JP2014010451A - 露光装置及び露光方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】基板とマスクとの高信頼性の整列が可能な露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】露光装置は、基板の整列マークに対する映像データを取得する入力部110、基板の露光位置に対する設計データが保存された設計データ保存部150、入力部110により取得した映像データを用いて、整列マークの位置に相当する座標データを生成する座標データ生成部120、座標データ生成部120の座標データを用いて基板の仮想領域を形成し、仮想領域を対角線で分割してそれぞれの分割された仮想領域を形成する仮想分割部130、仮想分割部130によりそれぞれの分割された仮想領域に対して線形補正を行い、線形データを生成する線形補正部140、線形補正部140の線形データ及び保存部150の設計データを用いて、露光位置変更値である露光データを生成する露光データ生成部160、設計データ及び露光データを用いて露光を施す露光部170と、を含む。
【選択図】図1
【解決手段】露光装置は、基板の整列マークに対する映像データを取得する入力部110、基板の露光位置に対する設計データが保存された設計データ保存部150、入力部110により取得した映像データを用いて、整列マークの位置に相当する座標データを生成する座標データ生成部120、座標データ生成部120の座標データを用いて基板の仮想領域を形成し、仮想領域を対角線で分割してそれぞれの分割された仮想領域を形成する仮想分割部130、仮想分割部130によりそれぞれの分割された仮想領域に対して線形補正を行い、線形データを生成する線形補正部140、線形補正部140の線形データ及び保存部150の設計データを用いて、露光位置変更値である露光データを生成する露光データ生成部160、設計データ及び露光データを用いて露光を施す露光部170と、を含む。
【選択図】図1
Description
本発明は、露光装置及び露光方法に関する。
電子産業の発達に伴い、電子部品の高機能化、小型化に対する要求が急増している。このような傾向に対応するために、プリント回路基板もまた小型化される必要があり、これによって回路パターンの高密度化が要求されている。
プリント回路基板の回路パターンを高密度化するためには、最適化された回路パターンの形成条件を満足しなければならない。しかし、プリント回路基板が多数の高温工程などを経ることで、歪み現象、膨張または収縮が生じる。このようにプリント回路基板が変形すると、パターン形成のためのマスクとプリント回路基板との整合が不正確になり、回路パターンの高密度化が困難になり得る。従って、プリント回路基板とマスクとを精密に整合するためのマスク整列方法が用いられている(特許文献1参照)。
本発明の目的は、基板とマスクとの高信頼性の整列が可能な露光装置及び露光方法を提供することにある。
本発明の実施例によると、基板の整列マークに対する映像データを取得する入力部と、前記基板の露光位置に対する設計データが保存された設計データ保存部と、前記入力部により取得した前記映像データを用いて、前記整列マークの位置に相当する座標データを生成する座標データ生成部と、前記座標データ生成部の前記座標データを用いて前記基板の仮想領域を形成し、前記仮想領域を対角線で分割してそれぞれの分割された仮想領域を形成する仮想分割部と、前記仮想分割部により前記それぞれの分割された仮想領域に対して線形補正を行い、線形データを生成する線形補正部と、前記線形補正部の前記線形データ及び前記保存部の設計データを用いて、露光位置変更値である露光データを生成する露光データ生成部と、前記保存部の前記設計データ及び前記露光データ生成部の前記露光データを用いて露光を施す露光部と、を含む露光装置が提供される。
前記入力部は、カメラであることができる。
前記仮想分割部は、前記座標データによる最も長い対角線で前記仮想領域を分割することができる。
前記露光データは、前記線形データと前記設計データとの誤差値であることができる。
前記露光部は、前記設計データを基準として前記露光データだけ位置を変更し、露光を施すことができる。
本発明の他の実施例によると、基板の整列マークに対する映像データを取得する入力部と、前記基板の露光のための設計データが保存された設計データ保存部と、前記入力部により取得した前記映像データを用いて、前記整列マークの位置に相当する座標データを生成する座標データ生成部と、前記座標データ生成部の前記座標データを用いて、前記基板の仮想領域を多数の四角形に分割し、それぞれの分割された第1仮想領域を形成する第1仮想分割部と、前記座標データ生成部の前記座標データを用いて、前記基板の仮想領域を形成し、前記仮想領域を対角線で分割してそれぞれの分割された第2仮想領域を形成する第2仮想分割部と、前記第1仮想分割部により前記それぞれの分割された第1仮想領域に対して線形補正を行い、第1線形データを生成する第1線形補正部と、前記第2仮想分割部により前記それぞれの分割された第2仮想領域に対して線形補正を行い、第2線形データを生成する第2線形補正部と、前記保存部の前記設計データ、前記第1線形補正部の前記第1線形データ及び前記第2線形補正部の前記第2線形データを用いて、露光位置変更値である露光データを生成する露光データ生成部と、前記保存部の前記設計データ及び前記露光データ生成部の前記露光データを用いて露光を施す露光部と、を含む露光装置が提供される。
