JP2013536315A - Method and apparatus for coating a surface - Google Patents

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Abstract

支持材(2)の表面(1)を分子(5,6)でコーティングする方法において、分子貯蔵器(3,4)からの分子(5,6)が気相状態に変換され、イオン化され、前記荷電分子(5,6)の指向移動に対して垂直である、力の指向作用を前記荷電分子(5,6)に及ぼすために、前記荷電分子(5,6)を、前記表面(1)へ向かう途中で、前記荷電分子(5,6)の指向移動に対して垂直な少なくとも1つの場成分を有する少なくとも1つの電場および/または磁場にさらす。四重極電場といった、電気および/または磁気集束装置(8)が、前記分子貯蔵器(3,4)と前記表面(1)との間において、前記荷電分子(5,6)の指向移動に作用する。ダイアフラム装置(12)が、前記分子貯蔵器(3,4)と前記表面(1)との間において、特定可能な質量/電荷比を有する分子(5,6)のみが前記ダイアフラム装置(12)を通過して前記表面(1)に至るように配置されている。前記荷電分子(5,6)が、適切な電場および/または磁場によって、または経時変化させ得るダイアフラム装置(14)によって、特定可能な時間にわたって前記表面(1)にぶつかることが防止される。表面の体系化されたコーティングがそれによって促進される。
【選択図】図1
In the method of coating the surface (1) of the support (2) with molecules (5, 6), the molecules (5, 6) from the molecular reservoir (3, 4) are converted into a gas phase, ionized, In order to exert a force directed action on the charged molecules (5, 6) perpendicular to the directed movement of the charged molecules (5, 6), the charged molecules (5, 6) are moved to the surface (1 On the way to at least one electric and / or magnetic field with at least one field component perpendicular to the directed movement of the charged molecules (5, 6). An electric and / or magnetic focusing device (8), such as a quadrupole electric field, is used for the directional movement of the charged molecules (5, 6) between the molecular reservoir (3, 4) and the surface (1). Works. Only the molecules (5, 6) having a mass / charge ratio that can be specified between the molecular reservoir (3, 4) and the surface (1) are connected to the diaphragm device (12). Is disposed so as to pass through the surface (1). The charged molecules (5, 6) are prevented from hitting the surface (1) for an identifiable time by an appropriate electric and / or magnetic field or by a diaphragm device (14) which can be changed over time. A systematic coating of the surface is thereby facilitated.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、支持材の表面を分子でコーティングするための方法であって、分子貯蔵器からの分子が気相状態に変換され、イオン化され、その荷電分子が電場中で支持材の表面へと向かう指向移動を行い、前記分子が前記表面にぶつかり、そこで吸収される方法に関する。   The present invention is a method for coating a surface of a support material with molecules, wherein molecules from a molecular reservoir are converted to a gas phase state and ionized, and the charged molecules are transferred to the surface of the support material in an electric field. It relates to a method in which a directed movement is made and the molecules hit the surface and are absorbed there.

幾多のマイクロテクノロジー製品において、コーティング材による支持材の表面のコーティングは、マイクロテクノロジー製品の製造における重要な方法ステップに相当する。特にコーティング材および最終製品のそれぞれの要件によって、支持材の望ましいコーティングを容易にするさまざまなコーティング法が慣例から知られている。   In many microtechnology products, coating the surface of a support with a coating material represents an important method step in the production of microtechnology products. Various coating methods are known from practice that facilitate the desired coating of the support material, particularly depending on the respective requirements of the coating material and the final product.

例えば、OLED、OFETまたは有機太陽電池の製造のために必要であるような有機材料を支持材にコーティングすることは、実際のところ多くの場合、最終製品の品質および製造コストに対して欠かせない製造ステップに相当する。200〜1000g/molの範囲またはさらに著しく大きい分子量を有するコーティング材の分子の大きさのために、通常の適切な幾多のコーティング法が使用できない。その上、OLEDの生産においては、支持材の表面へのコーティングの微細構造化された塗布が、ディスプレーの個々の画素を他から離れて形成することができ、その後それらを互いに独立してアドレスすることができるために必要であることを考慮に入れなければならない。これは、他の有機電子装置、例えば、導体トラックの製造に対しても当てはまる。   For example, coating a support with an organic material, such as is necessary for the production of OLEDs, OFETs or organic solar cells, is often essential for the quality of the final product and the manufacturing costs. This corresponds to a manufacturing step. Due to the molecular size of the coating material having a molecular weight in the range of 200-1000 g / mol or even significantly higher, the usual appropriate coating methods cannot be used. Moreover, in the production of OLEDs, a finely structured application of the coating to the surface of the support can form individual pixels of the display away from the others and then address them independently of each other You have to take into account what you need to be able to do. This is also true for the manufacture of other organic electronic devices, such as conductor tracks.

OLEDの製造における支持材表面のコーティングは、現在のところ、有機コーティング材の真空内で熱的に誘導される蒸発およびその後のそれらの被覆すべき表面への堆積によって通常行なわれる。個々の画素を被覆するために、これは、画素のみが被覆されるように覆わないで残し、被覆すべきでない表面の領域を区切る格子の形をしたシャドーマスクによって覆われる。しかしながら、このコーティング法は、実際のところはかなりの不都合と結びつくことが見いだされている。   The coating of support surfaces in the manufacture of OLEDs is currently usually carried out by thermally induced evaporation of organic coating materials in the vacuum and subsequent deposition on the surface to be coated. In order to cover the individual pixels, this is left uncovered so that only the pixels are covered, and is covered by a shadow mask in the form of a grid that delimits areas of the surface that should not be covered. However, it has been found that this coating method is actually associated with considerable disadvantages.

経済的に有利で、十分に高いコーティング率を容易にするために、有機コーティング材は、最高の可能な蒸発温度で気相状態に変換されなければならない。しかしながら、高い蒸発温度は、支持材およびコーティング装置の強い熱的ストレスをもたらす。特に通常使用されるシャドーマスクは、高い蒸発温度によるかなりの力学的ひずみにさらされ、それは、特に大きい形のシャドーマスクの場合に望ましくない変形および結像誤差を確実に防ぐことが実質的に不可能であることを意味する。こういう訳で、大きな結像誤差が無く、十分に低い不良品発生率で製造することができる最大の可能な形に対する上限は、表面のコーティングの微細構造化に向けたシャドーマスクの使用に現在のところ見られる。   In order to be economically advantageous and facilitate sufficiently high coating rates, the organic coating material must be converted to the gas phase at the highest possible evaporation temperature. However, high evaporation temperatures result in strong thermal stresses in the support and coating equipment. Particularly commonly used shadow masks are exposed to considerable mechanical distortions due to high evaporation temperatures, which is substantially impractical to reliably prevent unwanted deformation and imaging errors, especially in the case of large form shadow masks. It means that it is possible. For this reason, the upper limit for the largest possible shape that can be produced with a sufficiently low defect rate without large imaging errors is the current use of shadow masks for surface coating microstructuring. You can see it.

コーティングのために使用することができるコーティング材もまた制限を受ける。現在のところ、最大約1000g/molまでの分子量を有するコーティング材が、熱蒸発で使用可能である。分子量がこの値よりかなり大きい場合、大きい分子の安定性は、多くの場合もはや適切ではなく、すなわち、分子は熱的に分解され破壊される。分解生成物の割合は、蒸発温度が上がるとともに増し、コーティング材の純度、従って、コーティングの品質は低下する。   The coating materials that can be used for coating are also limited. At present, coating materials with molecular weights up to about 1000 g / mol are available for thermal evaporation. If the molecular weight is much larger than this value, the stability of large molecules is often no longer adequate, i.e. the molecules are thermally decomposed and destroyed. The proportion of decomposition products increases with increasing evaporation temperature, and the purity of the coating material and hence the quality of the coating decreases.

