JP2014014741A - Cleaning method and cleaning device for coping with low environmental load - Google Patents

Cleaning method and cleaning device for coping with low environmental load Download PDF

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拓郎 橋口
Hiroshi Sasaki
佐々木  寛
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a further practical cleaning method in a low environmental load, a cleaning unit for executing its method, and a cleaning device incorporated with its cleaning unit.SOLUTION: A cleaning method executes shower treatment while supplying its liquid to a treatment object by generating a microbubble in electrolytic alkaline water as a cleaning liquid, and a cleaning unit comprises: a storage tank 102 for storing the electrolytic alkaline water as the cleaning liquid on the inside; a pump 104 for circulating the cleaning liquid; a microbubble generating nozzle 103 for generating the microbubble; and a shower nozzle 114 for executing the shower treatment, and the cleaning device comprises: a cleaning unit 200-2 for cleaning the treatment object; a rinse unit 200-3 for removing the cleaning liquid stuck to the treatment object; and a drying unit 200-4 for draining and drying the treatment object, and uses the cleaning unit as the cleaning unit 200-2.

Description

本発明は、無機アルカリが微量に含有する洗浄液を、製造工程の洗浄プロセスに適用することが許せる分野の板状の各種材質基板(例えば、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板など)を被処理物とする低環境負荷対応の、洗浄方法および洗浄装置に関する。   The present invention uses various plate-like material substrates (for example, glass substrates for flat panel displays) in a field in which a cleaning liquid containing a trace amount of inorganic alkali can be applied to a cleaning process in a manufacturing process. The present invention relates to a cleaning method and a cleaning apparatus that can cope with a low environmental load.

近年、洗浄分野において、環境負荷を低減させることを目的としての、電解アルカリ性水、およびマイクロバブルという技術が開発されており、これらの技術を応用した洗浄方法及び洗浄装置は、例えば次のような特許文献に開示されている。   In recent years, technologies such as electrolytic alkaline water and microbubbles have been developed for the purpose of reducing the environmental load in the cleaning field. Cleaning methods and cleaning apparatuses that apply these technologies include, for example, the following: It is disclosed in the patent literature.

特許文献1では、洗浄液としての電解アルカリ性水、マイクロバブル、および超音波を組み合わせた洗浄方法およびその洗浄方法を実施するための洗浄装置が開示されている。   Patent Document 1 discloses a cleaning method combining electrolytic alkaline water, microbubbles, and ultrasonic waves as a cleaning liquid, and a cleaning apparatus for performing the cleaning method.

特許文献2では、洗浄液としての電解アルカリ性水、マイクロバブル、ブラシを組み合わせた洗浄方法およびその洗浄方法を組み込んだ洗浄装置が開示されている。   Patent Document 2 discloses a cleaning method that combines electrolytic alkaline water, microbubbles, and brushes as a cleaning liquid, and a cleaning device that incorporates the cleaning method.

特開2010−137134号公報JP 2010-137134 A 特開2010−137135号公報JP 2010-137135 A

公知の電解アルカリ性水、マイクロバブル、およびブラシなどの物理的作用を組み合わせた洗浄方法および洗浄装置は、前記のように開示されているが、特許文献1においては、洗浄時間が長時間となる内容となっており、特に、枚葉式形態の装置の場合は処理能力上問題となる。また、特許文献2においては、接触洗浄であるブラシ処理を適用しているが、一般的に、ブラシの保守管理には難点があり、管理不十分となれば被処理物にキズなどを生じさせてしまう問題がある。   A cleaning method and a cleaning apparatus combining physical actions such as known electrolytic alkaline water, microbubbles, and brushes are disclosed as described above. However, in Patent Document 1, the cleaning time is long. In particular, in the case of a single-wafer type apparatus, there is a problem in terms of processing capability. Further, in Patent Document 2, brush processing which is contact cleaning is applied, but generally there is a difficulty in maintenance management of the brush, and if the management is insufficient, scratches or the like are caused on the object to be processed. There is a problem.

