JP2014039107A - 圧電振動子 - Google Patents

圧電振動子 Download PDF

Info

Publication number
JP2014039107A
JP2014039107A JP2012179417A JP2012179417A JP2014039107A JP 2014039107 A JP2014039107 A JP 2014039107A JP 2012179417 A JP2012179417 A JP 2012179417A JP 2012179417 A JP2012179417 A JP 2012179417A JP 2014039107 A JP2014039107 A JP 2014039107A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vibration
crystal
sub
frequency
unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2012179417A
Other languages
English (en)
Inventor
Mitsuaki Koyama
光明 小山
Takeshi Muto
猛 武藤
Manabu Ishikawa
学 石川
Shinichi Sato
信一 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nihon Dempa Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Nihon Dempa Kogyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nihon Dempa Kogyo Co Ltd filed Critical Nihon Dempa Kogyo Co Ltd
Priority to JP2012179417A priority Critical patent/JP2014039107A/ja
Priority to CN201310349555.2A priority patent/CN103595369A/zh
Priority to US13/964,106 priority patent/US20140041454A1/en
Priority to TW102128857A priority patent/TW201407954A/zh
Publication of JP2014039107A publication Critical patent/JP2014039107A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N29/00Investigating or analysing materials by the use of ultrasonic, sonic or infrasonic waves; Visualisation of the interior of objects by transmitting ultrasonic or sonic waves through the object
    • G01N29/04Analysing solids
    • G01N29/12Analysing solids by measuring frequency or resonance of acoustic waves
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H3/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
    • H03H3/007Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
    • H03H3/02Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of piezoelectric or electrostrictive resonators or networks
    • H03H3/04Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of piezoelectric or electrostrictive resonators or networks for obtaining desired frequency or temperature coefficient
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R23/00Arrangements for measuring frequencies; Arrangements for analysing frequency spectra
    • G01R23/02Arrangements for measuring frequency, e.g. pulse repetition rate; Arrangements for measuring period of current or voltage
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03BGENERATION OF OSCILLATIONS, DIRECTLY OR BY FREQUENCY-CHANGING, BY CIRCUITS EMPLOYING ACTIVE ELEMENTS WHICH OPERATE IN A NON-SWITCHING MANNER; GENERATION OF NOISE BY SUCH CIRCUITS
    • H03B1/00Details
    • H03B1/04Reducing undesired oscillations, e.g. harmonics
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/02Details
    • H03H9/02007Details of bulk acoustic wave devices
    • H03H9/02086Means for compensation or elimination of undesirable effects
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/15Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material
    • H03H9/17Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material having a single resonator
    • H03H9/19Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material having a single resonator consisting of quartz
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03LAUTOMATIC CONTROL, STARTING, SYNCHRONISATION OR STABILISATION OF GENERATORS OF ELECTRONIC OSCILLATIONS OR PULSES
    • H03L1/00Stabilisation of generator output against variations of physical values, e.g. power supply
    • H03L1/02Stabilisation of generator output against variations of physical values, e.g. power supply against variations of temperature only
    • H03L1/028Stabilisation of generator output against variations of physical values, e.g. power supply against variations of temperature only of generators comprising piezoelectric resonators
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/46Filters
    • H03H9/54Filters comprising resonators of piezoelectric or electrostrictive material
    • H03H9/545Filters comprising resonators of piezoelectric or electrostrictive material including active elements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Acoustics & Sound (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
  • Oscillators With Electromechanical Resonators (AREA)

Abstract

【課題】副振動の発生を抑制した圧電振動子を提供すること。
【解決手段】厚みすべり振動を主振動とする水晶片10の両面に夫々励振電極21、22が形成された水晶振動子1について、前記水晶片10において輪郭すべり振動や屈曲振動などの副振動が発生する部位に、熱処理にて結晶軸の反転した副振動抑制部25を形成する。副振動抑制部25は点状に複数、励振電極21に対して対称に設けられることが望ましい。これら副振動抑制部25は当該部分において副振動の発振周波数を低周波側に移動させるので、水晶振動子1の主振動に対する悪影響を抑える。よって周波数特性の安定した水晶振動子1を得ることができる。
【選択図】図1