しかしながら、現在使用されているコーティング法の主要な問題は、多くの場合、蒸発したコーティング材が表面をコーティングするために効率的には利用されないことであり、それは、一般的に蒸発したコーティング材のわずか1〜10%しか被覆されるべき支持材表面に蒸着されないからである。はるかに大きい割合の蒸発したコーティング材がその都度使用されるコーティング装置の内部、とりわけシャドーマスクに堆積し、コーティング装置およびシャドーマスクの急速な汚れをもたらす。コーティング装置および特にコーティング法が行なわれる真空室は、常にきれいにされなければならず、これは機械の中断時間の延長が避けられないことを意味する。使用されるシャドーマスクもまた結像誤差をできるだけ低く保つために常に交換してきれいにしなければならない。   However, a major problem with currently used coating methods is that, in many cases, the evaporated coating material is not efficiently utilized to coat the surface, which is generally associated with an evaporated coating material. This is because only 1 to 10% is deposited on the surface of the support material to be coated. A much larger proportion of the evaporated coating material is deposited inside the coating equipment used each time, in particular on the shadow mask, leading to rapid contamination of the coating equipment and the shadow mask. The coating equipment and in particular the vacuum chamber in which the coating process takes place must always be cleaned, which means that an extended machine interruption time is inevitable. The shadow mask used must also be constantly replaced and cleaned to keep imaging errors as low as possible.

OLEDまたはその他の有機電子装置の製造に対して必須であるように、さまざまなコーティング材が連続して使用される場合、さまざまなコーティング材の交差汚染が、表面をコーティングするための製造プロセスの間にこれらが連続して使用される場合にしばしば起こる。コーティング装置および特にシャドーマスクの頻繁なクリーニングが、先行するコーティング作業からの同一または異なる接着性のコーティング材による望ましくない汚染を避けるために必要である。   As is essential for the manufacture of OLEDs or other organic electronic devices, when different coating materials are used in succession, cross-contamination of the different coating materials may cause the manufacturing process to coat the surface. Often occurs when they are used continuously. Frequent cleaning of the coating equipment and especially the shadow mask is necessary to avoid unwanted contamination with the same or different adhesive coating material from previous coating operations.

表面に蒸着される分子の歩留まりを良くするために、分子が蒸発によって気相状態に変換される分子貯蔵器と被覆される表面との間に電場を発生させて蒸発の間または直後にその分子をイオン化し、かくして表面の方向に帯電させることを促進することができる。このようにして、蒸発して移動する荷電分子のための優先方向が発生し、その結果、より大きい割合の分子が表面に蒸着される。   In order to improve the yield of molecules deposited on the surface, an electric field is generated between the molecular reservoir in which the molecules are converted into a gas phase state by evaporation and the surface to be coated, and during or shortly after the evaporation Can be promoted to be ionized and thus charged in the direction of the surface. In this way, a preferential direction for charged molecules that move by evaporation occurs, so that a larger proportion of molecules are deposited on the surface.

しかしながら、過剰な電場強度および結果として起こる荷電分子の過剰な加速は、不都合であり得、分子が衝突して表面があまりにも急速に被覆され、破壊されるかまたは分解して接触した分解生成物となり、かくしてコーティングの純度を低下させることをもたらし得ることが見いだされている。   However, excessive electric field strength and the resulting excessive acceleration of charged molecules can be inconvenient and the degradation products that the molecules collide and the surface is coated too quickly and are destroyed or decomposed into contact It has thus been found that this can lead to a reduction in the purity of the coating.

それ故、最初に述べた一般的なタイプのコーティング法を、被覆されるべき表面に吸収されるコーティング材分子のより高い歩留まり、より高純度のコーティングおよびより低い生産コストが促進されるような方法で改良することが本発明の目的と見なされる。上記のタイプのコーティング法を、分子が被覆されるべき表面に体系的に塗布され得るように改良することが、本発明のさらなる目的である。   Therefore, the general type of coating method described at the beginning is a method that promotes higher yields of coating material molecules absorbed on the surface to be coated, higher purity coatings and lower production costs. It is considered an object of the present invention to improve on It is a further object of the present invention to improve the above type of coating process so that molecules can be systematically applied to the surface to be coated.

この目的は、本発明によって達成され、その中で、荷電分子の指向移動に対して垂直である、力の指向作用を荷電分子に及ぼすために、荷電分子を、表面へ向かう途中で、荷電分子の指向移動に対して垂直な少なくとも1つの場成分を有する少なくとも1つの電場および/または磁場にさらす。この荷電分子の移動と垂直に走る電場または磁場成分は、同様に分子の移動方向と垂直である力の指向作用を及ぼす。分子は偏向させて、表面までのそれらの進路の方向に影響を及ぼすことができる。このようにして、重要なまたは支配的な割合の蒸発した分子が被覆されるべき表面の外側のコーティング装置にぶつかり、表面の望ましい被覆に対して失われることを防止することが可能である。   This object is achieved by the present invention, in which a charged molecule is en route to the surface in order to exert a force directed action on the charged molecule that is perpendicular to the directed movement of the charged molecule. Exposure to at least one electric and / or magnetic field having at least one field component perpendicular to the directed movement of The electric or magnetic field component that runs perpendicular to the movement of the charged molecule also exerts a force directing action that is perpendicular to the direction of movement of the molecule. Molecules can be deflected to affect the direction of their path to the surface. In this way, it is possible to prevent an important or dominant proportion of evaporated molecules from hitting the coating device outside the surface to be coated and being lost to the desired coating of the surface.

本発明のアイデアの実施形態に従って、電気または磁気集束装置が、分子貯蔵器と表面との間で荷電分子の指向移動に作用するようにすることが提案される。使用される集束装置は、例えば、磁気レンズのウェーネルト円筒またはシステムであり得る。適切な電気または磁気あるいは電磁気集束装置は、慣例から適切に知られ、単純な方法でコーティング法のそれぞれの要件に適合させることができる。適切な集束装置の使用は、イオン化され気相状態に変換された分子が、まとめられて分子イオンビームを形成し、被覆されるべき表面に実質的に損失の無い形で向けられることを可能にする。   In accordance with an embodiment of the inventive idea, it is proposed that an electrical or magnetic focusing device acts on the directed movement of charged molecules between the molecular reservoir and the surface. The focusing device used can be, for example, a Wehnelt cylinder or system of magnetic lenses. Suitable electrical or magnetic or electromagnetic focusing devices are well known from the customs and can be adapted to the respective requirements of the coating process in a simple manner. The use of a suitable focusing device allows molecules that have been ionized and converted to a gas phase state to be combined to form a molecular ion beam that can be directed in a substantially lossless manner to the surface to be coated. To do.

本発明のアイデアの特に都合のよい実施形態によれば、ダイアフラム装置が、分子貯蔵器と表面との間に特定可能な質量/電荷比を有する分子のみが前記ダイアフラム装置を通過して前記表面に至るように配置されることが提案される。集束装置の後に都合よく配置されている適切なダイアフラム装置によって、例えば蒸発作用において壊された分子またはそれらの分解生成物あるいは不純物が異なる質量/電荷比のお陰でダイアフラム装置によって分離されて被覆されるべき表面に到達することが防がれている間に、もっぱらコーティングのために意図されている分子が被覆されるべき表面に到達することを確保することができる。コーティング法のために適するこのダイアフラム装置およびダイアフラム装置とその前に置かれている集束装置との組合せは、例えば、質量分析計と関連する慣例から知られている。   According to a particularly advantageous embodiment of the inventive idea, the diaphragm device is such that only molecules having an identifiable mass / charge ratio between the molecular reservoir and the surface pass through the diaphragm device to the surface. It is proposed that they are arranged in such a way. By means of a suitable diaphragm device conveniently located after the focusing device, for example molecules broken down in the evaporating action or their degradation products or impurities are separated and covered by the diaphragm device due to different mass / charge ratios While reaching the surface to be prevented is prevented, it is possible to ensure that molecules intended exclusively for coating reach the surface to be coated. This diaphragm device and the combination of the diaphragm device and the focusing device placed in front of it suitable for the coating method are known, for example, from the practices associated with mass spectrometers.