そこで、本発明は、これらの問題点を解決し、短時間の洗浄時間で洗浄力を十分に確保できるとともに、被処理物にキズなどを発生させることのない洗浄方法、その方法を実施するための洗浄ユニット、およびその洗浄ユニットを組み込んだ洗浄装置を提供することを課題とする。   Therefore, the present invention solves these problems and implements a cleaning method capable of ensuring sufficient cleaning power in a short cleaning time and not causing scratches on the object to be processed, and the method thereof. It is an object of the present invention to provide a cleaning unit and a cleaning device incorporating the cleaning unit.

本発明の洗浄方法は、洗浄液としての電解アルカリ性水にマイクロバブルを発生させる工程と、マイクロバブル電解アルカリ性水を被処理物に供給しながらのシャワー処理工程と、を含むことを特徴とする。   The cleaning method of the present invention includes a step of generating microbubbles in electrolytic alkaline water as a cleaning liquid, and a shower processing step while supplying microbubble electrolytic alkaline water to an object to be processed.

また、この洗浄方法を実施するための本発明の洗浄ユニットは、洗浄液としての電解アルカリ性水を内部に蓄えるための貯槽と、洗浄液を循環するためのポンプと、マイクロバブルを発生させるためのマイクロバブル発生ノズルと、被処理物をシャワー処理するためのシャワーノズルと、を具備したことを特徴とする。   The cleaning unit of the present invention for carrying out this cleaning method includes a storage tank for storing electrolytic alkaline water as a cleaning liquid, a pump for circulating the cleaning liquid, and a microbubble for generating microbubbles. A generation nozzle and a shower nozzle for showering an object to be processed are provided.

更に、本発明の洗浄装置は、被処理物を洗浄するための洗浄ユニットと、被処理物に付着した洗浄液を除去するためのリンスユニットと、被処理物を水切り乾燥する乾燥ユニットを具備した洗浄装置において、洗浄ユニットとして、前記の洗浄ユニットを用いたことを特徴とする。   Furthermore, the cleaning apparatus of the present invention includes a cleaning unit for cleaning the object to be processed, a rinse unit for removing the cleaning liquid adhering to the object to be processed, and a drying unit for draining and drying the object to be processed. In the apparatus, the above-described cleaning unit is used as the cleaning unit.

本発明は、電解アルカリ性水、マイクロバブル、シャワーを組み合わせた洗浄方法およびその洗浄方法を組み込んだ洗浄装置にある。   The present invention resides in a cleaning method combining electrolytic alkaline water, microbubbles, and a shower, and a cleaning apparatus incorporating the cleaning method.

本発明の洗浄方法によれば、板状の各種材質基板の被処理物に対して、数秒程度の洗浄時間で脱脂、パーティクル除去などの洗浄力が十分に確保できる。更に本発明の洗浄方法によれば、非接触洗浄となるためキズなどの発生はない。また、液温は常温(25℃程度)と高温にする必要がなく、蒸発などによる洗浄液としての電解アルカリ性水の消耗を少なくすることができる。   According to the cleaning method of the present invention, it is possible to sufficiently secure cleaning power such as degreasing and particle removal in a cleaning time of about several seconds for an object to be processed of various plate-shaped material substrates. Furthermore, according to the cleaning method of the present invention, scratches are not generated because non-contact cleaning is performed. The liquid temperature does not need to be as high as normal temperature (about 25 ° C.), and the consumption of electrolytic alkaline water as a cleaning liquid due to evaporation or the like can be reduced.

更に、電解アルカリ性水は微量の無機物が含まれているだけであり、その主成分は水であるため、本発明の洗浄方法によれば、従来のような非水系、準水系の洗浄液とは異なり、環境に対する負荷が極めて低い。   Furthermore, since electrolytic alkaline water contains only a trace amount of inorganic substance and its main component is water, according to the cleaning method of the present invention, unlike conventional non-aqueous and semi-aqueous cleaning liquids. The environmental load is extremely low.

