JP2014010451A - 露光装置及び露光方法 - Google Patents

Abstract

【課題】基板とマスクとの高信頼性の整列が可能な露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】露光装置は、基板の整列マークに対する映像データを取得する入力部１１０、基板の露光位置に対する設計データが保存された設計データ保存部１５０、入力部１１０により取得した映像データを用いて、整列マークの位置に相当する座標データを生成する座標データ生成部１２０、座標データ生成部１２０の座標データを用いて基板の仮想領域を形成し、仮想領域を対角線で分割してそれぞれの分割された仮想領域を形成する仮想分割部１３０、仮想分割部１３０によりそれぞれの分割された仮想領域に対して線形補正を行い、線形データを生成する線形補正部１４０、線形補正部１４０の線形データ及び保存部１５０の設計データを用いて、露光位置変更値である露光データを生成する露光データ生成部１６０、設計データ及び露光データを用いて露光を施す露光部１７０と、を含む。
【選択図】図１

Description

本発明は、露光装置及び露光方法に関する。

電子産業の発達に伴い、電子部品の高機能化、小型化に対する要求が急増している。このような傾向に対応するために、プリント回路基板もまた小型化される必要があり、これによって回路パターンの高密度化が要求されている。

プリント回路基板の回路パターンを高密度化するためには、最適化された回路パターンの形成条件を満足しなければならない。しかし、プリント回路基板が多数の高温工程などを経ることで、歪み現象、膨張または収縮が生じる。このようにプリント回路基板が変形すると、パターン形成のためのマスクとプリント回路基板との整合が不正確になり、回路パターンの高密度化が困難になり得る。従って、プリント回路基板とマスクとを精密に整合するためのマスク整列方法が用いられている（特許文献１参照）。

米国特許第５９８９７６１号明細書

本発明の目的は、基板とマスクとの高信頼性の整列が可能な露光装置及び露光方法を提供することにある。

本発明の実施例によると、基板の整列マークに対する映像データを取得する入力部と、前記基板の露光位置に対する設計データが保存された設計データ保存部と、前記入力部により取得した前記映像データを用いて、前記整列マークの位置に相当する座標データを生成する座標データ生成部と、前記座標データ生成部の前記座標データを用いて前記基板の仮想領域を形成し、前記仮想領域を対角線で分割してそれぞれの分割された仮想領域を形成する仮想分割部と、前記仮想分割部により前記それぞれの分割された仮想領域に対して線形補正を行い、線形データを生成する線形補正部と、前記線形補正部の前記線形データ及び前記保存部の設計データを用いて、露光位置変更値である露光データを生成する露光データ生成部と、前記保存部の前記設計データ及び前記露光データ生成部の前記露光データを用いて露光を施す露光部と、を含む露光装置が提供される。

前記入力部は、カメラであることができる。

前記仮想分割部は、前記座標データによる最も長い対角線で前記仮想領域を分割することができる。

前記露光データは、前記線形データと前記設計データとの誤差値であることができる。

前記露光部は、前記設計データを基準として前記露光データだけ位置を変更し、露光を施すことができる。

本発明の他の実施例によると、基板の整列マークに対する映像データを取得する入力部と、前記基板の露光のための設計データが保存された設計データ保存部と、前記入力部により取得した前記映像データを用いて、前記整列マークの位置に相当する座標データを生成する座標データ生成部と、前記座標データ生成部の前記座標データを用いて、前記基板の仮想領域を多数の四角形に分割し、それぞれの分割された第１仮想領域を形成する第１仮想分割部と、前記座標データ生成部の前記座標データを用いて、前記基板の仮想領域を形成し、前記仮想領域を対角線で分割してそれぞれの分割された第２仮想領域を形成する第２仮想分割部と、前記第１仮想分割部により前記それぞれの分割された第１仮想領域に対して線形補正を行い、第１線形データを生成する第１線形補正部と、前記第２仮想分割部により前記それぞれの分割された第２仮想領域に対して線形補正を行い、第２線形データを生成する第２線形補正部と、前記保存部の前記設計データ、前記第１線形補正部の前記第１線形データ及び前記第２線形補正部の前記第２線形データを用いて、露光位置変更値である露光データを生成する露光データ生成部と、前記保存部の前記設計データ及び前記露光データ生成部の前記露光データを用いて露光を施す露光部と、を含む露光装置が提供される。