Description

本発明は、副振動の発生を抑制する圧電振動子に関する。
圧電振動子は、電子機器、計測機器及び通信機器等、数々の分野において利用されているが、最近は、ユーザから小型化、及び低価格化の要求が著しく、小型化の面においては1.6mm×1.2mm四方の水晶振動子が登場している事実からも競争の激化が明らかである。
一方、圧電振動子においては周波数安定度についてもより一層の改善が要求されている。特にATカットの厚みすべり振動を主振動とする水晶振動子は周波数特性が良好なことから多用されているが、不要な副振動の発生が問題となっている。副振動の発生原因の一つに、例えば厚みすべり振動を主振動とする場合に、輪郭すべり振動や屈曲振動などによる副振動を挙げることができる。これらは、水晶振動子に対して連続した温度変化を加えたときに発生する共振周波数や直列抵抗等の急激な変化、いわゆるFrequency dipsやActivity dipsの発生要因となる。
副振動を起こす部位は、設計仕様によって決まってくる。従来、水晶振動子が大きいときには、副振動を起こす部位への接着剤の付着などが行われてきた。しかし、水晶振動子が小型化すると、接着剤の重量により直列抵抗が変化する問題が明らかとなった。その上小型化した水晶振動子に対して接着剤を付着させる工程は困難である。
他に挙げられる副振動対策として、圧電片の寸法を用途に応じて適切に選択する、圧電片の形状に変化を付ける(ベベル加工、コンベックス加工など)、MEMS技術により圧電片の構造をメサ構造に変化させる、などの方法があるが、圧電振動子の小型化、周波数安定及び大量生産への対応を迫られている現在、コストを掛けずに小型化と周波数安定の両立を可能にする技術が求められている。
特許文献1には、圧電片の主面に凹部を設ける構成が記載され、特許文献2には電極タブ部に孔を設けると同時に水晶ブランクにポケットを設ける構成が記載されている。さらに、特許文献3には、励振電極に開口部を形成する構造が、特許文献4には、水晶片において、副振動を抑制するために凹部を形成する構成が夫々記載されている。しかしながら、これらの技術を用いても、副振動の発振周波数を主振動に影響を与えない範囲まで移動させることはできず、本発明の課題の解決を図ることはできない。
特開昭60−58709号公報(第4図) 特開平1−265712号公報(FIG1、FIG3) 特開2001−257560号公報(段落0007、図1) 特開平6−338755号公報(段落0012、0014)
本発明はこのような事情においてなされたものであり、その目的は、圧電振動子において副振動の発生を抑制することのできる技術を提供することにある。
本発明の圧電振動子は、
板状の水晶片と、
この水晶片の両面に設けられた励振電極と、
前記水晶片の主振動とは異なる周波数において発振する副振動を抑制するために、前記水晶片の結晶軸を反転させることにより形成した副振動抑制部と、を備えたことを特徴とする。
当該圧電振動子において、
前記副振動抑制部は、前記励振電極の中心部に対して対称に複数設けられていてもよく、また、
前記副振動抑制部は、前記励振電極直下または当該励振電極と接続された引き出し電極直下に設けられていてもよい。
前記水晶片は結晶軸が反転していない第1の領域と、結晶軸が反転した第2の領域と、を備え、
前記第1の領域に、前記励振電極及び前記副振動抑制部が設けられ、
前記第2の領域における水晶片の両面に、前記励振電極とは別の励振電極が設けられていてもよい。
本発明の圧電振動子は、圧電板上において励振電極による副振動の大きい位置を選択し、当該位置の表面に副振動抑制部を形成することによって、当該副振動抑制部位において発振周波数を低周波側に移動させる。従って、圧電振動子における副振動による悪影響が低減されるので、周波数特性の安定した圧電振動子を得ることができる。
本発明の第1の実施形態にかかる水晶振動子の一例を示す平面図及び断面図である。 前記水晶振動子の製造方法の一例を示す工程図である。 本発明の第1の実施形態にかかる水晶振動子の変形例を示す平面図及び断面図である。 水晶振動子において副振動の発生領域を示す説明図である。 本発明の第2の実施形態にかかる水晶振動子の一例を示す平面図及び断面図である。 前記水晶振動子の製造方法の一例を示す工程図である。 本発明の第1の実施形態に係る水晶振動子を備えたエッチング量センサの一例を示す縦断面図である。 本発明の第2の実施形態に係る水晶振動子を応用した回路の一例の回路図である。 圧電振動子における周波数とアドミッタンスとの関係を表したグラフである。 圧電振動子における主振動と副振動について周波数と温度の相関を表したグラフである。 本発明の圧電振動子を適用した回路の一例を図示した回路図である。 実施例と比較例における周波数の温度特性を表したグラフである。 従来の水晶振動子の一例を示す平面図及び断面図である。
[第1の実施形態]
以下、本発明の圧電振動子をなす水晶振動子の一実施の形態について説明する。この水晶振動子1は、図1に示すように、圧電体をなす水晶片10の両面に、夫々励振電極21、22を備えて構成されている。前記水晶片10は、例えばATカットの基本波モードのものが用いられ、主振動である厚みすべり振動が38.4MHzで発振するよう構成されている。本実施形態の一例としては、水晶片10は、例えば平面形状が長方形などの矩形に形成され、寸法は縦1.0mm×横0.8mm、厚みは43.2μmに夫々設定されている。
励振電極21、22は、水晶片10を励振させるために、当該水晶片10の両面の中央部に、互いに対向するように形成されている。これら励振電極21、22は例えば正方形であり、一辺は例えば0.6mmなど、用途に合わせ適宜設定されている。さらに、水晶片10の一面側の励振電極21の一端の中央部には、水晶片10の周縁に向かって引き出された引き出し電極23が接続され、水晶片10の他面側の励振電極22の一端には、引き出し電極23と対向する方向の周縁に向かって引き出された引き出し電極24が接続されている。これらの引き出し電極23、24が引き出される方向は、図1に示すように水晶片10のZ軸方向に沿っている。励振電極21と引き出し電極23、及び励振電極22と引き出し電極24は夫々一体に形成され、これらの電極は例えばクロム(Cr)や金(Au)などの積層膜により形成されている。