少なくとも1つの四重極電場が、分子貯蔵器と表面との間の荷電分子の指向移動に作用するようにすることが好ましくは提案される。   It is preferably proposed that at least one quadrupole field acts on the directed movement of charged molecules between the molecular reservoir and the surface.

四重極電場は、安価に発生させ、制御することができる。荷電分子の移動に作用する力は、その分子の飛行方向が確実に影響されることを可能にする。適切な交流電圧が適用される四重極電場は、コーティングのために使用される高純度のコーティング材分子を確保することができるように、荷電分子の著しく正確な質量分離が単純な方法で行なわれることを可能にする。この高純度は、例えば、OLEDの場合に、少量の不純物でさえもOLEDの特性に著しい悪影響を示し得ることが知られているので、相当する良好なコーティング品質ばかりでなく、被覆された表面の拡大された耐久性および機能をももたらす。   A quadrupole electric field can be generated and controlled at low cost. The force acting on the movement of a charged molecule allows the flight direction of that molecule to be reliably affected. A quadrupole field to which the appropriate alternating voltage is applied ensures a highly accurate mass separation of charged molecules in a simple manner so that the high purity coating material molecules used for coating can be ensured. Make it possible. This high purity is known, for example, in the case of OLEDs, so that even small amounts of impurities can have a significant adverse effect on the properties of the OLED, so that not only the corresponding good coating quality but also the surface of the coated surface. It also provides increased durability and functionality.

荷電分子の集束および偏向のために四重極磁場を用意することについても同様に考えることができる。複数の四重極磁場が、荷電分子の飛行方向の全側面への焦点合わせおよび有利な作用を促進するために、通常は順々に配置される。   The same can be considered for preparing a quadrupole magnetic field for focusing and deflecting charged molecules. Multiple quadrupole magnetic fields are usually arranged one after the other in order to facilitate focusing and advantageous effects on all sides of the charged molecules in the direction of flight.

荷電分子を、分子貯蔵器から被覆されるべき表面までのそれらの途中で、従来技術から知られている荷電粒子の方向に影響を及ぼすための他の装置によって代わりにまたは追加して被覆することがさらに可能である。この用途に対して適切である高速イオントラップまたは任意の静電気もしくは磁気偏向システムもまたここでは使用することができよう。荷電分子を含む分子イオンビームの方向に影響を及ぼすために有利に使用される方法は、それぞれの個々の用途に対して、例えば、表面をコーティングすることに関連する荷電分子のイオンビームの強度、特定の偏向角度および分子量によって選択することができる。   Coating charged molecules instead of or in addition to other devices for influencing the direction of charged particles known from the prior art on their way from the molecular reservoir to the surface to be coated Is even more possible. A fast ion trap or any electrostatic or magnetic deflection system suitable for this application could also be used here. The method advantageously used to influence the direction of the molecular ion beam containing charged molecules is, for each individual application, for example the intensity of the ion beam of charged molecules associated with coating the surface, It can be selected according to a specific deflection angle and molecular weight.

表面の微細構造化コーティングの間のシャドーマスク等の使用を避けることができるように、荷電分子を、経時変化させ得る電場および/または磁場によって、分子貯蔵器から表面まで移動する間に偏向させることが提案される。この荷電分子は、例えば、表面まで移動する間に2対の偏向キャパシタにより偏向され、その結果、集束装置によって前もって発生させた分子イオンビームを、分子によって被覆されるべき表面の領域に正確に方向付けることができる。   Deflecting charged molecules while moving from the molecular reservoir to the surface by a time-varying electric and / or magnetic field so that the use of a shadow mask or the like during the surface microstructured coating can be avoided Is proposed. This charged molecule is deflected, for example, by two pairs of deflection capacitors while moving to the surface, so that the molecular ion beam previously generated by the focusing device is precisely directed to the region of the surface to be covered by the molecule. Can be attached.

このようにして、表面の体系化されたコーティング、および、それ故個々の画素のコーティングもまた可能である。個々の画素の大きさおよび形状ならびにその画素の配置は、所望の解像度、所望の用途および所望のアドレス指定(能動マトリクスまたは受動マトリクス)によって決まる。有機エレクトロルミネッセント素子の分野における熟練技術者にはその人の用途に対してその人が画素をどのように配置することができるかが分かっている。   In this way, a systematic coating of the surface and therefore a coating of individual pixels is also possible. The size and shape of an individual pixel and the placement of that pixel depends on the desired resolution, the desired application and the desired addressing (active matrix or passive matrix). Skilled engineers in the field of organic electroluminescent devices know how a person can arrange pixels for his application.

ブラウン管の場合またはオシロスコープの場合と同様に、2対の偏向キャパシタにより発生した電場が、互いに対しておよび荷電分子の指向移動に対して本質的に垂直にそろえられることを企てることができる。そのようなOLEDの表面のコーティングについては、例えば、ビーム偏向装置および管スクリーンから知られている制御方式を採用および使用することが可能である。   As with a cathode ray tube or an oscilloscope, it can be envisaged that the electric fields generated by the two pairs of deflection capacitors are aligned essentially perpendicular to each other and to the directed movement of the charged molecules. For such OLED surface coatings, it is possible to adopt and use control schemes known, for example, from beam deflectors and tube screens.

互いから仕切られている表面の互いの領域に沿って被覆することができ、荷電分子同士が互いに衝突しないようにするために、本発明のアイデアの実施形態に従って、荷電分子は、適切な電場および/または磁場によるかあるいは経時変化させ得るダイアフラム装置によって、特定可能な時間にわたって前記表面にぶつかることが防止されるようにすることが提案される。さらなる偏向電場の適用または回転する機械的ダイアフラムの使用は、荷電分子の分子イオンビームが、表面の個々の領域が被覆されてその他の領域が被覆されないように、特定可能な間隔で遮断されることを可能にする。   In order to prevent the charged molecules from colliding with each other, which can be coated along each other region of the surface that is partitioned from each other, the charged molecules have a suitable electric field and It is proposed to prevent the surface from being hit for an identifiable time by means of a diaphragm device that can be driven by a magnetic field or that can change over time. The application of a further deflecting electric field or the use of a rotating mechanical diaphragm allows the molecular ion beam of charged molecules to be blocked at identifiable intervals so that individual areas of the surface are covered and other areas are not covered. Enable.

予め発生させた分子イオンビームを表面の特定可能な位置に方向付けることができる経時変化させ得る電場および/または磁場を、要望通りに回転しているかまたは接続することができる偏向電場の中のダイアフラムシステムと組み合わせて使用することにより、被覆されるべき支持材表面の微細構造化コーティングが、存在する分子貯蔵器から実質的に損失の無い方法で行なわれることが可能となる。シャドーマスクを使用する必要がなく、コーティング装置または被覆されるべき表面の外側の気相分子の望ましくない堆積も避けることができるため、正確な微細構造化表面コーティングを安価に速く発生させることができる。延長された準備、変更または洗浄時間が必要でなく、これは、信頼でき正確であり、また大きい表面体系化コーティングが実質的に誤りの無い、または適切に修正されたイメージング形状と相まって可能であることを意味する。シャドーマスクの使用とは対照的に、大きい型の表面でさえ、基本的に結像誤差無しで、かつ、汚れまたは二次汚染を増す危険なしで製造または被覆することができる。   A diaphragm in a deflecting electric field that can rotate or connect a time-varying electric and / or magnetic field that can direct a pre-generated molecular ion beam to an identifiable location on the surface. By using in combination with the system, the microstructured coating of the support surface to be coated can be performed in a substantially lossless manner from the existing molecular reservoir. Precise microstructured surface coatings can be generated inexpensively and quickly because there is no need to use shadow masks and undesired deposition of gas phase molecules outside the coating apparatus or surface to be coated can also be avoided . No extended preparation, modification or cleaning time is required, which is reliable and accurate, and allows large surface-structured coatings to be coupled with substantially error-free or appropriately modified imaging shapes Means that. In contrast to the use of shadow masks, even large mold surfaces can be manufactured or coated with essentially no imaging errors and without the risk of increasing dirt or cross-contamination.