本発明の洗浄ユニットの実施例の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the Example of the washing | cleaning unit of this invention. テストピース作成方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the test piece preparation method. シャワー洗浄を説明するための図である。It is a figure for demonstrating shower cleaning. 洗浄液、マイクロバブル、シャワーの組合せによる脱脂能力を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the degreasing capability by the combination of a washing | cleaning liquid, a microbubble, and a shower. 本発明の洗浄装置の実施例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the Example of the washing | cleaning apparatus of this invention.

本発明の洗浄方法では、まず、洗浄液として、液温を常温(25℃程度)とした電解アルカリ性水を用いて、この電解アルカリ性水にマイクロバブルを発生させるとともに、このマイクロバブルを発生させたマイクロバブル電解アルカリ性水を被処理物に供給しながら、被処理物にシャワー処理を施すこととしている。   In the cleaning method of the present invention, first, microbubbles are generated in the electrolytic alkaline water using electrolytic alkaline water having a liquid temperature of room temperature (about 25 ° C.) as the cleaning liquid, and the microbubbles in which the microbubbles are generated are generated. While supplying bubble electrolytic alkaline water to the object to be treated, the object to be treated is subjected to a shower treatment.

そして、この方法を実施するための本発明の洗浄ユニットでは、洗浄液としての電解アルカリ性水を内部に蓄えるための貯槽を備えるともに、洗浄液を循環するためのポンプと、マイクロバブルを発生させるためのマイクロバブル発生ノズルが備えられており、更に、被処理物にシャワー処理するためのシャワーノズルを備えている。   And in the washing | cleaning unit of this invention for implementing this method, while being equipped with the storage tank for storing the electrolytic alkaline water as a washing | cleaning liquid inside, the pump for circulating a washing | cleaning liquid, and the micro for generating a microbubble A bubble generating nozzle is provided, and a shower nozzle for performing a shower process on the object to be processed is further provided.

また、本発明の洗浄装置では、被処理物を洗浄するための洗浄ユニットと、被処理物に付着した洗浄液を除去するためのリンスユニットと、被処理物を水切り乾燥する乾燥ユニットと、を具備した洗浄装置において、洗浄ユニットとして、前記の洗浄ユニットを用いたことを特徴としている。   The cleaning apparatus of the present invention includes a cleaning unit for cleaning the object to be processed, a rinsing unit for removing the cleaning liquid adhering to the object to be processed, and a drying unit for draining and drying the object to be processed. The above-described cleaning unit is used as the cleaning unit.

本発明の洗浄方法の実施例について説明すると、本実施例の洗浄方法では、まず、貯槽内に電解アルカリ性水を蓄え、この電解アルカリ性水にマイクロバブルを発生させるとともに、このマイクロバブル電解アルカリ性水を被処理物に供給する。   An embodiment of the cleaning method of the present invention will be described. In the cleaning method of this embodiment, first, electrolytic alkaline water is stored in a storage tank, microbubbles are generated in the electrolytic alkaline water, and the microbubble electrolytic alkaline water is used. Supply to the workpiece.

そして次に、前記マイクロバブル電解アルカリ性水を供給しつつ被処理物にシャワー処理を施し、これにより、被処理物に付着している油脂やパーティクルなどを除去する。なおこのとき、洗浄液としての電解アルカリ性水の液温は25℃程度の常温にする。   Then, the treatment object is subjected to a shower treatment while supplying the microbubble electrolytic alkaline water, thereby removing oils and fats and particles adhering to the treatment object. At this time, the temperature of the electrolytic alkaline water as the cleaning liquid is set to a room temperature of about 25 ° C.

次に、この洗浄方法を実施するための、本発明の洗浄ユニットの実施例について、図面を参照して説明すると、図1は、本実施例の洗浄ユニット100の構成を示す図である。   Next, an embodiment of the cleaning unit of the present invention for carrying out this cleaning method will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing a configuration of the cleaning unit 100 of the present embodiment.