前記入力部は、カメラであることができる。
前記第2仮想分割部は、前記座標データによる最も長い対角線で前記仮想領域を分割することができる。
前記露光データは、前記第1線形データ及び前記第2線形データの平均値と、前記設計データとの誤差値であることができる。
前記露光部は、前記設計データを基準として前記露光データだけ位置を変更し、露光を施すことができる。
本発明のまた他の実施例によると、基板に形成された複数の整列マークの映像データを取得する段階と、前記映像データを用いて前記整列マークの位置に相当する座標データを生成する段階と、前記座標データを用いて前記基板の仮想領域を形成し、前記仮想領域を対角線で分割してそれぞれの分割された仮想領域を形成する段階と、前記それぞれの分割された仮想領域に対して線形補正を行い、線形データを生成する段階と、前記基板の露光の位置に対する設計データを取得する段階と、前記線形データ及び前記設計データを用いて露光位置変更値である露光データを生成する段階と、前記設計データ及び前記露光データを用いて露光を施す段階と、を含む露光方法が提供される。
前記仮想領域を形成する段階において、前記対角線は、前記座標データによる最も長い対角線であることができる。
前記露光データを生成する段階において、前記露光データは、前記線形データと前記設計データとの誤差値であることができる。
前記露光を施す段階は、前記設計データを基準として前記露光データだけ位置を変更し、露光を施すことができる。
本発明のまた他の側面によると、基板に形成された複数の整列マークの映像データを取得する段階と、前記映像データを用いて前記整列マークの位置に相当する座標データを生成する段階と、前記座標データを用いて前記基板の仮想領域を形成し、前記仮想領域を多数の四角形に分割してそれぞれの第1仮想領域を形成する段階と、前記座標データを用いて前記基板の仮想領域を形成し、前記仮想領域を対角線で分割してそれぞれの第2仮想領域を形成する段階と、前記それぞれの分割された第1仮想領域に対して線形補正を行い、第1線形データを生成する段階と、前記それぞれの分割された第2仮想領域に対して線形補正を行い、第2線形データを生成する段階と、前記基板の露光の位置に対する設計データを取得する段階と、前記第1線形データ、第2線形データ及び前記設計データを用いて露光位置変更値である露光データを生成する段階と、前記設計データ及び前記露光データを用いて露光を施す段階と、を含む露光方法が提供される。
前記第2仮想領域を形成する段階において、前記対角線は、前記座標データによる最も長い対角線であることができる。
前記露光データを生成する段階において、前記露光データは、前記第1線形データ及び前記第2線形データの平均値と、前記設計データとの誤差値であることができる。
前記露光を施す段階は、前記設計データを基準として前記露光データだけ位置を変更し、露光を施すことができる。
本発明の実施例による露光装置及び露光方法によると、同じ個数の整列マークを用いてより正確にマスクを整列することができる。
本発明の目的、特定の長所及び新規の特徴は、添付図面に係る以下の詳細な説明及び好ましい実施例によってさらに明らかになるであろう。本明細書において、各図面の構成要素に参照番号を付け加えるに際し、同一の構成要素に限っては、たとえ異なる図面に示されても、できるだけ同一の番号を付けるようにしていることに留意しなければならない。また、「一面」、「他面」、「第1」、「第2」などの用語は、一つの構成要素を他の構成要素から区別するために用いられるものであり、構成要素が前記用語によって限定されるものではない。以下、本発明を説明するにあたり、本発明の要旨を不明瞭にする可能性がある係る公知技術についての詳細な説明は省略する。
以下、添付図面を参照して、本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。
図1は、本発明の実施例による露光装置を示す例示図である。
図1を参照すると、露光装置100は、入力部110と、座標データ生成部120と、仮想分割部130と、線形補正部140と、設計データ保存部150と、露光データ生成部160と、露光部170と、を含むものである。
露光装置100は、基板に露光を施す装置である。