被覆される表面の微細構造化を支援するため、荷電分子によるコーティングが開始される前において、被覆しようとする表面領域は、荷電分子と反対の電荷を与えられ、被覆されないままにしようとする表面領域は、荷電分子と質的に一致され、従って、通常は同じくプラスの電荷を与えられることが提案される。空間的に変化する電荷条件のせいで、表面に接近する荷電分子は、反対の表面電荷が発生している領域によって引き付けられ、好ましくはそこに吸収される。それに反して、荷電分子は、コーティング材が無いまま保たれなければならず、それ故、同じ電荷が与えられている表面領域の同じ表面電荷によって、はねつけられ、それらから隔離される。   In order to assist in the microstructuring of the surface to be coated, the surface region to be coated is given a charge opposite to that of the charged molecule and the surface to be left uncoated before coating with charged molecules is initiated. It is proposed that the region is qualitatively matched with the charged molecule and is therefore usually also given a positive charge. Due to the spatially varying charge conditions, charged molecules approaching the surface are attracted by and preferably absorbed into the region where the opposite surface charge is generated. On the other hand, charged molecules must be kept free of coating material and are therefore repelled and isolated from them by the same surface charge of the surface area being given the same charge.

表面にぶつかるときの荷電分子の過剰な衝突速度を防ぎ、被覆すべき表面にぶつかるときの分子の分解または破裂の危険を低減するために、前記荷電分子の移動に対抗する電場が、前記表面の前段の領域に発生され、前記荷電分子が、前記表面にぶつかる前に減速されるようにすることが提案される。このようにして、被覆されるべき表面に対して減速されない衝撃の場合に普通は破壊され、比較的小さい破片に離散される非常に大きい荷電分子でさえも、表面をコーティングするために使用することができる。これは、例えば、接近しつつある荷電分子が減速されるように同じ表面電荷を持っている被覆されるべき表面によって達成され得る。   In order to prevent excessive collision speed of charged molecules when hitting the surface and reduce the risk of molecular degradation or rupture when hitting the surface to be coated, an electric field against the movement of the charged molecules is It is proposed that the charged molecules are generated in the previous region and are decelerated before they hit the surface. In this way, even very large charged molecules that are normally destroyed in the case of an undecelerated impact on the surface to be coated and are broken up into relatively small pieces should be used to coat the surface. Can do. This can be achieved, for example, by the surface to be coated having the same surface charge so that the approaching charged molecules are decelerated.

荷電分子の減速がより遅れた場合、被覆されるべき表面への分子の緩やかな衝突を確保することができる。分子は、それ故、それらのイオン化の後の適切な加速場の発生によって、表面に衝突する際のそれらが破壊の恐れ無しで要望通り所望の方向に加速させることができる。   If the deceleration of the charged molecules is delayed, a gentle collision of the molecules with the surface to be coated can be ensured. Molecules can therefore be accelerated in the desired direction as desired without impact of their destruction as they impact the surface by the generation of a suitable acceleration field after their ionization.

分子イオンビームのために必要である個々の分子の運動エネルギーは、加速場によって発生させることができるため、分子を気相状態に変換するときおよびそれらのイオン化中にさらなる運動励起を分子に移すことは既に必要ではない。イオン化の方法は、従って、高いイオン収量および実質的に非常に破壊の無いイオン化に関して選択することができる。   The kinetic energy of the individual molecules required for the molecular ion beam can be generated by an accelerating field, so that additional kinetic excitations are transferred to the molecules when they are converted into the gas phase and during their ionization. Is not already needed. The method of ionization can therefore be selected for high ion yield and substantially very destructive ionization.

特に穏やかで破壊の無い適切なイオン化法は、例えば、特定波長の光が分子の電子の励起のために差し込まれて使用される光イオン化である。入射光子の特定の波長が原因で、優先的に励起される電子は、正確に選択することができ、それらの励起は、励起エネルギーが特定タイプの分子のイオン化エネルギーとほぼ同等か、または、わずかに大きくなるように特定することができる。この場合、分子貯蔵器中の選択されたタイプの分子の穏やかな特に効率的なイオン化を生じさせることができ、同時に、外殻電子の異なる励起エネルギーを有する他の分子がイオン化されることを防ぐことが可能である。これは、分子貯蔵器からの分子のイオン化の途中においてさえ選択がなされることを可能にし、不純物の著しい減少を促進する。   A particularly suitable ionization method that is gentle and non-breaking is, for example, photoionization, in which light of a specific wavelength is used for the excitation of molecular electrons. Due to the specific wavelength of the incident photons, the preferentially excited electrons can be selected precisely, and their excitation is almost equal to the ionization energy of a particular type of molecule, or slightly Can be specified to be larger. In this case, mild and particularly efficient ionization of selected types of molecules in the molecular reservoir can occur, while at the same time preventing other molecules with different excitation energies of the outer electrons from being ionized. It is possible. This allows selection to be made even during the ionization of molecules from the molecular reservoir, facilitating a significant reduction in impurities.

分子貯蔵器の分子のイオン化のためのレーザーで誘起された2光子吸収の使用は、特に有利と見なされる。特に、OLEDをコーティングするための有機コーティング材の使用との組合せで、良好な吸収係数が2光子吸収の場合に起こり、OLED材の効率的で穏やかなイオン化が行なわれることを可能にする。   The use of laser-induced two-photon absorption for molecular ionization of molecular reservoirs is considered particularly advantageous. In particular, in combination with the use of an organic coating material to coat the OLED, a good absorption coefficient occurs in the case of two-photon absorption, allowing an efficient and gentle ionization of the OLED material to be performed.

光イオン化またはレーザーで誘起された2光子吸収および結果として生じるコーティング材のイオン化は、断続的またはパルス状に行なうことができる。このようにして、コーティングのために使用される分子イオンビームは、まさに実質的に要望通りに発生させ、または、遮断することができる。簡単な方法で同様に定めることができる分子イオンビームの側面偏向との組合せで、非常に正確に位置が決定される方法で荷電分子をコーティングすることを、分子貯蔵器から既に溶け出したかなりの量の分子を被覆されるべき表面までの途中で偏向させることの必要性、および、析出させることの必要性無しで行なうことができる。分子貯蔵器からの分子の損失は、従って極めて少ない。このため、短い間隔での複雑な装置の洗浄を必要とするコーティング装置の著しい汚染の恐れも無い。   Photoionization or laser-induced two-photon absorption and the resulting ionization of the coating material can be performed intermittently or pulsed. In this way, the molecular ion beam used for the coating can be generated or blocked exactly as desired. In combination with the lateral deflection of the molecular ion beam, which can be similarly determined in a simple manner, coating charged molecules in a very precise position-determined way is a significant amount already dissolved from the molecular reservoir. This can be done without the need to deflect the amount of molecules halfway to the surface to be coated and the need to deposit. The loss of molecules from the molecular reservoir is therefore very low. For this reason, there is no risk of significant contamination of the coating apparatus which requires cleaning of the complex apparatus at short intervals.

