JP2014056743A

JP2014056743A - Ｘ線発生装置

Info

Publication number: JP2014056743A
Application number: JP2012201349A
Authority: JP
Inventors: Hiroki Maeda; 裕樹前田
Original assignee: Shimadzu Corp
Current assignee: Shimadzu Corp
Priority date: 2012-09-13
Filing date: 2012-09-13
Publication date: 2014-03-27

Abstract

【課題】陽極ターゲットの照射面の損耗を抑制することができるＸ線発生装置を提供する。
【解決手段】電子ビームを発生する電子源３と、電子源３に対向配置される照射面を有し、電子ビームが照射面に衝突することによりＸ線を発生する陽極ターゲット７と、電子源３と陽極ターゲット７との間に配置され、電子ビームを集束させる集束手段６と、陽極ターゲット７の照射面上に電子ビームの焦点が合うように、集束手段６を制御する制御部２０とを備えるＸ線発生装置１であって、制御部２０は、電子ビームの焦点が電子ビームの進行方向において近点と遠点とに周期的に変動するように、集束手段６を制御する。
【選択図】図１

Description

本発明は、Ｘ線発生装置に関し、より詳細には微小焦点径のＸ線を発する陽極ターゲットを用いたＸ線発生装置に関する。

微細な内部構造を非破壊検査法で観察する手法が各分野で要求されている。例えば、半導体パッケージングの開発や実装検査・品質保証の分野では、微小焦点径のＸ線を発するＸ線管（Ｘ線発生装置）を用いて内部の欠陥等が調べられている。このようなＸ線管としては、マイクロフォーカスＸ線管が用いられ、真空チャンバ内で電子銃部（電子源）から出発した電子ビームを、フォーカスコイル（集束手段）により収束させて、厚さが薄いターゲットプレート（陽極ターゲット）上の１μ〜２００μｍの寸法の微小領域に打ち込み、そこで発生するＸ線を放射している。

また、マイクロフォーカスＸ線管は、Ｘ線の発生方式によって透過型と反射型と呼ばれる２つのタイプに分類される。透過型のマイクロフォーカスＸ線管では、電子ビームから見てターゲットプレートを透過する方向にＸ線が放射され、ターゲットプレートへの電子ビーム入力方向と、ターゲットプレートからのＸ線放射方向が同一である。一方、反射型のマイクロフォーカスＸ線管では、電子ビームから見てターゲットプレートの反射方向にＸ線が放射される。

図２は、従来の透過型のマイクロフォーカスＸ線管の構成を示す断面図である。透過型のマイクロフォーカスＸ線管１０１は、金属製の真空チャンバ２と、電子銃部３と、グリッド電極４と、電子ビームｅの進行方向を調整する偏向コイル５と、電子ビームｅを収束するフォーカスコイル６と、ターゲットプレート７と、ターゲットプレート７を支えるＸ線出力窓８と、電子銃部３と電気的に接続された高電圧発生装置１１と、フォーカスコイル６と電気的に接続された第一電源１２と、偏向コイル５と電気的に接続された第二電源１３と、コンピュータ（制御部）１２０とから構成されている。なお、電子銃部３とターゲットプレート７とを結ぶ方向をＺ方向とし、Ｚ方向と垂直な一方向をＹ方向とし、Ｙ方向とＺ方向とに垂直な方向をＸ方向とする。

電子銃部３は、例えば、タングステンの細線で形成されるフィラメント、または６ホウ化ランタン（ＬａＢ_６）や６ホウ化セリウム（ＣｅＢ_６）等で形成される単結晶または焼結体のチップ等であり、真空チャンバ２の一端部に配置されている。
Ｘ線出力窓８は、例えば、厚さが０．５ｍｍ程度のアルミニウム板であり、真空チャンバ２の他端部に配置されている。ターゲットプレート７は、例えば、厚さが５μｍ程度のタングステン膜であり、Ｘ線出力窓８の電子銃部３側に蒸着されている。よって、ターゲットプレート７の電子銃部３側が、電子ビームｅが照射される照射面となり、ターゲットプレート７の電子銃部３と反対側が、Ｘ線が放射される放射面となる。

そして、電子銃部３は、高電圧発生装置１１から負の高電圧が印加されるようになっている。一方、真空チャンバ２は接地電位に保たれる結果、ターゲットプレート７も接地電位に保たれる。電子銃部３が加熱されると、電子銃部３の表面から電子が放出され、放出された電子は、接地電位であるターゲットプレート７に向かって加速され、電子ビームｅが形成されるようになっている。

