JP2014011416A - Pickup device and method for semiconductor chip - Google Patents

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Tomoaki Nakanishi
智昭 中西
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide pickup device and method for a semiconductor chip that can exfoliate an adhesive sheet without occurrence of break-down and normally pick up a semiconductor chip as a target even when the semiconductor chip is thin and large in size.SOLUTION: An exfoliating mechanism for promoting exfoliation from an adhesive sheet in a vacuum-suction-based pickup operation of a semiconductor chip is provided with a suction exfoliation area 52c for partially exfoliating an adhesive sheet 8b from a chip lower surface by vacuum-sucking the adhesive sheet 8b from suction recess portions among plural projecting portions brought into contact with the lower surface of the adhesive sheet 8b. The suction exfoliation area 52c is provided at the outside of a push-up member 53 which is freely upwardly and downwardly movably fitted to an opening portion 52d provided inside a chip range set on a suction face 52a in an exfoliating tool 52 and pushes up a semiconductor chip 8a* from the lower side. A predetermined range B in which the suction exfoliation area 52c is provided and an over-hung amount Ba are set to the extent that the semiconductor chip 8a is not broken due to exfoliation of the adhesive sheet 8b.

Description

本発明は、ウェハ状態で個片に分割され粘着シートに貼着された半導体チップをピックアップする半導体チップのピックアップ装置およびピックアップ方法に関するものである。   The present invention relates to a semiconductor chip pick-up device and a pick-up method for picking up a semiconductor chip that is divided into individual pieces in a wafer state and attached to an adhesive sheet.

半導体装置の製造工程において、半導体チップ(以下、単に「チップ」と略記する。)は複数のチップより成る半導体ウェハから切り出されて個片に分割される。分割後の個片のチップは、粘着シートにウェハ状態で貼着保持されており、これらのチップの取り出しの際には、吸着ノズルによって吸着保持されて粘着シートからピックアップされる。このピックアップ作業においては、チップを粘着シートから剥離する必要があり、このチップ剥離の方法として、従来より粘着シートに貼着された状態のウェハを吸引溝が設けられた吸着ステージに載置し、粘着シートを下面側から吸引することにより、粘着シートをチップの下面から剥離させる吸着剥離方式が知られている(例えば特許文献1参照)。この特許文献例に示す先行技術においては、チップが貼着されたダイシングシートを引張状態でシート保持機構に保持させておき、チップ寸法に対応した複数の吸引溝が設けられた吸着ステージをダイシングシートの下面に当接させて吸引溝から真空吸引することにより、ダイシングシートを吸引溝毎に剥離させるようにしている。   In the manufacturing process of a semiconductor device, a semiconductor chip (hereinafter simply referred to as “chip”) is cut out from a semiconductor wafer composed of a plurality of chips and divided into individual pieces. The divided chips are stuck and held on the adhesive sheet in the wafer state, and when these chips are taken out, they are sucked and held by the suction nozzle and picked up from the adhesive sheet. In this pick-up operation, it is necessary to peel the chip from the adhesive sheet, and as a method of peeling the chip, the wafer in a state of being conventionally attached to the adhesive sheet is placed on a suction stage provided with a suction groove, An adsorption peeling method is known in which the pressure-sensitive adhesive sheet is peeled from the lower surface of the chip by sucking the pressure-sensitive adhesive sheet from the lower surface side (see, for example, Patent Document 1). In the prior art shown in this patent document example, a dicing sheet with chips attached is held in a sheet holding mechanism in a tension state, and a suction stage provided with a plurality of suction grooves corresponding to the chip dimensions is provided as a dicing sheet. The dicing sheet is peeled for each suction groove by abutting against the lower surface of the sheet and vacuum suction from the suction groove.

特開平5−335405号公報JP-A-5-335405

近年の電子部品の小型化に伴ってチップは薄型化する傾向にあり、100μm以下の極薄のチップが実用化されるようになっている。このように薄型化したチップは低剛性で撓みやすく、特に平面サイズが大きい大型部品の場合には取り扱いが難しく極めて破損しやすい。このため従来技術で用いられていた吸着剥離方法で半導体チップを粘着シートから剥離させる場合には、吸引溝のサイズや形状に起因して以下のような問題が生じていた。   With the recent miniaturization of electronic components, chips tend to be thinner, and ultra-thin chips of 100 μm or less have come into practical use. Such a thinned chip has low rigidity and is easy to bend. In particular, in the case of a large part having a large planar size, it is difficult to handle and very easily damaged. For this reason, when the semiconductor chip is peeled from the adhesive sheet by the adsorption peeling method used in the prior art, the following problems are caused due to the size and shape of the suction groove.

すなわち、吸引溝のピッチを狭く設定するとチップと粘着シートとの接触点が多くなり実際に粘着シートが剥離される範囲が狭くなるため、チップと粘着シートとの貼着力を十分に弱めて剥離を容易にすることができず、チップを正常にピックアップすることが難しい。これに対し吸引溝のピッチを広く設定すると粘着シートを吸引する際にチップに作用する曲げ外力が大きくなり、チップの抗斥力が曲げ外力に耐えられずに破損する。また、吸引剥離における上述のような破損を避けるため、エジェクタピンによって突き上げることにより剥離させる方式を採用する場合にあっても、薄型で大型サイズのチップでは突き上げ力によって同様に破損を生じやすい。このように、従来のチップのピックアップにおいては、薄型で大きいサイズのチップを対象とする場合にはチップの破損を生じることなく粘着シートを剥離させてチップをピックアップすることが困難であった。   That is, if the pitch of the suction grooves is set narrow, the contact point between the chip and the adhesive sheet increases, and the range in which the adhesive sheet is actually peeled is narrowed. It cannot be made easy, and it is difficult to pick up the chip normally. On the other hand, if the pitch of the suction grooves is set wide, the bending external force acting on the chip when sucking the adhesive sheet is increased, and the resistance force of the chip can not withstand the bending external force and is damaged. In addition, in order to avoid the above-described damage in suction peeling, even when adopting a method of peeling by ejecting with an ejector pin, a thin and large-sized chip is likely to be similarly damaged by a pushing force. As described above, in the conventional chip pickup, it is difficult to pick up the chip by peeling off the adhesive sheet without causing damage to the chip when the chip is thin and large in size.

そこで本発明は、薄型で大きいサイズの半導体チップを対象とする場合にあっても、チップの破損を生じることなく粘着シートを剥離させて半導体チップを正常にピックアップすることができる半導体チップのピックアップ装置およびピックアップ方法を提供することを目的とする。   Accordingly, the present invention provides a pick-up device for a semiconductor chip that can normally pick up the semiconductor chip by peeling the adhesive sheet without causing damage to the chip even when the target is a thin and large-sized semiconductor chip. And to provide a pickup method.

本発明の半導体チップのピックアップ装置は、ウェハ状態で個片に分割され粘着シートに貼着された半導体チップをピックアップするピックアップ装置であって、前記粘着シートを保持するシート保持部と、前記シート保持部に保持された粘着シートから吸着ノズルを備えたピックアップヘッドによって前記半導体チップをピックアップするピックアップ機構と、前記シート保持部の下方に配設されて前記シート保持部に対して相対的に昇降し、上面に吸着面が設けられた吸着昇降部を有し、前記ピックアップにおいて前記粘着シートの下面を前記吸着面によって吸着保持するとともに前記半導体チップを下方から突き上げることにより、この半導体チップの粘着シートからの剥離を促進する剥離機構と、前記ピックアップ機構および剥離機構とを制御する制御部とを備え、前記剥離機構は、前記吸着昇降部において前記半導体チップの外縁形状に対応して前記吸着面に設定された矩形状のチップ範囲の内側に前記チップ範囲よりも小さい開口サイズで開口する開口部と、前記開口部に相対昇降動作が自在に嵌合して設けられ上昇状態において上面が前記吸着面から突出して粘着シートを介して前記半導体チップを下方から突き上げる突き上げ部材と、前記開口部の外側に前記チップ範囲の外縁部を含んだ所定範囲に形成され、前記粘着シートの下面に複数の凸部を当接させた状態で前記凸部の間の吸引凹部から真空吸引することにより前記吸引凹部に対応した範囲の粘着シートを半導体チップから剥離させる吸引剥離エリアと、前記吸着面および吸引凹部から真空吸引する真空吸引部とを有し、さらに前記所定範囲は、前記突き上げ部材によって中央部の下面側を支持されたピックアップ対象の半導体チップの外縁部が前記吸引剥離エリアに片持ち状態で延出した状態において、前記粘着シートの剥離または前記突き上げ部材による突き上げによって前記ピックアップ対象の半導体チップまたは隣接する半導体チップが折損を生じないように、当該半導体チップの抗折強度に応じて設定されており、前記制御部が前記ピックアップ機構および剥離機構を制御することにより、前記シート保持部に対して前記吸着昇降部を上昇させて、前記吸着面によって前記粘着シートの下面を吸着保持し、次いで前記吸引凹部から真空吸引することにより前記吸引剥離エリアにおいて粘着シートを半導体チップから剥離させ、さらに前記突き上げ部材を上昇させてピックアップ対象の半導体チップを下方から突き上げるとともに、前記吸着ノズルによってこの半導体チップを上面から吸着保持してピックアップする。   A semiconductor chip pickup device according to the present invention is a pickup device that picks up a semiconductor chip that is divided into individual pieces in a wafer state and attached to an adhesive sheet, the sheet holding unit holding the adhesive sheet, and the sheet holding A pick-up mechanism for picking up the semiconductor chip from a pressure-sensitive adhesive sheet held by the pick-up head with a pick-up nozzle; A suction raising / lowering portion provided with a suction surface on the upper surface, and holding the lower surface of the adhesive sheet by the suction surface in the pickup and pushing up the semiconductor chip from below; Peeling mechanism for promoting peeling, the pickup mechanism and the peeling machine A control unit that controls, and the peeling mechanism is located inside the rectangular chip range set on the suction surface corresponding to the outer edge shape of the semiconductor chip in the suction lifting unit than the chip range. An opening having a small opening size and a push-up in which the upper and lower surfaces protrude from the adsorption surface and push the semiconductor chip from below through the adhesive sheet in a raised state, with a relative lifting operation freely fitted in the opening. A member and a suction recess between the convex portions formed in a predetermined range including an outer edge portion of the chip range outside the opening portion, with a plurality of convex portions contacting the lower surface of the adhesive sheet. A vacuum-sucking area in which the pressure-sensitive adhesive sheet in the range corresponding to the vacuum recess is peeled from the semiconductor chip by vacuum suction, and vacuum suction is vacuumed from the suction surface and vacuum recess. And the predetermined range is a state in which the outer edge portion of the semiconductor chip to be picked up supported by the push-up member on the lower surface side of the central portion extends in a cantilevered state to the suction peeling area. It is set according to the bending strength of the semiconductor chip so that the semiconductor chip to be picked up or the adjacent semiconductor chip does not break due to peeling of the adhesive sheet or pushing up by the pushing-up member, and the control unit By controlling the pickup mechanism and the peeling mechanism, the suction raising / lowering unit is raised with respect to the sheet holding unit, the lower surface of the adhesive sheet is sucked and held by the suction surface, and then vacuum suction is performed from the suction recess. To peel the adhesive sheet from the semiconductor chip in the suction peeling area, and The push-up member is raised to push up the semiconductor chip to be picked up from below and picked up by holding the semiconductor chip from the upper surface by the suction nozzle.

