JP2013540346A - 可動フィルタ要素を有する照明光学ユニット - Google Patents
可動フィルタ要素を有する照明光学ユニット Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013540346A JP2013540346A JP2013529583A JP2013529583A JP2013540346A JP 2013540346 A JP2013540346 A JP 2013540346A JP 2013529583 A JP2013529583 A JP 2013529583A JP 2013529583 A JP2013529583 A JP 2013529583A JP 2013540346 A JP2013540346 A JP 2013540346A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- filter element
- optical unit
- illumination optical
- radiation
- wavelength
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21V—FUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- F21V9/00—Elements for modifying spectral properties, polarisation or intensity of the light emitted, e.g. filters
- F21V9/40—Elements for modifying spectral properties, polarisation or intensity of the light emitted, e.g. filters with provision for controlling spectral properties, e.g. colour, or intensity
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70083—Non-homogeneous intensity distribution in the mask plane
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/7015—Details of optical elements
- G03F7/70158—Diffractive optical elements
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70191—Optical correction elements, filters or phase plates for controlling intensity, wavelength, polarisation, phase or the like
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70833—Mounting of optical systems, e.g. mounting of illumination system, projection system or stage systems on base-plate or ground
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70883—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of optical system
- G03F7/70891—Temperature
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Public Health (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
【選択図】図4b
Description
ここで、y方向は走査方向に対応し、x方向は物体平面内に位置して走査方向に対して垂直である。更に、ρ(x,y,t)は、時間tにおける物体平面内の放射照度である。ρ(x,y,t)は、ジュール/(mm2・s)という単位を有し、従って、走査積分照射量D(x)は、(ジュール/mm2)・y(t)という単位を有する。y(t)は、レチクルの点が、走査処理の結果として0sからTまでの期間の間に照明物体視野を移動させられる際に辿る曲線である。特に、一定の走査速度vscanによる走査処理の場合には、y(t)=vscan・tが適用される。
ここで、εi(x,y(ti))は、時間tiにおいてi番目の光パルスから点(x,y(ti))に対して作用する照明エネルギ密度である。
V=β・r・t
ここで、βは回転の角速度を表し、rは回転中心からの距離を表している。従って、回転中心の最も近くに位置する第1のファセット要素の場所にあり、従って、最も小さいr値を取る領域469は、最も小さいオフセットVを受ける。第1の光学要素の一般的な設計の場合には、この間隔はr=10mmである。一般的な結像格子定数は約g’=15.9μmである。これは、g=10.6μm/2の格子定数に3という結像スケールを乗算することから導出される。
これは、約11sにおける1回転に対応する。例えば、保持支柱において現実的なg’=3mmの結像格子定数の場合には、毎秒約16回転が発生する。
Claims (16)
- 第2の波長を有する放射線を抑制するためのフィルタ要素(55,255,255a,355,555,655,755,855)を含み、該フィルタ要素(55,255,255a,355,555,655,755,855)が、掩蔽作用を有する少なくとも1つの構成要素(360,361,363,563,763,863)を含み、従って、該掩蔽作用を有する該構成要素(361,363,563,763,863)の結果として、照明光学ユニットの作動中に照明光学ユニットの光方向に該フィルタ要素(55,255,255a,355,555,655,755,855)の下流に配置された第1の光学要素(7,207,407)上に第1の波長を有する放射線の低い強度を有する少なくとも1つの領域(469,471)が存在する、第1の波長を有する放射線を用いて物体視野(21,221)を照明するための照明光学ユニット(3,203)であって、
前記フィルタ要素(55,255,255a,355,555,655,755,855)が、低い強度を有する異なる領域(469,471)をもたらす複数の位置を取ることができ、
前記第1の光学要素(7,207,407)の光学的使用面(41,441)上の各点に対して、該点が低い強度の領域(469,471)に位置しないような少なくとも1つの位置が存在する、
ことを特徴とする照明光学ユニット。 - 前記フィルタ要素(55,255,255a,355,555,655,755,855)は、伝導性材料で作られた周期的格子(360)として具現化され、該格子周期は、前記第2の波長を有する放射線が吸収されるように選択される、
ことを特徴とする請求項1に記載の照明光学ユニット。 - 前記掩蔽作用を有する前記構成要素(360)は、前記格子(360)に対応する、
ことを特徴とする請求項2に記載の照明光学ユニット。 - 前記フィルタ要素(55,255,255a,355,555,655,755,855)は、500nmよりも小さい厚みを有するフィルム(365)を含み、該フィルムの材料及び厚みが、該フィルム(365)が前記第2の波長を有する前記放射線のうちの少なくとも90%の割合を吸収し、かつ前記第1の波長を有する前記放射線のうちの少なくとも70%の割合を透過させるように具現化される、
ことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。 - 前記掩蔽作用を有する前記構成要素(360,361,363,563,763,863)は、前記フィルタ要素(55,255,255a,355,555,655,755,855)の機械的安定性を強化するための保持体(363,563,763,863)を含む、
ことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。 - 前記保持体(363,563,763,863)は、前記フィルタ要素(55,255,255a,355,555,655,755,855)を冷却するために熱伝導体として具現化される、
ことを特徴とする請求項5に記載の照明光学ユニット。 - 前記保持体(363,563,763,863)は、熱輸送のために液体で満たされた中空支柱として具現化される、
ことを特徴とする請求項6に記載の照明光学ユニット。 - 前記フィルタ要素(55,255,255a,355,555,655,755,855)は、中心軸(579,679,779)に関して回転されることによって第1の位置から第2の位置内にシフトさせることができる、
ことを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。 - 前記フィルタ要素(55,255,255a,355,555,655,755,855)は、前記フィルタ要素(55,255,255a,355,555,655,755,855)を回転させるためのシャフト(581,681,781)に接続され、該シャフト(581,681,781)は、前記中心軸(579,679,779)に沿って延びる、
ことを特徴とする請求項8に記載の照明光学ユニット。 - 前記フィルタ要素(55,255,255a,355,555,655,755,855)を前記中心軸(579,679,779)に関して回転させるための駆動ユニット(580,680,780)が、該フィルタ要素(55,255,255a,355,555,655,755,855)の円周上に係合する、
ことを特徴とする請求項8から請求項9のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。 - パドル(789)が、前記フィルタ要素(55,255,255a,355,555,655,755,855)の前記円周上に配置され、前記駆動ユニット(780)は、該パドル(789)に向けられるガス流を生成するガスアクチュエータ(791)を含む、
ことを特徴とする請求項10に記載の照明光学ユニット。 - 請求項1から請求項11のいずれか1項に記載の照明光学ユニット、
を含むことを特徴とする照明系。 - 請求項8から請求項11のいずれか1項に記載の照明光学ユニットを含む照明系であって、
光源ユニット(43,243)、
を含み、
中心軸が、フィルタ要素(55,255,255a,355,555,655,755,855)と交点で交わり、
前記交点(873)は、第1及び第2の波長を有する放射線を備えた前記光源ユニット(43,243)によって照明される前記フィルタ要素(55,255,255a,355,555,655,755,855)上の全ての領域(895,896)の凸包絡線(899)内に位置する、
ことを特徴とする照明系。 - 請求項12から請求項13のいずれか1項に記載の照明系、
を含むことを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。 - 請求項14に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置を作動させる方法であって、
少なくとも、構造担持マスク上の点が物体視野(21,221)を通して移動させられる間の第2の期間よりも短い第1の期間内にフィルタ要素(55,255,255a,355,555,655,755,855)を第1の位置から第2の位置内に移動する段階、
を含むことを特徴とする方法。 - 請求項8から請求項11のいずれか1項に記載の照明光学ユニットを含むマイクロリソグラフィ投影露光装置を作動させる方法であって、
少なくとも、フィルタ要素(55,255,255a,355,555,655,755,855)を毎秒5回転よりも大きい速度で中心軸(579,679,779)に関して回転させる段階、
を含むことを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102010041258A DE102010041258A1 (de) | 2010-09-23 | 2010-09-23 | Beleuchtungsoptik mit einem beweglichen Filterelement |
DE102010041258.9 | 2010-09-23 | ||
PCT/EP2011/061631 WO2012038112A1 (de) | 2010-09-23 | 2011-07-08 | Beleuchtungsoptik mit einem beweglichen filterelement |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013540346A true JP2013540346A (ja) | 2013-10-31 |
Family
ID=44484020
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013529583A Pending JP2013540346A (ja) | 2010-09-23 | 2011-07-08 | 可動フィルタ要素を有する照明光学ユニット |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20130176546A1 (ja) |
JP (1) | JP2013540346A (ja) |
DE (1) | DE102010041258A1 (ja) |
WO (1) | WO2012038112A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102014217611A1 (de) * | 2014-09-03 | 2016-03-03 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004103773A (ja) * | 2002-09-09 | 2004-04-02 | Nikon Corp | X線発生装置、x線露光装置及びx線フィルター |
JP2010021543A (ja) * | 2008-06-12 | 2010-01-28 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05326365A (ja) * | 1992-05-21 | 1993-12-10 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
EP1356476B1 (de) * | 2001-01-26 | 2006-08-23 | Carl Zeiss SMT AG | Schmalbandiger spektralfilter und seine verwendung |
US6577442B2 (en) * | 2001-09-27 | 2003-06-10 | Intel Corporation | Reflective spectral filtering of high power extreme ultra-violet radiation |
US6522465B1 (en) | 2001-09-27 | 2003-02-18 | Intel Corporation | Transmitting spectral filtering of high power extreme ultra-violet radiation |