フォーカスコイル６は、Ｚ方向を中心軸とした円環状であり、第一電源１２と電気的に接続されて給電されるようになっている。これにより、フォーカスコイル６に流れるフォーカス電流Ｉの大きさに応じて、フォーカスコイル６の内部を通過する電子ビームｅを集束させることで、Ｚ方向での電子ビームｅの焦点の位置が調整される。

偏向コイル５は、Ｚ方向を中心軸としてＸ方向に対称な一対のＸ偏向コイル５ａ、５ｂと、Ｙ方向に対称な一対のＹ偏向コイル（図示せず）とを有する。すなわち、偏向コイル５は、４個のコイルからなり、４個のコイルは、Ｚ方向を中心軸とした円環状に配置されている。そして、偏向コイル５は、第二電源１３と電気的に接続されて給電されるようになっている。これにより、偏向コイル５に流れる電流の大きさに応じて、４個のコイルの内部を通過する電子ビームｅを偏向させることで、ＸＹ面内での電子ビームｅの焦点の位置が調整される。

コンピュータ（制御部）１２０は、高電圧発生装置１１と第一電源１２と第二電源１３との給電量を制御して、管電流と管電圧とフォーカスコイル６に流れるフォーカス電流Ｉと偏向コイル５に流れる電流とを制御する。これにより、コンピュータ１２０は、電子ビームｅを、ターゲットプレート７の１μ〜２００μｍの寸法の微小領域に衝突させる。衝突により、ターゲットプレート７で電子ビームｅの運動エネルギーはＸ線と熱とに変換され、発生したＸ線はＸ線出力窓８から外部に出射される。

ところで、ターゲットプレート７に電子ビームｅがあたると、管電圧と管電流との積で表される電子ビームのエネルギーは、その数パーセントがＸ線となる他は大部分が熱エネルギーに変換される。そのため、ターゲットプレート７は、高温になり、長時間にわたりＸ線を発生していくと、ターゲットプレート７の焦点の位置には穴があくことになる。

そこで、フォーカスコイル６が、被検物にＸ線を照射する検査時には電子ビームｅの焦点をターゲットプレート７の照射面上に合わせる「フォーカス状態」と、非検査時には電子ビームｅの焦点をターゲットプレート７の照射面より近点（または遠点）に合わせる「デフォーカス状態」とに切り換えるＸ線検査装置が開示されている（例えば、特許文献１参照）。

このようなＸ線検査装置では、「フォーカス状態」のときに流すフォーカス電流値Ｉ_ｆが１００であるとすると、「デフォーカス状態」では、１０１のフォーカス電流値Ｉ_ｄを流すことで（１％ほどレンズ強度をずらして）、ターゲットプレート７の照射面上の広い領域に電子ビームｅが衝突するようにして、単位面積あたりの発熱量を抑えることで、ターゲットプレート７の照射面の損耗を抑制している。図３は、「フォーカス状態」のときの電子ビームｅの形状を示す断面図である。図４は、「デフォーカス状態」のときの電子ビームｅの形状を示す断面図である。図４では電子ビームｅの直径が最も小さくなっている部分（収束点）がターゲットプレート７の位置よりも電子発生源の方向（図の左側）に移動している。

特開２００５−３２１２８２号公報

しかしながら、上述したようなＸ線検査装置では、ターゲットプレート７の照射面の損耗を抑制することができない場合があった。

本発明者は、ターゲットプレート７の照射面の損耗を抑制することができない原因について検討した。上述したようなＸ線検査装置では、「フォーカス状態」でターゲットプレート７の照射面上の微小領域に電子ビームｅが衝突することになっているが、何らかの理由で、「フォーカス状態」でターゲットプレート７の照射面上の微小領域に電子ビームｅが衝突するようになっていないことがある。例えば、「フォーカス状態」でターゲットプレート７の照射面より遠点に電子ビームｅの焦点が合っていることがあった。その結果、「フォーカス状態」のときに流すフォーカス電流値Ｉ_ｆが１００であるとして、「デフォーカス状態」で１０１のフォーカス電流値Ｉ_ｄを流した際に、逆にターゲットプレート７の照射面上に電子ビームｅの焦点が合ってしまい、ターゲットプレート７の照射面上の微小領域に電子ビームｅが衝突することがあった。
そこで、「デフォーカス状態」では、１０１のフォーカス電流値Ｉ_ｄを流すことに代えて、９９のフォーカス電流値Ｉ_ｄ１から１０１のフォーカス電流値Ｉ_ｄ２まで周期的（動的）に変化させることにより、電子ビームｅの焦点が近点と遠点とに周期的に変動させることで、ターゲットプレート７の照射面上に電子ビームｅの焦点が合った状態が長く続かないようにする。

