JP2013532768A - ベンゾオキサジン−チオールポリマーフィルムの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図1
Description
式中、各R1は、H又はアルキル基であり、かつ脂肪族アルデヒドの残基であり、
R2は、H、共有結合、又は多価(ヘテロ)ヒドロカルビル基、好ましくはH、共有結合、又は二価アルキル基であり、
R4はチオール化合物の(ヘテロ)ヒドロカルビル残基であり、
R5は、モノ−又はポリアミンであってもよい、一級アミノ化合物の(ヘテロ)ヒドロカルビル残基である。
式中、
各R1は、H又はアルキル基であり、かつ脂肪族アルデヒドの残基であり、
R2は、H、共有結合、又は多価(ヘテロ)ヒドロカルビル基、好ましくはH、共有結合、又は二価アルキル基であり、
R5は、一級アミノ化合物R5(NH2)m(式中、mは2〜4である)の(ヘテロ)ヒドロカルビル残基であり、
xは、少なくとも2である。
式中、
各R1は、H又はアルキル基であり、かつ脂肪族アルデヒドの残基であり、
R2は、H、共有結合、又は多価(ヘテロ)ヒドロカルビル基、好ましくはH、共有結合、又は二価アルキル基であり、
R4は、nが少なくとも2である、ポリチオール化合物の(ヘテロ)ヒドロカルビル残基であり、
R5は、モノ−及びポリアミンを含む、一級アミノ化合物の(ヘテロ)ヒドロカルビル残基である。
などのポリマー材料を得ることができるということが理解される。式中、
各R1は、H又はアルキル基であり、かつ脂肪族アルデヒドの残基であり、
R2は、共有結合、又は多価(ヘテロ)ヒドロカルビル基、好ましくは共有結合又は二価アルキル基であり、
R4はポリチオール化合物の(ヘテロ)ヒドロカルビル残基であり、
R5は一級アミノ化合物の(ヘテロ)ヒドロカルビル残基であり、
pは少なくとも1、好ましくは2以上である。
式中、各R1は、H又はアルキル基であり、かつ脂肪族アルデヒドの残基であり、
R2は、H、共有結合、又は多価(ヘテロ)ヒドロカルビル基、好ましくはH、共有結合、又は二価アルキル基であり、
R5は、一級アミノ化合物の(ヘテロ)ヒドロカルビル残基である。
式中、
各R1は、H又はアルキル基であり、かつ脂肪族アルデヒドの残基であり、
R2は、H、共有結合、又は多価(ヘテロ)ヒドロカルビル基、好ましくはH、共有結合、又は二価アルキル基であり、
R4は、nが少なくとも2である、チオール化合物の(ヘテロ)ヒドロカルビル残基であり、
R5はモノ−及びポリアミンを含む、一級アミノ化合物の(ヘテロ)ヒドロカルビル残基である。
式中、
各R1は、H又はアルキル基であり、かつ脂肪族アルデヒドの残基であり、
R2は、H、共有結合、又は多価(ヘテロ)ヒドロカルビル基、好ましくはH、共有結合、又は二価アルキル基であり、
R4は、nが少なくとも2である、ポリチオール化合物の(ヘテロ)ヒドロカルビル残基であり、
R5は、一級アミノ化合物の(ヘテロ)ヒドロカルビル残基であり、
zは、少なくとも1、好ましくは2以上である。
式中、
各R1は、H又はアルキル基であり、かつ脂肪族アルデヒドの残基であり、
R2は、H、共有結合、又は多価(ヘテロ)ヒドロカルビル基、好ましくはH、共有結合、又は二価アルキル基であり、
R4は、nが少なくとも2である、ポリチオール化合物の(ヘテロ)ヒドロカルビル残基であり、
xは少なくとも2であり、
R5は、一級アミノ化合物の(ヘテロ)ヒドロカルビル残基である。
ベンゾオキサジンA:商品名ARALDITE(商標)MT35600又はXU3560とも呼称される、ビス(3−フェニル−3,4−ジヒドロ−2H,3−ベンズオキサジニル)イソプロパンというビスフェノール由来のベンゾオキサジンが、Huntsman Corporation(The Woodlands,TX)から入手可能である。
JEFFAMINES(商標)D400及びD2000は、それぞれ約400及び2000の分子量を有するポリ(オキシアルキレン)末端ジアミンである。全てのJEFFAMINEは、Huntsman Corporationから入手した。