そして、本実施例の洗浄ユニット100は、貯槽102と、マイクロバブル発生ノズル103と、気体が混入しても信頼性のあるポンプ104と、洗浄液を温度調節するための熱交換器105、および恒温水循環装置106と、水用流量計107と、気体用流量計108と、ボールバルブ109と、ニードルバルブ111と、圧力計112、113と、飛散防止カバー110と、シャワーノズル114と、を具備して構成されており、貯槽102内には、洗浄液101として、電解アルカリ性水を蓄えている。   And the washing | cleaning unit 100 of a present Example is the storage tank 102, the microbubble generation nozzle 103, the reliable pump 104 even if gas mixes, the heat exchanger 105 for adjusting the temperature of washing | cleaning liquid, and constant temperature. A water circulation device 106, a water flow meter 107, a gas flow meter 108, a ball valve 109, a needle valve 111, pressure gauges 112 and 113, a splash prevention cover 110, and a shower nozzle 114 are provided. In the storage tank 102, electrolytic alkaline water is stored as the cleaning liquid 101.

洗浄液101はポンプ104により循環させるが、ボールバルブ109とニードルバルブ111およびポンプ104のインバータ制御により、所定の圧力、流量に調節を行う。   The cleaning liquid 101 is circulated by the pump 104, and is adjusted to a predetermined pressure and flow rate by inverter control of the ball valve 109, the needle valve 111, and the pump 104.

ここで、洗浄ユニット100の機器構成においては、圧力計112の指示値は−0.02MPa、圧力計113の指示値は0.4MPa、水用流量計107の指示値は18L/分、気体用流量計108の指示値は0.5NL/分、シャワーノズル洗浄液流速は5m/s程度となる。   Here, in the equipment configuration of the cleaning unit 100, the indicated value of the pressure gauge 112 is -0.02 MPa, the indicated value of the pressure gauge 113 is 0.4 MPa, the indicated value of the water flow meter 107 is 18 L / min, and for gas The indicated value of the flow meter 108 is 0.5 NL / min, and the shower nozzle cleaning liquid flow rate is about 5 m / s.

更に、液温は熱交換器105および恒温水循環装置106により、25℃に調節する。これにより、洗浄液101は白濁した外観となる。   Further, the liquid temperature is adjusted to 25 ° C. by the heat exchanger 105 and the constant temperature water circulation device 106. As a result, the cleaning liquid 101 has a cloudy appearance.

次に、本実施例の洗浄方法の評価結果について説明すると、本実施例の洗浄方法の評価において、脱脂能力としての洗浄力は、協和界面科学株式会社製ポータブル接触角計PCA−1による水滴接触角で判断する評価方法とした。   Next, the evaluation results of the cleaning method of this example will be described. In the evaluation of the cleaning method of this example, the detergency as the degreasing ability is the water droplet contact by the portable contact angle meter PCA-1 manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. It was set as the evaluation method judged by a corner.

また、パーティクル除去能力としての洗浄力は、脱脂能力があれば、被処理物に付着したパーティクルを剥離させる作用や、マイクロバブルへのパーティクルの付着による被処理物への再付着防止などの作用が考えられるため、脱脂能力とパーティクル除去能力は等価と判断した。   In addition, the cleaning power as the particle removal capability has the effect of peeling off particles adhering to the object to be processed and preventing re-adhesion to the object due to the adhesion of particles to the microbubbles if there is a degreasing ability. Therefore, degreasing ability and particle removal ability were judged to be equivalent.

テストピース作成方法について図2を参照して説明すると、まず、清浄なテストピース(水滴接触角10°以下)を準備し、大気中放置汚染(テストピース姿勢は水平、放置時間はパラメータ)させ、その後、シャワー洗浄、市水によるリンス、エアーガンによる水切り乾燥を行い、脱脂能力の評価を行った。そして、テストピースには、ガラス基板(100mm×100mm×0.7mmt)を使用した。   The test piece preparation method will be described with reference to FIG. 2. First, a clean test piece (water droplet contact angle of 10 ° or less) is prepared and left in the atmosphere for contamination (the test piece posture is horizontal and the standing time is a parameter). Thereafter, shower cleaning, rinsing with city water, draining with an air gun and drying were performed to evaluate the degreasing ability. And the glass substrate (100mmx100mmx0.7mmt) was used for the test piece.