前記入力部は、カメラであることができる。

前記第２仮想分割部は、前記座標データによる最も長い対角線で前記仮想領域を分割することができる。

前記露光データは、前記第１線形データ及び前記第２線形データの平均値と、前記設計データとの誤差値であることができる。

前記露光部は、前記設計データを基準として前記露光データだけ位置を変更し、露光を施すことができる。

本発明のまた他の実施例によると、基板に形成された複数の整列マークの映像データを取得する段階と、前記映像データを用いて前記整列マークの位置に相当する座標データを生成する段階と、前記座標データを用いて前記基板の仮想領域を形成し、前記仮想領域を対角線で分割してそれぞれの分割された仮想領域を形成する段階と、前記それぞれの分割された仮想領域に対して線形補正を行い、線形データを生成する段階と、前記基板の露光の位置に対する設計データを取得する段階と、前記線形データ及び前記設計データを用いて露光位置変更値である露光データを生成する段階と、前記設計データ及び前記露光データを用いて露光を施す段階と、を含む露光方法が提供される。

前記仮想領域を形成する段階において、前記対角線は、前記座標データによる最も長い対角線であることができる。

前記露光データを生成する段階において、前記露光データは、前記線形データと前記設計データとの誤差値であることができる。

前記露光を施す段階は、前記設計データを基準として前記露光データだけ位置を変更し、露光を施すことができる。

本発明のまた他の側面によると、基板に形成された複数の整列マークの映像データを取得する段階と、前記映像データを用いて前記整列マークの位置に相当する座標データを生成する段階と、前記座標データを用いて前記基板の仮想領域を形成し、前記仮想領域を多数の四角形に分割してそれぞれの第１仮想領域を形成する段階と、前記座標データを用いて前記基板の仮想領域を形成し、前記仮想領域を対角線で分割してそれぞれの第２仮想領域を形成する段階と、前記それぞれの分割された第１仮想領域に対して線形補正を行い、第１線形データを生成する段階と、前記それぞれの分割された第２仮想領域に対して線形補正を行い、第２線形データを生成する段階と、前記基板の露光の位置に対する設計データを取得する段階と、前記第１線形データ、第２線形データ及び前記設計データを用いて露光位置変更値である露光データを生成する段階と、前記設計データ及び前記露光データを用いて露光を施す段階と、を含む露光方法が提供される。

前記第２仮想領域を形成する段階において、前記対角線は、前記座標データによる最も長い対角線であることができる。

前記露光データを生成する段階において、前記露光データは、前記第１線形データ及び前記第２線形データの平均値と、前記設計データとの誤差値であることができる。

前記露光を施す段階は、前記設計データを基準として前記露光データだけ位置を変更し、露光を施すことができる。

本発明の実施例による露光装置及び露光方法によると、同じ個数の整列マークを用いてより正確にマスクを整列することができる。

本発明の実施例による露光装置を示す例示図である。 本発明の実施例による露光方法を示すフローチャートである。 本発明の他の実施例による露光装置を示す例示図である。 本発明の他の実施例による露光方法を示すフローチャートである。 本発明の実施例による変形された基板を示す例示図である。 本発明の実施例による第１仮想領域の第１線形補正を示す例示図である。 本発明の実施例による第２仮想領域の第２線形補正を示す例示図である。 本発明の実施例による第３仮想領域の第３線形補正を示す例示図である。 本発明の他の実施例による線形補正を示す例示図である。 本発明の他の実施例による線形補正を示す例示図である。

本発明の目的、特定の長所及び新規の特徴は、添付図面に係る以下の詳細な説明及び好ましい実施例によってさらに明らかになるであろう。本明細書において、各図面の構成要素に参照番号を付け加えるに際し、同一の構成要素に限っては、たとえ異なる図面に示されても、できるだけ同一の番号を付けるようにしていることに留意しなければならない。また、「一面」、「他面」、「第１」、「第２」などの用語は、一つの構成要素を他の構成要素から区別するために用いられるものであり、構成要素が前記用語によって限定されるものではない。以下、本発明を説明するにあたり、本発明の要旨を不明瞭にする可能性がある係る公知技術についての詳細な説明は省略する。

以下、添付図面を参照して、本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。

図１は、本発明の実施例による露光装置を示す例示図である。

図１を参照すると、露光装置１００は、入力部１１０と、座標データ生成部１２０と、仮想分割部１３０と、線形補正部１４０と、設計データ保存部１５０と、露光データ生成部１６０と、露光部１７０と、を含むものである。

