥離液中にエチレングリコールが含まれていることにより、有機電極は、剥離液に曝される前の電気伝導率よりも相当に高い電気伝導率を有するようになる。
一実施形態において、剥離液は、１０質量％以上３０質量％以下のエチレングリコールを含んでいてもよい。剥離液中のエチレングリコールの濃度が約２０質量％であるときに、有機電極の電気伝導率は、剥離液中のエチレングリコールの濃度と電気伝導率との関係において、ピークを有するようになる。したがって、剥離液中のエチレングリコールの濃度を１０質量％以上３０質量％以下の範囲で調整することにより、有機電極の電気伝導率をピークに近づけることが可能となる。
以上説明したように、本発明の一側面及び実施形態によれば、パターニングされた有機電極の電気伝導率の劣化を抑制し且つ当該電気伝導率を向上させて形成する方法が提供される。
以下、図面を参照して種々の実施形態について詳細に説明する。なお、各図面において同一又は相当の部分に対しては同一の符号を附すこととする。
図１は、一実施形態に係るパターニングされた有機電極を形成する方法を示す流れ図である。図２は、図１に示す方法の各工程で作成される製造物を示す図である。図１に示すように、一実施形態に係る方法では、工程Ｓ１において、レーザプリンタにより、基板１０上にトナーのパターンが印刷される。
この工程Ｓ１により、図２の（ａ）に示すように、基板１０上にトナー１２のパターンが形成される。基板１０は、有機電極を基板１０上に設けるための下地を提供する。この基板１０は、絶縁性のベース基板であってもよい。或いは、基板１０は、ベース基板上に設けられた有機半導体層又は有機絶縁体層を含んでいてもよい。
工程Ｓ１によって形成されるトナー１２のパターンは、作成する有機電極のパターンの反転パターンである。図３は、図１に示す方法の工程Ｓ１で形成されるパターンの一例を示す平面図である。図３に示すトナー１２のパターンの一例は、有機電極の本体部を作成するための開口１２ａ及び有機電極のパッド部を作成するための開口１２ｂを含んでいる。工程Ｓ１によって基板１０上に設けられるトナーは、限定されるものではないが、例えば、酸化鉄、スチレン・アクリル酸エステル共重合体、非結晶シリカ等を含み得る。また、トナーは、酸化鉄の代わりにカーボンブラックを含んでいてもよい。
次いで、本方法では、工程Ｓ２において、基板１０上にＰＥＤＯＴ（ポリ（３，４−（エチレンジオキシ）チオフェン）及びＰＳＳ（ポリスチレンスルホン酸）を含有する溶液１４が供給される。溶液１４において、ＰＥＤＯＴは導電性高分子材料として含まれており、ＰＳＳが絶縁性のドーパントとして含まれている。この溶液１４の供給方法は、限定されるものではないが、ＰＥＤＯＴ及びＰＳＳを含有する溶液のインクジェット印刷、スピンコートといった方法であってもよい。
工程Ｓ２では、トナー１２と基板１０の表面の撥水性の差異を利用して、溶液１４が基板１０上に供給される。トナー１２は、基板１０の表面よりも、高い撥水性を有する。即ち、基板１０は、トナー１２よりも高い親水性を有する。したがって、工程Ｓ２により、基板１０の表面の一部領域であってトナー１２に覆われていない領域上に、ＰＥＤＯＴ及びＰＳＳを含有する溶液１４が供給される。
一実施形態において、トナー１２と基板１０との間の撥水性の差異を増加させるために、工程Ｓ１の前、又は、工程Ｓ１と工程Ｓ２との間に、基板１０の表面に対してオゾン処理が施されてもよい。オゾンは、酸素ガスに紫外線を照射することにより発生させることが可能である。
図１に示す方法では、溶液１４を乾燥させた後、工程Ｓ３においてトナー１２が剥離される。この工程Ｓ３により、図２の（ｃ）に示すようにパターニングされた有機電極ＥＬが形成される。
工程Ｓ３で用いられる剥離液は、トナー除去用の第１溶媒、及び、ＰＳＳを選択的に除去する第２溶媒を含有する。工程Ｓ３では、トナー１２は、当該剥離液を用いた超音波洗浄により除去され得る。なお、トナー１２の除去方法は、剥離液を用いる限り、超音波洗浄に限定されるものではない。この工程Ｓ３では、剥離されるべきトナー１２と共に、有機電極ＥＬも剥離液に曝される。第２溶媒を含有する剥離液に有機電極ＥＬが曝されると、ＰＥＤＯＴに結合しているＰＳＳが当該剥離液中の第２溶媒により部分的に除去される。したがって、剥離液に曝されても、絶縁性のＰＳＳが選択的に除去される結果、有機電極ＥＬの電気伝導率の劣化が抑制され、且つ、当該電気伝導率が向上され得る。また、工程Ｓ３によれば、単一の工程により、トナー１２の除去と有機電極ＥＬの高電気伝導率化が同時に達成され得る。