また、励振電極21、22の形状は適宜設定され、水晶片10の外縁近傍まで励振電極21、22を形成してもよい。
さらに、水晶片10には、後述する熱処理により水晶片10の水晶の軸を反転させた副振動抑制部25が例えば4箇所設けられている。図1を例にとり説明すると、励振電極21の対角線の延長線上に、励振電極21の中心から等間隔に副振動抑制部25が各角部の外側に設けられている。
これら副振動抑制部25は、主振動の発振周波数とは異なる周波数、この例では、輪郭すべり振動や屈曲振動などによる副振動の発生を抑制するために形成されている。このためこれら副振動抑制部25は、励振電極21における副振動を抑制する位置に、所定の大きさに形成される。ここで、副振動抑制とは、副振動の発生を完全に防ぐ場合の他、副振動のゲインを減衰させる場合も含まれる。
副振動抑制部25の大きさはほとんど点であり、寸法の一例としては、水晶片10内に形成される場合、半径は例えば25μmである。なお各図において、副振動抑制部25については実際の大きさを無視し、認識しやすいように大きく図示している。
続いて、水晶振動子1の作成方法について、図2を参照して説明する。
図2は、1枚の水晶基板の一部分に作成される水晶振動子1の作成方法の一例について説明したものである。先ず、切り出された一枚の水晶基板31を研磨加工して洗浄する(図2(a))。この水晶基板31上に、水晶の軸を点状に反転させることにより副振動抑制部25を形成する。水晶の軸反転部形成法については熱によるもの、圧力と熱の併用によるものなどが知られているが、本実施形態では熱により副振動抑制部25を形成する。
本実施形態の副振動抑制部25の形成方法としては、熱源92に接続された微小なプローブ91を、水晶基板31の予め決定した位置に刺突し、熱源92から熱エネルギーを供給しプローブ91の先端を加熱する。温度としては水晶基板31のプローブ91の刺突部が点状に軸反転する程度の温度であり、例としては600℃である。加熱によって、例えば直径50μmの点状の副振動抑制部25が形成される(図2(b))。
副振動抑制部25の形成が完了次第、水晶基板31の両面に、例えばCr層にAu層を積層した電極膜(金属膜)32を蒸着あるいはスパッタリングにより形成する(図2(c))。次に金属膜32上に、図示しないレジスト液塗布機構により、励振電極21、22並びに引き出し電極23、24の所望の形状に合わせてレジスト液を塗布する。そしてレジスト液を固化させレジスト膜33を形成する(図2(d))。
しかる後、水晶基板31をKI(ヨウ化カリウム)溶液34に浸漬し、金属膜32が露出した部分をウェットエッチングし、副振動抑制部25、励振電極21、22並びに引き出し電極23、24を有した水晶基板31を得る(図2(e))。そして水晶基板31をこれらの電極及び副振動抑制部25等を一組として有するように切断して水晶振動子1を作成する(図2(f))。
本実施形態の水晶振動子1によれば、一面側の励振電極21における副振動が最も大きくなる位置に副振動抑制部25を設けることにより、当該領域において発振する副振動のゲインが減衰する。また、副振動抑制部25は、軸を反転させていない部分と弾性定数が異なることにより、主振動の発振周波数に比して約63%と低い発振周波数を有していることが分かっている。従って、当該副振動の発振周波数が低周波側に移動する。一方、主振動の発振周波数は変化しないので、主振動の発振周波数と副振動の発振周波数との周波数差が大きくなる。さらに、副振動抑制部25の当該副振動は主振動と弾性的に結合することはない。よって副振動による悪影響の発生、例えばFrequency dipsやActivity dipsを抑えることができる。
[第1の実施形態の変形例]
続いて、水晶振動子1の他の例について、図3を参照して説明する。図3に示すように水晶振動子1において、副振動抑制部25は励振電極21の範囲内に存在する。つまり副振動抑制部25は励振電極21に覆われている形を取っている。
当該変形例においては、副振動抑制部25は励振電極21の直下に形成されているが、副振動を抑制できる位置であれば、引き出し電極23の直下であってもよい。また、当該変形例においても、水晶振動子1は図2に示した上述の方法によって作成することができる。
当該変形例においても、第1の実施形態と同様に、副振動によるゲインを減衰させることができ、また副振動の発振周波数が低周波側に移動することにより、副振動による悪影響の発生、例えばFrequency dipsやActivity dipsを抑えることができる。さらに励振電極21直下の副振動を抑制することが可能であるため、励振電極21に直接与えられる副振動の悪影響を効果的に低減させることができる。
ここで、実際の水晶振動子を用いて、副振動が発生する領域を特定する方法について述べておく。第1の方法として、X線の回折強度を測定する方法がある。先ず副振動を起こす周波数を調べておき、その周波数の交流電圧を水晶振動子に印加する。当該電圧を印加した状態において、水晶振動子の法線方向に対して所定の角度からX線を照射し、例えば水晶振動子を、前記角度を維持した状態においてX線の照射位置を変化させ、X線により水晶振動子の全面をスキャンする。そして照射位置毎にX線の回折強度を測定し、水晶振動子の表面における回折強度のマップを作成する。
図4(a)(b)は、X線回折強度マップの一例であり、斜線によって示した領域100にて副振動が発生する。
また第2の方法として、探針法と呼ばれる手法がある。具体的には、先ず副振動を起こす周波数の交流電圧を水晶振動子の励振電極間に印加する。この状態において水晶片の表面に、接地した探針を接触させ(励振電極が存在する部分については探針が励振電極を貫通した状態において水晶片の表面に接触させ)、探針とアースとの間の電圧を電圧計にて測定する。この測定にて水晶片表面の各部位の電荷分布を求めることによって、第1の方法と同様のマップを作成することができる。