露光装置１００は、基板に露光を施す装置である。

入力部１１０は、露光装置１００に装着された基板の整列マークに対する映像データを取得することができる。ここで、基板は多数の工程を経るため歪みなどの変形が生じ得る。基板に形成された整列マークは、多数であることができる。本発明の実施例によると、入力部１１０は、カメラであることができる。

座標データ生成部１２０は、基板に形成された整列マークの座標データを生成することができる。座標データは、基板の整列マークの位置を座標で示すデータである。座標データ生成部１２０は、入力部１１０の映像データから整列マークの位置に相当する座標データを生成することができる。

仮想分割部１３０は、基板の仮想領域を分割することができる。仮想分割部１３０は、座標データ生成部１２０の座標データを用いて、基板の仮想領域を形成することができる。仮想分割部１３０は、基板の仮想領域を対角線で分割してそれぞれの分割された仮想領域を形成することができる。例えば、仮想分割部１３０は、座標データで形成することができる最も長い対角線を基準として基板の仮想領域を分割することができる。

線形補正部１４０は、分割された仮想領域それぞれに対して線形補正を行うことができる。即ち、線形補正部１４０は、分割された仮想領域を構成するそれぞれのピクセル（ｐｉｘｅｌ）に対して線形補正を行うことができる。また、線形補正部１４０は、分割された仮想領域それぞれに対する線形補正による結果である線形データを形成することができる。線形データは、線形補正されたピクセルそれぞれの座標を示す補正ピクセルデータ及び座標データを含むことができる。

設計データ保存部１５０には、設計データを保存することができる。設計データは、基板に露光が施される位置を示すデータである。設計データは、基板に多数の工程を行う前に予め保存され得る。即ち、設計データは、多数の工程が行われる前の基板である変形前の基板を基準として露光の位置が設計されたデータであることができる。

露光データ生成部１６０は、露光位置変更値である露光データを生成することができる。露光データ生成部１６０は、線形データと設計データを用いて露光データを形成することができる。露光データ生成部１６０は、設計データの露光が施される位置と線形データの補正ピクセルデータをマッチングし、設計データを基準として露光位置が変更された程度を示す露光データを形成することができる。例えば、露光データは、線形データと設計データとの誤差値であることができる。

露光部１７０は、基板に露光を施すことができる。露光部１７０は、設計データ及び露光データを用いて露光を施すことができる。露光部１７０は、設計データに露光データを反映して露光が施される位置を変更し、基板に露光を施すことができる。

図２は、本発明の実施例による露光方法を示すフローチャートである。

図２を参照すると、先ず、露光装置は、基板の整列マークに対する映像データを取得することができる（Ｓ１１０）。ここで、基板は、多数の工程を経て歪みなどの変形が生じたものであることができる。基板に形成された整列マークは、多数であることができる。

次に、露光装置は、座標データを形成することができる（Ｓ１２０）。ここで、座標データは、整列マークの位置を示すデータであることができる。露光装置は、映像データを用いて基板の整列マークの位置である座標データを形成することができる。

次に、露光装置は、仮想領域を形成することができる（Ｓ１３０）。露光装置は、座標データを用いて基板の仮想領域を形成することができる。露光装置は、基板の仮想領域を対角線で分割してそれぞれの分割された仮想領域を形成することができる。例えば、露光装置は、基板の仮想領域を座標データで形成することができる最も長い対角線を基準として分割することができる。ここで、最も長い対角線は、多数の座標データのうち互いの距離が最も遠い座標データ同士の連結線であることができる。

次に、露光装置は、分割された仮想領域それぞれに対して線形補正を行うことができる（Ｓ１４０）。露光装置は、分割された仮想領域を構成するそれぞれのピクセル（ｐｉｘｅｌ）に対して線形補正を行うことができる。これにより、露光装置は、分割された仮想領域それぞれに対する線形補正による結果である線形データを形成することができる。線形データは、線形補正されたピクセルそれぞれの座標を示す補正ピクセルデータ及び座標データを含むことができる。

次に、露光装置は、設計データを取得することができる（Ｓ１５０）。設計データは、基板に露光が施される位置を示すデータであることができる。このような設計データは、基板に多数の工程が行われる前に予め保存され得る。即ち、設計データは、多数の工程が行われる前の基板である変形前の基板を基準として露光の位置が設計されたデータであることができる。露光装置は、このように予め保存されている設計データを取得することができる。

