JP2013508963A - 薄膜デバイスを個別のセルに分割するための方法および装置 - Google Patents
薄膜デバイスを個別のセルに分割するための方法および装置 Download PDFInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 185
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 18
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 124
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 19
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims abstract description 16
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000007373 indentation Methods 0.000 claims description 20
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 18
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 15
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 10
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 10
- 238000011049 filling Methods 0.000 claims description 8
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 8
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000032823 cell division Effects 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 24
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 246
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 114
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 56
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 19
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 14
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 14
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 11
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 10
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 description 5
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 4
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 3
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 3
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 3
- 239000002200 LIPON - lithium phosphorus oxynitride Substances 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-2h-tetrazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NNN=N1 MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910012820 LiCoO Inorganic materials 0.000 description 1
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011149 active material Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- HVMJUDPAXRRVQO-UHFFFAOYSA-N copper indium Chemical compound [Cu].[In] HVMJUDPAXRRVQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004886 head movement Effects 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 238000001540 jet deposition Methods 0.000 description 1
- 229910000625 lithium cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- BFZPBUKRYWOWDV-UHFFFAOYSA-N lithium;oxido(oxo)cobalt Chemical compound [Li+].[O-][Co]=O BFZPBUKRYWOWDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 tin nitride Chemical class 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