入力部110は、露光装置100に装着された基板の整列マークに対する映像データを取得することができる。ここで、基板は多数の工程を経るため歪みなどの変形が生じ得る。基板に形成された整列マークは、多数であることができる。本発明の実施例によると、入力部110は、カメラであることができる。
座標データ生成部120は、基板に形成された整列マークの座標データを生成することができる。座標データは、基板の整列マークの位置を座標で示すデータである。座標データ生成部120は、入力部110の映像データから整列マークの位置に相当する座標データを生成することができる。
仮想分割部130は、基板の仮想領域を分割することができる。仮想分割部130は、座標データ生成部120の座標データを用いて、基板の仮想領域を形成することができる。仮想分割部130は、基板の仮想領域を対角線で分割してそれぞれの分割された仮想領域を形成することができる。例えば、仮想分割部130は、座標データで形成することができる最も長い対角線を基準として基板の仮想領域を分割することができる。
線形補正部140は、分割された仮想領域それぞれに対して線形補正を行うことができる。即ち、線形補正部140は、分割された仮想領域を構成するそれぞれのピクセル(pixel)に対して線形補正を行うことができる。また、線形補正部140は、分割された仮想領域それぞれに対する線形補正による結果である線形データを形成することができる。線形データは、線形補正されたピクセルそれぞれの座標を示す補正ピクセルデータ及び座標データを含むことができる。
設計データ保存部150には、設計データを保存することができる。設計データは、基板に露光が施される位置を示すデータである。設計データは、基板に多数の工程を行う前に予め保存され得る。即ち、設計データは、多数の工程が行われる前の基板である変形前の基板を基準として露光の位置が設計されたデータであることができる。
露光データ生成部160は、露光位置変更値である露光データを生成することができる。露光データ生成部160は、線形データと設計データを用いて露光データを形成することができる。露光データ生成部160は、設計データの露光が施される位置と線形データの補正ピクセルデータをマッチングし、設計データを基準として露光位置が変更された程度を示す露光データを形成することができる。例えば、露光データは、線形データと設計データとの誤差値であることができる。
露光部170は、基板に露光を施すことができる。露光部170は、設計データ及び露光データを用いて露光を施すことができる。露光部170は、設計データに露光データを反映して露光が施される位置を変更し、基板に露光を施すことができる。
図2は、本発明の実施例による露光方法を示すフローチャートである。
図2を参照すると、先ず、露光装置は、基板の整列マークに対する映像データを取得することができる(S110)。ここで、基板は、多数の工程を経て歪みなどの変形が生じたものであることができる。基板に形成された整列マークは、多数であることができる。
次に、露光装置は、座標データを形成することができる(S120)。ここで、座標データは、整列マークの位置を示すデータであることができる。露光装置は、映像データを用いて基板の整列マークの位置である座標データを形成することができる。
次に、露光装置は、仮想領域を形成することができる(S130)。露光装置は、座標データを用いて基板の仮想領域を形成することができる。露光装置は、基板の仮想領域を対角線で分割してそれぞれの分割された仮想領域を形成することができる。例えば、露光装置は、基板の仮想領域を座標データで形成することができる最も長い対角線を基準として分割することができる。ここで、最も長い対角線は、多数の座標データのうち互いの距離が最も遠い座標データ同士の連結線であることができる。
次に、露光装置は、分割された仮想領域それぞれに対して線形補正を行うことができる(S140)。露光装置は、分割された仮想領域を構成するそれぞれのピクセル(pixel)に対して線形補正を行うことができる。これにより、露光装置は、分割された仮想領域それぞれに対する線形補正による結果である線形データを形成することができる。線形データは、線形補正されたピクセルそれぞれの座標を示す補正ピクセルデータ及び座標データを含むことができる。
次に、露光装置は、設計データを取得することができる(S150)。設計データは、基板に露光が施される位置を示すデータであることができる。このような設計データは、基板に多数の工程が行われる前に予め保存され得る。即ち、設計データは、多数の工程が行われる前の基板である変形前の基板を基準として露光の位置が設計されたデータであることができる。露光装置は、このように予め保存されている設計データを取得することができる。
