JP2013257561A - 微小機械的で整調可能なファブリ・ペロー干渉計配列物、および同一物を製造するための方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】干渉計配列物は、電気的に整調可能な干渉計101−105,111−115および参照干渉計121−125,131−135を両方とも同じ基板100上に有する。温度ドリフトは参照干渉計を用いて測定され、この情報は整調可能な干渉計を用いて測定を補償するために用いられる。
【選択図】図1
Description
本発明は、ファブリ・ペロー干渉計配列物、およびファブリ・ペロー干渉計配列物を製造するための方法に関する。より具体的には、本発明は、微小機械(MEMS)技術を用いて製造される整調可能なファブリ・ペロー干渉計に関する。本発明の技術分野は、独立請求項の前文に明示されている。
ファブリ・ペロー干渉計は、例えば、光学フィルタとして、かつ分光センサ内で用いられる。ファブリ・ペロー干渉計は2つの鏡に基づいており、それによりファブリ・ペロー空洞が当該鏡間の間隙に形成される。ファブリ・ペロー干渉計の通過帯域波長を、鏡間の距離、すなわち間隙の幅を調節することにより制御することができる。ファブリ・ペロー干渉計を製造するために微小機械技術を用いることはありふれている。そのような解決法は、例えば特許文献FI95838(フィンランド特許第95838号公報)に記載されている。
本発明の目的は、先行技術の不利点を回避または低減することである。
−基板と、
−前記基板上にある第1の鏡構造と、
−第2の、可動鏡構造であって、それにより、第1および第2の鏡構造は、実質的に平行である第1および第2の鏡を備える、可動鏡構造と、
−前記第1および第2の鏡の間にあるファブリ・ペロー空洞と、
−前記鏡間の距離の電気的制御のための電極と、
を有する電気的に整調可能なファブリ・ペロー干渉計を備え、
前記配列物は、前記配列物の開口内に参照ファブリ・ペロー干渉計を形成するために、前記基板の反対面に少なくとも1つのさらなる鏡構造を備えることを特徴とする、配列物。
−基板が設けられ、
−第1の鏡構造が前記基板上に設けられ、
−第2の、可動鏡構造が設けられ、それにより、第1および第2の鏡構造は、実質的に平行である第1および第2の鏡を備え、
−ファブリ・ペロー空洞が前記第1および第2の鏡の間に設けられ、
−前記鏡間の距離の電気的制御のための電極を設ける、方法であり、
−少なくとも1つのさらなる鏡構造が、参照干渉計を設けるために前記基板の反対面に設けられることを特徴とする、方法。
以下の箇所では、本発明の好ましい例示的な実施形態が、同封されている図面を参照することによってより詳細に記載されている。
図1は、本発明による例示的なファブリ・ペロー干渉計の横断面を例解している。当該干渉計は、例えば単結晶ケイ素材料の基板100を有し、その上に層101〜105により提供される固定鏡の反射層があり、そこで、例えば、層102および104は多結晶ケイ素を有し、層101、103、および105は二酸化ケイ素を有する。当該図は、固定鏡構造上にあり得る電極層を示していない。
Claims (10)
- 放射物の伝達を可能にする開口を有するファブリ・ペロー干渉計配列物であって、前記配列物は、
−基板と、
−前記基板上にある第1の鏡構造と、
−第2の、可動鏡構造であって、それにより、第1および第2の鏡構造は、実質的に平行である第1および第2の鏡を備える、可動鏡構造と、
−前記第1および第2の鏡の間にあるファブリ・ペロー空洞と、
−前記鏡間の距離の電気的制御のための電極と、
を有する電気的に整調可能なファブリ・ペロー干渉計を備え、
前記配列物は、前記配列物の開口内に参照ファブリ・ペロー干渉計を形成するために、前記基板の反対面に少なくとも1つのさらなる鏡構造を備えることを特徴とする、配列物。 - 前記配列物は、2つのさらなる鏡構造、すなわち第3の鏡構造および第4の鏡構造を、第3および第4の鏡構造の間にある定められた間隙と共に前記基板の反対面に備え、それにより、前記間隙は空洞として供し、前記第3および第4の鏡構造は、前記参照ファブリ・ペロー干渉計の鏡として供することを特徴とする、請求項1に記載の配列物。
- 第3および第4の鏡の間にある間隙は固体物質を備えることを特徴とする、請求項2に記載の配列物。
- 前記参照ファブリ・ペロー干渉計は、前記電気的に整調可能なファブリ・ペロー干渉計の固定鏡構造、空洞としての前記基板、および前記基板の反対面にある1つのさらなる鏡構造を備えることを特徴とする、請求項1に記載の配列物。
- 前記基板は、前記参照ファブリ・ペロー干渉計の領域に複数の井孔を備え、それにより、前記さらなる鏡構造は、前記井孔の底面に少なくとも部分的に設置されることを特徴とする、請求項4に記載の配列物。
- 前記参照ファブリ・ペロー干渉計は、前記配列物の開口の境界領域を覆うことを特徴とする、先の請求項の何れかに記載の配列物。
- 前記配列物は、前記開口を形成するためのパターン化材料層を備え、それにより、前記パターン化材料層は、前記参照ファブリ・ペロー干渉計のさらなる鏡構造上に設置されることを特徴とする、先の請求項の何れかに記載の配列物。
- ファブリ・ペロー干渉計配列物を製造するための方法であって、
−基板が設けられ(11)、
−第1の鏡構造が前記基板上に設けられ(12、13)、
−第2の、可動鏡構造が設けられ(15〜17)、それにより、第1および第2の鏡構造は、実質的に平行である第1および第2の鏡を備え、
−ファブリ・ペロー空洞が前記第1および第2の鏡の間に設けられ、
−前記鏡間の距離の電気的制御のための電極を設ける(13、15、19)、方法であり、
−少なくとも1つのさらなる鏡構造が、参照干渉計を設けるために前記基板の反対面に設けられることを特徴とする、方法。 - 前記参照干渉計の鏡構造のための層は、電気的に整調可能な干渉計の鏡構造のための層と同時に堆積される、請求項8に記載の方法。
- 前記参照干渉計の鏡構造のための層は、電気的に整調可能な干渉計の鏡構造のための層の堆積物から分離して堆積される、請求項8に記載の方法。
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