JP2014053477A - 固体金属ガス供給装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】固体原料201とU字型反応ガス管204より導入されるガスを反応させ固体を気化させ反応ガス224を生成する。それを高温に維持したまま、高温の面接触式の開閉器217で開閉するとともに、高温に加熱したキャリアーガスで輸送する。開閉器が閉のときは発生するガスをパージする機構で面接触式の漏れ成分をなくする。この構造により、固体原料の気化と輸送の開閉を可能にする。
【選択図】図2
Description
102 ガス生成室
103 加熱ヒーター1
104 原料反応ガス
106 原料ガス
107 開閉機構
108 原料ガス減圧排気ライン
109 原料ガスパージガス
110 原料ガス出口管
111 加熱キャリアーガスライン
112 加熱キャリアーガス
201 固体原料
202 原料容器
203 ガス生成室
204 U字型反応ガス管
205 反応ガス導入管
206 石英管
207 生成室上下機構
208 保護ガス導入管
209 原料交換上下機構
210 水冷機構フランジ
211 パージガス導入管
212 ランプヒーター1
213 ランプヒーター2
214 ガス生成室蓋
215 孔
216 減圧排気ライン
217 ガスシャッター
218 ガスシャッターレセプタ
219 原料ガス出口
220 原料オリフィス
221 加熱キャリアーガス導入管
222 キャリアーガス加熱ガイド
223 熱交換溝
224 原料ガス
301 固体原料
302 原料容器
303 原料ガス生成室
304 反応ガス管
305 反応ガス導入管
306 石英管
307 生成室上下機構
308 保護ガス導入管
309 原料交換上下機構
310 伸縮管
311 水冷機構フランジ
312 パージガス導入管
313 ランプヒーター1
314 ランプヒーター2
315 ガスシャッターレセプタ
316 ガスシャッター
317 孔通路
318 孔
319 減圧排気ライン
320 加熱キャリアーガス導入管
321 キャリアーガス加熱ガイド
322 熱交換溝
323 原料ガス
324 原料ガス出口
400 膜形成装置
401 固体気化ガス供給器
402 パージガス導入管
403 保護ガス導入管
404 加熱キャリアーガス導入管
405 原料反応ガス導入管
406 減圧排気ライン
407 ガス分散室
408 反応ガス均一分配器
409 ガラス基板
410 基板加熱機構
411 ガス加熱機構
412,413 ガス排気管
414,415,416,417 加熱大気遮断器
418 ガス供給管
419 排気装置
420 溝
421 回転基板送り機
Claims (13)
- 固体を蒸発気化させてガスを生成する生成室、または導入した反応ガスと固体原料とを反応させて当該固体を成分として含む反応ガスを生成する生成室を備え、当該生成室からの当該生成ガスの出口流路を開閉する開閉機構を備え、当該生成室と当該開閉機構を個別に加熱する加熱機構を備え、当該生成室と当該開閉機構の間に当該生成ガスをパージ排気する減圧排気管を備え、当該反応ガスと混合して当該反応ガスを輸送するためのキャリアーガスを加熱する機構を備えたガス供給装置。
- 前記生成室と前記開閉機構がカーボン、石英やアルミナを含むセラミクス、またはステンレス鋼を含む金属の材料で構成されていることを特徴とする請求項1記載のガス供給装置。
- 前記材料の表面が当該材料と異なる材料の膜で被覆されていることを特徴とする請求項1、2記載のガス供給装置。
- 前記開閉機構が前記材料の面同士の非接触と接触で開閉する機構であること特徴とする請求項1〜3記載のガス供給装置。
- 前記開閉機構を加熱する機構を備えてあることを特徴とする請求項1〜4記載のガス供給装置。
- 前記生成室が金属、または石英やランタンボライドを含むセラミクス、またはカーボン、またはこれらの組み合わせで構成されていることを特徴とする請求項1〜5記載のガス供給装置。
- 前記生成室が加熱機構で制御された異なる温度の領域を備え、当該領域に異なる種類・組成の固体材料を分離収納することを特徴とする請求項1〜6記載のガス供給装置。
- 前記固体原料が前記生成室に積層されて配置され前記反応ガスと接触させる機会を増加させたことを特徴とする請求項1〜7記載のガス供給装置。
- 前記生成室の場所を移動させる移動機構を備えたことを特徴とする請求項1〜8記載のガス供給装置。
- 前記生成室の前記移動機構を前記開閉機構の駆動と連結させたことを特徴とする請求項1〜9記載のガス供給装置。
- 前記生成室で発生させた前記反応ガスを前記開閉機構が閉のときに排気することを特徴とする請求項1〜10記載のガス供給装置。
- 前記反応ガスが塩素、要素、フッ素、臭素のハロゲン、または水素化ハロゲンガス、または酸素・窒素・水素・炭素を含むガス、またはこれらの混合ガスである特徴とする請求項1〜11記載のガス供給装置。
- 前記固体原料がガリュームGa,インジュームIn,マグネシュームMg,アルミニュームAl,亜鉛Zn,ニッケルNi,銅Cu,ジルコニュームZr,シリコンSi,ゲルマニュームGeの金属、またはテルルTe,硫黄Sを含むカルコゲンであることを特徴とする請求項1〜12記載のガス供給装置。
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