しかしながら、分子のイオン化のための他の方法および方法のステップも考えられ、それぞれのコーティング材によっては有利であり得る。   However, other methods and method steps for molecular ionization are also contemplated and may be advantageous depending on the respective coating material.

その他の適切なイオン化法は、電子衝撃イオン化(EI)、化学イオン化(CI)、ソフトイオン化(SI)、電界イオン化(FI)、電界脱離(FD)、液体注入電界脱離イオン化(LIFDI)、高速原子衝撃(FAB)、電気スプレーイオン化(ESI)、大気圧化学イオン化(APCI)、大気圧光イオン化(APPI)、大気圧レーザーイオン化(APLI)、マトリクス支援レーザー脱離/イオン化(MALDI)、単一光子イオン化(SPI)、共鳴増幅多光子イオン化(REMPI)、熱イオン化(TI)、誘導結合プラズマ(IPC)およびグロー放電イオン化(GI)である。   Other suitable ionization methods include electron impact ionization (EI), chemical ionization (CI), soft ionization (SI), field ionization (FI), field desorption (FD), liquid injection field desorption ionization (LIFDI), Fast atom bombardment (FAB), electrospray ionization (ESI), atmospheric pressure chemical ionization (APCI), atmospheric pressure photoionization (APPI), atmospheric pressure laser ionization (APLI), matrix-assisted laser desorption / ionization (MALDI), single One photon ionization (SPI), resonance amplified multiphoton ionization (REMPI), thermal ionization (TI), inductively coupled plasma (IPC) and glow discharge ionization (GI).

少なくとも2つの異なる分子貯蔵器からの分子を、連続して、または交互に気相状態に変換し、表面をコーティングするために使用することが提案される。このようにして、例えば、画素が、さまざまな色で発光することができるコーティング材の個々の領域からそれぞれ成るOLEDを、極めて速く製造することができる。   It is proposed to use molecules from at least two different molecular reservoirs to convert the gas phase state sequentially or alternately and coat the surface. In this way, for example, OLEDs can be produced very quickly, each of which consists of individual areas of a coating material in which the pixels can emit in different colors.

少なくとも2つの異なる分子貯蔵器からの分子を、同時に気相状態に変換し、表面をコーティングするために使用することがさらに提案される。このようにして、例えば、少なくとも2つの材料の混合物を含む層を含むOLEDを製造することができる。これは、例えば、従来技術に従って通常使用されるドープされた発光層、またはドープされたホールもしくは電子輸送層の製造のために重要である。2つより多い材料、例えば3つ、4つまたは5つの異なる材料をこのようにして同時に表面に塗布することも可能である。従って、例えば、2つ以上のホスト材料および1つ以上のドーパントを有するいわゆる「混合ホスト」を製造することが可能である。   It is further proposed to use molecules from at least two different molecular reservoirs to simultaneously convert to the gas phase and coat the surface. In this way, for example, an OLED comprising a layer comprising a mixture of at least two materials can be produced. This is important, for example, for the production of doped emissive layers usually used according to the prior art, or doped hole or electron transport layers. It is also possible to apply more than two materials, for example three, four or five different materials to the surface in this way. Thus, for example, it is possible to produce a so-called “mixed host” having two or more host materials and one or more dopants.

従来のコーティング法と比較したこのドーピング法の利点は、ドーピングの度合いをこのようにしてより正確に設定できることである。これは、低度のドーピングのみが使用され、ドーピングの度合いからの小さい逸脱でさえ電子デバイスの特性に大きな影響を有し得る場合に特に重要である。   The advantage of this doping method compared to conventional coating methods is that the degree of doping can be set more precisely in this way. This is particularly important when only low levels of doping are used and even small deviations from the degree of doping can have a significant impact on the properties of the electronic device.

本発明によるコーティング法は、有機、有機金属および無機材料が表面に塗布されることを可能にする。この方法は、低分子量化合物に対してばかりでなく、例えば、オリゴマー、デンドリマー、フラーレン誘導体、グラフェン誘導などの比較的高分子量化合物に対しても、これらの化合物はソフトイオン化法によって分解無しでイオン化され得るので、使用することができる。これは、比較的高分子量の化合物がしばしば熱分解を受ける従来の気相からのコーティング法と比較したときのさらなる利点である。   The coating method according to the invention allows organic, organometallic and inorganic materials to be applied to the surface. This method is not only applied to low molecular weight compounds, but also to relatively high molecular weight compounds such as oligomers, dendrimers, fullerene derivatives, graphene derivatives, etc., these compounds are ionized without decomposition by the soft ionization method. So you can use it. This is an additional advantage when compared to conventional gas phase coating methods where relatively high molecular weight compounds often undergo thermal decomposition.

有機エレクトロルミネッセント装置で使用される分子の典型的な種類は、例えば、ホール輸送材料または一重項エミッタとしてのアリールアミン、ホスト材料としての芳香族炭化水素、特に、アントラセン、ピレン、クリセン、ベンズアントラセン、フェナントレン、ベンゾフェナントレン、フルオレンまたはスピロビフルオレン、特に、ベンズイミダゾール、トリアジンまたはピリミジン、あるいは電子輸送材料としてのアルミニウム錯体を含む電子欠損のヘテロ芳香族化合物、三重項マトリクス材としての、カルバゾール誘導体、芳香族ケトン、芳香族ホスフィンオキシド、トリアジンまたはピリミジン誘導体あるいはトリフェニレン誘導体、および三重項エミッタとしてのイリジウムまたは白金錯体である。   Typical types of molecules used in organic electroluminescent devices are, for example, arylamines as hole transport materials or singlet emitters, aromatic hydrocarbons as host materials, especially anthracene, pyrene, chrysene, benz Anthracene, phenanthrene, benzophenanthrene, fluorene or spirobifluorene, in particular benzimidazole, triazine or pyrimidine, or an electron-deficient heteroaromatic compound containing an aluminum complex as an electron transport material, a carbazole derivative as a triplet matrix material, Aromatic ketones, aromatic phosphine oxides, triazine or pyrimidine derivatives or triphenylene derivatives, and iridium or platinum complexes as triplet emitters.

本発明は、また、分子貯蔵器のための貯蔵装置を有し、前記分子貯蔵器からの分子の蒸発およびイオン化のための装置を有し、前記表面に指向された荷電分子の移動の発生のための静電加速場の発生のための装置を有し、被覆しようとする表面を有する支持材のためのホルダを有する、支持材の表面を分子でコーティングするための装置に関する。このタイプのコーティング装置は、既に慣例から知られている。   The invention also comprises a storage device for a molecular reservoir, a device for the evaporation and ionization of molecules from said molecular reservoir, for the generation of the movement of charged molecules directed towards said surface The invention relates to an apparatus for coating a surface of a support material with molecules, comprising an apparatus for generating an electrostatic acceleration field for, and having a holder for a support material having a surface to be coated. This type of coating apparatus is already known from practice.

本発明に従って、該コーティング装置は、場成分を有しており、荷電分子の移動と垂直な移動に作用する電場および/または磁場を発生するための装置を有することが提案される。このようにして、適切な方法で発生された電場および/または磁場によって、分子貯蔵器から蒸発してイオン化した支配的な割合の分子が、コーティングの対象ではないコーティング装置の表面に沈着することを防ぐことができる。   According to the invention, it is proposed that the coating device has a device for generating an electric and / or magnetic field having a field component and acting on a movement perpendicular to the movement of charged molecules. In this way, an electric and / or magnetic field generated in a suitable manner ensures that a dominant proportion of molecules evaporated and ionized from the molecular reservoir is deposited on the surface of the coating apparatus that is not the object of coating. Can be prevented.

