JP2013538179A - 合成石英ガラスから成る透明な内層を備えた石英ガラスるつぼを製造する方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(a)SiO2粒子から成る粒子層の少なくとも表面を圧縮することにより、内側を備えるガス透過性るつぼ基材を生成する工程と、
(b)気相堆積法により、るつぼ基材の内側の少なくとも1つの部分面へ多孔質SiO2スート層(21)を堆積させる工程と、
(c)及び真空溶融モールドの壁を介して作用する真空下での電気アークにより、SiO2スート層(21)とるつぼ基材の少なくとも一部分とを真空支持焼結し、石英ガラスるつぼ及び透明な石英ガラス製内層を形成させる工程と
を含む方法によって解決される。
Claims (12)
- 合成石英ガラスから成る透明な内層を備えた石英ガラスるつぼを製造する方法であって、
(a)SiO2粒子から成る粒子層(4)の少なくとも表面を圧縮することにより、内側(9)を備えるガス透過性るつぼ基材(20;40)を生成する工程と、
(b)気相堆積法により、前記るつぼ基材(20;40)の内側(9)の少なくとも1つの部分面へ多孔質SiO2スート層(21;41)を堆積させる工程と、
(c)真空溶融モールドの壁を介して作用する真空下での電気アーク(6)により、SiO2スート層(21;41)とるつぼ基材(20;40)の少なくとも一部分とを真空支持焼結し、石英ガラスるつぼ及び透明な石英ガラス製内層を形成させる工程と
を備える石英ガラスるつぼの製造方法。 - 前記工程(a)に従う前記粒子層(4)の圧縮が、熱圧縮によって、好ましくは電気アーク(6)によって行われることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記工程(a)に従う前記粒子層(4)の圧縮が、前記粒子層(4)の機械的なプレス又はSiO2スラリーの前記粒子層(4)上への塗布を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の方法。
- 前記工程(b)に従う前記多孔質SiO2スート層(21;41)が、石英ガラスの密度の10〜35%の範囲、好ましくは石英ガラスの密度の15〜30%の範囲の平均密度で生成されることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記工程(b)に従う前記SiO2スート層(21;41)が、5mm〜50mmの範囲の層厚で生成されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記スート層(21;41)が、真空支持焼結の前に、厚さが5mm未満であり石英ガラスの密度の50%を超えている上部スート表層を有することを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記スート層(21)の生成及び上部スート表層の事前圧縮が、スート堆積バーナー(24)により行われることを特徴とする請求項5に記載の方法。
- 前記スート層(21;41)が、真空支持焼結の前に、厚さが0.5mm未満であるガラス質表層を有することを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記SiO2スート層(21)が、ヒドロキシル基含有量を減らすためにSiO2スート層に乾燥プロセスが実施され、その際にるつぼ基材内部(3)に乾燥したガスの雰囲気が作られ、乾燥したガスが、加熱されて内部から多孔質スート層(41)を通って外へ引き出されることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法。
- 内層の石英ガラスの平均ヒドロキシル基含有量が150重量ppm未満に調整されることを特徴とする請求項9に記載の方法。
- 前記るつぼ基材(20)が中心軸(2)を中心として回転可能であり、及び底部及び底部と結合した周りを取り巻く側壁部が上端部を備え、前記工程(b)に従う前記多孔質SiO2スート層(21)の堆積が、堆積バーナー(24)を使用して前記中心軸(2)を中心に回転するるつぼ基材(20)に実施され、これが底部から始まってらせん状の経路を描きながら側壁部に沿って上端部の方向に動くことで生成されることを特徴とする請求項1〜10のいずれか一項に記載の方法。
- 前記工程(b)に従う前記多孔質SiO2スート層(21)の堆積が、複数の堆積バーナーを備えたバーナー組立品を使用して行われることを特徴とする請求項1〜10のいずれか一項に記載の方法。
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