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- B23K26/067—Dividing the beam into multiple beams, e.g. multifocusing
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- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
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- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
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- H01L31/02—Details
- H01L31/02016—Circuit arrangements of general character for the devices
- H01L31/02019—Circuit arrangements of general character for the devices for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/02021—Circuit arrangements of general character for the devices for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
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- H—ELECTRICITY
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- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
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- H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
- H01L31/0445—PV modules or arrays of single PV cells including thin film solar cells, e.g. single thin film a-Si, CIS or CdTe solar cells
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- H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
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- H01L31/046—PV modules composed of a plurality of thin film solar cells deposited on the same substrate
- H01L31/0463—PV modules composed of a plurality of thin film solar cells deposited on the same substrate characterised by special patterning methods to connect the PV cells in a module, e.g. laser cutting of the conductive or active layers
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Abstract
Description
a) 基板の表面全体に下部電極材料の薄い層を堆積させるステップ。基板は、一般的にはガラスであるが、重合体シートであってもよい。この下部層は、酸化スズ(SnO2)、酸化亜鉛(ZnO)または酸化インジウムスズ(ITO)などの透明な導電酸化物であることが多い。場合によってはこの下部層は、モリブデン(Mo)などの不透明な金属である。
b) 連続膜を電気的に隔離されたセル領域に分離するために、下部電極層を完全に貫通して、典型的には5〜l0mmの間隔でパネル表面全体に平行線をレーザスクライブするステップ。
c) 基板領域全体に活性発電層を堆積させるステップ。この層は、単一のアモルファスシリコン層またはアモルファスシリコンとマイクロクリスタルシリコンの二重層からなっていてもよい。テルル化カドミウムおよび硫化カドミウム(CdTe/CdS)、ならびに銅インジウムガリウムジセレン(CIGS)などの他の半導電材料の層も同じく使用される。
d) この1つまたは複数の活性層を貫通して、下部電極材料を損傷することなく、第1の電極層中の最初のスクライブに平行で、かつ、可能な限りこの最初のスクライブの近くに線をレーザスクライブするステップ。
e) アルミニウムなどの金属、あるいはZnOなどの透明な導体であることが多い第3の頂部電極層をパネル領域全体に堆積させるステップ。
f) 頂部電極層の電気連続性を破壊するために、この第3の層に、他の線に近く、かつ、他の線に平行の線をレーザスクライブするステップ。
a. 第1、第2および第3の層を貫通する第1の刻み目(cut)を構築するステップ(making)と、
b. 第2および第3の層を貫通する第2の刻み目を構築するステップであって、第2の刻み目が第1の刻み目と隣接するステップと、
c. 第3の層を貫通する第3の刻み目を構築するステップであって、第3の刻み目が第2の刻み目と隣接し、かつ、第2の刻み目の第1の刻み目とは反対側であるステップと、
d. 非導電材料を第1の刻み目に堆積させるために第1のインクジェットプリントヘッドを使用するステップと、