更に第3の方法として、レーザ光を用いた手法がある。具体的には、水晶片をXYテーブル上に載置し、水晶片に対しレーザ光をスポット照射し、照射箇所における水晶片の発振周波数を測定する。そしてレーザ光を水晶片全面に亘ってスキャンし、発振周波数測定を各スポット位置に対して行う。この測定にて水晶片表面の各部位の発振周波数を測定することによって、第1の方法と同様のマップを作成することができる。
こうして副振動の振動領域を把握し、当該振動領域において既述の副振動抑制部25を形成する。
図4に示すように、副振動領域は水晶片10の中心に対して対称な場合が多く、このため副振動抑制部25は、水晶片10の中心に対して対称に形成することが好ましい。第1の実施形態および変形例においても、図1及び図3に示すように副振動抑制部25は水晶片10の中心に対して対称に位置している。
このように水晶片10の中心に対して対称に副振動抑制部25を設ければ、左右のバランスが取れていることから、左右のバランスが取れていない状態と比して、長期的に見て主振動の周波数を安定させることができる。
また、本実施形態において、副振動抑制部25の作成方法に、熱による水晶の双晶化を用いている理由について説明する。
水晶は常温においてはα−石英と呼ばれる三方晶系の圧電性を有する構造をとっているが、573℃に加熱すると、相転移と呼ばれる現象が発生し、β−石英と呼ばれる六方晶系の圧電性のない構造へと変化する。この相転移は可逆的現象であるが、加熱により水晶をβ−石英に変化させた後、水晶を冷却しても一様にβ−石英からα−石英への再転移は起こらず、一部はβ−石英としてとどまるため、当該部位で双晶が発生する。このため双晶化された部位では双晶化されていない部位に比して圧電性が低下し、水晶片を圧電振動子として用いた場合、当該双晶部位では発振周波数による振動が抑制される。
この効果を用いて、本実施形態では副振動抑制部25の形成方法として水晶片10の副振動部位における双晶化を選択している。
ここで、本実施形態の水晶振動子1について、副振動抑制部25形成は電極21〜24形成前に行っているが、熱や圧力を集中させることによって電極形成後においても副振動抑制部25を形成することが可能である。
[第2の実施形態]
以下、本発明の圧電振動子をなす水晶振動子の別の一実施の形態について図5を用いて説明する。この図5に示す水晶振動子1aを例に取り本実施形態の水晶振動子1aを説明すると、水晶振動子1aに用いられる水晶片10は、例えばATカットの基本波モードのものが用いられ、主振動である厚みすべり振動が38.4MHzで発振するよう構成されている。本実施形態の一例としては、水晶片10は例えば平面形状が長方形などの矩形に形成され、寸法は縦1.0mm×横1.6mm、厚みは43.2μmに夫々設定されている。
本実施形態は、この水晶片10において帯状の一部分について軸反転を行い双晶化させたものである。この水晶振動子1aにおいては軸反転した帯状の部分を軸反転部11と、軸反転を行っていない部分(つまり軸非反転部)を、ATカット部12と夫々呼称する。水晶片10において、軸反転部11は例えば水晶片10のZ軸方向の中央軸から右側に、X軸方向に沿って形成されるが、水晶片10の右半分全てが軸反転部11とならないよう、水晶片10の右端にある程度の幅を持ってATカット部12bがX軸方向に沿って存在するように、軸反転部11を形成している。一方、水晶片10の中央軸から左側は軸反転を起こしていないATカット部12aである。
なお、軸反転部11及びATカット部12との判別をし易くするため、図5において軸反転部11にはハッチングを付してある。
この軸反転部11と、水晶片10左側のATカット部12aの夫々に励振電極が形成される。ATカット部12aにかかる水晶片10の両面には励振電極21a及び22aが形成され、軸反転部11にかかる水晶片10の両面には励振電極21b及び22bが形成される。励振電極21a及び22a、並びに21b及び22bは例えば共に正方形であり、一辺は共に例えば0.6mmなど、用途に合わせ適宜設定されている。図5の例では励振電極21aと22aの組、及び励振電極21bと22bの組は同一の大きさで同一の形状をしているが、組毎に異なった大きさでもよい。
励振電極21aからは、軸反転部11にかからない方向に、例えば水晶振動子1のX軸方向に沿って、引き出し電極23aが接続され、励振電極22aからは、引き出し電極23aと対向する方向の周縁に向かって引き出された引き出し電極24aが接続されている。
一方、励振電極21bからは、ATカット部12aおよび12bにかからない方向に、例えば水晶振動子1のX軸方向に沿って、引き出し電極23bが接続され、励振電極22bからは、引き出し電極23bと対向する方向の周縁に向かって引き出された引き出し電極24bが接続されている。
また、ATカット部12aには、例えば前述した熱処理によりATカット体2aの水晶の軸を反転させた副振動抑制部25が例えば4箇所設けられている。図5の水晶振動子1aでは、励振電極21aの対角線の延長線上に、励振電極21aの中心から等間隔に副振動抑制部25が各角部の外側に設けられている。これら副振動抑制部25がATカット部12aにおける副振動抑制部に相当する。
続いて、水晶振動子1aの作成方法について、図6を参照して簡単に説明する。
先ず研磨加工して洗浄した水晶基板31(図6(a))上に、軸反転部11を形成する。形成の方法としては、例えば帯状のヒータ93によって軸反転させたい部分を、例えば600℃に加熱する(図6(b))。加熱の方法としてはヒータに限らず、レーザ光や赤外線などでもよく、圧力と熱を併用してもよい。その後、軸反転部11を形成した水晶基板31上においてATカット部12の所望の部分に、例えば第1の実施形態と同様に、熱源92に接続されたプローブ91を刺突し、水晶基板31を加熱することによって副振動抑制部25を形成する(図6(c))。