次に、本実施例の洗浄方法について図3を参照して説明すると、まず、ライン状の樹脂製シャワーノズルを固定設置する。このシャワーノズルには洗浄液の流速が5m/s程度となるように1mmφの穴を複数設けてある。そして、テストピース(ガラス基板)はシャワーノズルとのギャップが約100mmの位置に設置し、スキャンできる機構としてあり、本実施例では洗浄時間が2秒程度となるようなスキャンスピードとした。   Next, the cleaning method of this embodiment will be described with reference to FIG. 3. First, a linear resin shower nozzle is fixedly installed. The shower nozzle is provided with a plurality of 1 mmφ holes so that the flow rate of the cleaning liquid is about 5 m / s. The test piece (glass substrate) is installed at a position where the gap with the shower nozzle is about 100 mm and is a mechanism capable of scanning. In this embodiment, the scanning speed is set so that the cleaning time is about 2 seconds.

図4に、液温25℃、pH10.8程度の電解アルカリ性水洗浄液における、テストピース(ガラス基板)の大気中放置時間とシャワー洗浄前後の水滴接触角を示す。大気中放置前のテストピースは洗剤を利用して、10°以下の水滴接触角に清浄化してあることから、洗浄後の水滴接触角は十分に満足できる。   FIG. 4 shows the test piece (glass substrate) standing time in the atmosphere and the water droplet contact angle before and after the shower cleaning in the electrolytic alkaline water cleaning liquid having a liquid temperature of 25 ° C. and a pH of about 10.8. Since the test piece before being left in the atmosphere is cleaned to a water droplet contact angle of 10 ° or less using a detergent, the water droplet contact angle after washing is sufficiently satisfactory.

このように、洗浄液101としての電解アルカリ性水、洗浄液循環ポンプ104、マイクロバブル発生ノズル103、シャワーノズル114を組み合わせて行った洗浄方法は、液温25℃で2秒程度の短時間処理および非接触洗浄でも、十分に洗浄力を発揮できることが判明した。このことは、枚葉式処理形態の装置に組み込み易い洗浄方法と言える。   As described above, the cleaning method performed by combining the electrolytic alkaline water as the cleaning liquid 101, the cleaning liquid circulation pump 104, the microbubble generation nozzle 103, and the shower nozzle 114 is a short time treatment of about 2 seconds at a liquid temperature of 25 ° C. and non-contact. It has been found that even with cleaning, the cleaning power can be sufficiently exerted. This can be said to be a cleaning method that can be easily incorporated into a single-wafer processing apparatus.

次に、本発明の洗浄装置の実施例について図5を参照して説明すると、本実施例の洗浄装置は、被処理物を洗浄するための洗浄ユニットと、被処理物に付着した洗浄液を除去するためのリンスユニットと、被処理物を水切り乾燥する乾燥ユニットと、を具備した洗浄装置において、洗浄ユニットとして、前述した洗浄ユニットを用いたことを特徴としている。即ち、電解アルカリ性水を洗浄液として用いるとともに、マイクロバブル、シャワーリングを組み合わせた洗浄方法を実施するための洗浄ユニットを組み込んだ洗浄装置としている。   Next, an embodiment of the cleaning apparatus of the present invention will be described with reference to FIG. 5. The cleaning apparatus of this embodiment removes a cleaning unit for cleaning the object to be processed and a cleaning liquid adhering to the object to be processed. In a cleaning apparatus including a rinsing unit for cleaning and a drying unit for draining and drying an object to be processed, the above-described cleaning unit is used as the cleaning unit. That is, the cleaning apparatus incorporates a cleaning unit for carrying out a cleaning method using a combination of microbubbles and shower rings while using electrolytic alkaline water as a cleaning liquid.