e. 導電材料を加えて第1の刻み目中の非導電材料を橋絡させるために、かつ、第2の刻み目全体または一部を充填して、第1の層と第3の層の間に電気接続を形成するために、第2のインクジェットプリントヘッドを使用するステップと
をワンパスで実行し、ステップ(a)はステップ(d)に先行し、ステップ(d)はステップ(e)に先行し、かつ、ステップ(b)はステップ(e)に先行しているが、デバイス全体にわたる処理ヘッドの任意の順序のワンパスでこれらのステップを実施することも可能である。
a. 第1、第2および第3の層を貫通する第1の刻み目、第1の刻み目と隣接する、第2および第3の層を貫通する第2の刻み目、および第2の刻み目と隣接する、第3の層を貫通する第3の刻み目を構築するための1つまたは複数のカッタユニットと、
b. 第1の刻み目に非導電材料を堆積させるための第1のインクジェットプリントヘッドと、
c. 導電材料を加えて第1の刻み目中の非導電材料を橋絡させるため、かつ、第2の刻み目全体または一部を充填して、第1の層と第3の層の間に電気接続を形成するための第2のインクジェットプリントヘッド
が提供されており、かつ、装置は、さらに、
d. 処理ヘッドをパネルに対して移動させるための駆動手段と、
e. 個別のセルへのパネルの分割および隣接するセル間の電気接続の形成を、すべて、デバイス全体にわたる処理ヘッドのワンパスで実施することができるよう、デバイスに対する処理ヘッドの運動を制御し、かつ、前記1つまたは複数のカッタユニットおよび前記第1および第2のインクジェットプリントヘッドを駆動するための制御手段と、
を備えている。
a. 第1のセルの範囲を画定するための、基板の表面まですべての層を貫通する第1のレーザスクライブ
b. 第1のレーザスクライブに絶縁インクを堆積させるための第1のインクジェットプロセス
c. 下部電極層まで2つの頂部層を貫通する第2のレーザスクライブプロセス
d. 第1のセル側の頂部電極から第2のセル側の下部電極まで導電ブリッジを形成するために、絶縁インクの上に導電インクの帯を加えるための第2のインクジェットプロセス
e. 第1および第2のセルを隔離し、かつ、第2のセルの範囲を画定するための、頂部電極層を貫通する第3のレーザスクライブプロセス
である。
a. 第1のセルの範囲を画定するための、基板の表面まですべての層を貫通する第1のレーザスクライブ
b. 下部電極層まで2つの頂部層を貫通する第2のレーザスクライブプロセス
c. 第1および第2のセルを隔離し、かつ、第2のセルの範囲を画定するための、頂部電極層を貫通する第3のレーザスクライブプロセス
d. 第1のレーザスクライブに絶縁インクを堆積させるための第1のインクジェットプロセス
e. 第1のセル側の頂部電極から第2のセル側の下部電極まで導電ブリッジを形成するために、絶縁インクの上に導電インクの帯を加えるための第2のインクジェットプロセス
である。
a. 第1の導電インクジェットヘッド
b. 第1の絶縁インクジェットヘッド
c. 第1、第2および第3のレーザビーム
d. 第2の絶縁インクジェットヘッド
e. 第2の導電インクジェットヘッド
1) 第1のレーザスクライブプロセスは、必ず第1の印刷プロセスに先行しなければならない。
2) 第1の印刷プロセスは、必ず第2の印刷プロセスに先行しなければならない。
3) 第2のレーザスクライブプロセスは、必ず第2の印刷プロセスに先行しなければならない。
1) 第1のレーザビーム53による、3つのすべての層を貫通するレーザスクライブライン54
2) 第1のレーザスクライブライン54への、第1のインクジェットノズル55によって送り出される絶縁インク56の充填
3) 第2のレーザビーム53’による、2つの頂部層を貫通するレーザスクライブライン54’
4) 第2のインクジェットノズル57によって送り出される導電インク58を使用した、第1のレーザスクライブライン54から第2のレーザスクライブライン54’に到る導電ブリッジの形成
5) 第3のレーザビーム53”による、頂部層を貫通するレーザスクライブライン 54”
1) 第2のレーザスクライブプロセスを使用して、第1のレーザスクライブプロセスによって生成される、第2のスクライブラインの領域に堆積するあらゆる破片、ならびに上部電極の表面を越えて第2のスクライブラインの領域に広がる可能性のある堆積絶縁インクを除去することができること、および、
2) 第3のレーザスクライブプロセスを使用して、第2のレーザスクライブプロセスによって生成される、第3のスクライブラインの領域に堆積するあらゆる破片、ならびに上部電極の表面を越えて第3のスクライブラインの領域に広がる可能性のある堆積導電インクを除去することができることである。
1) 第1、第2および第3のレーザビーム73、73’、73”を使用した3つのレーザスクライブの実行
2) 第1のインクジェットノズル75によって送り出される絶縁インク76の第1のレーザスクライブライン74への充填
3) 第2のインクジェットノズル77によって送り出される導電インク78を使用した、第1のレーザスクライブライン74から第2のレーザスクライブライン74’にわたる導電ブリッジの形成
1) 第1のレーザビーム93を使用した第1のレーザスクライブ94の実行
2) 第1のインクジェットノズル95によって送り出される絶縁インク96の第1のレーザスクライブライン94への充填
3) それぞれ第2および第3のレーザビーム93’、93”を使用した第2および第3のレーザスクライブ94’および94”の実行
4) 第2のインクジェットノズル97によって送り出される導電インク98を使用した、第1のレーザスクライブライン94から第2のレーザスクライブライン94’にわたる導電ブリッジの形成
1) 第1および第2のレーザビーム113、113’を使用した第1および第2のレーザスクライブ114、114’の実行
2) 第1のインクジェットノズル115によって送り出される絶縁インク116の第1のレーザスクライブライン114への充填
3) 第2のインクジェットノズル117によって送り出される導電インク118を使用した、第1のレーザスクライブライン114から第2のレーザスクライブライン114’にわたる導電ブリッジの形成
4) 第3のレーザビーム113”を使用した第3のレーザスクライブ114”の実行