ここで、上述した第１溶媒としては、トルエン、アセトンが例示される。第２溶媒としては、エチレングリコール（ＥＧ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、水、エタノール、イソプロパノール、アセトニトリルが例示される。なお、第２溶媒は、第１溶媒に均一に混合され得る溶媒であってもよく、或いは、第１溶媒に均一に混合できない、即ち、第１溶媒に対して分離した状態で剥離液に含められる溶媒であってもよい。
一実施形態において、剥離液は、第１溶媒としてトルエンを含み、第２溶媒として、エチレングリコールを含んでいてもよい。エチレングリコールは、架橋反応によりＰＥＤＯＴ／ＰＳＳの結晶化を促進させ得るので、有機電極ＥＬの高電気伝導率化を促進するものと考えられる。また、一実施形態において、剥離液は、１０質量％以上４０質量％以下のエチレングリコールを含んでいてもよい。かかる濃度で剥離液中にエチレングリコールが含まれていることにより、有機電極ＥＬは、剥離液に曝される前の電気伝導率よりも相当に高い電気伝導率を有するようになる。
また、一実施形態において、剥離液は、１０質量％以上３０質量％以下のエチレングリコールを含んでいてもよい。剥離液中のエチレングリコールの濃度が約２０質量％であるときに、有機電極ＥＬの電気伝導率は、剥離液中のエチレングリコールの濃度と電気伝導率との関係において、ピークを有するようになる。したがって、剥離液中のエチレングリコールの濃度を１０質量％以上３０質量％以下の範囲で調整することにより、有機電極ＥＬの電気伝導率をピーク値に近づけることが可能となる。
以下、上述した実施形態の方法により形成される有機電極を備え得る有機トランジスタについて説明する。図４〜図７は、上述した実施形態の方法により形成される有機電極を備え得る有機トランジスタを示す断面図である。図４〜図７に示す有機トランジスタは、電界効果トランジスタであり、それぞれ、ボトムゲート・ボトムコンタクト型、ボトムゲート・トップコンタクト型、トップゲート・ボトムコンタクト型、トップゲート・トップコンタクト型の有機トランジスタである。図４〜図７に示す有機トランジスタＴ１〜Ｔ４は各々、ベース基板ＢＳ、ゲート電極ＧＥ、ソース電極ＳＥ、ドレイン電極ＤＥ、絶縁体層ＩＬ、及び、半導体層ＳＬを備えている。
図４に示すボトムゲート・ボトムコンタクト型の有機トランジスタＴ１では、ゲート電極ＧＥは、ベース基板ＢＳの一主面上に設けられている。絶縁体層ＩＬは、ゲート電極ＧＥ及びベース基板ＢＳの一主面を覆うように設けられている。半導体層ＳＬは、ゲート電極の上方において、絶縁体層ＩＬ上に設けられている。ソース電極ＳＥ及びドレイン電極ＤＥは、それらの間に、ゲート電極ＧＥ上の半導体層ＳＬと絶縁体層ＩＬの界面が介在するように、絶縁体層ＩＬ上に設けられている。
図５に示すボトムゲート・トップコンタクト型の有機トランジスタＴ２では、ゲート電極ＧＥは、ベース基板ＢＳの一主面上に設けられている。絶縁体層ＩＬは、ゲート電極ＧＥ及びベース基板ＢＳの一主面を覆うように設けられている。半導体層ＳＬは、絶縁体層ＩＬ上に一様に設けられている。ソース電極ＳＥ及びドレイン電極ＤＥは、それらの間に、ゲート電極ＧＥ上の半導体層ＳＬと絶縁体層ＩＬの界面が介在するように、絶縁体層ＩＬ上に設けられている。
図６に示すトップゲート・ボトムコンタクト型の有機トランジスタＴ３では、半導体層ＳＬは、ベース基板ＢＳの一主面上に設けられている。ソース電極ＳＥ及びドレイン電極ＤＥは、それらの間に半導体層ＳＬが介在するように、ベース基板ＢＳ上に設けられている。絶縁体層ＩＬは、ソース電極ＳＥ、ドレイン電極ＤＥ、及び半導体層ＳＬを覆うように設けられている。ゲート電極ＧＥは、ソース電極ＳＥとドレイン電極ＤＥの間に介在する絶縁体層ＩＬと半導体層ＳＬの界面の上方において、絶縁体層ＩＬ上に設けられている。