そして、本形態では、被処理物を水平あるいは傾斜の姿勢でローラ搬送しながら、洗浄処理を行なう枚葉式洗浄装置であり、板状の各種材質基板などの低環境負荷洗浄処理に最適な洗浄装置としている。   And in this embodiment, it is a single wafer cleaning device that performs cleaning processing while conveying the workpiece in a horizontal or inclined posture, and is optimally suited for low environmental load cleaning processing of various plate-like material substrates. It is a device.

基本構成200は、ローダ200−1、洗浄ユニット200−2、リンスユニット200−3、乾燥ユニット200−4、アンローダ200−5、ローラ搬送機構200−6であり、前述の本発明の洗浄ユニットは、洗浄ユニット200−2に組み込まれる。   The basic configuration 200 is a loader 200-1, a cleaning unit 200-2, a rinse unit 200-3, a drying unit 200-4, an unloader 200-5, and a roller transport mechanism 200-6. Incorporated into the cleaning unit 200-2.

ここで、ローダおよびアンローダにおける被処理物姿勢は水平が一般的であるが、洗浄ユニット200−2〜乾燥ユニット200−4における被処理物姿勢も水平の場合は、被処理物との接触による汚染が極力少ないローラ材質などに留意すれば、特に支障なく、ローラ搬送機構を製作することができる。   Here, the workpiece postures in the loader and unloader are generally horizontal, but when the workpiece postures in the cleaning units 200-2 to 200-4 are also horizontal, contamination due to contact with the workpieces. If the roller material, etc., with as little as possible is taken into consideration, the roller transport mechanism can be manufactured without any particular trouble.

しかしながら、被処理物が大型あるいは薄肉となればなる程、被処理物上に液溜りが生じるようになって、シャワーリングによる衝撃力が弱まり、洗浄力が低下する傾向となり、更には、次工程への液持出し量が増加する。   However, as the object to be processed becomes larger or thinner, a liquid pool is generated on the object to be processed, the impact force due to showering is weakened, and the cleaning power tends to decrease. Increases the amount of liquid taken out.

そこで、被処理物が大型あるいは薄肉の場合は、前述のような現象に対応する方法として、被処理物を傾斜して処理することが一般的であり、いわゆる、傾斜搬送方式となるが、このような場合は、ローダ200−1と洗浄ユニット200−2の間あるいはローダ200−1の内部か洗浄ユニット200−2の内部に、及び乾燥ユニット200−4とアンローダ200−5の間あるいは乾燥ユニット200−4の内部かアンローダ200−5の内部に、被処理物姿勢変更機構を設ける必要がある   Therefore, when the object to be processed is large or thin, as a method for dealing with the phenomenon as described above, it is common to process the object to be inclined, which is a so-called inclined conveyance method. In such a case, between the loader 200-1 and the cleaning unit 200-2 or inside the loader 200-1 or inside the cleaning unit 200-2, and between the drying unit 200-4 and the unloader 200-5, or the drying unit. It is necessary to provide a workpiece posture changing mechanism inside 200-4 or inside unloader 200-5.

また、リンスユニット200−3は、純水によるスプレー、シャワー等の既存の技術を、単独あるいは組み合わせた内容で製作する。   In addition, the rinse unit 200-3 is manufactured with the contents of existing techniques such as spraying with pure water and showering alone or in combination.

更に、乾燥ユニット200−4は、既存の技術であるエアナイフ方式等で製作する。   Furthermore, the drying unit 200-4 is manufactured by an air knife method or the like that is an existing technology.