本発明の半導体チップのピックアップ方法は、粘着シートを保持するシート保持部と、前記シート保持部に保持された粘着シートから吸着ノズルを備えたピックアップヘッドによって前記半導体チップをピックアップするピックアップ機構と、前記シート保持部の下方に配設されて前記シート保持部に対して相対的に昇降し、上面に吸着面が設けられた吸着昇降部を有し、前記ピックアップにおいて前記粘着シートの下面を前記吸着面によって吸着保持するとともに前記半導体チップを下方から突き上げることにより、この半導体チップの粘着シートからの剥離を促進する剥離機構と、前記ピックアップ機構および剥離機構とを制御する制御部とを備え、前記剥離機構は、前記吸着昇降部において前記半導体チップの外縁形状に対応して前記吸着面に設定された矩形状のチップ範囲の内側に前記チップ範囲よりも小さい開口サイズで開口する開口部と、前記開口部に相対昇降動作が自在に嵌合して設けられ上昇状態において上面が前記吸着面から突出して粘着シートを介して前記半導体チップを下方から突き上げる突き上げ部材と、前記開口部の外側に前記チップ範囲の外縁を含んだ所定範囲に形成され、前記粘着シートの下面に複数の凸部を当接させた状態で前記凸部の間の吸引凹部から真空吸引することにより前記吸引凹部に対応した範囲の粘着シートを半導体チップから剥離させる吸引剥離エリアと、前記吸着面および吸引凹部から真空吸引する真空吸引部とを有する構成の半導体チップのピックアップ装置によって、ウェハ状態で個片に分割され前記粘着シートに貼着された半導体チップをピックアップするピックアップ方法であって、前記所定範囲は、前記突き上げ部材によって中央部の下面側を支持されたピックアップ対象の半導体チップの外縁部が前記吸引剥離エリアに片持ち状態で延出した状態において、前記粘着シートの剥離または前記突き上げ部材による突き上げによって前記ピックアップ対象の半導体チップまたは隣接する半導体チップが折損を生じないように、当該半導体チップの抗折強度に応じて設定されており、前記制御部が前記ピックアップ機構および剥離機構を制御することにより、前記シート保持部に対して前記吸着昇降部を上昇させて、前記吸着面によって前記粘着シートの下面を吸着保持し、次いで前記吸引凹部から真空吸引することにより前記吸引剥離エリアにおいて粘着シートを半導体チップから剥離させ、さらに前記突き上げ部材を上昇させてピックアップ対象の半導体チップを下方から突き上げるとともに、前記吸着ノズルによってこの半導体チップを上面から吸着保持してピックアップする。   The method for picking up a semiconductor chip according to the present invention includes: a sheet holding unit that holds an adhesive sheet; a pickup mechanism that picks up the semiconductor chip from a pressure-sensitive adhesive sheet held by the sheet holding unit by a pickup head including a suction nozzle; A suction lifting unit disposed below the sheet holding unit and moving up and down relatively with respect to the sheet holding unit and having a suction surface provided on an upper surface thereof; A peeling mechanism for promoting the peeling of the semiconductor chip from the adhesive sheet by pushing up and holding the semiconductor chip from below, and a controller for controlling the pickup mechanism and the peeling mechanism, and the peeling mechanism Corresponding to the outer edge shape of the semiconductor chip in the suction lifting part An opening that opens with a smaller opening size than the chip range inside a rectangular chip range set on the wearing surface, and a relative lifting operation is freely fitted in the opening, and the upper surface is in the raised state. A push-up member that protrudes from the suction surface and pushes up the semiconductor chip from below through an adhesive sheet, and is formed in a predetermined range including an outer edge of the chip range outside the opening, and a plurality of members are formed on the lower surface of the adhesive sheet. A suction peeling area for peeling the pressure-sensitive adhesive sheet in a range corresponding to the suction recess from the semiconductor chip by vacuum suction from the suction recess between the projections in a state where the projections are in contact, and the suction surface and the suction recess From a semiconductor chip pick-up device having a vacuum suction section for vacuum suction from the wafer, the wafer is divided into individual pieces and attached to the adhesive sheet. A pick-up method for picking up a semiconductor chip, wherein the predetermined range is such that an outer edge portion of a pick-up target semiconductor chip supported on the lower surface side of a central portion by the push-up member extends in a cantilever state to the suction peeling area In the state, it is set according to the bending strength of the semiconductor chip so that the semiconductor chip to be picked up or the adjacent semiconductor chip does not break due to peeling of the adhesive sheet or pushing up by the pushing member, The control unit controls the pickup mechanism and the peeling mechanism to raise the suction lifting unit with respect to the sheet holding unit, and suck and hold the lower surface of the adhesive sheet by the suction surface, and then from the suction recess Adhesive sheet in the suction peeling area by vacuum suction Is peeled from the semiconductor chip, and the push-up member is raised to push up the semiconductor chip to be picked up from below, and the semiconductor chip is sucked and held from the upper surface by the suction nozzle and picked up.

本発明によれば、半導体チップの真空吸着によるピックアップにおいて粘着シートからの剥離を促進する剥離機構に、吸着昇降部において半導体チップの外縁形状に対応して吸着面に設定された矩形状のチップ範囲の内側に前記チップ範囲よりも小さい開口サイズで開口する開口部と、この開口部に相対昇降動作が自在に嵌合して設けられ上昇状態において上面が吸着面から突出して粘着シートを介して半導体チップを下方から突き上げる突き上げ部材と、開口部の外側にチップ範囲の外縁を含んだ所定範囲に形成され、粘着シートの下面に複数の凸部を当接させた状態で凸部の間の吸引凹部から真空吸引することにより吸引凹部に対応した範囲の粘着シートを半導体チップから剥離させる吸引剥離エリアとを備え、この吸引剥離エリアが形成される所定範囲を、突き上げ部材によって中央部の下面側を支持されたピックアップ対象の半導体チップの外縁部が吸引剥離エリアに片持ち状態で延出した状態において、粘着シートの剥離または突き上げ部材による突き上げによってピックアップ対象の半導体チップまたは隣接する半導体チップが折損を生じない範囲に設定することにより、薄型で大きいサイズの半導体チップを対象とする場合にあっても、チップの破損を生じることなく粘着シートを剥離させて半導体チップを正常にピックアップすることができる。   According to the present invention, a rectangular chip range set on the suction surface corresponding to the outer edge shape of the semiconductor chip in the suction lift unit in the peeling mechanism that promotes peeling from the adhesive sheet in the pickup by vacuum suction of the semiconductor chip. An opening having an opening size smaller than the chip range is provided on the inner side of the chip, and a relative raising and lowering operation is freely fitted in the opening. The upper surface protrudes from the suction surface in the raised state, and the semiconductor is interposed via an adhesive sheet. A push-up member that pushes the tip from below, and a suction recess between the projections formed in a predetermined range including the outer edge of the chip range outside the opening, with a plurality of projections contacting the lower surface of the adhesive sheet A vacuum peeling area to peel the adhesive sheet in the range corresponding to the vacuum recess from the semiconductor chip by vacuum suction. In the state where the outer edge portion of the semiconductor chip to be picked up supported by the push-up member on the lower surface side of the center portion extends in a cantilevered state to the suction peeling area, the adhesive sheet is peeled off or pushed up by the push-up member By setting the range so that the semiconductor chip to be picked up or the adjacent semiconductor chip does not break, the adhesive sheet can be used without causing damage to the chip even when targeting a thin and large semiconductor chip. The semiconductor chip can be normally picked up by peeling.

本発明の一実施の形態の部品実装装置の斜視図The perspective view of the component mounting apparatus of one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態の部品実装装置の側断面図1 is a side sectional view of a component mounting apparatus according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施の形態の半導体チップのピックアップ装置における剥離機構の斜視図The perspective view of the peeling mechanism in the pick-up apparatus of the semiconductor chip of one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態の半導体チップのピックアップ装置における剥離ツールの構成説明図Structure explanatory drawing of the peeling tool in the pick-up apparatus of the semiconductor chip of one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態の半導体チップのピックアップ装置における剥離ツールの部分断面図The fragmentary sectional view of the peeling tool in the pick-up device of the semiconductor chip of one embodiment of the present invention 本発明の一実施の形態の半導体チップのピックアップ装置における剥離ツールの機能説明図Functional explanatory diagram of the peeling tool in the semiconductor chip pickup device of one embodiment of the present invention 本発明の一実施の形態の部品実装装置の制御系の構成を示すブロック図The block diagram which shows the structure of the control system of the component mounting apparatus of one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態の半導体チップのピックアップ方法の工程説明図Process explanatory drawing of the pick-up method of the semiconductor chip of one embodiment of the present invention 本発明の一実施の形態の半導体チップのピックアップ方法の工程説明図Process explanatory drawing of the pick-up method of the semiconductor chip of one embodiment of the present invention 本発明の一実施の形態の半導体チップのピックアップ装置における剥離ツールの構成説明図Structure explanatory drawing of the peeling tool in the pick-up apparatus of the semiconductor chip of one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態の半導体チップのピックアップ方法の工程説明図Process explanatory drawing of the pick-up method of the semiconductor chip of one embodiment of the present invention

まず図1、図2を参照して、本実施の形態の半導体チップのピックアップ装置が組み込まれた部品実装装置1の全体構成を説明する。部品実装装置1は、電子部品が実装された実装基板を製造する電子部品実装ラインに用いられ、基板に半導体チップなどの部品をボンディングによって実装する機能を有している。図1において、基台2上には、部品供給ステージ3、ユニット集合ステージ4および基板保持ステージ7がY方向に配列されており、基板保持ステージ7のX方向の上流側には基板搬送部5が配設されている。   First, an overall configuration of a component mounting apparatus 1 in which a semiconductor chip pickup apparatus according to the present embodiment is incorporated will be described with reference to FIGS. The component mounting apparatus 1 is used in an electronic component mounting line for manufacturing a mounting substrate on which electronic components are mounted, and has a function of mounting a component such as a semiconductor chip on the substrate by bonding. In FIG. 1, a component supply stage 3, a unit assembly stage 4, and a substrate holding stage 7 are arranged on the base 2 in the Y direction, and a substrate transport unit 5 is located upstream of the substrate holding stage 7 in the X direction. Is arranged.

部品供給ステージ3に備えられた保持テーブル3aには、ウェハ状態で個片に分割された複数の半導体チップ8aを粘着シート8bによって貼着保持した構成の半導体ウェハユニット8が保持されている。保持テーブル3aは粘着シート8bを保持するシート保持部となっている。ユニット集合ステージ4は、直動機構(図2に示すX軸移動機構40参照)によってX方向に往復動する移動テーブル4aに、後述するツールストッカ17、中継ステージ18、部品認識カメラ19などの機能ユニットを集合的に配設した構成となっている。基板保持ステージ7は、搬送レール7aによって搬入された基板6を下受け保持する基板保持テーブル7bをXYテーブル機構73(図2参照)によって水平駆動する構成となっており、基板6には半導体チップ8aが実装される。基板保持ステージ7には、基板搬送部5の搬送レール5aによって基板6が上流側から搬入される。   A holding table 3a provided in the component supply stage 3 holds a semiconductor wafer unit 8 having a configuration in which a plurality of semiconductor chips 8a divided into pieces in a wafer state are bonded and held by an adhesive sheet 8b. The holding table 3a is a sheet holding unit that holds the adhesive sheet 8b. The unit assembly stage 4 has functions such as a tool stocker 17, a relay stage 18, and a component recognition camera 19, which will be described later, on a moving table 4 a that reciprocates in the X direction by a linear movement mechanism (see the X-axis movement mechanism 40 shown in FIG. 2). The unit is collectively arranged. The substrate holding stage 7 is configured to horizontally drive a substrate holding table 7b for receiving and holding the substrate 6 carried by the transport rail 7a by an XY table mechanism 73 (see FIG. 2). 8a is implemented. The substrate 6 is carried into the substrate holding stage 7 from the upstream side by the transport rail 5 a of the substrate transport unit 5.

部品供給ステージ3、ユニット集合ステージ4および基板保持ステージ7の上方には、基台2のX方向の端部に位置して、Y軸フレーム11が支持ポスト11aによって両端部を支持されてY方向に架設されている。Y軸フレーム11の前面には、以下に説明する第1ヘッド13、第2ヘッド14をリニアモータ駆動によりY方向に案内して駆動するヘッド移動機構12が組み込まれている。第1ヘッド13には半導体チップ8aを保持して基板6に搭載する機能を有する搭載ユニット20が装着されており、第2ヘッド14には基板6に電子部品接合用の接着剤を塗布する機能を有する塗布ユニット21が装着されている。   Above the component supply stage 3, the unit assembly stage 4 and the substrate holding stage 7, the Y-axis frame 11 is positioned at the end of the base 2 in the X direction, and both ends are supported by the support posts 11a in the Y direction. It is built in. On the front surface of the Y-axis frame 11 is incorporated a head moving mechanism 12 that guides and drives a first head 13 and a second head 14 described below in the Y direction by linear motor driving. A mounting unit 20 having a function of holding the semiconductor chip 8a and mounting it on the substrate 6 is mounted on the first head 13, and a function of applying an adhesive for bonding electronic components to the substrate 6 is mounted on the second head 14. A coating unit 21 having the above is mounted.

部品供給ステージ3、中継ステージ18および基板保持ステージ7の上方には、位置認識のために第1カメラ22、第2カメラ23、第3カメラ24が配設されている。第1カメラ22は部品供給ステージ3において取り出し対象の半導体チップ8aを撮像する。第2カメラ23は部品供給ステージ3から取り出されて中継ステージ18に位置補正のために仮置きされた半導体チップ8aを撮像する。また第3カメラ24は、基板保持ステージ7に保持された基板6を撮像して部品実装点の位置を認識する。またユニット集合ステージ4に配設された部品認識カメラ19は、部品供給ステージ3から取り出された半導体チップ8aを下方から撮像する。   Above the component supply stage 3, the relay stage 18, and the substrate holding stage 7, a first camera 22, a second camera 23, and a third camera 24 are disposed for position recognition. The first camera 22 images the semiconductor chip 8a to be taken out in the component supply stage 3. The second camera 23 takes an image of the semiconductor chip 8 a taken out from the component supply stage 3 and temporarily placed on the relay stage 18 for position correction. The third camera 24 captures an image of the board 6 held on the board holding stage 7 and recognizes the position of the component mounting point. The component recognition camera 19 disposed on the unit assembly stage 4 images the semiconductor chip 8a taken out from the component supply stage 3 from below.