また、図７に示すトップゲート・トップコンタクト型の有機トランジスタＴ４では、半導体層ＳＬは、ベース基板ＢＳの一主面を覆うように設けられている。ソース電極ＳＥ及びドレイン電極ＤＥは、互いに離間するよう、半導体層ＳＬ上に設けられている。絶縁体層ＩＬは、ソース電極ＳＥ、ドレイン電極ＤＥ、及び半導体層ＳＬを覆うように設けられている。ゲート電極ＧＥは、ソース電極ＳＥとドレイン電極ＤＥの間、且つ、絶縁体層ＩＬと半導体層ＳＬの界面の上方において、絶縁体層ＩＬ上に設けられている。
図４〜図７に示す有機トランジスタにおいて、ベース基板ＢＳは、絶縁性の基板であり、例えば、ガラス、石英、単結晶シリコン、多結晶シリコン、アモルファスシリコン、又は、合成樹脂等から構成され得る。合成樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリイミド、ボリカーボネート、環状ポリオレフィン等が例示される。
また、図４〜図７に示す有機トランジスタにおいて、半導体層ＳＬは、有機半導体層である。有機半導体層を形成するための有機半導体材料としては、所望の半導体特性を備えた材料、例えば、芳香族化合物、鎖式化合物、有機顔料、有機ケイ素化合物等が例示される。より具体的には、有機半導体材料としては、ペンタセン等の低分子有機化合物、ポリピロール類、ポリチオフェン類、ポリイソチアナフテン類、ポリチェニレンビニレン類、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類、ポリアズレン類等の高分子有機化合物が例示される。
図４〜図７に示す有機トランジスタの絶縁体層ＩＬには、有機トランジスタに一般的に用いられる無機絶縁材料又は有機絶縁材料を用いることができる。無機絶縁材料としては、ガラス、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、窒化ケイ素、窒化アルミニウム等のほか、金属酸化物である酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化チタン、酸化スズ、酸化バナジウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウムストロンチウム、ジルコニウム酸チタン酸バリウム、ジルコニウム酸チタン酸鉛、チタン酸鉛ランタン、チタン酸バリウム、フッ化バリウムマグネシウム、チタン酸ビスマス、チタン酸ストロンチウムビスマス、タンタル酸ストロンチウムビスマス、タンタル酸ニオブ酸ビスマス、トリオキサイドイットリウム、酸化ハフニウム等が例示される。
有機絶縁材料としては、例えば、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル、ポリアクリレート、フェノール系樹脂、フッ素系樹脂、エポキシ系樹脂、ノボラック系樹脂、ビニル系樹脂等の高分子材料が例示される。
また、図４〜図７に示す有機トランジスタの各々のゲート電極ＧＥ、ソース電極ＳＥ、及びドレイン電極ＤＥの全て、又はその一部に、上述した実施形態の方法により形成される有機電極ＥＬを用いることができる。また、図４〜図７に示す有機トランジスタの各々のゲート電極ＧＥ、ソース電極ＳＥ、及びドレイン電極ＤＥのうち他の一部は、例えば、Ａｇ、Ａｕ、Ｔａ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｎｂ、Ｈｆ、Ｍｏ、これらの合金、酸化インジウムスズ合金（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）等の金属材料、シリコン単結晶、多結晶シリコン、アモルファスシリコン等のシリコン系材料、カーボンブラック、グラファイト等の炭素材料等の導電性材料から構成されていてもよい。