すなわち、本発明のＸ線発生装置は、電子ビームを発生する電子源と、前記電子源に対向配置される照射面を有し、前記電子ビームが照射面に衝突することによりＸ線を発生する陽極ターゲットと、前記電子源と前記陽極ターゲットとの間に配置され、前記電子ビームを集束させる集束手段と、前記陽極ターゲットの照射面上に電子ビームの焦点が合うように、前記集束手段を制御する制御部とを備えるＸ線発生装置であって、前記制御部は、前記電子ビームの焦点が前記照射面に合うように駆動するフォーカス状態駆動方式と、前記電子ビームの焦点が前記照射面の前または後にずれるように駆動するデフォーカス状態駆動方式の両方の駆動方式を有し、デフォーカス状態駆動方式においては前記電子ビームの焦点が前記電子ビームの進行方向において近点と遠点とに周期的に変動するように制御するものであることを特徴とする。

本発明のＸ線発生装置によれば、「フォーカス状態」で陽極ターゲット上の微小領域に電子ビームが衝突する場合はもちろんのこと、フォーカス状態のつもりが実際はわずかにずれていたとしても、「デフォーカス状態」では、陽極ターゲットの照射面上に電子ビームの焦点が合った状態が長く続かないため、陽極ターゲットの照射面の損耗を抑制することができる。

（他の課題を解決するための手段および効果）
また、本発明のＸ線発生装置は、前記制御部は、管電圧、管電流、管電圧と管電流との積のいずれか一つがそれぞれの設定値以上である場合に、前記デフォーカス状態駆動方式で駆動するようにしてもよい。
このような本発明のＸ線発生装置によれば、管電圧、管電流、管電圧と管電流との積のいずれか一つがそれぞれの設定値未満であるときには、電子ビームのエネルギーが小さいため発熱量が小さく、陽極ターゲットの照射面の損耗が少ないので、電子ビームの焦点が近点と遠点とに周期的に変動する「デフォーカス状態」とせず、一方、管電圧、管電流、管電圧と管電流の積のいずれか一つがそれぞれの設定値以上であるときには、陽極ターゲットの照射面の損耗が激しいので、電子ビームの焦点が近点と遠点とに周期的に変動する「デフォーカス状態」にする。

また、「フォーカス状態」から「デフォーカス状態」に変えるきっかけとして、上記のように、管電圧、管電流または管電圧と管電流の積に設定値を設ける方法とは別の方法も可能であり、例えば、被検物の有無をきっかけにすることも可能である。
すなわち、本発明のＸ線発生装置は、前記制御部は、デフォーカス状態駆動方式となるように指定された場合に、前記デフォーカス状態駆動方式で駆動するようにしてもよい。

このような本発明のＸ線発生装置によれば、被検物を検査位置に配置した後、「フォーカス状態」となるように指定することで、電子ビームの焦点が変動しない「フォーカス状態」とし、一方、被検物を検査位置から取り除いた後、「デフォーカス状態」となるように指定することで、電子ビームの焦点が近点と遠点とに周期的に変動する「デフォーカス状態」とすることができる。

本願実施形態に係るマイクロフォーカスＸ線源の構成の一例を示す断面図。従来の透過型のマイクロフォーカスＸ線管の構成を示す断面図。フォーカス状態のときの電子ビームの形状を示す断面図。デフォーカス状態のときの電子ビームの形状を示す断面図。

以下、本発明の実施形態について図面を用いて説明する。なお、本発明は、以下に説明するような実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の態様が含まれる。