DE10237901B3 (de) * | 2002-08-16 | 2004-05-27 | Xtreme Technologies Gmbh | Anordnung zur Unterdrückung von Teilchenemission bei der Strahlungserzeugung einer Röntgenstrahlungsquelle |
US7148952B2 (en) * | 2003-10-31 | 2006-12-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP1889110A1 (en) | 2005-05-13 | 2008-02-20 | Carl Zeiss SMT AG | A six-mirror euv projection system with low incidence angles |
US7453071B2 (en) * | 2006-03-29 | 2008-11-18 | Asml Netherlands B.V. | Contamination barrier and lithographic apparatus comprising same |
NL1035979A1 (nl) * | 2007-09-27 | 2009-03-30 | Asml Netherlands Bv | Spectral filter, lithographic apparatus including such a spectral filter, device manufacturing method, and device manufactured thereby. |
US20100033704A1 (en) * | 2008-08-11 | 2010-02-11 | Masayuki Shiraishi | Deformable mirror, mirror apparatus, and exposure apparatus |
-
2010
- 2010-09-23 DE DE102010041258A patent/DE102010041258A1/de not_active Withdrawn
-
2011
- 2011-07-08 JP JP2013529583A patent/JP2013540346A/ja active Pending
- 2011-07-08 WO PCT/EP2011/061631 patent/WO2012038112A1/de active Application Filing
-
2013
- 2013-03-04 US US13/784,027 patent/US20130176546A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004103773A (ja) * | 2002-09-09 | 2004-04-02 | Nikon Corp | X線発生装置、x線露光装置及びx線フィルター |
JP2010021543A (ja) * | 2008-06-12 | 2010-01-28 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE102010041258A1 (de) | 2012-03-29 |
WO2012038112A1 (de) | 2012-03-29 |
US20130176546A1 (en) | 2013-07-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6919951B2 (en) | Illumination system, projection exposure apparatus and device manufacturing method | |
KR101795610B1 (ko) | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
JP5077724B2 (ja) | マイクロリソグラフィツール用の反射照明システム | |
JP6221159B2 (ja) | コレクター | |
TWI610140B (zh) | 用於投射曝光裝置的照射光學單元 | |
JP3771414B2 (ja) | リソグラフ投影装置 | |
US20050236584A1 (en) | Exposure method and apparatus | |
JP5087060B2 (ja) | 放射源およびリソグラフィ装置 | |
JP5918858B2 (ja) | マイクロリソグラフィ投影露光装置の光変調器及び照明系 | |
TW201131315A (en) | Illumination system, lithographic apparatus and illumination method | |
US9134629B2 (en) | Illumination system, lithographic apparatus and method of forming an illumination mode | |
WO2012038239A1 (en) | Euv microlithography projection exposure apparatus with a heat light source | |
US7324187B2 (en) | Illumination system and exposure apparatus | |
JP2016509259A (ja) | 投影露光装置に使用される出力ビームを発生させるためのeuv光源 | |
JP4424748B2 (ja) | リソグラフィ装置、デバイス製造方法および放射線システム | |
JP6098950B2 (ja) | 照明光学ユニット | |
TWI270120B (en) | Illumination optical system and exposure apparatus | |
JP4241281B2 (ja) | 露光装置 | |
JP2005322904A (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
US11061334B2 (en) | Pupil facet mirror, illumination optics and optical system for a projection lithography system | |
JP2014523136A5 (ja) | ||
JP2014523136A (ja) | 投影リソグラフィのための照明光学ユニット | |
JP6498676B2 (ja) | Euv投影リソグラフィのための照明光学ユニット | |
JP2013540346A (ja) | 可動フィルタ要素を有する照明光学ユニット | |
JP4378140B2 (ja) | 照明光学系及び露光装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140708 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150410 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150415 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20150714 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20150914 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151006 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20160328 |