次に、露光装置は、露光データを生成することができる(S160)。露光装置は、線形データ及び設計データを用いて露光データを生成することができる。露光装置は、設計データの露光が施される位置と線形データの補正されたピクセルデータをマッチングし、設計データを基準として露光位置が変更された程度を示す露光データを形成することができる。例えば、露光データは、線形データと設計データとの誤差値であることができる。
次に、露光装置は、露光を施すことができる(S170)。露光装置は、設計データ及び露光データを用いて露光を施すことができる。露光装置は、設計データに露光データを反映して露光位置を変更し、基板に露光を施すことができる。
図3は、本発明の他の実施例による露光装置を示す例示図である。
図3を参照すると、露光装置200は、入力部210と、座標データ生成部220と、第1仮想分割部230と、第2仮想分割部240と、第1線形補正部250と、第2線形補正部260と、設計データ保存部270と、露光データ生成部280と、露光部290と、を含むものである。
露光装置200は、基板に露光を施す装置である。
入力部210は、露光装置200に装着された基板の整列マークに対する映像データを取得することができる。ここで、基板には、多数の工程を経ることで、歪みなどの変形が生じ得る。基板に形成された整列マークは、多数であることができる。本発明の実施例によると、入力部210は、カメラであることができる。
設計データ保存部270には、設計データが保存されることができる。設計データは、基板に露光が施される位置を示すデータである。設計データは、基板に多数の工程が行われる前に予め保存され得る。即ち、設計データは、多数の工程が行われる前の基板である変形前の基板を基準として露光の位置が設計されたデータであることができる。
座標データ生成部220は、基板に形成された整列マークの座標データを生成することができる。座標データは、基板の整列マークの位置を座標で示すデータである。座標データ生成部220は、入力部210の映像データから整列マークの位置に相当する座標データを生成することができる。
第1仮想分割部230は、基板の仮想領域を分割することができる。第1仮想分割部230は、座標データ生成部220の座標データを用いて基板の仮想領域を形成することができる。第1仮想分割部230は、基板の仮想領域を四角形に分割し、それぞれの分割された第1仮想領域を形成することができる。例えば、第1仮想分割部230は、基板の仮想領域を多数の座標データのうち一部を含む四角形に分割することができる。
第2仮想分割部240は、基板の仮想領域を分割することができる。第2仮想分割部240は、座標データ生成部220の座標データを用いて基板の仮想領域を形成することができる。第2仮想分割部240は、基板の仮想領域を対角線で分割してそれぞれの分割された第2仮想領域を形成することができる。例えば、第2仮想分割部240は、基板の仮想領域を座標データで形成することができる最も長い対角線を基準として分割することができる。ここで、最も長い対角線は、多数の座標データのうち互いの距離が最も遠い座標データ同士の連結線であることができる。
第1線形補正部250は、分割された第1仮想領域それぞれに対して線形補正を行うことができる。即ち、第1線形補正部250は、分割された第1仮想領域を構成するそれぞれのピクセル(pixel)に対して線形補正を行うことができる。また、第1線形補正部250は、分割された仮想領域それぞれに対する線形補正による結果である第1線形データを形成することができる。即ち、第1線形データは、第1仮想領域を基準として線形補正されたピクセルそれぞれの座標を示す第1補正ピクセルデータ及び座標データを含むことができる。
第2線形補正部260は、分割された第2仮想領域それぞれに対して線形補正を行うことができる。即ち、第2線形補正部260は、分割された第2仮想領域を構成するそれぞれのピクセル(pixel)に対して線形補正を行うことができる。また、第2線形補正部260は、分割された仮想領域それぞれに対する線形補正による結果である第2線形データを形成することができる。即ち、第2線形データは、第2仮想領域を基準として線形補正されたピクセルそれぞれの座標を示す第2補正ピクセルデータ及び座標データを含むことができる。
露光データ生成部280は、露光位置変更値である露光データを生成することができる。露光データ生成部280は、第1線形データ、第2線形データ及び設計データを用いて露光データを形成することができる。露光データ生成部280は、設計データの露光が施される位置と、第1補正ピクセルデータ及び第2補正ピクセルデータをそれぞれマッチングし、設計データを基準として露光位置が変更された程度を示す露光データを形成することができる。例えば、露光データは、第1線形データ及び第2線形データの平均値と設計データとの誤差値であることができる。
露光部290は、基板に露光を施すことができる。露光部290は、設計データ及び露光データを用いて露光を施すことができる。露光部290は、設計データに露光データを反映して露光位置を変更し、基板に露光を施すことができる。