ベンゾオキサジンB(下記のJEFFAMINE(商標)D400ベースのベンゾオキサジン)を使用し、Kaneka Texas Corporation(Pasadena,TX)から入手した25重量%のシリコーン系コア−シェル粒子と混和して、ベンゾオキサジンB*を作製した。
ベンゾオキサジンA(60重量%)、MEK(20重量%)、及びKaneka Texas CorpからEPX(商標)MX 93Xとして入手したコア−シェル粒子(20重量%)を用いて、ベンゾオキサジンA*を作製した。
Paraloid(商標)2600コア−シェル粒子はDow Chemical(Midland,MI)から入手可能である。
TMMP、トリメチルプロパントリ−(3−メルカプトプロピオネート)は、Evans Chemetics Corporation(Lexington,MA 02173)から入手したものである。
TEMPIC(商標)三官能性チオールは、CBC America Corp.(Commack,NY 11725)経由でSakai Chemical Corporation/SC Organicsから入手したものである。
QX−11(商標)は、CBC America Corp.(Commack,NY 11725)経由でJapan Epoxy Resinから入手したものである。
Shikoku P−d型ベンゾオキサジンは、四国化成工業株式会社(日本、徳島)から入手したものである。
凝集強度法(ラップ剪断強度試験)
Boeing Aircraft Company規格BAC−5555に従ってアノード処理した4”×7”×0.063”(約102×178×1.6mm)の7075 T6ベアアルミニウムを使用して、ラップ剪断試料を作製した。アノード処理電圧は、22.5ボルトであった。試料をASTM規格D−1002−05の記述のように作製した。
上記の通りアノード処理した4”×8”×0.025”(102×203×0.064mm)の7075 T6ベアアルミニウムを使用してT剥離値を測定した。試験は、ASTM D−1876;Standard Test Method for Peel Resistance of Adhesives(T−Peel Test,「Annual Book of ASTM Standards」,vol.15.06,pp.115〜117(1995))に記述されている通りのものであった。
還流凝縮器を備えた2Lの丸底フラスコ内でJeffamine(商標)D−400ジアミン(43グラム、0.1モル)、パラホルムアルデヒド(13.2グラム、0.44モル)、及びフェノール(18.8グラム、0.2モル)の混合物を一体化することによって、P1を作製した。次いで、この混合物を100℃に10時間加熱した。反応混合物を冷却し、減圧下で凝縮水を除去した。得られた生成物(収率約95%、NMRによって構造を確認)を更に精製せずに用いた。
100グラムのARALDITE MT 35600を100グラムのP1と混和することにより、二液コーティング組成物のA液を作製した。この混合物を130℃まで30分間加熱し、ほぼ70℃まで冷却しながら激しく撹拌した。
13.86グラムのAraldite(商標)MT 35600を100℃まで30分間加熱することにより、二液コーティング組成物のA液を作製した。
13.86グラムのAraldite(商標)MT 35600を100℃まで15分間加熱することにより、二液コーティング組成物のA液を作製した。
10.86グラムのShikoku P−d型ベンゾオキサジン−を100℃まで加熱することにより、二液コーティング組成物のA液を作製した。
13.86グラムのAraldite(商標)MT 35600を100℃まで30分間加熱することにより、二液コーティング組成物のA液を作製した。
13.86グラムのAraldite(商標)MT 35600を100℃まで30分間加熱することにより、二液コーティング組成物のA液を作製した。
1.ポリベンゾオキサジン及びポリチオールを含む硬化性組成物の回転バンクを形成する工程であって、上記回転バンクが第1及び第2のキャリア基材と接触する、形成する工程と、上記硬化性組成物を間に入れた第1及び第2の基材をニップに通す工程と、上記硬化性組成物を少なくとも部分的に硬化して、対応するポリマー層を提供する工程と、を含む、ベンゾオキサジン−チオールポリマーフィルムを作製する方法。