1) 第1のレーザビームの行
2) 第1のインクジェットヘッドの行
3) 第2のレーザビームの行
4) 第2のインクジェットヘッドの行
5) 第3のレーザビームの行
を見ることになる。
1) 第1のレーザビームの行
2) 第2のレーザビームの行
3) 第3のレーザビームの行
4) 第1のインクジェットノズルの行
5) 第2のインクジェットノズルの行
を見ることになる。
1) 第1、第2および第3のレーザビームを使用した第1、第2および第3のレーザスクライブの実行
2) ヘッドが移動する方向に応じて第1のインクジェットノズル154または154’のいずれかによって送り出される絶縁インクの第1のレーザスクライブラインへの充填
3) ヘッドが移動する方向に応じて第2のインクジェットノズル155または155’のいずれかによって送り出される導電インクを使用した、第1のレーザスクライブラインから第2のレーザスクライブラインにわたる導電ブリッジの形成
1) 第1、第2および第3のレーザビームの行
2) 第1のインクジェットノズルの行
3) 第2のインクジェットノズルの行
を見ることになる。
12、22、42 下部電極層(下部電極材料)
13、24、42’ 活性層
14、26、36 頂部電極層
15、16、17 レーザスクライブ
23、33、63 第1のレーザスクライブライン(レーザ刻み目)
25、35、65 第2のレーザスクライブライン
27、37、67 第3のレーザスクライブライン
32、32’ コーティング層
34、46、56、64、76、86、96、104、116、125 絶縁流体(絶縁材料、絶縁インク)
42” 上部電極層
43 広い第1のレーザスクライブライン
44 より狭い第2のレーザスクライブライン
45 下部電極材料42のレッジ
47、58、78、98、118 導電流体(導電インク)
51、71、91、111、131、141、151、161、211 ソーラーパネル
52、72、92、112、152 隣接するセルが接続される領域を含んだパネルの領域
53、73、93、113、153 第1のレーザビーム
53’、73’、93’、113’、153’ 第2のレーザビーム
53”、73”、93”、113”、153” 第3のレーザビーム
54、74、94、114 第1のスクライブ(第1のレーザスクライブライン)
54’、74’、94’、114’ 第2のスクライブ(第2のレーザスクライブライン)
54”、74”、94”、114” 第3のスクライブ
55、75、95、115、154、154’ インクジェットノズル(第1のインクジェットヘッド、第1のインクジェットノズル)
57、77、97、117、155、155’ 第2のインクジェットノズル(第2のインクジェットヘッド)
62、82、102、122 層
66、87、107、126 流体(導電材料)
83、103、123 第1のレーザスクライブ
84、105、124 第2のレーザスクライブ
85、106 第3のレーザスクライブ
127 上部層
132 いくつかのセル間の接続を含んだパネル131の領域
133、143、163 5つのセル相互接続構造
134 5つの並列の第1のレーザビーム135を線に沿って配置するデバイス
135、145 5つの並列の第1のレーザビーム
136、146 5つの並列の第2のレーザビームを線に沿って配置するデバイス
137、147 5つの並列の第3のレーザビームを線に沿って配置するデバイス
138 5つの並列の第1のインクジェットノズル139を線に沿って配置するデバイス
139、149 5つの並列の第1のインクジェットノズル
142 いくつかのセル間の接続を含んだパネル141の領域
144 5つの並列の第1のレーザビーム145を線に沿って配置するデバイス
148 5つの並列の第1のインクジェットノズル149を線に沿って配置するデバイス
162 いくつかのセル間の接続を含んだパネル161の領域
164 5つの並列の第1、第2および第3のレーザビーム165を線に沿って配置するデバイス
165 5つの並列の第1、第2および第3のレーザビーム
166、166’ 5つの並列の第1のインクジェットノズルを線に沿って配置するデバイス
167、167’ 5つの並列の第2のインクジェットノズルを線に沿って配置するデバイス
171、191 パルスレーザユニット
173、193、2010、216、216’ 鏡
172、192 パルスレーザユニットによって放出されるビーム
174、194、204 集束レンズ
176 回折光学素子(DOE)
177、197 焦点スポット
181 切頭透過複プリズムに当たる丸いレーザビーム
182 切頭透過複プリズム(切頭複プリズム)
183 デバイスの中央の領域(デバイスの平らな部分、複プリズムの切頭領域)
184、184’ プリズム領域(プリズム部分)
185、186、187 角分離ビーム
196 切頭複プリズムデバイス
201 第1のパルスレーザユニット(第1のレーザ)
202 第1のパルスレーザユニットによって放出されるビーム
203 ビーム結合鏡
206 光学素子(DOEまたは複プリズム)
207、207’ 焦点スポット(第1のレーザビーム)
208 第2のレーザユニット(第2のレーザ)
209 第2のレーザユニットによって放出されるビーム
212 チャックプレート
213、213’ 並進ステージ
214、214’ サーボモータ
215 レーザユニット
217、226 処理ヘッド
221 制御ユニット
222 レーザ
223、223’ ステージサーボモータ
224 インクジェットプリントヘッドコントローラ
225 インクジェット送り出しシステム
1310 5つの並列の第2のインクジェットノズル1311を線に沿って配置するデバイス
1311、1411 5つの並列の第2のインクジェットノズル
1410 5つの並列の第2のインクジェットノズル1411を線に沿って配置するデバイス
2011 焦点スポット(第2のレーザ)
2012ビーム発散補償光学
Claims (19)
- 下部電極層である第1の層と、活性層である第2の層と、上部電極層である第3の層と、をその上に有し、これらのすべての層が連続している薄膜デバイスを、電気的に直列に相互接続される個別のセルに分割するための方法であって、セルの分割および隣接するセル間の電気接続が、すべて、前記デバイス全体にわたる処理ヘッドのワンパスで実施され、前記処理ヘッドが、