次に、露光装置は、露光データを生成することができる（Ｓ１６０）。露光装置は、線形データ及び設計データを用いて露光データを生成することができる。露光装置は、設計データの露光が施される位置と線形データの補正されたピクセルデータをマッチングし、設計データを基準として露光位置が変更された程度を示す露光データを形成することができる。例えば、露光データは、線形データと設計データとの誤差値であることができる。

次に、露光装置は、露光を施すことができる（Ｓ１７０）。露光装置は、設計データ及び露光データを用いて露光を施すことができる。露光装置は、設計データに露光データを反映して露光位置を変更し、基板に露光を施すことができる。

図３は、本発明の他の実施例による露光装置を示す例示図である。

図３を参照すると、露光装置２００は、入力部２１０と、座標データ生成部２２０と、第１仮想分割部２３０と、第２仮想分割部２４０と、第１線形補正部２５０と、第２線形補正部２６０と、設計データ保存部２７０と、露光データ生成部２８０と、露光部２９０と、を含むものである。

露光装置２００は、基板に露光を施す装置である。

入力部２１０は、露光装置２００に装着された基板の整列マークに対する映像データを取得することができる。ここで、基板には、多数の工程を経ることで、歪みなどの変形が生じ得る。基板に形成された整列マークは、多数であることができる。本発明の実施例によると、入力部２１０は、カメラであることができる。

設計データ保存部２７０には、設計データが保存されることができる。設計データは、基板に露光が施される位置を示すデータである。設計データは、基板に多数の工程が行われる前に予め保存され得る。即ち、設計データは、多数の工程が行われる前の基板である変形前の基板を基準として露光の位置が設計されたデータであることができる。

座標データ生成部２２０は、基板に形成された整列マークの座標データを生成することができる。座標データは、基板の整列マークの位置を座標で示すデータである。座標データ生成部２２０は、入力部２１０の映像データから整列マークの位置に相当する座標データを生成することができる。

第１仮想分割部２３０は、基板の仮想領域を分割することができる。第１仮想分割部２３０は、座標データ生成部２２０の座標データを用いて基板の仮想領域を形成することができる。第１仮想分割部２３０は、基板の仮想領域を四角形に分割し、それぞれの分割された第１仮想領域を形成することができる。例えば、第１仮想分割部２３０は、基板の仮想領域を多数の座標データのうち一部を含む四角形に分割することができる。

第２仮想分割部２４０は、基板の仮想領域を分割することができる。第２仮想分割部２４０は、座標データ生成部２２０の座標データを用いて基板の仮想領域を形成することができる。第２仮想分割部２４０は、基板の仮想領域を対角線で分割してそれぞれの分割された第２仮想領域を形成することができる。例えば、第２仮想分割部２４０は、基板の仮想領域を座標データで形成することができる最も長い対角線を基準として分割することができる。ここで、最も長い対角線は、多数の座標データのうち互いの距離が最も遠い座標データ同士の連結線であることができる。

第１線形補正部２５０は、分割された第１仮想領域それぞれに対して線形補正を行うことができる。即ち、第１線形補正部２５０は、分割された第１仮想領域を構成するそれぞれのピクセル（ｐｉｘｅｌ）に対して線形補正を行うことができる。また、第１線形補正部２５０は、分割された仮想領域それぞれに対する線形補正による結果である第１線形データを形成することができる。即ち、第１線形データは、第１仮想領域を基準として線形補正されたピクセルそれぞれの座標を示す第１補正ピクセルデータ及び座標データを含むことができる。

第２線形補正部２６０は、分割された第２仮想領域それぞれに対して線形補正を行うことができる。即ち、第２線形補正部２６０は、分割された第２仮想領域を構成するそれぞれのピクセル（ｐｉｘｅｌ）に対して線形補正を行うことができる。また、第２線形補正部２６０は、分割された仮想領域それぞれに対する線形補正による結果である第２線形データを形成することができる。即ち、第２線形データは、第２仮想領域を基準として線形補正されたピクセルそれぞれの座標を示す第２補正ピクセルデータ及び座標データを含むことができる。

露光データ生成部２８０は、露光位置変更値である露光データを生成することができる。露光データ生成部２８０は、第１線形データ、第２線形データ及び設計データを用いて露光データを形成することができる。露光データ生成部２８０は、設計データの露光が施される位置と、第１補正ピクセルデータ及び第２補正ピクセルデータをそれぞれマッチングし、設計データを基準として露光位置が変更された程度を示す露光データを形成することができる。例えば、露光データは、第１線形データ及び第２線形データの平均値と設計データとの誤差値であることができる。