間にあるニップギャップを規定する第1の計量要素及び第2の計量要素を準備する工程と、
第1の幅を有する第1のキャリア基材及び第2の幅を有する第2のキャリア基材を準備する工程と、
上記第1及び第2のキャリア基材を上記第1及び第2の計量要素の間に配設する工程と、
回転バンクを上記第1及び第2のキャリア基材の間に形成する工程であって、上記回転バンクが、上記第1及び第2の幅の少なくとも1つに対して中間に配設され、上記硬化性組成物を含み、及び第1の温度を有する、形成する工程と、
上記第1及び第2の計量要素の少なくとも1つの少なくとも一部の上記回転バンクに少なくとも部分的に近接する部分を、第2の温度まで独立に加熱する工程と、
上記第1及び第2のキャリア基材の間に配設されている間に、上記回転バンクの上記硬化性組成物の少なくとも一部を上記ニップギャップに連続的に通して、上記第1及び第2のキャリア基材の間に挟まれた薄い反応性フィルムを形成する工程と、
上記薄い反応性フィルムを少なくとも部分的に硬化して、上記第1及び第2のキャリア基材の間に挟まれた薄いフィルムを提供する工程と、を含む、実施形態1〜4のいずれかの方法。
を有し、式中、
R1のそれぞれはH又はアルキル基であり、
R2はH、共有結合、又は多価(ヘテロ)ヒドロカルビル基であり、
R5は価数xを有する一級アミノ化合物の(ヘテロ)ヒドロカルビル残基であり、
mは2〜4であり、
xは少なくとも1である、実施形態1〜13のいずれかの方法。
を有し、式中、
R1のそれぞれはH又はアルキル基であり、
R2はH、共有結合、又は二価(ヘテロ)ヒドロカルビル基であり、
R5は上記二価(ヘテロ)ヒドロカルビル基であり、
mは2〜4である、実施形態1〜14のいずれかの方法。
R1のそれぞれはH又はアルキル基であり、
R2はH、共有結合、又は二価(ヘテロ)ヒドロカルビル基であり、
mは2〜4であり、
R5は上記(ヘテロ)ヒドロカルビル基である、実施形態1〜16のいずれかの方法。
を有し、式中、
R1のそれぞれはH又はアルキル基であり、
R2はH、共有結合、又は二価(ヘテロ)ヒドロカルビル基であり、
mは2〜4であり、
R5は一級ジアミノ化合物の二価(ヘテロ)ヒドロカルビル基である、実施形態1〜17のいずれかの方法。
のポリマーを含み、式中、
R1はH又はアルキル基であり、
R2はH、共有結合、又は二価(ヘテロ)ヒドロカルビル基であり、
R4は価数nの(ヘテロ)ヒドロカルビル基であり、nは2〜6であり、
mは2〜4であり、
R5は(ヘテロ)ヒドロカルビル基であり、yは少なくとも2である、実施形態1〜24のいずれかの方法。
のポリマーを含み、式中、
各R1はH又はアルキル基であり、
R2はH、共有結合、又は二価(ヘテロ)ヒドロカルビル基であり、
R4は価数nの(ヘテロ)ヒドロカルビル基であり、nは2〜6であり、
R5は上記(ヘテロ)ヒドロカルビル基であり、
mは2〜4であり、
zは少なくとも2である、実施形態1〜25のいずれかの方法。
a)30〜90モル%の上記N−アリールベンゾオキサジンと、
b)10〜70モル%の上記N−アルキルベンゾオキサジンと、
c)化学量論的に等量±15%の上記チオール化合物と、を含む、実施形態27の方法。
Claims (29)
- ポリベンゾオキサジン及びポリチオールを含む硬化性組成物の回転バンクを形成する工程であって、前記回転バンクが第1及び第2のキャリア基材と接触する、形成する工程と、前記硬化性組成物を間に入れた第1及び第2の基材をニップに通す工程と、前記硬化性組成物を少なくとも部分的に硬化して、対応するポリマー層を提供する工程と、を含む、ベンゾオキサジン−チオールポリマーフィルムを作製する方法。
- 前記硬化性組成物を間に入れた前記第1及び第2のキャリア基材が、前記硬化性組成物の層を提供するのに十分な条件下で前記ニップに通される、請求項1に記載の方法。
- 前記対応する硬化性組成物が無溶媒である、請求項1に記載の方法。
- 前記第1及び第2のキャリア基材の少なくとも1つが剥離ライナーである、請求項1に記載の方法。