部品供給ステージ3はXYテーブル機構31を備えており、XYテーブル機構31の上面に装着された水平な移動プレート32には、複数の支持部材33が立設されている。支持部材33は、上面に半導体ウェハユニット8が装着保持される保持テーブル3aを支持している。半導体ウェハユニット8は粘着シート8bに複数の半導体チップ8aを所定配列で貼着した構成となっている。粘着シート8bには、個片に分割された状態の複数の半導体チップ8aが、能動面を上向きにしたフェイスアップ姿勢で貼着保持されている。   The component supply stage 3 includes an XY table mechanism 31, and a plurality of support members 33 are erected on a horizontal moving plate 32 mounted on the upper surface of the XY table mechanism 31. The support member 33 supports the holding table 3a on which the semiconductor wafer unit 8 is mounted and held on the upper surface. The semiconductor wafer unit 8 has a configuration in which a plurality of semiconductor chips 8a are bonded in a predetermined arrangement to an adhesive sheet 8b. On the adhesive sheet 8b, a plurality of semiconductor chips 8a that are divided into individual pieces are stuck and held in a face-up posture with the active surface facing upward.

部品供給ステージ3には、半導体ウェハユニット8から半導体チップ8aをピックアップするためのピックアップ作業位置[P1]が設定されている。第1カメラ22の位置はピックアップ作業位置[P1]に対応しており、第1カメラ22によって半導体ウェハユニット8を撮像した撮像結果を認識処理することにより、ピックアップ対象の半導体チップ8aの位置が検出される。保持テーブル3aの内部においてピックアップ作業位置[P1]に対応する位置には、剥離機構34が配設されている。   In the component supply stage 3, a pick-up work position [P1] for picking up the semiconductor chip 8a from the semiconductor wafer unit 8 is set. The position of the first camera 22 corresponds to the pickup work position [P1], and the position of the semiconductor chip 8a to be picked up is detected by recognizing the imaging result obtained by imaging the semiconductor wafer unit 8 by the first camera 22. Is done. A peeling mechanism 34 is disposed at a position corresponding to the pickup work position [P1] inside the holding table 3a.

剥離機構34は、ピックアップにおいて粘着シート8bの下面を吸着保持するとともに半導体チップ8aを下方から突き上げることにより、半導体チップ8aの粘着シート8bからの剥離を促進する機能を有している。半導体チップ8aの取り出し時に剥離機構34を昇降させて粘着シート8bの下面に当接させることにより、後述するピックアップヘッド16による半導体チップ8aの粘着シート8bからの取り出しを容易に行うことができる。部品取り出し動作においては、XYテーブル機構31を駆動して粘着シート8bをXY方向に水平移動させることにより、粘着シート8bに貼着された複数の半導体チップ8aのうち、取り出し対象となる所望の半導体チップ8aをピックアップ作業位置[P1]に位置させる。   The peeling mechanism 34 has a function of promoting the peeling of the semiconductor chip 8a from the adhesive sheet 8b by sucking and holding the lower surface of the adhesive sheet 8b in the pickup and pushing up the semiconductor chip 8a from below. When the semiconductor chip 8a is taken out, the peeling mechanism 34 is moved up and down and brought into contact with the lower surface of the adhesive sheet 8b, whereby the pickup chip 16 described later can easily take out the semiconductor chip 8a from the adhesive sheet 8b. In the component take-out operation, by driving the XY table mechanism 31 and horizontally moving the adhesive sheet 8b in the XY direction, a desired semiconductor to be taken out of the plurality of semiconductor chips 8a attached to the adhesive sheet 8b. The chip 8a is positioned at the pickup work position [P1].

部品供給ステージ3の上方には、半導体チップ8aを吸着して保持するピックアップノズル16aを備えたピックアップヘッド16が配設されている。ピックアップヘッド16はピックアップアーム15aによって保持されており、ピックアップアーム15aは、Y軸フレーム11の下面に縣吊して配置されたピックアップヘッド移動機構15から、部品供給ステージ3の上方に延出して設けられている。ピックアップヘッド移動機構15を駆動することにより、ピックアップアーム15aはXYZ方向に移動するとともに、X方向の軸廻りに回転する。   Above the component supply stage 3, a pickup head 16 including a pickup nozzle 16a that sucks and holds the semiconductor chip 8a is disposed. The pickup head 16 is held by a pickup arm 15a. The pickup arm 15a extends from the pickup head moving mechanism 15 that is suspended from the lower surface of the Y-axis frame 11 and extends above the component supply stage 3. It has been. By driving the pickup head moving mechanism 15, the pickup arm 15 a moves in the XYZ directions and rotates around the axis in the X direction.

これによりピックアップヘッド16は、部品供給ステージ3から半導体チップ8aをピックアップして、ユニット集合ステージ4に設けられた中継ステージ18に移送する動作を行う。また必要時には、ピックアップヘッド16をピックアップ作業位置[P1]の上方からX方向に退避させることが可能となっており、さらにピックアップアーム15aを回転させてピックアップヘッド16を反転させることにより、ピックアップノズル16aに保持した半導体チップ8aの姿勢を表裏反転させることが可能となっている。上述構成において、ピックアップヘッド移動機構15、ピックアップヘッド移動機構15によって移動し,吸着ノズルであるピックアップノズル16aが装着されたピックアップヘッド16は、シート保持部である保持テーブル3aに保持された粘着シート8bからピックアップノズル16aを備えたピックアップヘッド16によって半導体チップ8aをピックアップするピックアップ機構となっている。   Accordingly, the pickup head 16 performs an operation of picking up the semiconductor chip 8a from the component supply stage 3 and transferring it to the relay stage 18 provided in the unit assembly stage 4. Further, when necessary, the pickup head 16 can be retracted in the X direction from above the pickup operation position [P1]. Further, the pickup head 16 is reversed by rotating the pickup arm 15a, thereby picking up the pickup nozzle 16a. It is possible to reverse the orientation of the semiconductor chip 8a held on the front and back. In the above-described configuration, the pickup head 16 moved by the pickup head moving mechanism 15 and the pickup head moving mechanism 15 and mounted with the pickup nozzle 16a as the suction nozzle is attached to the adhesive sheet 8b held by the holding table 3a as the sheet holding unit. The pickup mechanism 16 picks up the semiconductor chip 8a by the pickup head 16 provided with the pickup nozzle 16a.

ユニット集合ステージ4および基板保持ステージ7は、ベースプレート72の上面に設けられており、ベースプレート72は基台2の上面に立設された複数の支持ポスト71によって下方から支持されている。ベースプレート72の上面に配置されたプレート41には、X軸移動機構40を介して移動テーブル4aがX方向に移動自在に設けられている。移動テーブル4a上には、図1に示すツールストッカ17、中継ステージ18および部品認識カメラ19が集合的に配設されている。ツールストッカ17には、搭載ユニット20に装着される部品保持ノズル20aなど、部品種に応じて交換されて使用される複数の作業ツールが各部品種毎に収納される。   The unit assembly stage 4 and the substrate holding stage 7 are provided on the upper surface of the base plate 72, and the base plate 72 is supported from below by a plurality of support posts 71 erected on the upper surface of the base 2. A moving table 4 a is provided on the plate 41 disposed on the upper surface of the base plate 72 via an X-axis moving mechanism 40 so as to be movable in the X direction. A tool stocker 17, a relay stage 18, and a component recognition camera 19 shown in FIG. 1 are collectively arranged on the moving table 4a. In the tool stocker 17, a plurality of work tools such as a component holding nozzle 20a mounted on the mounting unit 20 are used for each component type that are exchanged according to the component type.

中継ステージ18は、部品供給ステージ3と基板保持ステージ7との間に配置されてツールストッカ17と一体的に設けられた形態となっており、中継ステージ18には、部品供給ステージ3からピックアップヘッド16によって取り出された半導体チップ8aが位置補正のために載置される。中継ステージ18には中継位置[P2]が設定されており、第2カメラ23は中継位置[P2]に対応して配置されている。X軸移動機構40によって中継ステージ18を移動させることにより、中継ステージ18に載置された半導体チップ8aを中継位置[P2]に位置させて第2カメラ23によって撮像することができ、これにより中継ステージ18に載置された半導体チップ8aの位置が検出される。部品認識カメラ19は中継ステージ18に隣接させて配置されており、同様にX軸移動機構40を駆動することにより、撮像位置を部品認識位置[P3]に位置させることができる。   The relay stage 18 is disposed between the component supply stage 3 and the substrate holding stage 7 and is provided integrally with the tool stocker 17. The relay stage 18 includes a pickup head from the component supply stage 3. The semiconductor chip 8a taken out by 16 is placed for position correction. A relay position [P2] is set on the relay stage 18, and the second camera 23 is arranged corresponding to the relay position [P2]. By moving the relay stage 18 by the X-axis moving mechanism 40, the semiconductor chip 8a placed on the relay stage 18 can be positioned at the relay position [P2] and imaged by the second camera 23. The position of the semiconductor chip 8a placed on the stage 18 is detected. The component recognition camera 19 is disposed adjacent to the relay stage 18, and similarly, by driving the X-axis moving mechanism 40, the imaging position can be positioned at the component recognition position [P3].

基板保持ステージ7は、XYテーブル機構73上に基板6を保持する基板保持テーブル7bを設けた構成となっている。基板保持ステージ7には、半導体チップ8aを基板保持テーブル7bに下受け保持された基板6に実装するための実装作業位置[P4]が設定されており、第3カメラ24は実装作業位置[P4]に対応して配置されている。第3カメラ24によって基板6を撮像することにより、基板6に設定された部品実装点6aの位置が検出される。そしてXYテーブル機構73を駆動することにより、基板保持テーブル7bは基板6とともにXY方向に水平移動し、基板6に設定された任意の部品実装点6aを実装作業位置[P4]に位置させることができる。   The substrate holding stage 7 has a configuration in which a substrate holding table 7 b for holding the substrate 6 is provided on the XY table mechanism 73. The substrate holding stage 7 is set with a mounting work position [P4] for mounting the semiconductor chip 8a on the substrate 6 received and held by the substrate holding table 7b. The third camera 24 has a mounting work position [P4]. ] Are arranged corresponding to the above. By imaging the board 6 with the third camera 24, the position of the component mounting point 6a set on the board 6 is detected. Then, by driving the XY table mechanism 73, the board holding table 7b moves horizontally in the XY direction together with the board 6, and an arbitrary component mounting point 6a set on the board 6 can be positioned at the mounting work position [P4]. it can.

次に、第1ヘッド13、第2ヘッド14について説明する。図2においてY軸フレーム11に設けられたヘッド移動機構12の前面には、第1ヘッド13および第2ヘッド14をY方向にガイドするための2条のガイドレール12aが設けられており、これらのガイドレール12aの間には以下に説明する第1ヘッド13および第2ヘッド14をY方向に駆動するためのリニアモータを構成する固定子12bが配設されている。ガイドレール12aには図示しないスライダがY方向にスライド自在に嵌合しており、このスライダは垂直な移動プレート13a、14aの背面に固着されている。   Next, the first head 13 and the second head 14 will be described. 2, two guide rails 12a for guiding the first head 13 and the second head 14 in the Y direction are provided on the front surface of the head moving mechanism 12 provided on the Y-axis frame 11. A stator 12b constituting a linear motor for driving a first head 13 and a second head 14 described below in the Y direction is disposed between the guide rails 12a. A slider (not shown) is fitted to the guide rail 12a so as to be slidable in the Y direction, and this slider is fixed to the back of the vertical moving plates 13a and 14a.

移動プレート13a、14aの背面には、固定子12bに対向してリニアモータを構成する可動子(図示省略)が配設されている。これらのリニアモータを駆動することにより、第1ヘッド13および第2ヘッド14はガイドレール12aによってガイドされて、それぞれY方向に移動する。移動プレート13a、14aの前面には、それぞれ昇降機構13b、14bが配設されており、昇降機構13b、14bの前面には昇降プレート13c、14cが垂直方向にスライド自在に配設されている。昇降機構13b、14bを駆動することにより、昇降プレート13c、14cはそれぞれ昇降する。昇降プレート13cには、下部に部品保持ノズル20aを備えた搭載ユニット20が着脱自在に装着されており、昇降プレート14cには、塗布ユニット21が着脱自在に装着されている。   On the back surface of the moving plates 13a and 14a, a mover (not shown) constituting a linear motor is disposed facing the stator 12b. By driving these linear motors, the first head 13 and the second head 14 are guided by the guide rail 12a and each move in the Y direction. Elevating mechanisms 13b and 14b are disposed on the front surfaces of the moving plates 13a and 14a, respectively, and elevating plates 13c and 14c are disposed on the front surfaces of the elevating mechanisms 13b and 14b so as to be slidable in the vertical direction. Driving the elevating mechanisms 13b and 14b raises and lowers the elevating plates 13c and 14c, respectively. A mounting unit 20 having a component holding nozzle 20a at its lower part is detachably mounted on the elevating plate 13c, and an application unit 21 is detachably mounted on the elevating plate 14c.