露光部２９０は、基板に露光を施すことができる。露光部２９０は、設計データ及び露光データを用いて露光を施すことができる。露光部２９０は、設計データに露光データを反映して露光位置を変更し、基板に露光を施すことができる。

図４は、本発明の他の実施例による露光方法を示すフローチャートである。

先ず、露光装置は、基板の整列マークに対する映像データを取得することができる（Ｓ２１０）。ここで、基板は、多数の工程を経て歪みなどの変形が生じたものであることができる。基板に形成された整列マークは、多数であることができる。

次に、露光装置は、座標データを生成することができる（Ｓ２２０）。ここで、座標データは、整列マークの位置を示すデータであることができる。露光装置は、映像データを用いて基板の整列マークの位置である座標データを形成することができる。

次に、露光装置は、第１仮想領域を形成することができる（Ｓ２３０）。露光装置は、座標データを用いて基板の仮想領域を形成することができる。露光装置は、基板の仮想領域を四角形に分割し、それぞれの分割された第１仮想領域を形成することができる。例えば、露光装置は、多数の座標データのうち一部を含む四角形に仮想領域を分割することができる。

次に、露光装置は、第２仮想領域を形成することができる（Ｓ２４０）。露光装置は、基板の仮想領域を対角線で分割してそれぞれの分割された第２仮想領域を形成することができる。例えば、露光装置は、基板の仮想領域を座標データで形成することができる最も長い対角線を基準として分割することができる。ここで、最も長い対角線は、多数の座標データのうち互いの距離が最も遠い座標データ同士の連結線であることができる。

次に、露光装置は、分割された第１仮想領域それぞれに対する線形補正を行うことができる（Ｓ２５０）。露光装置は、分割された第１仮想領域を構成するそれぞれのピクセル（ｐｉｘｅｌ）に対して線形補正を行うことができる。これにより、露光装置は、分割された第１仮想領域それぞれに対する線形補正による結果である第１線形データを形成することができる。第１線形データは、第１仮想領域を基準として線形補正されたピクセルそれぞれの座標を示す第１補正ピクセルデータを及び座標データを含むことができる。

次に、露光装置は、分割された第２仮想領域それぞれに対する線形補正を行うことができる（Ｓ２６０）。露光装置は、分割された第２仮想領域を構成するそれぞれのピクセル（ｐｉｘｅｌ）に対して線形補正を行うことができる。これにより、露光装置は、分割された第２仮想領域それぞれに対する線形補正による結果である第２線形データを形成することができる。第２線形データは、第２仮想領域を基準として線形補正されたピクセルそれぞれの座標を示す第２補正ピクセルデータを及び座標データを含むことができる。

次に、露光装置は、基板の露光の位置に対する設計データを取得することができる（Ｓ２７０）。設計データは、基板に露光が施される位置を示すデータであることができる。このような設計データは、基板に多数の工程が行われる前に予め保存され得る。即ち、設計データは、多数の工程が行われる前の基板である変形前の基板を基準として露光の位置が設計されたデータであることができる。露光装置は、このように予め保存されている設計データを取得することができる。

次に、露光装置は、露光データを生成することができる（Ｓ２８０）。露光装置は、第１線形データ、第２線形データ及び設計データを用いて露光データを生成することができる。露光装置は、設計データの露光が施される位置と、第１補正ピクセルデータ及び第２補正ピクセルデータをそれぞれマッチングし、設計データを基準として露光位置が変更された程度を示す露光データを形成することができる。例えば、露光データは、第１線形データ及び第２線形データの平均値と、設計データとの誤差値であることができる。

次に、露光装置は、露光を施すことができる（Ｓ２９０）。露光装置は、設計データ及び露光データを用いて露光を施すことができる。露光装置は、設計データに露光データを反映して露光位置を変更し、基板に露光を施すことができる。

図５は、本発明の実施例による変形された基板を示す例示図である。

図５を参照すると、歪みなどで変形された基板３００を確認することができる。変形された基板の整列マーク３１０が基板の角にそれぞれ形成されることができる。変形された基板の整列マーク３１０の位置を示す座標データ及びピクセル３２０の位置を示すピクセルデータの実際値は、以下の表１のとおりである。

図６は、本発明の実施例による第１仮想領域の第１線形補正を示す例示図である。

本発明の実施例による露光装置は、変形された基板３００（図５参照）の整列マーク３１０（図５参照）を用いて、基板３００（図５参照）の仮想領域４００を形成した後、仮想領域４００に対する線形補正を行うものである。