図４〜図７の有機トランジスタの各部は、以下に説明するように作成され得る。絶縁体層ＩＬは、無機絶縁材料によって構成される場合には、ドライプロセス又はウェットプロセスにより形成され得る。また、絶縁体層ＩＬは、有機絶縁材料から構成される場合には、ウェットプロセスにより形成され得る。ドライプロセスとしては、例えば、真空蒸着法、分子線エピタキシャル成長法、イオンクラスタービーム法、低エネルギーイオンビーム法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、スパッタリング法、大気圧プラズマ法等を用いることができる。また、ウェットプロセスとしては、例えば、スピンコート法、ダイコート法、ロールコート法、バーコート法、ＬＢ法、ディップコート法、スプレーコート法、ブレードコート法、キャスト法等の塗布方法や、インクジェット法、スクリーン印刷法、パッド印刷法、フレキソ印刷法、マイクロコンタクトプリンティング法、グラビア印刷法、オフセット印刷法、グラビア・オフセット印刷法等を用いることができる。
半導体層ＳＬは、ドライプロセス又はウェットプロセスにより形成され得る。ドライプロセスとしては、例えば、真空蒸着法、分子線エピタキシャル成長法、イオンクラスタービーム法、低エネルギーイオンビーム法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、スパッタリング法、大気圧プラズマ法等を用いることができる。また、ウェットプロセスとしては、例えば、スピンコート法、ダイコート法、ロールコート法、バーコート法、ＬＢ法、ディップコート法、スプレーコート法、ブレードコート法、キャスト法等の塗布方法や、インクジェット法、スクリーン印刷法、パッド印刷法、フレキソ印刷法、マイクロコンタクトプリンティング法、グラビア印刷法、オフセット印刷法、グラビア・オフセット印刷法等を用いることができる。
ゲート電極ＧＥ、ソース電極ＳＥ、及びドレイン電極ＤＥのうち一部又は全ては、上述した実施形態のパターニングされた有機電極を形成する方法により形成され得る。また、ゲート電極ＧＥ、ソース電極ＳＥ、及びドレイン電極ＤＥのうち他の一部は、下地上に導電性材料を一様に設けた後に、当該導電性材料をフォトリソグラフィー技術によりパターニングすることにより形成してもよく、スクリーン印刷法、インクジェット法、蒸着法等によって導電性材料をパターニングすることにより形成してもよい。
以下、実施例を挙げて本発明について更に詳しく説明をするが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
（実施例１、及び、比較例１）
図１に示した方法に従い、ポリエチレンテレフタレート製の基板上にトナーのパターンを形成し、ＰＥＤＯＴ及びＰＳＳを含有する溶液を基板上に滴下し、当該溶液を乾燥させた後に、２０質量％のポリエチレングリコール及び８０質量％のトルエンを含む剥離液によりトナーを剥離することで作成した有機電極を、実施例１とした。実施例１では、トナーのパターンの形成にキャノン社製レーザプリンタ ＬＢＰ Ｂ１０を用いた。また、トナーの剥離前の実施例１の有機電極を比較例１とした。また、トルエンのみを含む剥離液を用いた点において実施例１の作成条件とは相違する作成条件の下で製造した有機電極を、比較例２とした。
実施例１の有機電極、比較例１の有機電極、また、比較例２の有機電極のそれぞれの組成をＸＰＳ（Ｘ線光電子分光）で分析した。具体的には、硫黄の２ｐ軌道に着目してＸＰＳの出力データを取得し、取得した出力データに含まれる強度（任意単位）を、波形分離によりＰＥＤＯＴに起因する強度とＰＳＳに起因する強度とに分離し、ＰＳＳに起因する強度の積分値に対するＰＥＤＯＴに起因する強度の積分値の比を求めた。その結果を、図８に示す。
図８に示すように、トナー剥離前の状態、即ち、比較例１の有機電極のＰＳＳの量に対するＰＥＤＯＴの量の比に対して、トルエンのみを含む剥離液を用いて作成した比較例２の有機電極では、ＰＳＳの量に対するＰＥＤＯＴの量の比は、低下していた。一方、実施例１の有機電極のＰＳＳの量に対するＰＥＤＯＴの量の比は、トナー剥離前、即ち、比較例１の有機電極のＰＳＳの量に対するＰＥＤＯＴの量の比に対して、増加していた。このことから、実施例１の有機電極では、剥離液に曝されたことにより、ＰＥＤＯＴの量に対してＰＳＳの量が相対的に減少していることが確認された。したがって、トナーの剥離液にエチレングリコールを含めることにより、有機電極から選択的にＰＳＳを除去して、有機電極の電気伝導率の劣化を抑制し且つ当該電気伝導率を向上し得ることが確認された。