a) 前記第1の層、第2の層および第3の層を貫通する第1の刻み目を構築するステップと、
b) 前記第2の層および第3の層を貫通する第2の刻み目を構築するステップであって、前記第2の刻み目が前記第1の刻み目と隣接するステップと、
c) 前記第3の層を貫通する第3の刻み目を構築するステップであって、前記第3の刻み目が前記第2の刻み目と隣接し、かつ、前記第2の刻み目の前記第1の刻み目とは反対側であるステップと、
d) 非導電材料を前記第1の刻み目に堆積させるために第1のインクジェットプリントヘッドを使用するステップと、
e) 導電材料を加えて前記第1の刻み目中の前記非導電材料を橋絡させるために、かつ、前記第2の刻み目全体または一部を充填して、前記第1の層と前記第3の層との間に電気接続を形成するために、第2のインクジェットプリントヘッドを使用するステップと、
をワンパスで実行し、
ステップ(a)がステップ(d)に先行し、ステップ(d)がステップ(e)に先行し、かつ、ステップ(b)がステップ(e)に先行し、あるいは前記デバイス全体にわたる前記処理ヘッドの任意の順序のワンパスで前記ステップを実施することが可能である方法。 - 前記ステップがワンパスで実施される順序が、前記第1および第2のインクジェットプリントヘッドの前記処理ヘッド上の相対位置、および前記第1の刻み目、第2の刻み目および第3の刻み目を形成するための前記処理ヘッド上のコンポーネントによって決まる、請求項1に記載の方法。
- 前記第1の刻み目、第2の刻み目および第3の刻み目のうちの1つまたは2つ以上が、1つまたは2つ以上のレーザビームを使用して形成される、請求項1または2に記載の方法。
- 前記第1の刻み目、第2の刻み目および第3の刻み目のうちの1つまたは2つ以上が、1つまたは2つ以上の機械式スクライバを使用して形成される、請求項1、2または3に記載の方法。
- 前記処理ヘッドが、前記薄膜デバイス全体にわたる一方または両方の方向のワンパスで前記すべてのステップを実施することができる、請求項4に記載の方法。
- 対応する個々の刻み目への堆積の後、前記非導電材料および/または前記導電材料を硬化させるために1つまたは複数の硬化ステップが実施される、請求項5に記載の方法。
- 前記非導電材料および/または前記導電材料の堆積の後、前記硬化ステップのうちの1つまたは複数が前記ワンパスの間に実施される、請求項6に記載の方法。
- 前記硬化ステップのうちの1つまたは複数が、前記ワンパスの後、別の装置で実施される、請求項6または7に記載の方法。
- 前記薄膜デバイスが、ソーラーパネル、照明パネルおよび電池のうちの1つである、請求項8に記載の方法。
- 下部電極層である第1の層と、活性層である第2の層と、上部電極層である第3の層と、をその上に有し、これらのすべての層が連続している薄膜デバイスを、電気的に直列に相互接続される個別のセルに分割するための装置であって、処理ヘッドを備え、前記処理ヘッドの上に、
a) 前記第1、第2および第3の層を貫通する第1の刻み目、前記第1の刻み目と隣接する、前記第2および第3の層を貫通する第2の刻み目、および前記第2の刻み目と隣接し、かつ、前記第2の刻み目の前記第1の刻み目とは反対側である、前記第3の層を貫通する第3の刻み目を構築するための1つまたは複数のカッタユニットと、
b) 前記第1の刻み目に非導電材料を堆積させるための第1のインクジェットプリントヘッドと、
c) 導電材料を加えて前記第1の刻み目中の前記非導電材料を橋絡させるため、かつ、前記第2の刻み目全体または一部を充填して、前記第1の層と前記第3の層の間に電気接続を形成するための第2のインクジェットプリントヘッドと、
が設けられ、さらに、
d) 前記処理ヘッドを前記デバイスに対して移動させるための駆動手段と、
e) 個別のセルへの前記デバイスの分割および隣接するセル間の電気接続の形成を、すべて、前記デバイス全体にわたる前記処理ヘッドのワンパスで実施することができるよう、前記デバイスに対する前記処理ヘッドの運動を制御し、かつ、前記1つまたは複数のカッタユニットおよび前記第1および第2のインクジェットプリントヘッドを駆動するための制御手段と、
を備える装置。 - 前記1つまたは複数のカッタユニットが、前記第1の刻み目、第2の刻み目および第3の刻み目を形成するための単一のパルスレーザを備える、請求項10に記載の装置。
- 前記1つまたは複数のカッタユニットが、前記第1の刻み目、第2の刻み目および/または第3の刻み目を形成するための複数のタイプのパルスレーザを備える、請求項10に記載の装置。
- 第1、第2および第3のレーザビームを前記デバイスに送出するための集束レンズを備え、前記第1、第2および第3のレーザビームによって前記レンズの焦点に形成される焦点スポットが、前記第1、第2および第3の刻み目を形成するために必要な空間分離を前記デバイスの表面に有するよう、前記ビーム間に角偏位が存在する、請求項11または12に記載の装置。
- パルスレーザからのレーザビームを分割して、前記第1、第2および第3の刻み目を形成するための第1、第2および第3のレーザビームを形成するための回折光学素子を備える、請求項11または12に記載の装置。
- パルスレーザからのレーザビームを分割して、前記第1、第2および第3の刻み目を形成するための第1、第2および第3のレーザビームを形成するためのプリズム光学素子を備える、請求項11または12に記載の装置。
- 第1のパルスレーザからのレーザビームを分割して、前記第1、第2および第3のレーザビームのうちの任意の2つを形成するための回折光学素子と、残りのレーザビームを提供するための第2のパルスレーザと、を備え、前記第1、第2および第3の刻み目を形成するために前記第1および第2のパルスレーザからのビームを結合して前記デバイスの表面に3つの空間分離レーザスポットを形成するように配置された、請求項11または12に記載の装置。