図4は、本発明の他の実施例による露光方法を示すフローチャートである。
先ず、露光装置は、基板の整列マークに対する映像データを取得することができる(S210)。ここで、基板は、多数の工程を経て歪みなどの変形が生じたものであることができる。基板に形成された整列マークは、多数であることができる。
次に、露光装置は、座標データを生成することができる(S220)。ここで、座標データは、整列マークの位置を示すデータであることができる。露光装置は、映像データを用いて基板の整列マークの位置である座標データを形成することができる。
次に、露光装置は、第1仮想領域を形成することができる(S230)。露光装置は、座標データを用いて基板の仮想領域を形成することができる。露光装置は、基板の仮想領域を四角形に分割し、それぞれの分割された第1仮想領域を形成することができる。例えば、露光装置は、多数の座標データのうち一部を含む四角形に仮想領域を分割することができる。
次に、露光装置は、第2仮想領域を形成することができる(S240)。露光装置は、基板の仮想領域を対角線で分割してそれぞれの分割された第2仮想領域を形成することができる。例えば、露光装置は、基板の仮想領域を座標データで形成することができる最も長い対角線を基準として分割することができる。ここで、最も長い対角線は、多数の座標データのうち互いの距離が最も遠い座標データ同士の連結線であることができる。
次に、露光装置は、分割された第1仮想領域それぞれに対する線形補正を行うことができる(S250)。露光装置は、分割された第1仮想領域を構成するそれぞれのピクセル(pixel)に対して線形補正を行うことができる。これにより、露光装置は、分割された第1仮想領域それぞれに対する線形補正による結果である第1線形データを形成することができる。第1線形データは、第1仮想領域を基準として線形補正されたピクセルそれぞれの座標を示す第1補正ピクセルデータを及び座標データを含むことができる。
次に、露光装置は、分割された第2仮想領域それぞれに対する線形補正を行うことができる(S260)。露光装置は、分割された第2仮想領域を構成するそれぞれのピクセル(pixel)に対して線形補正を行うことができる。これにより、露光装置は、分割された第2仮想領域それぞれに対する線形補正による結果である第2線形データを形成することができる。第2線形データは、第2仮想領域を基準として線形補正されたピクセルそれぞれの座標を示す第2補正ピクセルデータを及び座標データを含むことができる。
次に、露光装置は、基板の露光の位置に対する設計データを取得することができる(S270)。設計データは、基板に露光が施される位置を示すデータであることができる。このような設計データは、基板に多数の工程が行われる前に予め保存され得る。即ち、設計データは、多数の工程が行われる前の基板である変形前の基板を基準として露光の位置が設計されたデータであることができる。露光装置は、このように予め保存されている設計データを取得することができる。
次に、露光装置は、露光データを生成することができる(S280)。露光装置は、第1線形データ、第2線形データ及び設計データを用いて露光データを生成することができる。露光装置は、設計データの露光が施される位置と、第1補正ピクセルデータ及び第2補正ピクセルデータをそれぞれマッチングし、設計データを基準として露光位置が変更された程度を示す露光データを形成することができる。例えば、露光データは、第1線形データ及び第2線形データの平均値と、設計データとの誤差値であることができる。
次に、露光装置は、露光を施すことができる(S290)。露光装置は、設計データ及び露光データを用いて露光を施すことができる。露光装置は、設計データに露光データを反映して露光位置を変更し、基板に露光を施すことができる。
図5は、本発明の実施例による変形された基板を示す例示図である。
図5を参照すると、歪みなどで変形された基板300を確認することができる。変形された基板の整列マーク310が基板の角にそれぞれ形成されることができる。変形された基板の整列マーク310の位置を示す座標データ及びピクセル320の位置を示すピクセルデータの実際値は、以下の表1のとおりである。
図6は、本発明の実施例による第1仮想領域の第1線形補正を示す例示図である。
本発明の実施例による露光装置は、変形された基板300(図5参照)の整列マーク310(図5参照)を用いて、基板300(図5参照)の仮想領域400を形成した後、仮想領域400に対する線形補正を行うものである。
本発明の実施例によると、基板300(図5参照)に形成された整列マーク310(図5参照)は4個である。露光装置は、4個の整列マーク310(図5参照)を用いて、四角形の仮想領域400を形成することができる。本実施例において整列マーク310(図5参照)の個数が4個であるため、このように形成された仮想領域が、従来の公知された技術により形成された第1仮想領域であることができる。