コーティング装置が、四重極電場の発生のための少なくとも1つの装置を有することが好ましくは提案される。このタイプの装置は、簡単にかつ安い費用で製造することができ、または、市販されており、荷電分子のビームの例えば四重極磁場による方向および集束に影響を及ぼすように、または荷電分子の選択をし、ひいては、四重極交番電場によってコーティング材の洗浄を果たすように、適合させまたは構成することができる。   It is preferably proposed that the coating device has at least one device for the generation of a quadrupole electric field. This type of device can be manufactured easily and at low cost, or is commercially available to influence the direction and focusing of a beam of charged molecules, eg by a quadrupole magnetic field, or of charged molecules The selection can be adapted or configured to effect cleaning of the coating material by a quadrupole alternating electric field.

有利な形で、該コーティング装置は、集束装置および/またはダイアフラム装置を有することが提案される。この集束装置によって、荷電分子を含む分子イオンビームを発生させることができる。特にダイアフラム装置との組合せで、もっぱら特定可能な質量/電荷比を有する分子のみがダイアフラム装置を通過して被覆されるべき表面に達して、非常に均一で、著しく純粋なコーティングが形成されることを確保することができる。   Advantageously, it is proposed that the coating device comprises a focusing device and / or a diaphragm device. With this focusing device, a molecular ion beam containing charged molecules can be generated. In particular, in combination with a diaphragm device, only molecules with a identifiable mass / charge ratio reach the surface to be coated through the diaphragm device to form a very uniform and remarkably pure coating Can be secured.

表面のコーティングの微細構造化された模様を促進するため、該コーティング装置は、該分子イオンビームの目標とされた偏向のために経時変化させ得る電気および/または磁気偏向場の発生のための装置も有することが提案される。経時的に制御することができ、コーティング装置中に同じように備えられるダイアフラム装置との組合せで、表面の特定領域がコーティング材により被覆され、しかし一方、他の領域はコーティング材が無いまま保たれ、被覆されないことを達成することができる。   In order to promote a microstructured pattern of the surface coating, the coating apparatus is an apparatus for generating electrical and / or magnetic deflection fields that can be varied over time due to the targeted deflection of the molecular ion beam Is also proposed to have. In combination with a diaphragm device that can be controlled over time and is similarly provided in the coating equipment, certain areas of the surface are covered with coating material, while other areas are kept free of coating material. It can be achieved that it is not coated.

異なる材料の複数の層を上下に塗布することは、勿論同様に可能である。個々の層を大きい領域の上に、従って体系化されていないやり方で塗布することおよび他の層を体系化されたやり方で塗布することが同様に可能である。従って、例えば、電荷輸送層(正孔および電子輸送層)を大きい領域の上に体系化されていないやり方で塗布して、発光層を体系化されたやり方で塗布し、かくして、個々の画素のアドレス指定を促進することが可能である。   It is of course possible to apply several layers of different materials one above the other. It is likewise possible to apply individual layers over a large area and thus in an unstructured manner and to apply other layers in an organized manner. Thus, for example, a charge transport layer (hole and electron transport layer) is applied in an unstructured manner on a large area and a light-emitting layer is applied in an organized manner, thus the individual pixel Addressing can be facilitated.

該コーティング装置は、光イオン化装置を好ましくは有する。この光イオン化装置は、分子貯蔵器に向けられた少なくとも1つのレーザーを都合よく含み、分子貯蔵器から荷電分子を溶解することができる。別法では、この装置は、もう1つの適切なイオン化装置を有することもできる。   The coating device preferably has a photoionization device. The photoionization device conveniently includes at least one laser directed at the molecular reservoir and can dissolve charged molecules from the molecular reservoir. Alternatively, the device can have another suitable ionization device.

図面に描かれている本発明の具体的実施形態を以下でより詳細に説明する。   Specific embodiments of the invention depicted in the drawings are described in more detail below.

図1は、ウェーネルト円筒と荷電分子の飛行方向に対して垂直に位置合わせされているほぼ均一な磁場とを有するコーティング装置の図形描写を示している。FIG. 1 shows a graphical depiction of a coating apparatus having a Wehnelt cylinder and a substantially uniform magnetic field aligned perpendicular to the direction of flight of charged molecules. 図2は、荷電分子が四重極電場によって選択され、その後2対の偏向キャパシタにより横方向に偏向される異なる型のコーティング装置の図形描写を示している。FIG. 2 shows a graphical depiction of a different type of coating apparatus in which charged molecules are selected by a quadrupole field and then deflected laterally by two pairs of deflection capacitors. 図3は、分子がレーザーで誘起された2光子吸収によってイオン化され、その後四重極磁場により横方向に偏向されるさらに異なる型のコーティング装置の図形描写を示している。FIG. 3 shows a graphical depiction of yet another type of coating apparatus in which molecules are ionized by laser-induced two-photon absorption and then laterally deflected by a quadrupole magnetic field.

発明の詳細な説明Detailed Description of the Invention

描かれている例の中のOLEDの支持材2の被覆されるべき表面1のための図1に描かれているコーティング装置は、第一の分子貯蔵器3および第二の分子貯蔵器4を有しており、そのそれぞれに、表面1を被覆する溶液または濃縮された含量の有機分子5,6が蓄えられている。その有機分子5,6は、適切な蒸発装置7によって蒸発され、イオン化される。分子5,6のイオン化は、対応した適切な蒸発装置7の使用に基づいて蒸発と同時に、または、適切なイオン化装置を用いるその後の方法のステップで行なうことができる。蒸発して、荷電した分子5,6は、その後、集束装置8により、例えば、ウェーネルト円筒により、まとめられて分子イオンビーム9(実線)または10(点線)を形成し、荷電分子5,6の動きと垂直の動きに作用する少なくとも1つの場成分を有する電場および/または磁場の発生のための装置11の方向に加速される。   The coating apparatus depicted in FIG. 1 for the surface 1 to be coated of the OLED support 2 in the depicted example comprises a first molecular reservoir 3 and a second molecular reservoir 4. Each of which contains a solution covering the surface 1 or a concentrated content of organic molecules 5,6. The organic molecules 5 and 6 are evaporated and ionized by a suitable evaporation device 7. The ionization of the molecules 5, 6 can be carried out simultaneously with evaporation based on the use of a corresponding suitable evaporation device 7 or in subsequent method steps using a suitable ionization device. The evaporated and charged molecules 5, 6 are then combined by the focusing device 8, for example, by a Wehnelt cylinder, to form a molecular ion beam 9 (solid line) or 10 (dotted line). Accelerated in the direction of the device 11 for the generation of an electric and / or magnetic field with at least one field component acting on the movement and the vertical movement.

装置11は、例えば、荷電分子5,6の移動方向と垂直に方向づけられた磁場を発生し、移動する分子5,6にかけられるローレンツ力により荷電分子5,6の円運動を引き起こす。引き起こされる円運動の半径は、磁場のみでなく、質量/電荷比および荷電分子5,6の速度にも依存する。一例として描かれている説明のための実施形態において、磁場の力線は、描画プレーン中を観察者に向かって垂直に方向付けられており、描画プレーン中でプラスに荷電分子5,6を円弧部分に向かってほぼ90°右側に偏向させる。それぞれの分子5,6の分子イオンビーム9,10が磁場を有する装置11を離れる場合、その分子イオンビーム9,10は、被覆されるべき表面1に既に方向付けられている。   The device 11 generates, for example, a magnetic field oriented perpendicular to the moving direction of the charged molecules 5 and 6, and causes a circular motion of the charged molecules 5 and 6 due to Lorentz force applied to the moving molecules 5 and 6. The radius of the circular motion induced depends not only on the magnetic field, but also on the mass / charge ratio and the velocity of the charged molecules 5,6. In the illustrative embodiment depicted by way of example, the magnetic field lines are oriented perpendicularly to the viewer in the drawing plane, and the charged molecules 5, 6 arc positively in the drawing plane. Deflection to the right by approximately 90 ° towards the part. When the molecular ion beam 9, 10 of each molecule 5, 6 leaves the device 11 with a magnetic field, the molecular ion beam 9, 10 is already directed to the surface 1 to be coated.