図１は、実施形態に係るマイクロフォーカスＸ線源の構成の一例を示す断面図である。なお、図２に示したマイクロフォーカスＸ線源１０１と同様のものについては、同じ符号を付している。
透過型のマイクロフォーカスＸ線管１は、金属製の真空チャンバ２と、電子銃部３と、グリッド電極４と、電子ビームｅの進行方向を調整する偏向コイル５と、電子ビームｅを収束するフォーカスコイル６と、電子ビームｅが照射されてＸ線を発生するターゲットプレート７と、ターゲットプレート７を支えるＸ線出力窓８と、電子銃部３と電気的に接続された高電圧発生装置１１と、フォーカスコイル６と電気的に接続された第一電源１２と、偏向コイル５と電気的に接続された第二電源１３と、コンピュータ（制御部）２０とから構成されている。

コンピュータ２０は、ＣＰＵ２１とメモリ２２と入力装置２３とを備える。ＣＰＵ２１が処理する機能をブロック化して説明すると、マイクロフォーカスＸ線管１の管電流と管電圧とを制御する高電圧発生装置制御部２１ａと、フォーカスコイル６に流れるフォーカス電流Ｉを制御するレンズ制御部２１ｂと、偏向コイル５に流れる電流を制御する偏向器制御部２１ｃとを有する。また、メモリ２２には、「フォーカス状態」のときに流すフォーカス電流値Ｉ_ｆを記憶するためのフォーカス状態記憶領域２２ａと、「デフォーカス状態」にするための管電流と管電圧との積の設定値を予め記憶するとともに「デフォーカス状態」のときに流すフォーカス電流Ｉの変動幅ｄ１〜ｄ２（例えば、９９％〜１０１％のフォーカス電流値Ｉ_ｆ）を記憶するためのデフォーカス状態記憶領域２２ｂとを有する。なお、「フォーカス状態」のときに流すフォーカス電流値Ｉ_ｆは、操作者によって「管電流の値」と「管電圧の値」との組み合わせごとに、Ｘ線画像を見ながら決められてフォーカス状態記憶領域２２ａに定期的に記憶されるものである。

偏向器制御部２１ｃは、操作者によって入力装置２３で入力された入力情報に基づいて、偏向コイル５に流れる電流を制御する。
高電圧発生装置制御部２１ａは、操作者によって入力装置２３で入力された入力情報「管電流の値」と「管電圧の値」に基づいて、管電流と管電圧とを制御するとともに、レンズ制御部２１ｂに入力情報「管電流の値」と「管電圧の値」を出力する。

以下では、「フォーカス状態」となるようにフォーカスコイル６を駆動することをフォーカス状態駆動方式と呼び、「デフォーカス状態」となるようフォーカスコイル６を駆動することをデフォーカス状態駆動方式と呼ぶ。

フォーカス状態駆動方式は電子ビームｅの焦点がターゲット７のちょうど上で結ぶようにフォーカスコイル６を駆動する方式であり、Ｘ線源の機械的寸法や管電圧と管電流に応じて決まる一定の電流をフォーカスコイル６に流す駆動方式である。フォーカス状態記憶領域２２ａに記憶されているフォーカス電流値Ｉ_ｆに基づいて、第一電源１２を制御することにより、フォーカス電流値Ｉ_ｆのフォーカス電流Ｉをフォーカスコイル６に流す。これにより、「フォーカス状態」とした間、電子ビームｅの焦点の位置が固定された状態で、電子ビームｅがターゲットプレート７の照射面に衝突する。

一方、デフォーカス状態駆動方式は電子ビームの焦点がターゲット７の前または後にわずかにずれるようにフォーカスコイル６を駆動する方式であり、フォーカス状態におけるフォーカスコイル６に流す電流値と比較して、その値から少数点以下の数値から数パーセント程度の数値までずらした電流値をフォーカスコイル６に流す駆動方式である。

図１に示すマイクロフォーカスＸ線管１では、フォーカスコイル６の駆動方式として、必要に応じてフォーカス状態駆動方式とデフォーカス状態駆動方式のどちらかを選択して駆動できる。どのようなときにデフォーカス状態駆動方式で駆動するかについては、大きく分類すれば２つの方法を採用できる。

第１の方法は、常にデフォーカス状態駆動方式で駆動する方法である。この場合にはこのＸ線源を使用してＸ線透視などを行うときもデフォーカス状態駆動方式で駆動し、Ｘ線透視などを行っていないときも同じくデフォーカス状態駆動方式で駆動する。こうすると常にデフォーカス状態となるのでＸ線焦点の大きさは大きくなりＸ線透視装置としての分解能は悪くなるのであるが、ターゲットプレート７を損傷する恐れは小さくなるのでＸ線源の寿命を延ばすことができる。