露光装置は、四角形の仮想領域400に対して線形補正を行うことができる。この際、露光装置は、仮想領域400の線形補正による第1線形データを生成することができる。第1線形データは、座標データ及び第1補正ピクセルデータを含むことができる。ここで、座標データは、基板300(図5参照)の整列マーク310(図5参照)の位置を座標で示すデータであることができる。また、第1補正ピクセルデータは、仮想領域400を基準として線形補正された第1補正ピクセル420の位置を座標で示すデータであることができる。
本発明の実施例では、説明の便宜上、4個の整列マークを例に挙げて基板の仮想領域分割及び線形補正に対して説明したが、これに限定されない。即ち、露光装置は、基板に形成された整列マークの個数によって多様な個数に分割された四角形の第1仮想領域を形成することができる。例えば、整列マークの個数が6個である場合、露光装置は、2個の四角形に分割された第1仮想領域を形成することができる。この際、露光装置は、分割された2個の第1仮想領域に対してそれぞれ線形補正を行い、第1線形データを生成することができる。
このように、整列マークを用いて基板の仮想領域を四角形の第1仮想領域に分割し、線形補正を行う方法は、従来の公知された線形補正方法を用いて、当業者によって容易に変更実施することができる。
図5の変形された基板300(図5参照)の実際の座標データ及びピクセルデータと第1線形データとの誤差は、以下の表2のとおりである。
表2によると、図5の変形された基板300(図5参照)の実際の座標データ及びピクセルデータと第1線形データとの誤差平均は、0.1138である。
図7は、本発明の実施例による第2仮想領域の第2線形補正を示す例示図である。
図7を参照すると、露光装置は、基板の仮想領域500を長い対角線503を基準として分割された第2仮想領域501、502を形成することができる。また、露光装置は、分割された第2仮想領域501、502に対してそれぞれ線形補正を行うことができる。この際、露光装置は、第2仮想領域501、502の線形補正による第2線形データを生成することができる。第2線形データは、座標データ及び第2補正ピクセルデータを含むことができる。ここで、座標データは、基板300(図5参照)の整列マーク310(図5参照)の位置を座標で示すデータであることができる。また、第2補正ピクセルデータは、第2仮想領域501、502を基準として線形補正された第2補正ピクセル520の位置を座標で示すデータであることができる。
この際、変形された基板300(図5参照)の実際の座標データ及びピクセルデータと第2線形データとの誤差は、以下の表3のとおりである。
表3によると、変形された基板300(図5参照)の実際の座標データ及びピクセルデータと第2線形データとの誤差平均は、0.0922である。
本発明の実施例によると、長い対角線を適用して線形補正を行った場合、従来の線形補正を行った場合より実際値との誤差が小さいことが分かる。
図8は、本発明の実施例による第3仮想領域の第3線形補正を示す例示図である。
図8を参照すると、露光装置は、基板の仮想領域600を短い対角線603を基準として分割された第3仮想領域601、602を形成することができる。この際、第3仮想領域601、602それぞれに対して線形補正を行うことができる。この際、露光装置は、線形補正された第3仮想領域601、602の線形補正による第3線形データを生成することができる。第3線形データは、座標データ及び第3補正ピクセルデータを含むことができる。ここで、座標データは、基板300(図5参照)の整列マーク310(図5参照)の位置を座標で示すデータであることができる。また、第3補正ピクセルデータは、第3仮想領域601、602を基準として線形補正された第3補正ピクセル620の位置を座標で示すデータであることができる。
この際、変形された基板300(図5参照)の実際の座標データ及びピクセルデータと第3線形データとの誤差は、以下の表4のとおりである。
表4によると、変形された基板300(図5参照)の実際の座標データ及びピクセルデータと第3線形データとの誤差平均は、0.1957である。
本発明の実施例によると、短い対角線を適用して線形補正を行った場合、長い対角線を適用して線形補正を行った場合より実際値との誤差が大きいことが分かる。
図5から図8を参照すると、本発明の実施例による長い対角線を適用して線形補正を行う方法が、従来の線形補正方法または短い対角線を適用して線形補正を行う方法より、実際変形された基板との誤差が少ない補正方法であると言える。
図9及び図10は、本発明の他の実施例による線形補正を示す例示図である。
図9は、実際変形された基板700及び基板700の仮想領域を四角形に分割して線形補正された第1仮想領域800を示す例示図である。図9に図示されたように、第1仮想領域800の第1補正ピクセル820の位置が、実際ピクセル720の位置に比べて下部に位置することを確認することができる。