- 間にあるニップギャップを規定する第1の計量要素及び第2の計量要素を準備する工程と、
第1の幅を有する第1のキャリア基材及び第2の幅を有する第2のキャリア基材を準備する工程と、
前記第1及び第2のキャリア基材を前記第1及び第2の計量要素の間に配設する工程と、
回転バンクを前記第1及び第2のキャリア基材の間に形成する工程であって、前記回転バンクが、前記第1及び第2の幅の少なくとも1つに対して中間に配設され、前記硬化性組成物を含み、及び第1の温度を有する、形成する工程と、
前記第1及び第2の計量要素の少なくとも1つの少なくとも一部の前記回転バンクに少なくとも部分的に近接する部分を、第2の温度まで独立に加熱する工程と、
前記第1及び第2のキャリア基材の間に配設されている間に、前記回転バンクの前記硬化性組成物の少なくとも一部を前記ニップギャップに連続的に通して、前記第1及び第2のキャリア基材の間に挟まれた薄い反応性フィルムを形成する工程と、
前記薄い反応性フィルムを少なくとも部分的に硬化して、前記第1及び第2のキャリア基材の間に挟まれた薄いフィルムを提供する工程と、を含む、請求項1に記載の方法。 - 前記第1及び第2の計量要素の少なくとも1つが実質的に均一に加熱される、請求項5に記載の方法。
- 同時に、前記第2の温度が、前記第1の温度よりも高いか又はそれに等しい、請求項1に記載の方法。
- 前記第1及び第2の計量要素の少なくとも1つが回転可能なロールを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第1及び第2の計量要素の少なくとも1つが固定バーを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記薄い反応性フィルムが、15ミル(0.38mm)未満又はそれに等しい厚さを有する、請求項1に記載の方法。
- 前記第1及び第2のキャリア基材の少なくとも1つが、前記薄いフィルムに隣接して剥離コーティングをその上に含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第1のキャリア基材を前記薄いフィルムから分離することを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第2のキャリア基材を前記薄いフィルムから分離することを更に含む、請求項12に記載の方法。
- R5がポリ(アルキレンオキシ)基である、請求項15に記載の方法。
- 前記ポリチオールが式R4−(S−H)nを有し、式中、R4は価数nを有する(ヘテロ)ヒドロカルビルであり、nは1〜6である、請求項1に記載の方法。
- R4が、1〜30個の炭素原子及び場合により1〜4個の酸素、窒素又はイオウの懸垂型ヘテロ原子を有する、非ポリマー型脂肪族、脂環族、芳香族又はアルキル置換芳香族部分である、請求項19に記載の方法。
- 前記ベンゾオキサジンが、フェノール、アルデヒド及び一級アミンの反応生成物から誘導される、請求項1に記載の方法。
- 前記ベンゾオキサジンが、ビスフェノール、アルデヒド及び一級アミンの反応生成物から誘導される、請求項1に記載の方法。
- 前記ベンゾオキサジンが、フェノール、アルデヒド及びポリアミンの反応生成物から誘導される、請求項1に記載の方法。
- 前記ポリアミンがポリ(エチレンオキシ)ジアミンである、請求項23に記載の方法。
- 前記ポリベンゾオキサジン化合物が、N−芳香族ポリベンゾオキサジン化合物及びN−脂肪族ポリベンゾオキサジン化合物の混合物を含む、請求項5に記載の方法。
- 前記ベンゾオキサジンが、
a.30〜90モル%の前記N−アリールベンゾオキサジンと、
b.10〜70モル%の前記N−アルキルベンゾオキサジンと、
c.化学量論的に等量±15%の前記チオール化合物と、を含む、請求項27に記載の方法。 - 前記第1の温度が、前記N−脂肪族ポリベンゾオキサジン化合物の前記ポリチオールによる硬化を開始するのに十分である、請求項27に記載の方法。
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