第２の方法としては、Ｘ線透視などを行っているときにはフォーカス状態駆動方式で駆動し、Ｘ線透視などを行っていない時間だけデフォーカス状態駆動方式で駆動する方法である。このようにすればＸ線透視画像は分解能のよいものが得られるが、装置が休んでいる間（ただし、その間も安定化のためにＸ線源の電源は入っている状態）はデフォーカス状態となるのでターゲットを損傷する恐れは小さくなりＸ線源の寿命を延ばすことができる。

ここで、デフォーカス状態駆動方式の駆動方法をさらに説明する。フォーカス電流Ｉの変動幅ｄ１〜ｄ２を入力するための画面を表示し、その画面にフォーカス電流Ｉの変動幅ｄ１〜ｄ２（例えば、９９％〜１０１％のフォーカス電流値Ｉ_ｆ）が入力されると、フォーカス状態記憶領域２２ａに記憶されているフォーカス電流値Ｉ_ｆと、入力されたフォーカス電流Ｉの変動幅ｄ１〜ｄ２とに基づいて、第一電源１２を制御することにより、９９％のフォーカス電流値Ｉ_ｆとなるフォーカス電流値Ｉ_ｄ１から１０１％のフォーカス電流値Ｉ_ｆとなるフォーカス電流値Ｉ_ｄ２まで徐々に増加し、フォーカス電流値Ｉ_ｄ２からフォーカス電流値Ｉ_ｄ１まで徐々に減少することを繰り返すように、フォーカス電流Ｉをフォーカスコイル６に流す。これにより、電子ビームｅの焦点が電子ビームｅの進行方向（Ｚ方向）において近点と遠点とに周期的に変動して、電子ビームｅがターゲットプレート７の照射面上の微小領域に衝突したり、ターゲットプレート７の照射面上の広い領域に衝突したりする。
以上のデフォーカス状態駆動方式の駆動方法は、言い換えれば、フォーカスコイルに流す電流値として、直流成分に交流成分を重畳した波形で電流を流すということである。直流成分の大きさに対して交流成分の大きさは小数点以下の数値から数パーセント程度の数値までの範囲にすることが適当である。

このとき、「フォーカス状態」でターゲットプレート７の照射面上の微小領域に電子ビームｅが衝突していれば、９９％のフォーカス電流値Ｉ_ｆを流した際には電子ビームｅがターゲットプレート７の照射面上の広い領域に衝突し、１００％のフォーカス電流値Ｉ_ｆを流した際には電子ビームｅがターゲットプレート７の照射面上の微小領域に衝突し、１０１％のフォーカス電流値Ｉ_ｆを流した際には電子ビームｅがターゲットプレート７の照射面上の広い領域に衝突することを繰り返すことになる。
一方、「フォーカス状態」でターゲットプレート７の照射面より遠点に電子ビームｅの焦点が合っていれば、１０１％のフォーカス電流値Ｉ_ｆを流した際には電子ビームｅがターゲットプレート７の照射面上の微小領域に衝突し、１００％のフォーカス電流値Ｉ_ｆを流した際には電子ビームｅがターゲットプレート７の照射面上の広い領域に衝突し、９９％のフォーカス電流値Ｉ_ｆを流した際には電子ビームｅがターゲットプレート７の照射面上のより広い領域に衝突することを繰り返すことになる。

フォーカス状態駆動方式とデフォーカス状態駆動方式の切り換えは次のようにしてもよい。
レンズ制御部２１ｂは、高電圧発生装置制御部２１ａからの入力情報「管電流の値」と「管電圧の値」に基づいて、フォーカスコイル６に流れるフォーカス電流Ｉを制御する。
具体的には、入力された「管電流の値」×「管電圧の値」の値がデフォーカス状態記憶領域２２ｂに記憶された設定値未満であると判定したときには、フォーカス状態駆動方式で駆動する。管電圧および管電流の両方が小さければターゲットプレート７で消費されるエネルギーが小さくなるので、ターゲットプレート７の照射面の損耗が元々小さく、デフォーカスする必要は少ないからである。

一方、入力された「管電流の値」×「管電圧の値」の値がデフォーカス状態記憶領域２２ｂに記憶された設定値以上であると判定したときには、デフォーカス状態駆動方式で駆動する。
なお、上記では「管電流の値」×「管電圧の値」の値が所定値であるかどうかで駆動方式を変更したが、この変更の判断としては、「管電流の値」が所定値以上である、または、「管電圧の値」が所定値以上である、という判断で置き換えてもよい。また、それらを併用してもよい。