搭載ユニット20は部品保持ノズル20aによって実装対象の部品である半導体チップ8aを保持する機能を有しており、部品供給ステージ3から供給された半導体チップ8aを、基板保持ステージ7に保持された基板6に搭載する。塗布ユニット21は、部品接着用の接着剤を収納したシリンジ21aおよび接着剤を吐出する塗布ノズル21bを備えており、塗布ノズル21bから吐出した接着剤を基板6の部品実装点6aに塗布する。   The mounting unit 20 has a function of holding the semiconductor chip 8a, which is a component to be mounted, by the component holding nozzle 20a, and the substrate holding the semiconductor chip 8a supplied from the component supply stage 3 on the substrate holding stage 7 6 is installed. The application unit 21 includes a syringe 21 a that stores an adhesive for component bonding and an application nozzle 21 b that discharges the adhesive, and applies the adhesive discharged from the application nozzle 21 b to the component mounting points 6 a of the substrate 6.

上記構成において、部品供給ステージ3、ピックアップヘッド移動機構15、ピックアップノズル16aが装着されピックアップヘッド移動機構15によって移動するピックアップヘッド16および以下に説明する剥離機構34は、ウェハ状態で個片に分割され粘着シートである粘着シート8bに貼着された半導体チップ8aをピックアップするピックアップ装置を構成する。   In the above configuration, the pickup head 16 mounted with the component supply stage 3, the pickup head moving mechanism 15, the pickup nozzle 16a and moved by the pickup head moving mechanism 15 and the peeling mechanism 34 described below are divided into individual pieces in the wafer state. A pickup device is configured to pick up the semiconductor chip 8a attached to the adhesive sheet 8b which is an adhesive sheet.

図3は半導体チップのピックアップ装置において、保持テーブル3aの下方に配設された剥離機構34の構成を示している。剥離機構34は、機構本体部50,機構本体部50に昇降自在に保持された支持軸部51および剥離ツール52より構成される。剥離ツール52は対象となる半導体チップ8aの形状・サイズに応じて別体で準備され、支持軸部51の上面に交換自在に装着される。   FIG. 3 shows the configuration of the peeling mechanism 34 disposed below the holding table 3a in the semiconductor chip pickup device. The peeling mechanism 34 includes a mechanism main body 50, a support shaft portion 51 and a peeling tool 52 that are held up and down by the mechanism main body 50. The peeling tool 52 is prepared separately according to the shape and size of the target semiconductor chip 8a, and is attached to the upper surface of the support shaft portion 51 in a replaceable manner.

機構本体部50内にはツール昇降機構(図示省略)が内蔵されており、ツール昇降機構を駆動することにより、剥離ツール52は保持テーブル3aに保持された粘着シート8bに対して下面側から相対的に昇降する(矢印a)。剥離ツール52の上面はシート剥離動作において粘着シート8bの下面を吸着する吸着面52aとなっている。したがって、剥離ツール52は、粘着シート8bの下面を吸着する吸着面52aが設けられ保持テーブル3aに対して相対的に昇降する吸着昇降部となっている。   A tool elevating mechanism (not shown) is built in the mechanism main body 50. By driving the tool elevating mechanism, the peeling tool 52 is relative to the adhesive sheet 8b held by the holding table 3a from the lower surface side. Up and down (arrow a). The upper surface of the peeling tool 52 is an adsorption surface 52a that adsorbs the lower surface of the adhesive sheet 8b in the sheet peeling operation. Therefore, the peeling tool 52 is a suction lifting unit that is provided with a suction surface 52a that sucks the lower surface of the adhesive sheet 8b and moves up and down relatively with respect to the holding table 3a.

吸着面52aには、ピックアップの対象となる半導体チップ8aの外縁形状に対応して設定されるチップ範囲52g(図4(a)参照)を包含するサイズで、平面視して矩形状の吸引剥離エリア52cが設けられている。吸引剥離エリア52cは、半導体チップ8aのピックアップに際し、粘着シート8bを下面側から吸引して剥離を促進させる機能を有するものである。さらに吸引剥離エリア52cの内側には、チップ範囲52gよりも小さい開口サイズで開口する矩形の開口部52dが、チップ範囲52gと相似の矩形形状で設けられており、開口部52dには突き上げ部材53が昇降自在に嵌合している。   The suction surface 52a has a size including a chip range 52g (see FIG. 4A) set corresponding to the outer edge shape of the semiconductor chip 8a to be picked up, and has a rectangular suction peeling in plan view. An area 52c is provided. The suction peeling area 52c has a function of promoting the peeling by sucking the adhesive sheet 8b from the lower surface side when picking up the semiconductor chip 8a. Further, a rectangular opening 52d having an opening size smaller than the chip range 52g is provided inside the suction peeling area 52c in a rectangular shape similar to the chip range 52g, and a push-up member 53 is provided in the opening 52d. Are fitted so that they can move up and down.

吸着面52aには粘着シート8bの下面を吸着するための吸着孔52bが所定配列で形成されており、突き上げ部材53の上面部53aには吸着孔53bが開口している。なお、開口部52dの形状は必ずしもチップ範囲52gと相似である必要はなく、後述する突き上げ部材53による半導体チップ8aの突き上げ動作時に粘着シート8bのチップ下面からの剥離不具合を生じないような形状であればよい。   Adsorption holes 52b for adsorbing the lower surface of the adhesive sheet 8b are formed in a predetermined arrangement in the adsorption surface 52a, and the adsorption holes 53b are opened in the upper surface portion 53a of the push-up member 53. Note that the shape of the opening 52d is not necessarily similar to the chip range 52g, and does not cause a problem of peeling from the lower surface of the adhesive sheet 8b when the semiconductor chip 8a is pushed up by the push-up member 53 described later. I just need it.

図4(a)は、剥離ツール52の吸着面52aに、ピックアップ対象の半導体チップ8aの配列を重ね合わせた状態を示しており、中央に位置する半導体チップ8a*が当該ピックアップ動作における作業対象となっている。すなわち剥離ツール52は、半導体チップ8a*の中心に突き上げ部材53が位置するように位置合わせされており、この状態では半導体チップ8a*の外縁部は吸引剥離エリア52cの範囲内に包摂されている。   FIG. 4A shows a state in which the array of semiconductor chips 8a to be picked up is superimposed on the suction surface 52a of the peeling tool 52, and the semiconductor chip 8a * located in the center is the work target in the pick-up operation. It has become. That is, the peeling tool 52 is aligned so that the push-up member 53 is positioned at the center of the semiconductor chip 8a *. In this state, the outer edge portion of the semiconductor chip 8a * is included in the range of the suction peeling area 52c. .

さらに吸引剥離エリア52cの所定範囲には、ピックアップ対象の半導体チップ8a*に隣接する半導体チップ8aのチップ範囲の外縁部を含むようになっている。吸着面52aに開口した吸着孔52bは、吸着面52aに円周状および放射状に形成された複数の吸引溝52hと連通しており、吸着孔52bから真空吸引することにより、これらの吸引溝52hを介して吸着面52aの広い範囲で粘着シート8bを吸着することが可能となっている。なお図3では、吸引溝52hの図示を省略している。   Further, the predetermined range of the suction / peeling area 52c includes an outer edge portion of the chip range of the semiconductor chip 8a adjacent to the semiconductor chip 8a * to be picked up. The suction holes 52b opened in the suction surface 52a communicate with a plurality of suction grooves 52h formed circumferentially and radially on the suction surface 52a, and these suction grooves 52h are obtained by vacuum suction from the suction holes 52b. It is possible to adsorb the adhesive sheet 8b over a wide range of the adsorption surface 52a. In FIG. 3, the suction groove 52h is not shown.

図4(b)は、図4(a)におけるA−A断面を示している。剥離ツール52、突き上げ部材53は、機構本体部50に内蔵された第1の昇降機構54,第2の昇降機構55とそれぞれ機構的に結合されている。第1の昇降機構54を駆動することにより、剥離ツール52全体が昇降する(矢印b)。これにより、吸着面52aを保持テーブル3aに保持された粘着シート8bの下面に接離させることができる。   FIG. 4B shows an AA cross section in FIG. The peeling tool 52 and the push-up member 53 are mechanically coupled to a first elevating mechanism 54 and a second elevating mechanism 55 built in the mechanism main body 50, respectively. By driving the first elevating mechanism 54, the entire peeling tool 52 is moved up and down (arrow b). Thereby, the adsorption | suction surface 52a can be made to contact / separate to the lower surface of the adhesive sheet 8b hold | maintained at the holding table 3a.

また第2の昇降機構55を駆動することにより、突き上げ部材53を剥離ツール52に対して相対的に昇降させることができ(矢印c)、これにより、上昇状態において突き上げ部材53の上面部53aが吸着面52aから突出して、粘着シート8bを介して半導体チップ8a*のみを下方から突き上げることができる。吸着孔52bおよび吸着孔53bは真空吸引部56に接続されており、真空吸引部56を駆動することにより、吸着孔52b、53bから真空吸引する(図5に示す矢印d、e参照)。   Further, by driving the second elevating mechanism 55, the push-up member 53 can be moved up and down relatively with respect to the peeling tool 52 (arrow c), so that the upper surface portion 53a of the push-up member 53 can be moved in the raised state. Projecting from the suction surface 52a, only the semiconductor chip 8a * can be pushed up from below through the adhesive sheet 8b. The suction hole 52b and the suction hole 53b are connected to a vacuum suction part 56, and by driving the vacuum suction part 56, vacuum suction is performed from the suction holes 52b and 53b (see arrows d and e shown in FIG. 5).

ここで剥離ツール52に設けられた吸引剥離エリア52cおよび突き上げ部材53の構成および機能について説明する。図5(a)に示すように、吸着面52aにおいて、突き上げ部材53が嵌合した開口部52dの外側には、以下に説明する構成の吸引剥離エリア52cが、ピックアップ対象の半導体チップ8a*のチップ範囲の外縁部E1、半導体チップ8a*に隣接する半導体チップ8aのチップ範囲の外縁部E2をいずれも含んだ所定範囲Bで形成されている。吸引剥離エリア52cには、複数の凸部52eが規則配列(ここでは格子点状)で設けられており、これらの凸部52eの間は上方に開孔した吸引凹部52fを形成する。また突き上げ部材53の上面部53aにも、吸引剥離エリア52cにおける凸部52e、吸引凹部52fと同様の凸部53e、吸引凹部53fが形成されている。   Here, the configurations and functions of the suction peeling area 52c and the push-up member 53 provided in the peeling tool 52 will be described. As shown in FIG. 5A, on the suction surface 52a, outside the opening 52d in which the push-up member 53 is fitted, a suction peeling area 52c having a configuration described below is provided on the semiconductor chip 8a * to be picked up. It is formed in a predetermined range B including both the outer edge E1 of the chip range and the outer edge E2 of the chip range of the semiconductor chip 8a adjacent to the semiconductor chip 8a *. In the suction / peeling area 52c, a plurality of convex portions 52e are provided in a regular arrangement (here, in the form of lattice dots), and a suction concave portion 52f that is open upward is formed between the convex portions 52e. The upper surface 53a of the push-up member 53 is also provided with a convex portion 52e and a suction concave portion 53f similar to the convex portion 52e and the suction concave portion 52f in the suction / peeling area 52c.

凸部52e、53e、吸引凹部52f、53fは、吸着面52a、上面部53aに格子状の溝を加工することなどによってによって形成される。なおここでは、吸引剥離エリア52cのみならず、突き上げ部材53の上面部53aにも凸部53e、吸引凹部53fを形成した例を示しているが、突き上げ部材53についてはこのような凸部53e、吸引凹部53fは必ずしも必須ではなく、単なる突起部を設けるのみでもよい。   The convex portions 52e and 53e and the suction concave portions 52f and 53f are formed by processing a lattice-like groove on the suction surface 52a and the upper surface portion 53a. In addition, although the example which formed the convex part 53e and the suction recessed part 53f not only on the suction peeling area 52c but on the upper surface part 53a of the pushing-up member 53 is shown, such a protruding part 53e, The suction recess 53f is not necessarily essential, and a simple protrusion may be provided.