そして、洗浄ユニット200−2は、シャワーノズル201および被処理物搬送の為のローラ202を内部に具備してなるプロセスチャンバーと、マイクロバブル発生ノズル203と、電解アルカリ性水215の循環及びこれに気体を含有させる為のポンプ205と、電解アルカリ性水215を常温に温度調節する熱交換器206及び恒温水循環ユニット207と、循環系を最適に成立させる為の貯槽204と、これに流入してくるプロセスチャンバーからの汚れ(油分、パーティクル等)を除去する為の、汚れ回収ユニット214と、電解アルカリ性水供給ユニット213の構成で製作する。   The cleaning unit 200-2 includes a process chamber having a shower nozzle 201 and a roller 202 for conveying an object to be processed therein, a microbubble generating nozzle 203, circulation of electrolytic alkaline water 215, and a gas therein. , A heat exchanger 206 and a constant temperature water circulation unit 207 for adjusting the temperature of the electrolytic alkaline water 215 to room temperature, a storage tank 204 for optimally establishing a circulation system, and a process flowing into this It is manufactured with a structure of a dirt collecting unit 214 and an electrolytic alkaline water supply unit 213 for removing dirt (oil, particles, etc.) from the chamber.

尚、電解アルカリ性水供給ユニットに替えて、電解アルカリ性水製造装置を配置してもかまわない。また、マイクロバブル発生ノズル203は、種類などにより循環系を最適な流量、圧力に調節する必要がある。その為に、水流量検知器208、圧力検知器209、210、気体流量検知器211、減圧検知器212を具備する。   In addition, it may replace with an electrolytic alkaline water supply unit and may arrange | position an electrolytic alkaline water manufacturing apparatus. The microbubble generating nozzle 203 needs to adjust the circulation system to the optimum flow rate and pressure depending on the type and the like. For this purpose, a water flow rate detector 208, pressure detectors 209 and 210, a gas flow rate detector 211, and a reduced pressure detector 212 are provided.

また、図5においては、プロセスチャンバー内に配列するシャワーノズル201を1個で図示してあるが、複数配列とすれば、当然のことながら、より優れたシャワー処理となる。この場合の配管系は、マイクロバブル発生ノズル203とシャワーノズル201との間で分岐すればよい。   In FIG. 5, one shower nozzle 201 arranged in the process chamber is illustrated. However, if a plurality of shower nozzles 201 are arranged, it is a matter of course that superior shower processing is achieved. The piping system in this case may be branched between the microbubble generating nozzle 203 and the shower nozzle 201.

更には、被処理物によっては、裏面洗浄が必要な場合があるが、この対応もシャワーノズル201の配列(上向きシャワー)で、容易に可能である。   Furthermore, depending on the object to be processed, back surface cleaning may be required, but this can be easily achieved by the arrangement of shower nozzles 201 (upward shower).

環境に対する負荷は、洗浄ユニット200−2では、マイクロバブル電解アルカリ性水を常温、循環系としている為、汚れ回収ユニット214から発生する少量の油分などだけである。ここで、汚れ回収は、既存の技術であるコアレッサー、UF膜方式などを適用することで対応できる。リンスユニット200−3からは、所定量のリンス液が排出される。被処理物の残存液(電解アルカリ性水)からみれば大量のリンス液(純水)で希釈されることとなり、水質汚濁防止法排水基準をクリアした排水とすることができる。   The load on the environment is only a small amount of oil generated from the dirt collection unit 214 because the cleaning unit 200-2 uses microbubble electrolytic alkaline water at room temperature and a circulation system. Here, the collection of dirt can be dealt with by applying an existing technique such as coalescer, UF membrane system or the like. A predetermined amount of rinse liquid is discharged from the rinse unit 200-3. If it sees from the residual liquid (electrolytic alkaline water) of a to-be-processed object, it will be diluted with a large amount of rinse liquids (pure water), and it can be set as the waste_water | drain which cleared the water pollution prevention method drainage standard.

本発明は、電解アルカリ性水、マイクロバブル、及びシャワーリングを組み合わせたことを特徴とし、それにより、各種被処理物に対して、脱脂およびパーティクル除去などの洗浄を可能にしているため、無機アルカリが微量に含有する洗浄液を製造工程の洗浄プロセスに適用することが許せる分野の板状の各種材質基板を被処理物とする、低環境負荷対応の洗浄の全般に適用可能である。   The present invention is characterized by a combination of electrolytic alkaline water, microbubbles, and shower ring, thereby enabling cleaning such as degreasing and particle removal for various objects to be processed. The present invention can be applied to all types of cleaning corresponding to a low environmental load using various plate-like material substrates in a field where a cleaning liquid contained in a trace amount can be applied to a manufacturing process cleaning process.