図10は、実際変形された基板700と、本発明の実施例によって基板の仮想領域900を長い対角線を基準として分割し、線形補正された第2仮想領域901、902を示す例示図である。
図10に図示されたように、第2仮想領域901、902の第2補正ピクセル920の位置が実際ピクセル720の位置に比べて上部に位置することを確認することができる。
図9及び図10に図示されたように、第1線形補正方法と第2線形補正方法は、互いに反対方向の誤差値を有するということを確認することができる。本発明の実施例によると、第1線形補正方法と第2線形補正方法を並行し、実際変形された基板により近くなるようにピクセルを補正することができる。即ち、露光装置は、設計データと、第1線形データ及び第2線形補正データそれぞれの誤差の平均値を用いて補正データを生成することができる。このような補正データは、以下の表5のとおりである。
表5によると、補正データと、変形された基板700の実際の座標データ及びピクセルデータと補正データとの誤差平均値は、0.0815である。
即ち、第1線形補正方法と第2線形補正方法を全て適用して線形補正を行う方法が、第2線形補正方法のみを適用して線形補正を行う方法より実際基板との誤差が小さい補正方法であると言える。
以上、本発明を具体的な実施例に基づいて詳細に説明したが、これは本発明を具体的に説明するためのものであり、本発明はこれに制限されず、該当分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想内にての変形や改良が可能であることは明白であろう。
本発明の単純な変形乃至変更はいずれも本発明の領域に属するものであり、本発明の具体的な保護範囲は添付の特許請求の範囲により明確になるであろう。
本発明は、露光装置及び露光方法に適用可能である。
100、200 露光装置
110、210 入力部
120、220 座標データ生成部
130 仮想分割部
140 線形補正部
150 設計データ保存部
160 露光データ生成部
170、290 露光部
230 第1仮想分割部
240 第2仮想分割部
250 第1線形補正部
260 第2線形補正部
270 設計データ保存部
280 露光データ生成部
300、700 基板
310 整列マーク
320、720 ピクセル
400、500、600、900 仮想領域
420、820 第1補正ピクセル
501、502、901、902 第2仮想領域
503 長い対角線
520、920 第2補正ピクセル
601、602 第3仮想領域
603 短い対角線
620 第3補正ピクセル
800 第1仮想領域
110、210 入力部
120、220 座標データ生成部
130 仮想分割部
140 線形補正部
150 設計データ保存部
160 露光データ生成部
170、290 露光部
230 第1仮想分割部
240 第2仮想分割部
250 第1線形補正部
260 第2線形補正部
270 設計データ保存部
280 露光データ生成部
300、700 基板
310 整列マーク
320、720 ピクセル
400、500、600、900 仮想領域
420、820 第1補正ピクセル
501、502、901、902 第2仮想領域
503 長い対角線
520、920 第2補正ピクセル
601、602 第3仮想領域
603 短い対角線
620 第3補正ピクセル
800 第1仮想領域
Claims (18)
- 基板の整列マークに対する映像データを取得する入力部と、
前記基板の露光位置に対する設計データが保存された設計データ保存部と、
前記入力部により取得した前記映像データを用いて、前記整列マークの位置に相当する座標データを生成する座標データ生成部と、
前記座標データ生成部の前記座標データを用いて前記基板の仮想領域を形成し、前記仮想領域を対角線で分割してそれぞれの分割された仮想領域を形成する仮想分割部と、
前記仮想分割部により前記それぞれの分割された仮想領域に対して線形補正を行い、線形データを生成する線形補正部と、
前記線形補正部の前記線形データ及び前記保存部の設計データを用いて、露光位置変更値である露光データを生成する露光データ生成部と、
前記保存部の前記設計データ及び前記露光データ生成部の前記露光データを用いて露光を施す露光部と、
を含む露光装置。 - 前記入力部は、カメラである請求項1に記載の露光装置。
- 前記仮想分割部は、
前記座標データによる最も長い対角線で前記仮想領域を分割する請求項1に記載の露光装置。 - 前記露光データは、前記線形データと前記設計データとの誤差値である請求項1に記載の露光装置。
- 前記露光部は、前記設計データを基準として前記露光データだけ位置を変更し、露光を施す請求項1に記載の露光装置。
- 基板の整列マークに対する映像データを取得する入力部と、
前記基板の露光のための設計データが保存された設計データ保存部と、