図5(b)は、剥離ツール52を上昇させて吸着面52aを粘着シート8bの下面に当接させた状態を示している。この状態で、真空吸引部56(図4参照)を駆動して吸着孔52b、53bから真空吸引することにより(矢印d,e)吸引剥離エリア52c、上面部53aにおいて吸引凹部52f、53f内が真空吸引される。これにより、図5(c)に示すように、吸引剥離エリア52c、上面部53aにおいて吸引凹部52f、53fに対応した範囲の粘着シート8bが下方に吸引され、半導体チップ8a*,8aから剥離される。   FIG. 5B shows a state where the peeling tool 52 is raised and the suction surface 52a is brought into contact with the lower surface of the adhesive sheet 8b. In this state, the vacuum suction section 56 (see FIG. 4) is driven to perform vacuum suction from the suction holes 52b and 53b (arrows d and e), so that the suction recesses 52f and 53f in the suction separation area 52c and the upper surface section 53a Vacuum sucked. As a result, as shown in FIG. 5C, the pressure-sensitive adhesive sheet 8b in the range corresponding to the suction recesses 52f and 53f in the suction / peeling area 52c and the upper surface portion 53a is sucked downward and peeled from the semiconductor chips 8a * and 8a. The

このとき、吸引剥離エリア52cが形成された所定範囲Bは、ピックアップ対象の半導体チップ8a*のチップ範囲の外縁部E1、半導体チップ8a*に隣接する半導体チップ8aのチップ範囲の外縁部E2をいずれも含んで設定されていることから、当該ピックアップ動作によって取り出す半導体チップ8a*の外縁部のみならず、隣接する半導体チップ8aの外縁部近傍において粘着シート8bをチップ下面から吸引凹部52f、53fの配列に応じて部分的に剥離させることができる。この吸引剥離エリア52cによる剥離はピックアップ動作に先立って行われることから、ピックアップ動作に際してチップ折損などの不具合が生じやすい範囲の粘着シート8bの付着力を大幅に弱めておくことができる。したがって、薄型で平面サイズが大きく低剛性で破損しやすい半導体チップを対象とする場合にあっても、ピックアップ時の粘着シート8bの剥離を容易にすることが可能となっている。   At this time, the predetermined range B in which the suction peeling area 52c is formed includes the outer edge E1 of the chip range of the semiconductor chip 8a * to be picked up and the outer edge E2 of the chip range of the semiconductor chip 8a adjacent to the semiconductor chip 8a *. Therefore, not only the outer edge of the semiconductor chip 8a * taken out by the pickup operation but also the vicinity of the outer edge of the adjacent semiconductor chip 8a, the adhesive sheet 8b is arranged from the lower surface of the chip to the suction recesses 52f and 53f. Depending on the condition, it can be partially peeled off. Since the peeling by the suction peeling area 52c is performed prior to the pickup operation, the adhesive force of the pressure-sensitive adhesive sheet 8b in a range where defects such as chip breakage are likely to occur during the pickup operation can be greatly weakened. Therefore, even when the target is a semiconductor chip that is thin, has a large planar size, is low in rigidity, and is easily damaged, it is possible to easily peel off the adhesive sheet 8b during pickup.

このように、剥離ツール52に吸引剥離エリア52cを設けて予め粘着シート8bの剥離を容易にする方式を採用するには、吸引剥離エリア52cが形成される所定範囲Bを、対象とする半導体チップ8aの特性に応じて適切に設定する必要がある。すなわち、ピックアップ時における半導体チップの折損特性は、半導体チップ8a*の端面から突き上げ部材53の端面までの距離(オーバーハング量)に依存しているが、このオーバーハング量は所定範囲Bの設定如何によって規定される。   As described above, in order to employ a method in which the peeling tool 52 is provided with the suction peeling area 52c so as to facilitate the peeling of the adhesive sheet 8b in advance, a predetermined range B in which the suction peeling area 52c is formed is used as a target semiconductor chip. It is necessary to set appropriately according to the characteristics of 8a. That is, the breakage characteristic of the semiconductor chip at the time of pick-up depends on the distance (overhang amount) from the end face of the semiconductor chip 8a * to the end face of the push-up member 53. This overhang amount depends on the setting of the predetermined range B. It is prescribed by.

ここで図6を参照して、所定範囲Bおよびオーバーハング量の設定の適否とピックアップ動作に際して生じるチップ折損などの不具合との関係について説明する。ここでは、吸引剥離エリア52cによって所定範囲Bの粘着シート8bを予め部分的に剥離した後に、ピックアップノズル16aによって吸着保持された半導体チップ8a*を、突き上げ部材53によって突き上げながら上昇させるピックアップ動作における半導体チップ8a*,8a、粘着シート8bの挙動を示している。   Here, with reference to FIG. 6, the relationship between the appropriateness of the setting of the predetermined range B and the overhang amount and defects such as chip breakage occurring during the pickup operation will be described. Here, the semiconductor in the pickup operation in which the semiconductor chip 8a * adsorbed and held by the pickup nozzle 16a is raised while being pushed up by the push-up member 53 after the pressure-sensitive adhesive sheet 8b in the predetermined range B is partially peeled in advance by the suction peel area 52c. The behavior of the chips 8a *, 8a and the adhesive sheet 8b is shown.

まず図6(a)は、作業対象の半導体チップ8aの平面サイズ、厚さなどの抗折特性に対して吸引剥離エリア52cの所定範囲B1およびピックアップ対象の半導体チップ8a*が吸引剥離エリア52c上へ片持ち状態で延出するオーバーハング量B1aが適切に設定された例を示している。すなわちここでは、吸引剥離エリア52cにおいて半導体チップ8aから剥離された後に、吸引剥離エリア52cに吸着保持された状態の粘着シート8bが、突き上げ部材53によって突き上げられて上方に変位した半導体チップ8a*の下面と連結された状態において、吸引剥離エリア52cから分離して斜め上方に立ち上がる分離点F1が、半導体チップ8a*の下方に位置するように、所定範囲B1およびオーバーハング量B1aが設定されている。これにより、以下の2例にて発生するチップ折損を有効に防止することが可能となっている。   First, FIG. 6A shows a predetermined range B1 of the suction peeling area 52c and the pickup target semiconductor chip 8a * on the suction peeling area 52c with respect to the bending characteristics such as the planar size and thickness of the semiconductor chip 8a to be worked. In this example, the overhang amount B1a extending in a cantilever state is appropriately set. That is, here, the adhesive sheet 8b that is peeled off from the semiconductor chip 8a in the suction peeling area 52c and then sucked and held in the suction peeling area 52c is pushed up by the push-up member 53 and displaced upward. The predetermined range B1 and the overhang amount B1a are set so that the separation point F1 that is separated from the suction / peeling area 52c and rises obliquely upward is located below the semiconductor chip 8a * in a state of being connected to the lower surface. . As a result, chip breakage that occurs in the following two examples can be effectively prevented.

すなわち、図6(b)は、半導体チップ8aの平面サイズ、厚さなどの抗折特性に対して吸引剥離エリア52cの所定範囲B2およびピックアップ対象の半導体チップ8a*のオーバーハング量B2aが図6(a)に示す適正例よりも過小に設定された例を示している。ここでは所定範囲B2およびオーバーハング量B2aが小さく、突き上げ部材53の端面から隣接する半導体チップ8aの端面までの距離が小さい。したがって吸引剥離エリア52cから分離して上方に立ち上がる分離点F2は,半導体チップ8a*ではなく隣接する半導体チップ8aの下方に位置する。このため、突き上げ部材53によって突き上げられて粘着シート8bが上方に変位する過程において、半導体チップ8aの端部近傍が粘着シート8bによって持ち上げられて、部分的に折損部(8a)となる不具合が生じる。   That is, FIG. 6B shows the predetermined range B2 of the suction peeling area 52c and the overhang amount B2a of the semiconductor chip 8a * to be picked up with respect to the bending characteristics such as the planar size and thickness of the semiconductor chip 8a. The example set too small rather than the appropriate example shown to (a) is shown. Here, the predetermined range B2 and the overhang amount B2a are small, and the distance from the end surface of the push-up member 53 to the end surface of the adjacent semiconductor chip 8a is small. Accordingly, the separation point F2 that separates from the suction / peeling area 52c and rises upward is located below the adjacent semiconductor chip 8a, not the semiconductor chip 8a *. For this reason, in the process in which the pressure-sensitive adhesive sheet 8b is pushed upward by the push-up member 53, the vicinity of the end of the semiconductor chip 8a is lifted by the pressure-sensitive adhesive sheet 8b, resulting in a problem that a broken portion (8a) is partially formed. .

これに対し、図6(c)は、ピックアップ対象の半導体チップ8a*の平面サイズ、厚さなどの抗折特性に対して吸引剥離エリア52cの所定範囲B3および半導体チップ8a*のオーバーハング量B3aが、図6(a)に示す適正例よりも過大に設定された例を示している。ここでは所定範囲B3が大きくオーバーハング量B3aを大きくすることができることから、吸引剥離エリア52cによって粘着シート8bが半導体チップ8aから剥離される範囲は十分に確保され、剥離後の粘着シート8bは吸引剥離エリア52cに広い範囲で吸着保持される。そしてこの状態で突き上げ部材53によって半導体チップ8a*を突き上げると、大きいオーバーハング量B3aで片持ち状態となった半導体チップ8a*の端部近傍には未剥離部分に残存する粘着シート8bの粘着力によって下向きの外力が作用し、この外力によって曲げ剛性に乏しい半導体チップ8a*には、部分的に折損部(8a*)が生じる。   On the other hand, FIG. 6C shows a predetermined range B3 of the suction peeling area 52c and an overhang amount B3a of the semiconductor chip 8a * with respect to the bending characteristics such as the planar size and thickness of the semiconductor chip 8a * to be picked up. However, the example which was set more excessively than the appropriate example shown to Fig.6 (a) is shown. Here, since the predetermined range B3 is large and the overhang amount B3a can be increased, a sufficient range for the adhesive sheet 8b to be peeled from the semiconductor chip 8a is secured by the suction peeling area 52c, and the peeled adhesive sheet 8b is sucked. It is adsorbed and held in a wide range in the peeling area 52c. When the semiconductor chip 8a * is pushed up by the push-up member 53 in this state, the adhesive force of the pressure-sensitive adhesive sheet 8b remaining on the unpeeled portion is near the end of the semiconductor chip 8a * that is in a cantilever state with a large overhang amount B3a. A downward external force acts on the semiconductor chip 8a * due to the external force, and a broken portion (8a *) is partially generated in the semiconductor chip 8a * having poor bending rigidity.

上述のように、剥離ツール52に設けられる吸引剥離エリア52cを有効に機能させるには、吸引剥離エリア52cが形成される所定範囲Bを適切に設定して、ピックアップ動作において半導体チップ8a*が吸引剥離エリア52c上に延出するオーバーハング量を適正に確保可能であることが求められる。すなわち、突き上げ部材53によって中央部の下面側を支持されたピックアップ対象の半導体チップ8a*の外縁部が吸引剥離エリア52cに片持ち状態で延出した状態において、粘着シート8bの剥離または突き上げ部材53による突き上げによって、ピックアップ対象の半導体チップ8a*または隣接する半導体チップ8aのいずれにも折損を生じないように、当該半導体チップの抗折強度に応じて所定範囲Bを設定する。この設定に際しては、実際に作業対象となる半導体チップについて、吸引剥離エリア52cのサイズを変化させた複数種類の剥離ツール52を用いて複数回の試行を行い、これらの結果を勘案して適正な所定範囲を求める。   As described above, in order to effectively function the suction peeling area 52c provided in the peeling tool 52, the predetermined range B in which the suction peeling area 52c is formed is appropriately set, and the semiconductor chip 8a * is sucked in the pickup operation. It is required that an overhang amount extending on the peeling area 52c can be appropriately secured. That is, the adhesive sheet 8b is peeled off or pushed up in a state where the outer edge portion of the semiconductor chip 8a * to be picked up supported by the push-up member 53 on the lower surface side of the central portion extends in a cantilevered state to the suction peeling area 52c. The predetermined range B is set according to the bending strength of the semiconductor chip so that no breakage occurs in either the semiconductor chip 8a * to be picked up or the adjacent semiconductor chip 8a by pushing up. In this setting, a plurality of trials are performed using a plurality of types of peeling tools 52 in which the size of the suction peeling area 52c is changed for a semiconductor chip that is actually a work target. A predetermined range is obtained.