（実施例２〜７、及び、比較例３〜１０）
図１に示した方法により、ポリエチレンテレフタレート製の基板上にトナーのパターンを形成し、ＰＥＤＯＴ及びＰＳＳを含有する溶液を基板上に滴下し、当該溶液を乾燥させた後に、ポリエチレングリコール及びトルエンを含む剥離液によりトナーを剥離することで作成した有機電極を実施例２〜７とした。実施例２〜７では、剥離液に含まれるエチレングリコールの量を、１０質量％〜６０質量％の間で１０質量％ずつ変化させた。また、トルエンのみを含む剥離液を用いた点において実施例２〜７の作成条件とは相違する作成条件の下で製造した有機電極を、比較例３とした。また、トナーの剥離前の比較例３及び実施例２〜７の有機電極を比較例４〜１０とした。これら実施例２〜７及び比較例３〜１０では、トナーのパターンの形成にキャノン社製レーザプリンタ ＬＢＰ Ｂ１０を用いた。
実施例２〜７及び比較例４〜１０の有機電極のそれぞれの電気伝導率を測定した。また、実施例２〜７及び比較例４〜１０の有機電極のそれぞれの厚みを測定した。図９に電気伝導率の測定結果を、図１０に有機電極の厚みの測定結果を示す。
図９に示すように、剥離液に含まれるエチレングリコールの濃度が１０質量％以上且つ４０質量％以下である場合に、有機電極の電気伝導率が、トナー剥離前の有機電極の電気伝導率よりも相当に高くなることが確認された。また、剥離液に含まれるエチレングリコールの濃度が２０質量％であるときに、有機電極の電気伝導率が、トナー剥離前の有機電極の電気伝導率の約１．５倍の値を有してピーク値となることが確認された。そして、エチレングリコールの濃度を１０質量％から３０質量％の間で調整することにより、有機電極の電気伝導率をピーク値に近づけることが可能であることが確認された。
また、図１０に示すように、トルエン及びエチレングリコールを含む剥離液によりトナーを剥離した実施例の有機電極の厚みは、トナー剥離前、即ち、比較例の有機電極の厚みより、小さくなっていた。この結果は、トルエン及びエチレングリコールを含む剥離液によりトナーを剥離すると、剥離液に曝されることにより、有機電極中のＰＳＳが選択的に除去されたことによるものと推測される。
１０…基板、１２…トナー、１４…溶液、ＥＬ…有機電極、Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３，Ｔ４…有機トランジスタ、ＢＳ…ベース基板、ＳＥ…ソース電極、ＤＥ…ドレイン電極、ＧＥ…ゲート電極、ＩＬ…絶縁体層、ＳＬ…半導体層。
Claims (4)
- パターニングされた有機電極を形成する方法であって、
レーザプリンタにより、基板上にトナーのパターンを形成する工程と、
ＰＥＤＯＴ及びＰＳＳを含有する溶液を前記基板上に供給する工程と、
前記トナーを、前記トナー除去用の第１溶媒及び前記ＰＳＳを選択的に除去する第２溶媒を含有する剥離液により剥離する工程と、
を含む方法。 - 前記剥離液は、前記第１溶媒として、トルエンを含み、前記第２溶媒として、エチレングリコールを含む、請求項１に記載の方法。
- 前記剥離液は、１０質量％以上４０質量％以下のエチレングリコールを含む、請求項２に記載の方法。
- 前記剥離液は、３０質量％以下のエチレングリコールを含む、請求項３に記載の方法。
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2013
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| Publication number | Publication date |
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| US20140070197A1 (en) | 2014-03-13 |
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