- 第1のパルスレーザからのレーザビームを分割して、前記第1、第2および第3のレーザビームのうちの任意の2つを形成するための複プリズムタイプのプリズム光学素子と、残りのレーザビームを提供するための第2のパルスレーザと、を備え、前記第1、第2および第3の刻み目を形成するために前記第1および第2のパルスレーザからのビームを結合して前記デバイスの表面に3つの空間分離レーザスポットを形成するように配置された、請求項11または12に記載の装置。
- 前記駆動手段が、前記処理ヘッドを前記デバイスに対して2つの直交方向に移動させるための二重軸サーボモータを備える、請求項10から17のいずれか一項に記載の装置。
- 前記制御システムが、前記デバイスおよび処理ヘッドが、互いに対して、前記デバイス全体にわたって連続する経路で、前記第1および第2の刻み目の長さに対して平行の第1の方向に移動し、前記経路の末端で、前記第1の方向に対して直角の方向に、前記デバイス中に形成されるセルの幅に等しい所定の距離だけステップするように構成される、請求項10から18のいずれか一項に記載の装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GBGB0918481.3 | 2009-10-22 | ||
GB0918481A GB2474665B (en) | 2009-10-22 | 2009-10-22 | Method and apparatus for dividing thin film device into separate cells |
PCT/GB2010/000754 WO2011048352A1 (en) | 2009-10-22 | 2010-04-15 | Method and apparatus for dividing thin film device into separate cells |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013508963A true JP2013508963A (ja) | 2013-03-07 |
JP2013508963A5 JP2013508963A5 (ja) | 2013-05-30 |
JP5608754B2 JP5608754B2 (ja) | 2014-10-15 |
Family
ID=41426503
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012534758A Expired - Fee Related JP5608754B2 (ja) | 2009-10-22 | 2010-04-15 | 薄膜デバイスを個別のセルに分割するための方法および装置 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8785228B2 (ja) |
EP (1) | EP2491601B1 (ja) |
JP (1) | JP5608754B2 (ja) |
KR (1) | KR101738024B1 (ja) |
CN (1) | CN102668131B (ja) |
GB (1) | GB2474665B (ja) |
TW (1) | TWI511193B (ja) |
WO (1) | WO2011048352A1 (ja) |
Families Citing this family (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
2009
- 2009-10-22 GB GB0918481A patent/GB2474665B/en active Active
-
2010
- 2010-04-15 KR KR1020127013206A patent/KR101738024B1/ko active IP Right Grant
- 2010-04-15 JP JP2012534758A patent/JP5608754B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-04-15 WO PCT/GB2010/000754 patent/WO2011048352A1/en active Application Filing
- 2010-04-15 EP EP10716853.6A patent/EP2491601B1/en active Active
- 2010-04-15 CN CN201080059243.2A patent/CN102668131B/zh active Active
- 2010-04-15 US US13/144,541 patent/US8785228B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2010-05-03 TW TW099114014A patent/TWI511193B/zh not_active IP Right Cessation
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101738024B1 (ko) | 2017-05-19 |
US20110275193A1 (en) | 2011-11-10 |
GB2474665A (en) | 2011-04-27 |
GB2474665B (en) | 2011-10-12 |
CN102668131A (zh) | 2012-09-12 |
US8785228B2 (en) | 2014-07-22 |
JP5608754B2 (ja) | 2014-10-15 |
GB0918481D0 (en) | 2009-12-09 |
TW201115638A (en) | 2011-05-01 |
CN102668131B (zh) | 2014-12-24 |
KR20120087955A (ko) | 2012-08-07 |
WO2011048352A1 (en) | 2011-04-28 |
EP2491601A1 (en) | 2012-08-29 |
EP2491601B1 (en) | 2016-11-30 |
TWI511193B (zh) | 2015-12-01 |
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