次に、図7を参照して制御系の構成を説明する。図7において、制御部60は、記憶部64に記憶された制御プログラムに基づき、機構駆動部61を介して以下の機構部を制御する。これにより、部品供給ステージ3から半導体チップ8aを取り出し、さらに取り出した半導体チップ8aを基板保持ステージ7に保持された基板6に実装するための各動作が実行される。まず、部品供給ステージ3、ユニット集合ステージ4、基板保持ステージ7を制御することにより、部品供給ステージ3におけるXYテーブル機構31や剥離機構34による部品供給動作が制御され、またユニット集合ステージ4におけるX軸移動機構40の動作が制御され、さらに基板保持ステージ7におけるXYテーブル機構73の動作が制御される。   Next, the configuration of the control system will be described with reference to FIG. In FIG. 7, the control unit 60 controls the following mechanism units via the mechanism driving unit 61 based on the control program stored in the storage unit 64. Thereby, the semiconductor chip 8 a is taken out from the component supply stage 3, and each operation for mounting the taken semiconductor chip 8 a on the substrate 6 held on the substrate holding stage 7 is executed. First, by controlling the component supply stage 3, the unit assembly stage 4, and the substrate holding stage 7, the component supply operation by the XY table mechanism 31 and the peeling mechanism 34 in the component supply stage 3 is controlled, and the X in the unit assembly stage 4 is controlled. The operation of the axis moving mechanism 40 is controlled, and further, the operation of the XY table mechanism 73 in the substrate holding stage 7 is controlled.

次いで、ヘッド移動機構12、第1ヘッド13、第2ヘッド14、ピックアップヘッド移動機構15を制御することにより、部品供給ステージ3から半導体チップ8aを取り出すピックアップ動作や、剥離機構34による粘着シート8bの剥離動作が実行され、さらに取り出された半導体チップ8aを基板6に移送搭載してボンディングする実装動作が実行される。すなわちピックアップヘッド移動機構15を制御することによりピックアップ動作が実行され、また搭載ユニット20が装着された第1ヘッド13をヘッド移動機構12と併せて制御することにより、半導体チップ8aを基板6に移送搭載する搭載動作が実行される。   Next, by controlling the head moving mechanism 12, the first head 13, the second head 14, and the pickup head moving mechanism 15, the pick-up operation for taking out the semiconductor chip 8 a from the component supply stage 3, and the pressure-sensitive adhesive sheet 8 b by the peeling mechanism 34. A peeling operation is performed, and a mounting operation is performed in which the semiconductor chip 8a taken out is transferred and mounted on the substrate 6 and bonded. That is, the pickup operation is executed by controlling the pickup head moving mechanism 15, and the semiconductor chip 8 a is transferred to the substrate 6 by controlling the first head 13 mounted with the mounting unit 20 together with the head moving mechanism 12. The mounting operation to be mounted is executed.

また塗布ユニット21が装着された第2ヘッド14をヘッド移動機構12と併せて制御することにより、部品接着用のペーストを塗布ノズル21bから吐出して基板に供給するペースト塗布機能が実行される。上述の各種動作制御に際しては、制御部60が認識処理部62を制御することにより、以下の各カメラによる撮像結果の認識処理が行われる。第1カメラ22による撮像結果を認識処理することにより、部品供給ステージ3に保持された半導体ウェハユニット8における半導体チップ8aの位置が検出され、この検出結果に基づいて制御部60がXYテーブル機構31を制御することにより、ピックアップ対象の半導体チップ8aをピックアップ作業位置[P1]に正しく位置合わせすることができる。また第2カメラ23による撮像結果を認識処理することにより、中継ステージ18に載置された状態における半導体チップ8aの位置が検出され、この検出結果に基づいて制御部60が第1ヘッド11およびX軸移動機構40を制御することにより、ピックアップ対象の半導体チップ8aに対して部品保持ノズル20aを正しく位置合わせすることができる。また第2カメラ23によってツールストッカ17の収納凹部に収納された作業ツールを撮像することにより、前述のように当該作業ツールの種類を識別することができる。   Further, by controlling the second head 14 to which the coating unit 21 is mounted together with the head moving mechanism 12, a paste coating function for discharging a component bonding paste from the coating nozzle 21b and supplying it to the substrate is executed. In the above-described various operation controls, the control unit 60 controls the recognition processing unit 62 so that the following recognition processing of imaging results by each camera is performed. The position of the semiconductor chip 8a in the semiconductor wafer unit 8 held on the component supply stage 3 is detected by performing recognition processing on the imaging result of the first camera 22, and the control unit 60 uses the XY table mechanism 31 based on the detection result. The semiconductor chip 8a to be picked up can be correctly aligned with the pick-up work position [P1]. The position of the semiconductor chip 8a in the state of being placed on the relay stage 18 is detected by performing recognition processing on the imaging result obtained by the second camera 23, and the control unit 60 detects the position of the first head 11 and X on the basis of the detection result. By controlling the shaft moving mechanism 40, the component holding nozzle 20a can be correctly aligned with the semiconductor chip 8a to be picked up. Further, by imaging the work tool stored in the storage recess of the tool stocker 17 by the second camera 23, the type of the work tool can be identified as described above.

さらに第3カメラ24による撮像結果を認識処理することにより、基板保持ステージ7に保持された状態における基板6の部品実装点6aの位置が検出され、この検出結果に基づいて制御部60がXYテーブル機構73を制御することにより、部品実装点6aを実装作業位置[P4]に対して位置合わせして、部品保持ノズル20aに保持された半導体チップ8aを部品実装点6aに正しく搭載することができる。そして部品認識カメラ19による撮像結果を認識処理することにより、部品保持ノズル20aに保持された状態における半導体チップ8aの位置が検出され、搭載ユニット20による搭載動作においては、この検出結果を加味して搭載時の位置補正が行われる。   Further, by recognizing the imaging result of the third camera 24, the position of the component mounting point 6a of the board 6 in the state of being held on the board holding stage 7 is detected, and based on this detection result, the control unit 60 performs the XY table. By controlling the mechanism 73, the component mounting point 6a is aligned with the mounting work position [P4], and the semiconductor chip 8a held by the component holding nozzle 20a can be correctly mounted on the component mounting point 6a. . The position of the semiconductor chip 8a in the state of being held by the component holding nozzle 20a is detected by recognizing the imaging result of the component recognition camera 19, and in the mounting operation by the mounting unit 20, this detection result is taken into account. Position correction at the time of mounting is performed.

上記構成において、制御部60がピックアップ機構および剥離機構34を制御することにより、半導体チップのピックアップ作業が実行される。すなわち、シート保持部である保持テーブル3aに対して吸着昇降部である剥離ツール52を上昇させて、吸着面52aによって粘着シート8bの下面を吸着保持し、次いで吸引凹部52fから真空吸引することにより吸引剥離エリア52cにおいて粘着シート8bを半導体チップ8aから剥離させ、さらに突き上げ部材53を上昇させてピックアップ対象の半導体チップ8a*を下方から突き上げるとともに、ピックアップノズル16aによってこの半導体チップ8a*を上面から吸着保持してピックアップする。   In the above configuration, the control unit 60 controls the pickup mechanism and the peeling mechanism 34, whereby the semiconductor chip pickup operation is executed. That is, by lifting the peeling tool 52 that is a suction raising / lowering unit with respect to the holding table 3a that is a sheet holding unit, the lower surface of the adhesive sheet 8b is sucked and held by the suction surface 52a, and then vacuum sucked from the suction recess 52f. In the suction peeling area 52c, the adhesive sheet 8b is peeled from the semiconductor chip 8a, and the push-up member 53 is raised to push up the semiconductor chip 8a * to be picked up from below, and the semiconductor chip 8a * is sucked from the upper surface by the pickup nozzle 16a. Hold and pick up.

この半導体チップのピックアップ装置は上記のように構成されており、次に図8,図9を参照して、このピックアップ装置によるピックアップ動作の流れを説明する。図8(a)は、保持テーブル3aに保持された半導体ウェハユニット8を移動させて、剥離機構34の剥離ツール52にピックアップ対象となる半導体チップ8a*を位置合わせした状態を示している。この状態では、半導体チップ8a*の中心部の下方に突き上げ部材53が位置する。この後、図8(b)に示すように、剥離ツール52を上昇させて(矢印f)、吸着面52aを粘着シート8bの下面に当接させる。これにより、凸部52e、53eが粘着シート8bの下面に接触した状態となる。次いで図8(c)に示すように、ピックアップノズル16aをピックアップ対象の半導体チップ8a*に対して位置合わせして下降させる(矢印g)。   This semiconductor chip pickup device is configured as described above. Next, the flow of the pickup operation by this pickup device will be described with reference to FIGS. FIG. 8A shows a state where the semiconductor wafer unit 8 held on the holding table 3a is moved and the semiconductor chip 8a * to be picked up is aligned with the peeling tool 52 of the peeling mechanism. In this state, the push-up member 53 is located below the center portion of the semiconductor chip 8a *. Thereafter, as shown in FIG. 8B, the peeling tool 52 is raised (arrow f), and the suction surface 52a is brought into contact with the lower surface of the adhesive sheet 8b. Thereby, the convex parts 52e and 53e will be in the state which contacted the lower surface of the adhesive sheet 8b. Next, as shown in FIG. 8C, the pickup nozzle 16a is positioned and lowered with respect to the semiconductor chip 8a * to be picked up (arrow g).

この後、半導体チップ8a*のピックアップに先立って、吸引剥離エリア52cおよび突き上げ部材53の上面部53aによる粘着シート8bの剥離が行われる。すなわち真空吸引部56を駆動して、図9(a)に示すように、吸着孔52b、53bから真空吸引する(矢印d、e)。これにより、吸引剥離エリア52cおよび突き上げ部材53の上面部53aにおいて吸引凹部52f、53fに相当する部分の粘着シート8bが、半導体チップ8a*の下面から剥離され、吸引剥離エリア52cおよび突き上げ部材53によって吸着保持される。これに先立って、ピックアップノズル16aから真空吸引することにより(矢印h)、半導体チップ8a*はピックアップノズル16aの下面に吸着保持された状態にある。これにより、吸着孔52b、53bによる真空吸引時に半導体チップ8a*が下方に吸引されることによる波状の変形を抑制する効果を得る。   Thereafter, prior to picking up the semiconductor chip 8a *, the adhesive sheet 8b is peeled off by the suction peeling area 52c and the upper surface portion 53a of the push-up member 53. That is, the vacuum suction part 56 is driven and vacuum suction is performed from the suction holes 52b and 53b (arrows d and e) as shown in FIG. As a result, the pressure-sensitive adhesive sheet 8 b corresponding to the suction recesses 52 f and 53 f in the suction separation area 52 c and the upper surface portion 53 a of the push-up member 53 is peeled from the lower surface of the semiconductor chip 8 a *. Adsorbed and held. Prior to this, vacuum suction is performed from the pickup nozzle 16a (arrow h), whereby the semiconductor chip 8a * is attracted and held on the lower surface of the pickup nozzle 16a. Thereby, the effect of suppressing wave-like deformation due to the semiconductor chip 8a * being sucked downward during vacuum suction by the suction holes 52b and 53b is obtained.

次に、第2の昇降機構55(図4参照)を駆動することにより、図9(b)に示すように、突き上げ部材53を上昇させて(矢印i)、上面部53aによって粘着シート8bを介して半導体チップ8a*を下方から突き上げる。このとき、粘着シート8bは吸引剥離エリア52cの底部に吸着保持されて、半導体チップ8a*の下方に位置する分離点Fから斜め上方に立ち上がって上面部53aと連結された状態となることから、図6(b)に示すような、隣接する半導体チップ8aの端部が粘着シート8bによって持ち上げられて折損する不具合が生じない。また、吸引剥離エリア52cの所定範囲B1やオーバーハング量B1aは、予め作業対象の半導体チップ8aの抗折特性を考慮して設定されていることから、図6(c)に示すような、ピックアップ対象の半導体チップ8a*の端部が粘着シート8bの粘着力によって折損する不具合が生じない。   Next, by driving the second elevating mechanism 55 (see FIG. 4), as shown in FIG. 9B, the push-up member 53 is raised (arrow i), and the adhesive sheet 8b is moved by the upper surface portion 53a. The semiconductor chip 8a * is pushed up from below. At this time, the adhesive sheet 8b is sucked and held at the bottom of the suction peeling area 52c, and rises obliquely upward from the separation point F located below the semiconductor chip 8a * and is connected to the upper surface portion 53a. As shown in FIG. 6B, there is no problem that the end of the adjacent semiconductor chip 8a is lifted by the adhesive sheet 8b and broken. Further, since the predetermined range B1 and the overhang amount B1a of the suction / peeling area 52c are set in advance in consideration of the bending characteristics of the semiconductor chip 8a to be worked, a pickup as shown in FIG. There is no problem that the end of the target semiconductor chip 8a * breaks due to the adhesive force of the adhesive sheet 8b.