軸反転部11及び副振動抑制部25を形成した後、第1の実施形態と同様に水晶基板31の両面に金属膜32を形成する(図6(d))。そして金属膜32上に、励振電極21a、21b、22a及び22b並びに引き出し電極23a、23b、24a及び24bの所望の形状に合わせてレジスト膜33を形成し(図6(e))、この水晶基板31を例えばウェットエッチングすることによりこれらの電極を形成する(図6(f))。最後に水晶基板31を、これらの電極及び副振動抑制部25を一組として有するように切断して水晶振動子1aを得る(図6(g))。
本実施形態の水晶振動子1aによれば、軸反転部11の発振周波数は、弾性定数が異なることにより、ATカット部12の発振周波数の周波数の63%程度であることが分かっている。よって、軸反転部11における発振周波数とATカット部12の発振周波数とは全く異なり、また二つの振動が弾性的に結合することもないため、ATカット部12a上の励振電極21a及び22aを中心とした振動子と、軸反転部11上の励振電極21b及び22bを中心とした振動子とは、互いに異なる用途に利用することができる。つまり1枚の水晶片上に複数の水晶振動子部が実現できる。
ここで、軸反転部11は本実施形態では帯状だが、例えば水晶片10上に正方形状に形成されるなど、他の形状を取ってもよい。
また、ATカット部12a上の励振電極21aの周囲には、副振動が大きくなる位置を選択した上、当該部分に副振動抑制部25が複数形成されているので、ATカット部12a上の前記振動部については、副振動が低周波側に移動する。よって第1の実施形態の水晶振動子1と同様に、主振動の発振周波数と副振動の発振周波数との周波数差が大きくなり、副振動による悪影響の発生、例えばFrequency dipsやActivity dipsの発生を抑制することができる。さらに、第1の実施形態において述べた変形例は、当該第2の実施形態においても適用可能である。
このように一枚の水晶片に複数の励振電極を形成可能であることにより、水晶振動子を多数用いる製品について部品の集約化が可能となり、小型化やコストダウンなどが期待できる。
続いて、第1の実施形態の水晶振動子1の適用例として、エッチング量センサに用いる場合について図7を用いて説明する。このエッチング量センサ8は、収納容器81に圧電振動子をなす水晶振動子1を収納して構成されている。水晶振動子1の構成は、上述の図3に示すものと同様であり、抑制対象となる副振動は主振動よりも高い周波数で発振するものである。前記収納容器81は例えばベース体82と蓋体83とにより構成され、ベース体82のほぼ中央部には凹部84が形成されて、水晶振動子1の他面側の励振電極22が凹部84により形成された気密な空間に臨むように、前記水晶振動子1が収納容器81にて保持されるようになっている。
一方、蓋体83は、ベース体82上に載置された水晶振動子1に対して、上方側から覆うように設けられており、水晶振動子1が設けられた領域の外側において、ベース体82と気密に接続されている。また、蓋体83には水晶振動子1の一面側の励振電極21及び一面側の水晶片10の一部のみがエッチング液と接触するように、開口部85が形成されている。つまり、開口部85は、励振電極21の周囲にエッチング領域を形成するために、励振電極21よりも5mm程度外側の領域を囲むように形成されている。また、蓋体83はエッチング液に接触するため、水晶片10よりもエッチング液に対してエッチング速度が小さい材質例えばポリテトラフルオロエチレンにより構成される。
さらに、収納容器81には、前記引き出し電極23、24と夫々接続される配線電極26、27が、例えばベース体82と蓋体83との間に形成され、引き出し電極23と配線電極26、引き出し電極24と配線電極27とが夫々電気的に接続されている。そして、例えば一方の配線電極26は、信号線28を介して発振回路86に接続され、他方の配線電極27は接地されている。この発振回路86の後段には、周波数測定部87を介して制御部9が接続されている。前記周波数測定部87は例えば入力信号である周波数信号をディジタル処理して水晶振動子1の発振周波数を測定する役割を果たす。
前記制御部9は、予め発振周波数の変化分とエッチング量とを対応付けたデータを取得してメモリに格納され、オペレータが入力したエッチング量の目標値に対応する発振周波数の変化分の設定値を求める機能と、測定時に水晶振動子1の発振周波数の変化分を求める機能と、前記発振周波数の変化分が前記設定値になったときに所定の制御信号を出力する機能と、を備えている。また、例えば測定時に得られる発振周波数の変化分が所定値になったときに、対応するエッチング量を表示画面上に表示する機能を備えるように構成される。
このようなエッチング量センサ8は、収納容器81の一面側のみがエッチング液に接触するように、エッチング容器71に接続され、こうして、水晶振動子1の一面側の励振電極21及び、水晶片10の一面側の一部のみが、エッチング容器71中のエッチング液72に接触することになる。なおエッチング容器71には被処理体は記載していないが、実際にはエッチング容器71にはエッチング対象となる被処理体が所定位置に配置されている。この所定位置とは、被処理体の被処理面と、エッチング量センサ8の一面側の水晶片10とが同じタイミングでエッチング液に接触する位置である。
続いて、本発明のエッチング量センサ8の作用について説明する。先ず、エッチング容器71に被処理体を搬入すると共に、エッチング容器71にエッチング量センサ8を既述のように取り付け、所定のエッチング液72をエッチング容器71内に供給する。また、オペレータがエッチング量の目標値を制御部9の表示画面に入力しておく。こうして、被処理体をエッチング液72に接触させることにより被処理面のエッチングを進行させる。一方、エッチング量センサ8では、水晶振動子1の一面側の励振電極21及び、水晶片10の一面側の一部のみがエッチング液72に接触し、水晶片10の一面側のエッチング液72と接触する領域がエッチングされていく。こうして、エッチングが進行して水晶片10の外形寸法が小さくなっていくと、主振動の発振周波数は高周波側に移動していく。
この際、エッチング量センサ8では、水晶振動子1の周波数信号の周波数が測定され、この測定された周波数がメモリに格納される。そして、例えば測定時に得られる発振周波数の変化分が前記設定値になったときに制御信号を出力し、例えば図示しない治具により被処理体をエッチング液内から搬出し、エッチング処理を終了させる。