前記入力部により取得した前記映像データを用いて、前記整列マークの位置に相当する座標データを生成する座標データ生成部と、
前記座標データ生成部の前記座標データを用いて、前記基板の仮想領域を多数の四角形に分割し、それぞれの分割された第1仮想領域を形成する第1仮想分割部と、
前記座標データ生成部の前記座標データを用いて、前記基板の仮想領域を形成し、前記仮想領域を対角線で分割してそれぞれの分割された第2仮想領域を形成する第2仮想分割部と、
前記第1仮想分割部により前記それぞれの分割された第1仮想領域に対して線形補正を行い、第1線形データを生成する第1線形補正部と、
前記第2仮想分割部により前記それぞれの分割された第2仮想領域に対して線形補正を行い、第2線形データを生成する第2線形補正部と、
前記保存部の前記設計データ、前記第1線形補正部の前記第1線形データ及び前記第2線形補正部の前記第2線形データを用いて、露光位置変更値である露光データを生成する露光データ生成部と、
前記保存部の前記設計データ及び前記露光データ生成部の前記露光データを用いて露光を施す露光部と、
を含む露光装置。 - 前記入力部は、カメラである請求項6に記載の露光装置。
- 前記第2仮想分割部は、
前記座標データによる最も長い対角線で前記仮想領域を分割する請求項6に記載の露光装置。 - 前記露光データは、前記第1線形データ及び前記第2線形データの平均値と、前記設計データとの誤差値である請求項6に記載の露光装置。
- 前記露光部は、前記設計データを基準として前記露光データだけ位置を変更し、露光を施す請求項6に記載の露光装置。
- 基板に形成された複数の整列マークの映像データを取得する段階と、
前記映像データを用いて前記整列マークの位置に相当する座標データを生成する段階と、
前記座標データを用いて前記基板の仮想領域を形成し、前記仮想領域を対角線で分割してそれぞれの分割された仮想領域を形成する段階と、
前記それぞれの分割された仮想領域に対して線形補正を行い、線形データを生成する段階と、
前記基板の露光の位置に対する設計データを取得する段階と、
前記線形データ及び前記設計データを用いて露光位置変更値である露光データを生成する段階と、
前記設計データ及び前記露光データを用いて露光を施す段階と、
を含む露光方法。 - 前記仮想領域を形成する段階において、
前記対角線は前記座標データによる最も長い対角線である請求項11に記載の露光方法。 - 前記露光データを生成する段階において、
前記露光データは前記線形データと前記設計データとの誤差値である請求項11に記載の露光方法。 - 前記露光を施す段階は、
前記設計データを基準として前記露光データだけ位置を変更し、露光を施す請求項11に記載の露光方法。 - 基板に形成された複数の整列マークの映像データを取得する段階と、
前記映像データを用いて前記整列マークの位置に相当する座標データを生成する段階と、
前記座標データを用いて前記基板の仮想領域を形成し、前記仮想領域を多数の四角形に分割してそれぞれの第1仮想領域を形成する段階と、
前記座標データを用いて前記基板の仮想領域を形成し、前記仮想領域を対角線で分割してそれぞれの第2仮想領域を形成する段階と、
前記それぞれの分割された第1仮想領域に対して線形補正を行い、第1線形データを生成する段階と、
前記それぞれの分割された第2仮想領域に対して線形補正を行い、第2線形データを生成する段階と、
前記基板の露光の位置に対する設計データを取得する段階と、
前記第1線形データ、第2線形データ及び前記設計データを用いて露光位置変更値である露光データを生成する段階と、
前記設計データ及び前記露光データを用いて露光を施す段階と、
を含む露光方法。 - 前記第2仮想領域を形成する段階において、
前記対角線は前記座標データによる最も長い対角線である請求項15に記載の露光方法。 - 前記露光データを生成する段階において、
前記露光データは前記第1線形データ及び前記第2線形データの平均値と、前記設計データとの誤差値である請求項15に記載の露光方法。 - 前記露光を施す段階は、
前記設計データを基準として前記露光データだけ位置を変更し、露光を施す請求項15に記載の露光方法。
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2012
- 2012-06-29 KR KR1020120070784A patent/KR101513335B1/ko not_active IP Right Cessation
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2013
- 2013-06-14 JP JP2013125992A patent/JP2014010451A/ja active Pending
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