以上のように、本発明のマイクロフォーカスＸ線源１によれば、「フォーカス状態」でターゲットプレート７上の微小領域に電子ビームｅが衝突する場合はもちろんのこと、フォーカス状態のつもりが実際はわずかにずれていたとしても、「デフォーカス状態」では、ターゲットプレート７の照射面上に電子ビームｅの焦点が合った状態が長く続かないため、ターゲットプレート７の照射面の損耗を抑制することができる。

＜他の実施形態＞
（１）上述したマイクロフォーカスＸ線源１では、レンズ制御部２１ｂが「管電流の値」×「管電圧の値」の値が設定値以上であると判定したときには、フォーカス電流値Ｉ_ｄ１からフォーカス電流値Ｉ_ｄ２まで周期的に変化するように、フォーカス電流Ｉをフォーカスコイル６に流すような構成を示したが、通常はフォーカス状態駆動方式で駆動し、操作者が入力装置２３で「デフォーカス状態」と入力した場合のみにデフォーカス状態駆動方式で駆動する構成としてもよい。
（２）また、操作者による「デフォーカス状態」の入力の代わりに、装置自身が透視画像取得などの動作状態であるかどうかを判断して、動作状態以外の場合にデフォーカス状態駆動方式に切り換えてもよい。さらに、フォーカス状態駆動方式からデフォーカス状態駆動方式に変えるきっかけとして、例えば、被検物がＸ線透視装置の試料ステージに載っているかどうかをきっかけにすることも可能である。被検物の有無は試料ステージ近傍に設置したセンサにより検出できる他、Ｘ線透視画像から判断することも可能である。

（３）フォーカス電流値の周期的変化（交流成分）の波形は、周期的な波形であれば特には限定されないが、正弦波や三角波などを採用することができる。正弦波は一般的に採用しやすい波形であるという効果がある。また、三角波では、どのような場合であっても、焦点がターゲットプレート上に結ばれる時間が短くなるという効果がある。

（４）上述したマイクロフォーカスＸ線源１では、集束手段としてフォーカスコイル６を用いた構成を示したが、静電レンズを用いた構成としてもよい。
（５）上述したマイクロフォーカスＸ線源１では、透過型タイプを用いた構成を示したが、反射型タイプを用いた構成としてもよい。
（６）上述したマイクロフォーカスＸ線源１では、真空チャンバ２の外側に偏向コイル５やフォーカスコイル６を配置したが、これらが真空チャンバ２の中側（真空内）にあるように配置してもよい。

本発明は、微小焦点径のＸ線を発する陽極ターゲットを用いたＸ線発生装置等に利用することができる。

１マイクロフォーカスＸ線源（Ｘ線発生装置）
３電子銃部（電子源）
６フォーカスコイル（集束手段）
７ターゲットプレート（陽極ターゲット）
２０コンピュータ（制御部）

Claims

電子ビームを発生する電子源と、
前記電子源に対向配置される照射面を有し、前記電子ビームが照射面に衝突することによりＸ線を発生する陽極ターゲットと、
前記電子源と前記陽極ターゲットとの間に配置され、前記電子ビームを集束させる集束手段と、
前記陽極ターゲットの照射面上に電子ビームの焦点が合うように、前記集束手段を制御する制御部とを備えるＸ線発生装置であって、
前記制御部は、前記電子ビームの焦点が前記照射面に合うように駆動するフォーカス状態駆動方式と、前記電子ビームの焦点が前記照射面の前または後にずれるように駆動するデフォーカス状態駆動方式の両方の駆動方式を有し、デフォーカス状態駆動方式においては前記電子ビームの焦点が前記電子ビームの進行方向において近点と遠点とに周期的に変動するように制御するものであることを特徴とするＸ線発生装置。
前記制御部は、管電圧、管電流、管電圧と管電流の積のいずれか一つがそれぞれの設定値以上である場合に、前記デフォーカス状態駆動方式で駆動することを特徴とする請求項１に記載されたＸ線発生装置。
前記制御部は、デフォーカス状態駆動方式となるように指定された場合に、前記デフォーカス状態駆動方式で駆動することを特徴とする請求項１に記載されたＸ線発生装置。