本実施の形態によれば、水晶振動子1には副振動抑制部25が形成されているため、副振動の発振周波数が低周波側に移動すると共に、副振動のゲインが減少している。従って、水晶片10のエッチングが進んで、主振動の発振周波数が高周波側に移動したとしても、主振動の発振周波数と副振動の発振周波数とが重なることがなく、周波数ジャンプを防ぐことができるため、大きな計測レンジを確保できる。
さらに、例えば第2の実施形態の水晶振動子1aは、図8に示すような温度補償水晶発振器(TCXO)として利用することができる。図8について簡単に説明すると、ATカット部12を含む水晶振動子部分を2A、軸反転部11を含む水晶振動子部分を2Bとすると、水晶振動子1aは独立して振動する2つの振動領域を備えているため、図8のように便宜上2つの水晶振動子2A、2Bを含むものとみなせる。
このTCXO3は、外部に設定周波数fの信号を出力するための主発振部41と、温度補償用の信号を発振させるための補助発振部51と、補助発振部51から出力される温度補償用の信号に基づいて主発振部41に入力する制御電圧Vを算出するために、これらの主発振部41及び補助発振部51の間に設けられた制御電圧供給部61と、を備えている。図8中50は、補助発振部51の制御電圧V10の入力端であり、40はTCXO3の出力端である。
主発振部41は、水晶振動子2Aとこの水晶振動子2Aに接続された主発振回路42と、を備えている。補助発振部51は水晶振動子2Bとこの水晶振動子2Bに接続された補助発振回路52と、を備えている。上記の主発振部41の前段側(入力側)には、既述の制御電圧供給部61が接続されており、この制御電圧供給部61からバリキャップダイオード43を介して、主発振部41に制御電圧Vが印加されるように構成されている。この制御電圧供給部61は、主発振部41の基準電圧Vから温度補償電圧ΔVを減算することにより、上記の制御電圧Vが生成されるように構成されている。
ここで圧電振動子における主振動と副振動の関係について考察する。
圧電振動子における振動は、主振動(厚みすべり振動)のみを考えると、発振周波数とアドミッタンスとの関係においては図9(a)に示すような曲線によって表される。しかし実際には、上述してきたように振動子上に副振動を起こす部位が存在するため、例えば主振動の他に副振動として例えば輪郭すべり振動または屈曲振動を考慮すると、発振周波数とアドミッタンスとの関係は図9(b)において示すように変化し、周波数fにおいてアドミッタンスの値が突出している。圧電振動子においてこの周波数fの振動は副振動のひとつである。周波数fの値は、図10に示す、周波数と時間経過との関係のグラフにおいて、主振動の周波数と温度との関係により描かれる曲線と、副振動の周波数と温度との関係により描かれる直線との交点の、周波数の値fから求めることができる。
ここで圧電振動子の基本波の周波数は図9(a)の一番左側のピークの周波数であるとし、この周波数の値をfとする。副振動の性質が変化すると図10における副振動を表す直線が移動し、従って主振動を表す曲線との交点が移動することからfの値が変化する。そして図9(b)にてfがfと等しくなると、主振動と副振動が結合し、いわゆる周波数ジャンプと呼ばれる現象が生じ、圧電振動子全体として異常な挙動を示す。
本発明による副振動抑制部、つまり軸反転部の生成は、副振動によるゲインの減衰や副振動そのものの抑制作用を有し、例えば上述の実施形態においては水晶振動子におけるFrequency dipsやActivity dipsの抑制効果を示している。さらには上述した、周波数ジャンプを抑制する方法としても有効である。よって、圧電振動子における副振動による悪影響を抑制する手段として有用な効果を示すといえる。
本発明は水晶片の他にセラミックス等の圧電体にも適用できる。また主振動は、厚みすべり振動だけでなく、厚みたて振動、厚みねじれ振動等であってもよい。また、本発明の抑制対象となる副振動は、輪郭すべり振動または屈曲振動に限らず、インハーモニクスオーバートーンに起因する振動等も含まれる。また、圧電片の形状は矩形に限らず、円形状等であってもよい。また、圧電片として水晶片を用いる場合は、ATカットに限るものでなく、BTカットなどであってもよい。
実施例として、第1の実施形態にかかる水晶振動子について、発振周波数の温度特性を測定した。比較例として図13に示す、第1の実施形態にかかる水晶振動子から副振動抑制部25を取り除いた形態である、従来の水晶振動子について発振周波数の温度特性を測定し、これを比較例とした。
測定に使用した水晶振動子にはATカットの基本波モードで発振し、主振動の発振周波数はf=38.4MHzである水晶片を用いた。実施例の水晶発振子及び比較例の水晶発振子について、図11に示す水晶発振回路にて水晶振動子1として用い、発振周波数を測定し、fとの誤差Δfの温度特性を求めた。図11においてC1〜C4はコンデンサ、R1〜R3は抵抗、L1はインダクタ、T1はトランジスタ、D1はダイオードである。
結果として得られた周波数特性を図12に示す。図12(a)のグラフは実施例の周波数特性、図12(b)のグラフは比較例の周波数特性である。図12において横軸は温度(℃)、縦軸は周波数偏差、すなわちΔf/f(ppm)である。
図12(a)のグラフより、実施例においては、温度変化に伴う発振周波数の変化、いわゆるFrequency dipsが観察されない。一方図12(b)のグラフより、比較例においては、70℃付近においてFrequency dipsが観察される。
よって本実施例については水晶振動子1における副振動抑制部25の形成により、Frequency dipsの発生が抑制されたものと推考できる。
また、第1の実施形態の水晶振動子1の変形例においても同様の結果が得られた。よって副振動抑制部25は励振電極の直下に形成しても、励振電極の範囲外に形成したときと同様の副振動抑制効果を示すと考えられる。
1 水晶振動子
10 水晶片
21、22 励振電極
23、24 引き出し電極
25 副振動抑制部
31 水晶基板