装置11の後のダイアフラム装置12は、対応する質量/電荷比を有する分子5,6のみが、そのダイアフラム装置12を通過することができるように準備される。このようにして、均質な分子イオンビーム9,10が発生され、全ての不純物または汚染性の分子は分子イオンビーム9,10から分離される。   The diaphragm device 12 after the device 11 is prepared such that only molecules 5 and 6 having a corresponding mass / charge ratio can pass through the diaphragm device 12. In this way, a homogeneous molecular ion beam 9, 10 is generated, and all impurities or contaminating molecules are separated from the molecular ion beam 9, 10.

分子イオンビーム9,10は、その後、偏向装置13によって経時変化させ得る偏向に従って、表面1のそれぞれの場合に被覆されるべき領域に特異的に向けられる。この偏向装置13は、例えば、オシロスコープまたは陰極線管において知られるような、例えば、2対の互いに垂直に並べられた平板キャパシタから構成することができる。この偏向装置13は、分子イオンビーム9,10が、表面を被覆するために明記できる移動パターンで表面1上を導かれることを可能にする。   The molecular ion beams 9, 10 are then directed specifically to the area to be covered in each case of the surface 1 according to a deflection that can be changed over time by the deflection device 13. This deflection device 13 can be composed of, for example, two pairs of vertically arranged plate capacitors, as is known, for example, in oscilloscopes or cathode ray tubes. This deflecting device 13 allows the molecular ion beams 9, 10 to be guided over the surface 1 in a moving pattern that can be specified to cover the surface.

図1で一例として描かれている具体的実施形態においては、分子イオンビーム9,10をそれによって特定可能な時間間隔で遮断するかまたは表面1まで通り抜けることを可能にすることができるさらなるダイアフラム装置14が偏向装置13と被覆されるべき表面1との間に配置される。このようにして、それぞれ望まれるコーティング材またはそれぞれの分子5,6による個々の点15を、間欠的に表面1に達する分子イオンビーム9,10によって発生させることができ、その場合、この点15は、互いからある間隔で配置することができ、隣接する点15は、個別にアドレス可能なOLEDの画素を形成するために異なる分子5,6から連続的に製造することができる。   In the specific embodiment depicted by way of example in FIG. 1, a further diaphragm device that can allow the molecular ion beams 9, 10 to be interrupted or passed through to the surface 1 at a identifiable time interval thereby. 14 is arranged between the deflection device 13 and the surface 1 to be coated. In this way, individual points 15 due to the respective desired coating material or respective molecules 5, 6 can be generated by the molecular ion beams 9, 10 intermittently reaching the surface 1, in which case this point 15 Can be arranged at a distance from each other, and the adjacent points 15 can be successively produced from different molecules 5, 6 to form individually addressable OLED pixels.

図2で同様に図式的に例として描かれている具体的実施形態においては、分子貯蔵器3中の分子5が、蒸発されて気相状態になる。レーザー16のレーザービームは、分子貯蔵器3中に向けられる。レーザー16により蒸発してイオン化した分子5は、その後、集束装置8によりまとめられて分子イオンビーム9を形成し、交流電圧が加えられる四重極電場装置17中に導かれる。適切なやり方で操作されるこの四重極電場装置17は、特定可能な電荷/質量比を有する分子5が非常に正確に選択され、通過することが許容され、一方異なる電荷/質量比を有するその他の分子は、横方向に分離されて被覆すべき表面1に到達しないことを可能にする。分子イオンビーム9は、その後、偏向装置13によって経時変化させ、各場合の表面1における被覆されるべき領域に特定的に向けることができる偏向にさらされる。   In a specific embodiment, which is also illustrated schematically by way of example in FIG. 2, the molecules 5 in the molecular reservoir 3 are evaporated into a gas phase state. The laser beam of the laser 16 is directed into the molecular reservoir 3. The molecules 5 evaporated and ionized by the laser 16 are then collected by a focusing device 8 to form a molecular ion beam 9 and guided into a quadrupole electric field device 17 to which an alternating voltage is applied. This quadrupole field device 17 operated in a suitable manner allows molecules 5 with identifiable charge / mass ratios to be selected very accurately and allowed to pass while having different charge / mass ratios. The other molecules are separated laterally, making it possible not to reach the surface 1 to be coated. The molecular ion beam 9 is then subjected to a deflection which can be changed over time by the deflection device 13 and specifically directed to the area to be coated in the surface 1 in each case.

個々の成分に対して発生する可能性のある変化の単なる説明のために、さらに異なるコーティング装置が例として図3に描かれている。個々の分子5は、分子貯蔵器3から抜け出して溶解され、2光子吸収によるレーザー16によってイオン化される。レーザービームの波長の適切な選択および仕様により、コーティング向きの分子5は、選択的に励起してイオン化し、一方、不純物または他の分子は、励起またはイオン化させないことができる。   A further different coating device is depicted by way of example in FIG. 3 for the sake of mere illustration of the changes that may occur for the individual components. Individual molecules 5 escape from the molecular reservoir 3 and are dissolved and ionized by the laser 16 by two-photon absorption. With proper selection and specification of the laser beam wavelength, the coating oriented molecules 5 can be selectively excited and ionized, while impurities or other molecules cannot be excited or ionized.

イオン化した分子5は、適切な加速装置18によって分子貯蔵器3から除去され、分子イオンビーム9を形成するようにまとめられる。分子イオンビーム9は、装置19中に導かれ、それによって四重極磁場が生み出される。分子イオンビーム9の集束および装置19を励起することに向けてのその方向はその四重極磁場中で特定することができる。   The ionized molecules 5 are removed from the molecular reservoir 3 by a suitable accelerator 18 and are assembled to form a molecular ion beam 9. The molecular ion beam 9 is directed into the device 19 thereby creating a quadrupole magnetic field. The focusing of the molecular ion beam 9 and its direction towards exciting the device 19 can be determined in its quadrupole magnetic field.

本出願は、有機エレクトロルミネッセント素子の製造のための表面のコーティングについて主として述べている。しかしながら、記載されている方法は、進歩性無しで、その他の電子装置、例えば、有機薄膜トランジスタ、有機電界効果トランジスタまたは有機太陽電池の製造のための表面のコーティングのために同様に使用することができる。   The present application mainly describes surface coatings for the production of organic electroluminescent devices. However, the described method can likewise be used for surface coating for the manufacture of other electronic devices, for example organic thin film transistors, organic field effect transistors or organic solar cells, without inventive step. .