100 洗浄ユニット
101 洗浄液
102 貯槽
103 マイクロバブル発生ノズル
104 ポンプ
105 熱交換器
106 恒温水循環装置
107 水用流量計
108 気体用流量計
109 ボールバルブ
110 飛散防止カバー
111 ニードルバルブ
112、113 圧力計
114 シャワーノズル
200 洗浄装置
201 シャワーノズル
202 ローラ
203 マイクロバブル発生ノズル
204 貯槽
205 ポンプ
206 熱交換器
207 恒温水循環ユニット
208 水流量検知器
209、210 圧力検知器
211 気体流量検知器
212 減圧検知器
213 電解アルカリ性水供給ユニット
214 汚れ回収ユニット
215 電解アルカリ性水
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Cleaning unit 101 Cleaning liquid 102 Storage tank 103 Micro bubble generation nozzle 104 Pump 105 Heat exchanger 106 Constant temperature water circulation device 107 Water flow meter 108 Gas flow meter 109 Ball valve 110 Spatter prevention cover 111 Needle valve 112, 113 Pressure gauge 114 Shower nozzle 200 Cleaning Device 201 Shower Nozzle 202 Roller 203 Micro Bubble Generation Nozzle 204 Storage Tank 205 Pump 206 Heat Exchanger 207 Constant Temperature Water Circulation Unit 208 Water Flow Rate Detector 209, 210 Pressure Detector 211 Gas Flow Rate Detector 212 Decompression Detector 213 Electrolytic Alkaline Water Supply Unit 214 Dirt recovery unit 215 Electrolytic alkaline water

Claims (4)

洗浄液としての電解アルカリ性水にマイクロバブルを発生させ、その液をシャワーノズルで被処理物に供給しながら、シャワー処理することを特徴とする洗浄方法。   A cleaning method, wherein microbubbles are generated in electrolytic alkaline water as a cleaning liquid, and the shower treatment is performed while supplying the liquid to an object to be processed with a shower nozzle. 洗浄液としての電解アルカリ性水の液温は常温(25℃程度)とすることを特徴とする請求項1に記載の洗浄方法。   The cleaning method according to claim 1, wherein the temperature of the electrolytic alkaline water as the cleaning liquid is normal temperature (about 25 ° C.). 請求項1、請求項2のいずれかに記載の洗浄方法を実施するための洗浄ユニットであって、
洗浄液としての電解アルカリ性水を内部に蓄えるための貯槽と、洗浄液を循環させるためのポンプと、マイクロバブルを発生させるためのマイクロバブル発生ノズルと、被処理物をシャワー処理するためのシャワーノズルと、を具備したことを特徴とする洗浄ユニット。
A cleaning unit for carrying out the cleaning method according to claim 1,
A storage tank for storing electrolytic alkaline water as a cleaning liquid therein, a pump for circulating the cleaning liquid, a microbubble generating nozzle for generating microbubbles, a shower nozzle for showering an object to be processed, A cleaning unit comprising:
被処理物を洗浄するための洗浄ユニットと、被処理物に付着した洗浄液を除去するためのリンスユニットと、被処理物を水切り乾燥する乾燥ユニットと、を具備した洗浄装置において、前記洗浄ユニットとして、請求項3に記載の洗浄ユニットを用いたことを特徴とする洗浄装置。   In the cleaning apparatus comprising a cleaning unit for cleaning the object to be processed, a rinse unit for removing the cleaning liquid adhering to the object to be processed, and a drying unit for draining and drying the object to be processed, the cleaning unit is A cleaning apparatus using the cleaning unit according to claim 3.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2016087495A (en) * 2014-10-30 2016-05-23 原嶋 文子 Treatment method of apparatus including pcb
JP2017158228A (en) * 2016-02-29 2017-09-07 株式会社Eプラン Object cleaning method and solar panel cleaning method

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