Claims (6)

  1. 板状の水晶片と、
    この水晶片の両面に設けられた励振電極と、
    前記水晶片の主振動とは異なる周波数において発振する副振動を抑制するために、前記水晶片の結晶軸を反転させることにより形成した副振動抑制部と、を備えたことを特徴とする圧電振動子。
  2. 前記副振動抑制部は、前記励振電極の中心部に対して対称に複数設けられていることを特徴とする請求項1に記載の圧電振動子。
  3. 前記副振動抑制部は、前記励振電極直下または当該励振電極と接続された引き出し電極直下に設けられていることを特徴とする請求項1または2に記載の圧電振動子。
  4. 前記水晶片は結晶軸が反転していない第1の領域と、結晶軸が反転した第2の領域と、を備え、
    前記第1の領域に、前記励振電極及び前記副振動抑制部が設けられ、
    前記第2の領域における水晶片の両面に、前記励振電極とは別の励振電極が設けられたことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一項に記載の圧電振動子。
  5. 前記軸反転部の両面に設けられた励振電極と、前記軸反転部以外の両面に設けられた励振電極は互いに独立して動作することを特徴とする請求項4記載の圧電振動子。
  6. 前記主振動は厚みすべり振動であり、前記副振動は輪郭すべり振動または屈曲振動であることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一項に記載の圧電振動子。
JP2012179417A 2012-08-13 2012-08-13 圧電振動子 Pending JP2014039107A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012179417A JP2014039107A (ja) 2012-08-13 2012-08-13 圧電振動子
CN201310349555.2A CN103595369A (zh) 2012-08-13 2013-08-12 压电振动器、蚀刻量检测装置及振荡器
US13/964,106 US20140041454A1 (en) 2012-08-13 2013-08-12 Piezoelectric resonator, etching amount detecting device, and oscillator
TW102128857A TW201407954A (zh) 2012-08-13 2013-08-12 壓電振動器、蝕刻量檢測裝置及振盪器