本発明の実施例によると、基板３００（図５参照）に形成された整列マーク３１０（図５参照）は４個である。露光装置は、４個の整列マーク３１０（図５参照）を用いて、四角形の仮想領域４００を形成することができる。本実施例において整列マーク３１０（図５参照）の個数が４個であるため、このように形成された仮想領域が、従来の公知された技術により形成された第１仮想領域であることができる。

露光装置は、四角形の仮想領域４００に対して線形補正を行うことができる。この際、露光装置は、仮想領域４００の線形補正による第１線形データを生成することができる。第１線形データは、座標データ及び第１補正ピクセルデータを含むことができる。ここで、座標データは、基板３００（図５参照）の整列マーク３１０（図５参照）の位置を座標で示すデータであることができる。また、第１補正ピクセルデータは、仮想領域４００を基準として線形補正された第１補正ピクセル４２０の位置を座標で示すデータであることができる。

本発明の実施例では、説明の便宜上、４個の整列マークを例に挙げて基板の仮想領域分割及び線形補正に対して説明したが、これに限定されない。即ち、露光装置は、基板に形成された整列マークの個数によって多様な個数に分割された四角形の第１仮想領域を形成することができる。例えば、整列マークの個数が６個である場合、露光装置は、２個の四角形に分割された第１仮想領域を形成することができる。この際、露光装置は、分割された２個の第１仮想領域に対してそれぞれ線形補正を行い、第１線形データを生成することができる。

このように、整列マークを用いて基板の仮想領域を四角形の第１仮想領域に分割し、線形補正を行う方法は、従来の公知された線形補正方法を用いて、当業者によって容易に変更実施することができる。

図５の変形された基板３００（図５参照）の実際の座標データ及びピクセルデータと第１線形データとの誤差は、以下の表２のとおりである。

表２によると、図５の変形された基板３００（図５参照）の実際の座標データ及びピクセルデータと第１線形データとの誤差平均は、０．１１３８である。

図７は、本発明の実施例による第２仮想領域の第２線形補正を示す例示図である。

図７を参照すると、露光装置は、基板の仮想領域５００を長い対角線５０３を基準として分割された第２仮想領域５０１、５０２を形成することができる。また、露光装置は、分割された第２仮想領域５０１、５０２に対してそれぞれ線形補正を行うことができる。この際、露光装置は、第２仮想領域５０１、５０２の線形補正による第２線形データを生成することができる。第２線形データは、座標データ及び第２補正ピクセルデータを含むことができる。ここで、座標データは、基板３００（図５参照）の整列マーク３１０（図５参照）の位置を座標で示すデータであることができる。また、第２補正ピクセルデータは、第２仮想領域５０１、５０２を基準として線形補正された第２補正ピクセル５２０の位置を座標で示すデータであることができる。

この際、変形された基板３００（図５参照）の実際の座標データ及びピクセルデータと第２線形データとの誤差は、以下の表３のとおりである。

表３によると、変形された基板３００（図５参照）の実際の座標データ及びピクセルデータと第２線形データとの誤差平均は、０．０９２２である。

本発明の実施例によると、長い対角線を適用して線形補正を行った場合、従来の線形補正を行った場合より実際値との誤差が小さいことが分かる。

図８は、本発明の実施例による第３仮想領域の第３線形補正を示す例示図である。

図８を参照すると、露光装置は、基板の仮想領域６００を短い対角線６０３を基準として分割された第３仮想領域６０１、６０２を形成することができる。この際、第３仮想領域６０１、６０２それぞれに対して線形補正を行うことができる。この際、露光装置は、線形補正された第３仮想領域６０１、６０２の線形補正による第３線形データを生成することができる。第３線形データは、座標データ及び第３補正ピクセルデータを含むことができる。ここで、座標データは、基板３００（図５参照）の整列マーク３１０（図５参照）の位置を座標で示すデータであることができる。また、第３補正ピクセルデータは、第３仮想領域６０１、６０２を基準として線形補正された第３補正ピクセル６２０の位置を座標で示すデータであることができる。

この際、変形された基板３００（図５参照）の実際の座標データ及びピクセルデータと第３線形データとの誤差は、以下の表４のとおりである。

表４によると、変形された基板３００（図５参照）の実際の座標データ及びピクセルデータと第３線形データとの誤差平均は、０．１９５７である。

本発明の実施例によると、短い対角線を適用して線形補正を行った場合、長い対角線を適用して線形補正を行った場合より実際値との誤差が大きいことが分かる。

図５から図８を参照すると、本発明の実施例による長い対角線を適用して線形補正を行う方法が、従来の線形補正方法または短い対角線を適用して線形補正を行う方法より、実際変形された基板との誤差が少ない補正方法であると言える。