このようにして、ピックアップノズル16aによる半導体チップ8a*の取り出し動作に先立って吸引剥離エリア52cに相当する範囲の粘着シート8bを部分的にチップ下面から剥離した後、ピックアップノズル16aを上昇させることにより(矢印j)、半導体チップ8a*を突き上げ部材53の上面部53aに保持された粘着シート8bから完全に剥離させて、保持テーブル3aに保持された半導体ウェハユニット8から取り出す。   In this manner, the adhesive sheet 8b in a range corresponding to the suction peeling area 52c is partially peeled from the lower surface of the chip prior to the operation of taking out the semiconductor chip 8a * by the pickup nozzle 16a, and then the pickup nozzle 16a is raised. (Arrow j) The semiconductor chip 8a * is completely peeled off from the adhesive sheet 8b held on the upper surface portion 53a of the push-up member 53 and taken out from the semiconductor wafer unit 8 held on the holding table 3a.

図10は、図4に示す剥離ツール52において、突き上げ部材53の構成および形状を変更した例を示している。すなわち、図4に示す突き上げ部材53では、上面部53aに凸部53e、吸引凹部53fを形成した構成例を示したが、ここではこのような構成の突き上げ部材53の替わりに、以下のような構成の突き上げ部材53Aを用いている。すなわち突き上げ部材53Aは、突き上げ部材53と同様に開口部52d内に昇降自在に嵌合して設けられ、第2の昇降機構55によって昇降する。突き上げ部材53Aの内部には、さらに突出部材57が第3の昇降機構58によって昇降自在に嵌合している。そして図4に示す実施例と同様に、吸引剥離エリア52cには同様機能の凸部52e、吸引凹部52fが形成されている。   FIG. 10 shows an example in which the configuration and shape of the push-up member 53 are changed in the peeling tool 52 shown in FIG. That is, in the push-up member 53 shown in FIG. 4, the configuration example in which the convex portion 53e and the suction concave portion 53f are formed on the upper surface portion 53a is shown, but here, instead of the push-up member 53 having such a configuration, the following The push-up member 53A having the configuration is used. That is, the push-up member 53 </ b> A is fitted in the opening 52 d so as to be movable up and down like the push-up member 53, and is lifted and lowered by the second lift mechanism 55. Inside the push-up member 53A, a projecting member 57 is further fitted by a third elevating mechanism 58 so as to be raised and lowered. Similarly to the embodiment shown in FIG. 4, the suction peeling area 52c is provided with a convex portion 52e and a suction concave portion 52f having the same function.

図10(a)に示すように、突出部材57は平面視してX字形状であり、図10(b)に示すように、上面部57aには当接凸部57bが形成されている。第1の昇降機構54を駆動することにより、剥離ツール52全体が昇降し(矢印k)、これにより吸着面52aを保持テーブル3aに保持された粘着シート8bの下面に接離させることができる。   As shown in FIG. 10A, the projecting member 57 has an X shape in plan view, and as shown in FIG. 10B, an abutment convex portion 57b is formed on the upper surface portion 57a. By driving the first lifting / lowering mechanism 54, the entire peeling tool 52 is lifted / lowered (arrow k), whereby the suction surface 52a can be brought into and out of contact with the lower surface of the adhesive sheet 8b held by the holding table 3a.

また第2の昇降機構55を駆動することにより、突き上げ部材53Aを剥離ツール52に対して相対的に昇降させることができ(矢印l)、これにより、上昇状態において突出部材57の上面部57aが吸着面52aから突出して、粘着シート8bを介して半導体チップ8a*のみを下方から突き上げることができる。吸着孔52bは真空吸引部56(図4参照)に接続されており、真空吸引部56を駆動することにより、吸着孔52bから真空吸引する(図11(a)に示す矢印d参照)。   Further, by driving the second elevating mechanism 55, the push-up member 53A can be moved up and down relatively with respect to the peeling tool 52 (arrow l), whereby the upper surface portion 57a of the projecting member 57 is raised in the raised state. Projecting from the suction surface 52a, only the semiconductor chip 8a * can be pushed up from below through the adhesive sheet 8b. The suction hole 52b is connected to a vacuum suction part 56 (see FIG. 4), and vacuum suction is performed from the suction hole 52b by driving the vacuum suction part 56 (see arrow d shown in FIG. 11A).

次に図11を参照して、図10に示す突き上げ部材53Aが装着された剥離ツール52によって、ピックアップ動作時の剥離動作を行う例を説明する。図11(a)は、剥離ツール52にピックアップ対象となる半導体チップ8a*を位置合わせして、剥離ツール52を上昇させて吸着面52aを粘着シート8bの下面に当接させた状態を示している。   Next, with reference to FIG. 11, an example in which a peeling operation at the time of a pickup operation is performed by the peeling tool 52 to which the push-up member 53A shown in FIG. 10 is attached will be described. FIG. 11A shows a state in which the semiconductor chip 8a * to be picked up is aligned with the peeling tool 52, the peeling tool 52 is raised, and the suction surface 52a is brought into contact with the lower surface of the adhesive sheet 8b. Yes.

ここではさらにピックアップノズル16aをピックアップ対象の半導体チップ8a*に対して位置合わせして下降させた状態で、第2の昇降機構55を駆動して突き上げ部材53Aを突出部材57とともに上昇させ(矢印n)、粘着シート8bを介して半導体チップ8a*を下方から突き上げる。これに先立って、真空吸引部56(図4)を駆動して吸着孔52bから真空吸引する(矢印d)。これにより、図9(b)に示す状態と同様に、吸引剥離エリア52cにおいて吸引凹部52f、53fに相当する部分の粘着シート8bが、半導体チップ8a*の下面から剥離され、吸引剥離エリア52cによって吸着保持される。このとき、ピックアップノズル16aから真空吸引することにより(矢印h)、半導体チップ8a*はピックアップノズル16aの下面に吸着保持された状態にある。   Here, with the pickup nozzle 16a positioned and lowered with respect to the semiconductor chip 8a * to be picked up, the second lifting mechanism 55 is driven to raise the push-up member 53A together with the protrusion member 57 (arrow n). ), The semiconductor chip 8a * is pushed up from below through the adhesive sheet 8b. Prior to this, the vacuum suction section 56 (FIG. 4) is driven to perform vacuum suction from the suction hole 52b (arrow d). As a result, as in the state shown in FIG. 9B, the adhesive sheet 8b corresponding to the suction recesses 52f and 53f in the suction peeling area 52c is peeled from the lower surface of the semiconductor chip 8a *, and the suction peeling area 52c Adsorbed and held. At this time, by vacuum suction from the pickup nozzle 16a (arrow h), the semiconductor chip 8a * is held by suction on the lower surface of the pickup nozzle 16a.

次に、第2の昇降機構55(図4参照)を駆動することにより、図11(b)に示すように、突出部材57を突き上げ部材53Aに対して上昇させて(矢印o)、当接凸部57bによって粘着シート8bを介して半導体チップ8a*を下方から突き上げるとともに、ピックアップノズル16aを上昇させることにより(矢印p)、半導体チップ8a*を突き上げ部材53の上面部53aに保持された粘着シート8bから完全に剥離させて、保持テーブル3aに保持された半導体ウェハユニット8から取り出す。   Next, by driving the second elevating mechanism 55 (see FIG. 4), as shown in FIG. 11B, the projecting member 57 is raised with respect to the push-up member 53A (arrow o) and contacted. The protrusion 57b pushes up the semiconductor chip 8a * from below through the adhesive sheet 8b and raises the pickup nozzle 16a (arrow p), thereby holding the semiconductor chip 8a * on the upper surface 53a of the push-up member 53. The sheet 8b is completely peeled off and taken out from the semiconductor wafer unit 8 held on the holding table 3a.

この構成においても、粘着シート8bは吸引剥離エリア52cの底部に吸着保持されて、半導体チップ8a*の下方に位置する分離点Fから斜め上方に立ち上がって突き上げ部材53Aの上面と連結された状態となることから、図6(b)に示すような、隣接する半導体チップ8aの端部が粘着シート8bによって持ち上げられて折損する不具合が生じない。また、吸引剥離エリア52cの所定範囲B1やオーバーハング量B1aは、予め作業対象の半導体チップ8aの抗折特性を考慮して設定されていることから、図6(c)に示すような、ピックアップ対象の半導体チップ8a*の端部が粘着シート8bの粘着力によって折損する不具合が生じない。   Also in this configuration, the adhesive sheet 8b is adsorbed and held at the bottom of the suction peeling area 52c, rises obliquely upward from the separation point F located below the semiconductor chip 8a *, and is connected to the upper surface of the push-up member 53A. Therefore, there is no problem that the end portions of the adjacent semiconductor chips 8a are lifted by the adhesive sheet 8b and broken as shown in FIG. Further, since the predetermined range B1 and the overhang amount B1a of the suction / peeling area 52c are set in advance in consideration of the bending characteristics of the semiconductor chip 8a to be worked, a pickup as shown in FIG. There is no problem that the end of the target semiconductor chip 8a * breaks due to the adhesive force of the adhesive sheet 8b.

なお本実施の形態において、突き上げ部材53の構成には各種のバリエーションが可能であり、図4,図9にそれぞれ示す突き上げ部材53、53Aの構成には限定されない。例えば、図11(c)に示すように、図4の突き上げ部材53において、上面部53aから突出して進退するエジェクタピン59を設けた構成の突き上げ部材53Bを用いるようにしてもよい。すなわちこの例では、図9(b)(c)に示すように半導体チップ8a*を保持したピックアップノズル16aを上昇させて(矢印o)半導体チップ8a*を取り出すピックアップ動作時に、エジェクタピン59を粘着シート8bを貫通して上昇させ(矢印q)、半導体チップ8a*の下面を突き上げることにより、粘着シート8bの剥離をより確実に促進するようにしている。   In the present embodiment, various configurations are possible for the configuration of the push-up member 53, and the configuration of the push-up members 53 and 53A shown in FIGS. 4 and 9 is not limited thereto. For example, as shown in FIG. 11C, a push-up member 53B having a configuration in which an ejector pin 59 that protrudes from the upper surface portion 53a and advances and retreats may be used in the push-up member 53 of FIG. That is, in this example, as shown in FIGS. 9B and 9C, the pick-up nozzle 16a holding the semiconductor chip 8a * is raised (arrow o), and the ejector pin 59 is attached to the sticker during the pick-up operation for taking out the semiconductor chip 8a *. The sheet 8b is lifted through (arrow q), and the lower surface of the semiconductor chip 8a * is pushed up, so that the peeling of the adhesive sheet 8b is more surely promoted.

上記説明したように、本実施の形態に示す半導体チップのピックアップ装置、ピックアップ方法では、半導体チップ8aの真空吸着によるピックアップにおいて粘着シート8bからの剥離を促進する剥離機構34に、剥離ツール52において半導体チップ8aの外縁形状に対応して吸着面に設定された矩形状のチップ範囲52gの内側にチップ範囲52gよりも小さい開口サイズで開口する開口部52dと、この開口部52dに相対昇降動作が自在に嵌合して設けられ上昇状態において上面が吸着面52aから突出して粘着シート8bを介して半導体チップ8a*を下方から突き上げる突き上げ部材53と、開口部52dの外側にチップ範囲52gの外縁を含んだ所定範囲Bに形成され、粘着シート8bの下面に複数の凸部52eを当接させた状態で凸部52eの間の吸引凹部52fから真空吸引することにより吸引凹部52fに対応した範囲の粘着シート8bを半導体チップから剥離させる吸引剥離エリア52cとを備えた構成としている。   As described above, in the semiconductor chip pick-up apparatus and pick-up method shown in the present embodiment, the peeling tool 52 is used as a semiconductor in the peeling tool 52 in the pick-up by vacuum suction of the semiconductor chip 8a to promote the peeling from the adhesive sheet 8b. An opening 52d opening with an opening size smaller than the chip range 52g inside a rectangular chip range 52g set on the suction surface corresponding to the outer edge shape of the chip 8a, and a relative lifting operation can be freely performed in the opening 52d. In the raised state, the upper surface protrudes from the suction surface 52a and pushes up the semiconductor chip 8a * from below through the adhesive sheet 8b, and includes the outer edge of the chip range 52g outside the opening 52d. It is formed in a predetermined range B, and a plurality of convex portions 52e are brought into contact with the lower surface of the adhesive sheet 8b. And a structure in which a suction exfoliation area 52c for peeling the adhesive sheet 8b in the range corresponding to the suction recess 52f from the semiconductor chip by vacuum suction from the suction recess 52f between the convex portion 52e in the state.