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012179417A JP2014039107A (ja) 2012-08-13 2012-08-13 圧電振動子

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2014039107A true JP2014039107A (ja) 2014-02-27

Family

ID=50065165

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012179417A Pending JP2014039107A (ja) 2012-08-13 2012-08-13 圧電振動子

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20140041454A1 (ja)
JP (1) JP2014039107A (ja)
CN (1) CN103595369A (ja)
TW (1) TW201407954A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2023035794A (ja) * 2021-08-31 2023-03-13 國立陽明交通大學 水晶振動子及びその製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2023035794A (ja) * 2021-08-31 2023-03-13 國立陽明交通大學 水晶振動子及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20140041454A1 (en) 2014-02-13
CN103595369A (zh) 2014-02-19
TW201407954A (zh) 2014-02-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4936221B2 (ja) メサ型圧電振動片、メサ型圧電振動デバイス、発振器、及び電子機器
JP4594412B2 (ja) 圧電振動片および圧電デバイス
JP4709884B2 (ja) 圧電振動片および圧電デバイス
US8830004B2 (en) Crystal resonator and crystal oscillator
JP4709260B2 (ja) 圧電振動片および圧電デバイス
US8760041B2 (en) Resonator element with mass formed on vibrating arm
TW201242246A (en) Piezoelectric vibration element, piezoelectric vibrator, piezoelectric oscillator, vibration gyro element, vibration gyro sensor, and electronic apparatus
CN102386871A (zh) 台面型at切割水晶振动片及水晶装置
US20120181899A1 (en) Piezoelectric resonator and elastic wave device
JP2011160391A (ja) 圧電振動片、圧電振動片の製造方法、圧電振動子及び発振器
JP2010004456A (ja) 圧電振動片および圧電デバイス
JP5293852B2 (ja) メサ型圧電振動片、メサ型圧電振動デバイス、発振器、及び電子機器
JP2014039107A (ja) 圧電振動子
JP6100582B2 (ja) 捩り振動子
US20140210566A1 (en) Crystal resonator, crystal resonator package, and crystal oscillator
JP2001085970A (ja) 高安定圧電発振器用振動子
JP2011193316A (ja) 圧電振動片および圧電デバイス
JP2013118652A (ja) 圧電振動子の製造方法
JP5562787B2 (ja) メサ型のatカット水晶振動片及び水晶デバイス
JP2004236008A (ja) 圧電振動片と圧電振動片を利用した圧電デバイス、ならびに圧電デバイスを利用した携帯電話装置および圧電デバイスを利用した電子機器
JP7265384B2 (ja) 周波数ディップ発生温度調整方法
JP2013078046A (ja) 圧電振動子の製造方法、および圧電振動子
JP2014022792A (ja) 圧電振動子
JP2008103796A (ja) 圧電デバイスの製造方法
JP2011171902A (ja) 圧電振動子の製造方法及び圧電振動子