Claims (19)

支持材の表面を分子でコーティングする方法であって、分子貯蔵器からの分子が気相状態に変換され、イオン化され、その荷電分子が電場中で前記表面へと向かう指向移動を行い、前記分子が前記表面にぶつかり、そこで吸収される方法において、前記荷電分子(5,6)の指向移動に対して垂直である、力の指向作用を前記荷電分子(5,6)に及ぼすために、前記荷電分子(5,6)を、前記表面(1)へ向かう途中で、前記荷電分子(5,6)の指向移動に対して垂直な少なくとも1つの場成分を有する少なくとも1つの電場および/または磁場にさらすことを特徴とする方法。   A method of coating a surface of a support material with molecules, wherein molecules from a molecular reservoir are converted to a gas phase state and ionized, and the charged molecules perform a directional movement toward the surface in an electric field, In order to exert a force directed action on the charged molecule (5, 6), which is perpendicular to the directed movement of the charged molecule (5, 6) in a way that hits the surface and is absorbed there At least one electric and / or magnetic field having at least one field component perpendicular to the directed movement of the charged molecules (5, 6) on the way to the charged molecules (5, 6) towards the surface (1) A method characterized by exposure to water. 電気および/または磁気集束装置(8)が、前記分子貯蔵器(3,4)と前記表面(1)との間において、前記荷電分子(5,6)の指向移動に作用することを特徴とする請求項1に記載の方法。   An electrical and / or magnetic focusing device (8) acts on the directional movement of the charged molecules (5, 6) between the molecular reservoir (3,4) and the surface (1) The method of claim 1. ダイアフラム装置(12)が、前記分子貯蔵器(3,4)と前記表面(1)との間において、特定可能な質量/電荷比を有する分子(5,6)のみが前記ダイアフラム装置(12)を通過して前記表面(1)に至るように配置されていることを特徴とする請求項1または2に記載の方法。   Only the molecules (5, 6) having a mass / charge ratio that can be specified between the molecular reservoir (3, 4) and the surface (1) are connected to the diaphragm device (12). 3. A method according to claim 1 or 2, characterized in that it is arranged to pass through to the surface (1). 少なくとも1つの四重極電場(17,19)が、前記分子貯蔵器(3,4)と前記表面(1)との間において、前記荷電分子(5,6)の指向移動に作用することを特徴とする請求項1から3の何れか1項に記載の方法。   That at least one quadrupole field (17, 19) acts on the directional movement of the charged molecules (5, 6) between the molecular reservoir (3,4) and the surface (1). 4. A method according to any one of claims 1 to 3, characterized in that: 前記分子貯蔵器(3,4)から前記表面(1)までの移動の間に、前記荷電分子(5,6)が、経時変化させ得る電場および/または磁場によって偏向されることを特徴とする請求項1から4の何れか1項に記載の方法。   During the movement from the molecular reservoir (3, 4) to the surface (1), the charged molecules (5, 6) are deflected by an electric and / or magnetic field that can change over time. The method according to any one of claims 1 to 4. 前記荷電分子(5,6)が、前記表面(1)への移動の間に、2対の偏向キャパシタにより偏向されることを特徴とする請求項5に記載の方法。   Method according to claim 5, characterized in that the charged molecules (5, 6) are deflected by two pairs of deflection capacitors during the movement to the surface (1). 前記2対の偏向キャパシタにより発生した電場が、互いに対しておよび前記荷電分子(5,6)の指向移動に対して本質的に垂直にそろえられることを特徴とする請求項6に記載の方法。   The method according to claim 6, characterized in that the electric fields generated by the two pairs of deflection capacitors are aligned essentially perpendicular to each other and to the directed movement of the charged molecules (5, 6). 前記荷電分子(5,6)が、適切な電場および/または磁場によって、または経時変化させ得るダイアフラム装置によって、特定可能な時間にわたって前記表面(1)にぶつかることが防止されることを特徴とする請求項1から7の何れか1項に記載の方法。   The charged molecules (5, 6) are prevented from hitting the surface (1) for an identifiable time by means of a suitable electric and / or magnetic field or by means of a diaphragm device that can be changed over time. The method according to any one of claims 1 to 7. コーティングが開始される前に、被覆しようとする表面領域が、前記荷電分子(5,6)と反対の電荷を与えられ、被覆されないままにしようとする表面領域が、同じ電荷を与えられることを特徴とする請求項1から8の何れか1項に記載の方法。   Before the coating is started, the surface area to be coated is given the opposite charge to the charged molecules (5, 6) and the surface area to be left uncoated is given the same charge. 9. A method according to any one of the preceding claims, characterized in that it is characterized in that 前記荷電分子(5,6)の移動に対抗する電場が、前記表面の前段の領域に発生され、前記荷電分子(5,6)が、前記表面(1)にぶつかる前に減速されることを特徴とする請求項1から9の何れか1項に記載の方法。   An electric field that opposes the movement of the charged molecules (5, 6) is generated in a region in front of the surface, and the charged molecules (5, 6) are decelerated before hitting the surface (1). 10. A method according to any one of the preceding claims, characterized in that it is characterized in that 前記気相状態に変換された、前記分子貯蔵器(3)の前記分子(5)が、光イオン化によって、またはレーザーで誘起された2光子吸収によってイオン化されることを特徴とする請求項1から10の何れか1項に記載の方法。   2. The molecule (5) of the molecular reservoir (3) converted to the gas phase is ionized by photoionization or by two-photon absorption induced by laser. The method according to any one of 10 above. 前記分子貯蔵器(3)の前記分子(5)の前記光イオン化が、断続的にまたはパルス状に行なわれる請求項11に記載の方法。   12. Method according to claim 11, wherein the photoionization of the molecules (5) of the molecular reservoir (3) is carried out intermittently or in pulses. 少なくとも2つの異なる分子貯蔵器(3,4)からの分子(5,6)が、連続してまたは交互に気相状態に変換され、前記表面(1)をコーティングするために使用されることを特徴とする請求項1から12の何れか1項に記載の方法。   That molecules (5, 6) from at least two different molecular reservoirs (3, 4) are continuously or alternately converted to the gas phase and used to coat said surface (1) 13. A method according to any one of the preceding claims, characterized in that it is characterized in that 支持材の表面を分子でコーティングするための装置であって、分子貯蔵器のための貯蔵装置を有し、前記分子貯蔵器からの分子の蒸発およびイオン化のための装置を有し、前記表面に指向された荷電分子の移動の発生のための静電加速場の発生のための装置を有し、被覆しようとする表面を有する支持材のためのホルダを有する装置において、前記移動に作用し、前記荷電分子(5,6)の移動に対して垂直な場成分を有する電場および/または磁場の発生のための装置(11)が、前記コーティング装置中に配置されていることを特徴とする装置。   A device for coating a surface of a support material with molecules, comprising a storage device for a molecular reservoir, comprising a device for vaporizing and ionizing molecules from said molecular reservoir, An apparatus for generating an electrostatic acceleration field for the generation of directed charged molecule movement, the apparatus having a holder for a support having a surface to be coated, acting on said movement; A device (11) for generating an electric and / or magnetic field having a field component perpendicular to the movement of the charged molecules (5, 6) is arranged in the coating device. . 前記コーティング装置が、電気および/または磁気集束装置(8)を有することを特徴とする請求項14に記載のコーティング装置。   15. The coating device according to claim 14, wherein the coating device comprises an electrical and / or magnetic focusing device (8). 前記コーティング装置が、四重極電場(17,19)の発生のための少なくとも1つの装置を有することを特徴とする請求項14または15に記載のコーティング装置。   16. A coating device according to claim 14 or 15, characterized in that the coating device comprises at least one device for the generation of a quadrupole electric field (17, 19). 前記コーティング装置が、ダイアフラム装置(12)を有することを特徴とする請求項14から16の何れか1項に記載のコーティング装置。   The coating apparatus according to any one of claims 14 to 16, characterized in that the coating apparatus comprises a diaphragm device (12). 前記コーティング装置が、荷電分子(5,6)を含む分子イオンビーム(9,10)の目標が定められた偏向のための、経時変化させ得る電気および/または磁気偏向場の発生のための装置(13)を有することを特徴とする請求項14から17の何れか1項に記載のコーティング装置。   An apparatus for generating a time-varying electrical and / or magnetic deflection field for the targeted deflection of a molecular ion beam (9, 10) comprising charged molecules (5, 6). The coating apparatus according to any one of claims 14 to 17, further comprising (13). 光イオン化装置を有することを特徴とする請求項14から18の何れか1項に記載のコーティング装置。   The coating apparatus according to claim 14, further comprising a photoionization apparatus.
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