図９及び図１０は、本発明の他の実施例による線形補正を示す例示図である。

図９は、実際変形された基板７００及び基板７００の仮想領域を四角形に分割して線形補正された第１仮想領域８００を示す例示図である。図９に図示されたように、第１仮想領域８００の第１補正ピクセル８２０の位置が、実際ピクセル７２０の位置に比べて下部に位置することを確認することができる。

図１０は、実際変形された基板７００と、本発明の実施例によって基板の仮想領域９００を長い対角線を基準として分割し、線形補正された第２仮想領域９０１、９０２を示す例示図である。

図１０に図示されたように、第２仮想領域９０１、９０２の第２補正ピクセル９２０の位置が実際ピクセル７２０の位置に比べて上部に位置することを確認することができる。

図９及び図１０に図示されたように、第１線形補正方法と第２線形補正方法は、互いに反対方向の誤差値を有するということを確認することができる。本発明の実施例によると、第１線形補正方法と第２線形補正方法を並行し、実際変形された基板により近くなるようにピクセルを補正することができる。即ち、露光装置は、設計データと、第１線形データ及び第２線形補正データそれぞれの誤差の平均値を用いて補正データを生成することができる。このような補正データは、以下の表５のとおりである。

表５によると、補正データと、変形された基板７００の実際の座標データ及びピクセルデータと補正データとの誤差平均値は、０．０８１５である。

即ち、第１線形補正方法と第２線形補正方法を全て適用して線形補正を行う方法が、第２線形補正方法のみを適用して線形補正を行う方法より実際基板との誤差が小さい補正方法であると言える。

以上、本発明を具体的な実施例に基づいて詳細に説明したが、これは本発明を具体的に説明するためのものであり、本発明はこれに制限されず、該当分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想内にての変形や改良が可能であることは明白であろう。

本発明の単純な変形乃至変更はいずれも本発明の領域に属するものであり、本発明の具体的な保護範囲は添付の特許請求の範囲により明確になるであろう。

本発明は、露光装置及び露光方法に適用可能である。

１００、２００ 露光装置
１１０、２１０ 入力部
１２０、２２０ 座標データ生成部
１３０ 仮想分割部
１４０ 線形補正部
１５０ 設計データ保存部
１６０ 露光データ生成部
１７０、２９０ 露光部
２３０ 第１仮想分割部
２４０ 第２仮想分割部
２５０ 第１線形補正部
２６０ 第２線形補正部
２７０ 設計データ保存部
２８０ 露光データ生成部
３００、７００ 基板
３１０ 整列マーク
３２０、７２０ ピクセル
４００、５００、６００、９００ 仮想領域
４２０、８２０ 第１補正ピクセル
５０１、５０２、９０１、９０２ 第２仮想領域
５０３ 長い対角線
５２０、９２０ 第２補正ピクセル
６０１、６０２ 第３仮想領域
６０３ 短い対角線
６２０ 第３補正ピクセル
８００ 第１仮想領域

Claims (18)