そして吸引剥離エリア52cが形成される所定範囲Bを、突き上げ部材53によって中央部の下面側を支持されたピックアップ対象の半導体チップ8a*の外縁部が吸引剥離エリア52cに片持ち状態で延出した状態において、粘着シート8bの剥離によって半導体チップ8a、8a*が折損を生じない範囲に設定することにより、薄型で大きいサイズの半導体チップを対象とする場合にあっても、半導体チップの破損を生じることなく粘着シート8bを剥離させて、半導体チップ8aを正常にピックアップすることができる。   Then, the outer edge portion of the semiconductor chip 8a * to be picked up supported by the push-up member 53 on the lower surface side of the central portion extends in a cantilevered state to the suction peeling area 52c in a predetermined range B where the suction peeling area 52c is formed. In the state, the semiconductor chip 8a, 8a * is set in a range in which the semiconductor sheet 8a, 8a * does not break due to the peeling of the adhesive sheet 8b. Without removing the adhesive sheet 8b, the semiconductor chip 8a can be picked up normally.

本発明の半導体チップのピックアップ装置およびピックアップ方法は、薄型で大きいサイズの半導体チップを対象とする場合にあっても、チップの破損を生じることなく粘着シートを剥離させて半導体チップを正常にピックアップすることができるという効果を有し、薄型の半導体チップをピックアップ対象として粘着シートから取り出して基板に実装する分野において有用である。   The semiconductor chip pick-up apparatus and pick-up method of the present invention normally picks up a semiconductor chip by peeling off the adhesive sheet without causing damage to the chip even when targeting a thin and large-sized semiconductor chip. This is effective in the field where a thin semiconductor chip is taken out from an adhesive sheet as a pickup target and mounted on a substrate.

1 部品実装装置
3 部品供給ステージ
6 基板
8 半導体ウェハユニット
8a、8a* 半導体チップ
8b 粘着シート
15 ピックアップヘッド移動機構
16 ピックアップヘッド
16a ピックアップノズル
34 剥離機構
52 剥離ツール
52a 吸着面
52b、53b 吸着孔
52c 吸引剥離エリア
52d 開口部
52e,53e 凸部
52f、53f 吸引凹部
52g チップ範囲
53,53A,53B 突き上げ部材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Component mounting apparatus 3 Component supply stage 6 Substrate 8 Semiconductor wafer unit 8a, 8a * Semiconductor chip 8b Adhesive sheet 15 Pickup head moving mechanism 16 Pickup head 16a Pickup nozzle 34 Peeling mechanism 52 Peeling tool 52a Suction surface 52b, 53b Suction hole 52c Suction Peeling area 52d Opening 52e, 53e Protrusion 52f, 53f Suction recess 52g Tip range 53, 53A, 53B Push-up member

Claims (3)

ウェハ状態で個片に分割され粘着シートに貼着された半導体チップをピックアップするピックアップ装置であって、
前記粘着シートを保持するシート保持部と、
前記シート保持部に保持された粘着シートから吸着ノズルを備えたピックアップヘッドによって前記半導体チップをピックアップするピックアップ機構と、
前記シート保持部の下方に配設されて前記シート保持部に対して相対的に昇降し、上面に吸着面が設けられた吸着昇降部を有し、前記ピックアップにおいて前記粘着シートの下面を前記吸着面によって吸着保持するとともに前記半導体チップを下方から突き上げることにより、この半導体チップの粘着シートからの剥離を促進する剥離機構と、
前記ピックアップ機構および剥離機構とを制御する制御部とを備え、
前記剥離機構は、前記吸着昇降部において前記半導体チップの外縁形状に対応して前記吸着面に設定された矩形状のチップ範囲の内側に前記チップ範囲よりも小さい開口サイズで開口する開口部と、
前記開口部に相対昇降動作が自在に嵌合して設けられ上昇状態において上面が前記吸着面から突出して粘着シートを介して前記半導体チップを下方から突き上げる突き上げ部材と、
前記開口部の外側に前記チップ範囲の外縁部を含んだ所定範囲に形成され、前記粘着シートの下面に複数の凸部を当接させた状態で前記凸部の間の吸引凹部から真空吸引することにより前記吸引凹部に対応した範囲の粘着シートを半導体チップから剥離させる吸引剥離エリアと、
前記吸着面および吸引凹部から真空吸引する真空吸引部とを有し、
さらに前記所定範囲は、前記突き上げ部材によって中央部の下面側を支持されたピックアップ対象の半導体チップの外縁部が前記吸引剥離エリアに片持ち状態で延出した状態において、前記粘着シートの剥離または前記突き上げ部材による突き上げによって前記ピックアップ対象の半導体チップまたは隣接する半導体チップが折損を生じないように、当該半導体チップの抗折強度に応じて設定されており、
前記制御部が前記ピックアップ機構および剥離機構を制御することにより、前記シート保持部に対して前記吸着昇降部を上昇させて、前記吸着面によって前記粘着シートの下面を吸着保持し、次いで前記吸引凹部から真空吸引することにより前記吸引剥離エリアにおいて粘着シートを半導体チップから剥離させ、さらに前記突き上げ部材を上昇させてピックアップ対象の半導体チップを下方から突き上げるとともに、前記吸着ノズルによってこの半導体チップを上面から吸着保持してピックアップすることを特徴とする半導体チップのピックアップ装置。
A pickup device that picks up a semiconductor chip divided into individual pieces in a wafer state and attached to an adhesive sheet,
A sheet holding unit for holding the adhesive sheet;
A pickup mechanism that picks up the semiconductor chip from a pressure-sensitive adhesive sheet held by the sheet holding unit by a pickup head having a suction nozzle;
A suction raising / lowering portion disposed below the sheet holding portion and moving up and down relatively with respect to the sheet holding portion, and having an adsorption surface provided on an upper surface thereof; A peeling mechanism that promotes the peeling of the semiconductor chip from the adhesive sheet by adhering and holding by the surface and pushing up the semiconductor chip from below,
A control unit for controlling the pickup mechanism and the peeling mechanism;
The peeling mechanism has an opening that opens with an opening size smaller than the chip range inside a rectangular chip range set on the suction surface corresponding to the outer edge shape of the semiconductor chip in the suction lifting unit,
A push-up member that is provided by freely fitting and moving up and down relative to the opening, and in the raised state, the upper surface protrudes from the suction surface and pushes the semiconductor chip from below through an adhesive sheet;
Formed in a predetermined range including the outer edge of the chip range outside the opening, and vacuum suction is performed from a suction recess between the protrusions with a plurality of protrusions contacting the lower surface of the adhesive sheet. A suction peeling area for peeling the adhesive sheet in a range corresponding to the suction recess from the semiconductor chip,
A vacuum suction part for vacuum suction from the suction surface and the suction recess,
Further, the predetermined range may be the separation of the pressure-sensitive adhesive sheet in the state where the outer edge portion of the semiconductor chip to be picked up supported by the push-up member on the lower surface side of the central portion extends in a cantilevered state to the suction peeling area. It is set according to the bending strength of the semiconductor chip so that the semiconductor chip to be picked up or the adjacent semiconductor chip is not broken by the push-up by the push-up member,
The control unit controls the pickup mechanism and the peeling mechanism to raise the suction raising / lowering unit with respect to the sheet holding unit, and suction and hold the lower surface of the adhesive sheet by the suction surface, and then the suction recess The adhesive sheet is peeled from the semiconductor chip in the suction peeling area by vacuum suction from the semiconductor chip, and the push-up member is lifted to push up the semiconductor chip to be picked up from below, and the semiconductor nozzle is sucked from the upper surface by the suction nozzle. A pick-up device for a semiconductor chip, characterized by holding and picking up.
前記所定範囲は、ピックアップ対象の半導体チップに隣接する半導体チップのチップ範囲の外縁部を含んで設定されることを特徴とする請求項1記載の半導体チップのピックアップ装置。   2. The semiconductor chip pickup device according to claim 1, wherein the predetermined range is set including an outer edge portion of a chip range of a semiconductor chip adjacent to a semiconductor chip to be picked up. 粘着シートを保持するシート保持部と、前記シート保持部に保持された粘着シートから吸着ノズルを備えたピックアップヘッドによって前記半導体チップをピックアップするピックアップ機構と、前記シート保持部の下方に配設されて前記シート保持部に対して相対的に昇降し、上面に吸着面が設けられた吸着昇降部を有し、前記ピックアップにおいて前記粘着シートの下面を前記吸着面によって吸着保持するとともに前記半導体チップを下方から突き上げることにより、この半導体チップの粘着シートからの剥離を促進する剥離機構と、
前記ピックアップ機構および剥離機構とを制御する制御部とを備え、
前記剥離機構は、前記吸着昇降部において前記半導体チップの外縁形状に対応して前記吸着面に設定された矩形状のチップ範囲の内側に前記チップ範囲よりも小さい開口サイズで開口する開口部と、前記開口部に相対昇降動作が自在に嵌合して設けられ上昇状態において上面が前記吸着面から突出して粘着シートを介して前記半導体チップを下方から突き上げる突き上げ部材と、前記開口部の外側に前記チップ範囲の外縁を含んだ所定範囲に形成され、前記粘着シートの下面に複数の凸部を当接させた状態で前記凸部の間の吸引凹部から真空吸引することにより前記吸引凹部に対応した範囲の粘着シートを半導体チップから剥離させる吸引剥離エリアと、前記吸着面および吸引凹部から真空吸引する真空吸引部とを有する構成の半導体チップのピックアップ装置によって、ウェハ状態で個片に分割され前記粘着シートに貼着された半導体チップをピックアップするピックアップ方法であって、
前記所定範囲は、前記突き上げ部材によって中央部の下面側を支持されたピックアップ対象の半導体チップの外縁部が前記吸引剥離エリアに片持ち状態で延出した状態において、前記粘着シートの剥離または前記突き上げ部材による突き上げによって前記ピックアップ対象の半導体チップまたは隣接する半導体チップが折損を生じないように、当該半導体チップの抗折強度に応じて設定されており、
前記制御部が前記ピックアップ機構および剥離機構を制御することにより、前記シート保持部に対して前記吸着昇降部を上昇させて、前記吸着面によって前記粘着シートの下面を吸着保持し、次いで前記吸引凹部から真空吸引することにより前記吸引剥離エリアにおいて粘着シートを半導体チップから剥離させ、さらに前記突き上げ部材を上昇させてピックアップ対象の半導体チップを下方から突き上げるとともに、前記吸着ノズルによってこの半導体チップを上面から吸着保持してピックアップすることを特徴とする半導体チップのピックアップ方法。
A sheet holding unit for holding the adhesive sheet; a pickup mechanism for picking up the semiconductor chip from the adhesive sheet held by the sheet holding unit by a pickup head provided with a suction nozzle; and a lower part of the sheet holding unit. It has a suction raising / lowering part which is moved up and down relatively with respect to the sheet holding part and provided with a suction surface on the upper surface. In the pickup, the lower surface of the adhesive sheet is sucked and held by the suction surface and the semiconductor chip is lowered A peeling mechanism that promotes peeling from the adhesive sheet of this semiconductor chip by pushing up from,
A control unit for controlling the pickup mechanism and the peeling mechanism;
The peeling mechanism has an opening that opens with an opening size smaller than the chip range inside a rectangular chip range set on the suction surface corresponding to the outer edge shape of the semiconductor chip in the suction lifting unit, Relative raising and lowering operations are freely fitted in the opening, and in the raised state, the upper surface protrudes from the suction surface and pushes up the semiconductor chip from below through an adhesive sheet, and the outside of the opening It is formed in a predetermined range including the outer edge of the chip range, and corresponds to the suction recess by vacuum suction from the suction recess between the protrusions with a plurality of protrusions contacting the lower surface of the adhesive sheet. A semiconductor chip having a suction peeling area for peeling the adhesive sheet in the range from the semiconductor chip, and a vacuum suction part for vacuum suction from the suction surface and the suction recess The pickup device, a pickup method for picking up a semiconductor chip adhered to the adhesive sheet is divided into pieces in a wafer state,
The predetermined range is the separation of the pressure-sensitive adhesive sheet or the push-up in a state where the outer edge portion of the semiconductor chip to be picked up supported by the push-up member on the lower surface side of the central portion extends in a cantilevered state to the suction peel area. It is set according to the bending strength of the semiconductor chip so as not to cause breakage of the semiconductor chip to be picked up or the adjacent semiconductor chip by pushing up by the member,
The control unit controls the pickup mechanism and the peeling mechanism to raise the suction raising / lowering unit with respect to the sheet holding unit, and suction and hold the lower surface of the adhesive sheet by the suction surface, and then the suction recess The adhesive sheet is peeled from the semiconductor chip in the suction peeling area by vacuum suction from the semiconductor chip, and the push-up member is lifted to push up the semiconductor chip to be picked up from below, and the semiconductor nozzle is sucked from the upper surface by the suction nozzle. A method of picking up a semiconductor chip, characterized by holding and picking up.
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