1. 基板の整列マークに対する映像データを取得する入力部と、
   前記基板の露光位置に対する設計データが保存された設計データ保存部と、
   前記入力部により取得した前記映像データを用いて、前記整列マークの位置に相当する座標データを生成する座標データ生成部と、
   前記座標データ生成部の前記座標データを用いて前記基板の仮想領域を形成し、前記仮想領域を対角線で分割してそれぞれの分割された仮想領域を形成する仮想分割部と、
   前記仮想分割部により前記それぞれの分割された仮想領域に対して線形補正を行い、線形データを生成する線形補正部と、
   前記線形補正部の前記線形データ及び前記保存部の設計データを用いて、露光位置変更値である露光データを生成する露光データ生成部と、
   前記保存部の前記設計データ及び前記露光データ生成部の前記露光データを用いて露光を施す露光部と、
   を含む露光装置。
2. 前記入力部は、カメラである請求項１に記載の露光装置。
3. 前記仮想分割部は、
   前記座標データによる最も長い対角線で前記仮想領域を分割する請求項１に記載の露光装置。
4. 前記露光データは、前記線形データと前記設計データとの誤差値である請求項１に記載の露光装置。
5. 前記露光部は、前記設計データを基準として前記露光データだけ位置を変更し、露光を施す請求項１に記載の露光装置。
6. 基板の整列マークに対する映像データを取得する入力部と、
   前記基板の露光のための設計データが保存された設計データ保存部と、
   前記入力部により取得した前記映像データを用いて、前記整列マークの位置に相当する座標データを生成する座標データ生成部と、
   前記座標データ生成部の前記座標データを用いて、前記基板の仮想領域を多数の四角形に分割し、それぞれの分割された第１仮想領域を形成する第１仮想分割部と、
   前記座標データ生成部の前記座標データを用いて、前記基板の仮想領域を形成し、前記仮想領域を対角線で分割してそれぞれの分割された第２仮想領域を形成する第２仮想分割部と、
   前記第１仮想分割部により前記それぞれの分割された第１仮想領域に対して線形補正を行い、第１線形データを生成する第１線形補正部と、
   前記第２仮想分割部により前記それぞれの分割された第２仮想領域に対して線形補正を行い、第２線形データを生成する第２線形補正部と、
   前記保存部の前記設計データ、前記第１線形補正部の前記第１線形データ及び前記第２線形補正部の前記第２線形データを用いて、露光位置変更値である露光データを生成する露光データ生成部と、
   前記保存部の前記設計データ及び前記露光データ生成部の前記露光データを用いて露光を施す露光部と、
   を含む露光装置。
7. 前記入力部は、カメラである請求項６に記載の露光装置。
8. 前記第２仮想分割部は、
   前記座標データによる最も長い対角線で前記仮想領域を分割する請求項６に記載の露光装置。
9. 前記露光データは、前記第１線形データ及び前記第２線形データの平均値と、前記設計データとの誤差値である請求項６に記載の露光装置。
10. 前記露光部は、前記設計データを基準として前記露光データだけ位置を変更し、露光を施す請求項６に記載の露光装置。
11. 基板に形成された複数の整列マークの映像データを取得する段階と、
    前記映像データを用いて前記整列マークの位置に相当する座標データを生成する段階と、
    前記座標データを用いて前記基板の仮想領域を形成し、前記仮想領域を対角線で分割してそれぞれの分割された仮想領域を形成する段階と、
    前記それぞれの分割された仮想領域に対して線形補正を行い、線形データを生成する段階と、
    前記基板の露光の位置に対する設計データを取得する段階と、
    前記線形データ及び前記設計データを用いて露光位置変更値である露光データを生成する段階と、
    前記設計データ及び前記露光データを用いて露光を施す段階と、
    を含む露光方法。
12. 前記仮想領域を形成する段階において、
    前記対角線は前記座標データによる最も長い対角線である請求項１１に記載の露光方法。
13. 前記露光データを生成する段階において、
    前記露光データは前記線形データと前記設計データとの誤差値である請求項１１に記載の露光方法。
14. 前記露光を施す段階は、
    前記設計データを基準として前記露光データだけ位置を変更し、露光を施す請求項１１に記載の露光方法。
15. 基板に形成された複数の整列マークの映像データを取得する段階と、
    前記映像データを用いて前記整列マークの位置に相当する座標データを生成する段階と、
    前記座標データを用いて前記基板の仮想領域を形成し、前記仮想領域を多数の四角形に分割してそれぞれの第１仮想領域を形成する段階と、
    前記座標データを用いて前記基板の仮想領域を形成し、前記仮想領域を対角線で分割してそれぞれの第２仮想領域を形成する段階と、
    前記それぞれの分割された第１仮想領域に対して線形補正を行い、第１線形データを生成する段階と、
    前記それぞれの分割された第２仮想領域に対して線形補正を行い、第２線形データを生成する段階と、
    前記基板の露光の位置に対する設計データを取得する段階と、
    前記第１線形データ、第２線形データ及び前記設計データを用いて露光位置変更値である露光データを生成する段階と、
    前記設計データ及び前記露光データを用いて露光を施す段階と、
    を含む露光方法。
16. 前記第２仮想領域を形成する段階において、
    前記対角線は前記座標データによる最も長い対角線である請求項１５に記載の露光方法。
17. 前記露光データを生成する段階において、
    前記露光データは前記第１線形データ及び前記第２線形データの平均値と、前記設計データとの誤差値である請求項１５に記載の露光方法。
18. 前記露光を施す段階は、
    前記設計データを基準として前記露光データだけ位置を変更し、露光を施す請求項１５に記載の露光方法。

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