JP2013254610A - Organic el light emitting device and method for manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL light emitting device capable of reducing optical color mixing at low cost.SOLUTION: An organic EL light emitting device includes a substrate 60, a first electrode layer 30 disposed on the substrate, an organic EL layer 36 disposed on the first electrode layer, a second electrode layer 38 disposed on the organic EL layer, and color filters 40R, 40G and 40B of a plurality of colors disposed on the second electrode layer. A color mixing suppression means suppressing optical color mixing of rays emitted from the organic EL layer is provided at the boundary between each color filter.

Description

本発明は、有機EL発光装置およびその製造方法に関し、特に耐湿寿命や耐久性を向上させた有機EL発光装置およびその製造方法に関する。   The present invention relates to an organic EL light-emitting device and a method for manufacturing the same, and more particularly to an organic EL light-emitting device with improved moisture resistance life and durability and a method for manufacturing the same.

近年、有機発光素子として有機EL(EL:Electroluminescence)素子を用いた表示装置や照明装置が実用化に向けて開発が進められている。また、次世代の薄型ディスプレイとして有機ELディスプレイ装置が注目されている。   In recent years, display devices and illumination devices using organic EL (EL) elements as organic light emitting elements have been developed for practical use. Further, an organic EL display device has attracted attention as a next-generation thin display.

有機ELディスプレイ装置では、有機EL層の上に上部電極が配置され、上部電極の上にカラーフィルタが配置される(例えば、特許文献1参照)。   In the organic EL display device, an upper electrode is disposed on the organic EL layer, and a color filter is disposed on the upper electrode (see, for example, Patent Document 1).

ところで、有機ELディスプレイ、特にマイクロディスプレイでは、光学的混色(クロストーク)が発生し、色純度が低下するという問題がある。   By the way, in an organic EL display, especially a micro display, there is a problem that optical color mixing (crosstalk) occurs and color purity is lowered.

従来、光学的混色を抑制する方法として、例えば、透明基板上に格子状のブラックマトリックスを設けて、カラーフィルタ間の混色を低減する技術が知られている(例えば、特許文献2参照)。   Conventionally, as a method for suppressing optical color mixing, for example, a technique is known in which a grid-like black matrix is provided on a transparent substrate to reduce color mixing between color filters (see, for example, Patent Document 2).

特開2009−288435号公報JP 2009-288435 A 特開2010−272214号公報JP 2010-272214 A

しかし、上記従来技術のように、ブラックマトリックスを設ける場合には、製造工程が増えてコストが嵩むという問題があった。   However, when the black matrix is provided as in the above prior art, there is a problem that the manufacturing process increases and the cost increases.

また、ブラックマトリックスの存在によって発光面積が低減し、有機ELディスプレイの輝度が低下するという不都合もあった。   In addition, the presence of the black matrix has a disadvantage that the light emitting area is reduced and the luminance of the organic EL display is lowered.

本発明の目的は、低コストで光学的混色を低減させることができる有機EL発光装置およびその製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an organic EL light emitting device capable of reducing optical color mixing at low cost and a method for manufacturing the same.

上記目的を達成するための本発明の一態様によれば、基板と、前記基板上に配置された第1電極層と、前記第1電極層上に配置された有機EL層と、前記有機EL層上に配置された第2電極層と、前記第2電極層の上に配置された複数色のカラーフィルタとを備え、前記各カラーフィルタ間の境界部に、前記有機EL層から射出される光線の光学的混色を抑制する混色抑制手段が設けられていることを特徴とする有機EL発光装置が提供される。   According to one aspect of the present invention for achieving the above object, a substrate, a first electrode layer disposed on the substrate, an organic EL layer disposed on the first electrode layer, and the organic EL A second electrode layer disposed on the layer and a plurality of color filters disposed on the second electrode layer, and emitted from the organic EL layer at a boundary between the color filters. There is provided an organic EL light emitting device provided with a color mixing suppressing means for suppressing optical color mixing of light rays.

本発明の他の態様によれば、基板と、前記基板上に配置された第1電極層と、前記第1電極層上に配置された有機EL層と、前記有機EL層上に配置された第2電極層と、前記第2電極層の上に配置された複数色のカラーフィルタとを備え、前記第1電極層および前記第2電極層の少なくとも一方に、前記有機EL層から射出される光線の光学的混色を抑制する混色抑制手段が設けられていることを特徴とする有機EL発光装置が提供される。   According to another aspect of the present invention, the substrate, the first electrode layer disposed on the substrate, the organic EL layer disposed on the first electrode layer, and the organic EL layer are disposed. A second electrode layer; and a plurality of color filters disposed on the second electrode layer, wherein the organic EL layer is emitted from at least one of the first electrode layer and the second electrode layer. There is provided an organic EL light emitting device provided with a color mixing suppressing means for suppressing optical color mixing of light rays.

本発明の他の態様によれば、基板を準備する工程と、前記基板上に第1電極層を形成する工程と、前記第1電極層上に有機EL層を形成する工程と、前記有機EL層上に第2電極層を形成する工程と、前記第2電極層上に複数のカラーフィルタを形成する工程と、前記各カラーフィルタの境界に所定幅でレジストを塗布する工程と、前記レジストを塗布したカラーフィルタの表面をアッシングして、前記境界に盛り上がり部を形成する工程とを有することを特徴とする有機EL発光装置の製造方法が提供される。   According to another aspect of the present invention, a step of preparing a substrate, a step of forming a first electrode layer on the substrate, a step of forming an organic EL layer on the first electrode layer, and the organic EL A step of forming a second electrode layer on the layer, a step of forming a plurality of color filters on the second electrode layer, a step of applying a resist with a predetermined width to the boundary of each color filter, and the resist And a step of ashing the surface of the coated color filter to form a raised portion at the boundary.

本発明によれば、低コストで光学的混色を低減させることができる有機EL発光装置およびその製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the organic electroluminescent light-emitting device which can reduce optical color mixing at low cost, and its manufacturing method can be provided.

基本構造に係る有機EL発光装置の1ピクセル部分の模式的断面構造図。The typical cross-section figure of 1 pixel part of the organic electroluminescent light emitting device which concerns on a basic structure. 基本構造に係る有機EL発光装置の1ピクセル部分の模式的鳥瞰図。The typical bird's-eye view of 1 pixel part of the organic electroluminescent light emitting device which concerns on a basic structure. 基本構造に係る有機EL発光装置の断面SEM写真。The cross-sectional SEM photograph of the organic electroluminescent light emitting device which concerns on a basic structure. 基本構造に係る有機EL発光装置の周辺回路を含めた模式的ブロック構成の一例を示す図。The figure which shows an example of typical block structure including the peripheral circuit of the organic electroluminescent light emitting device which concerns on a basic structure. 比較例として、光学的混色の発生状態を示す有機EL発光装置の1ピクセル部分の模式的断面構造図。As a comparative example, a schematic cross-sectional structure diagram of one pixel portion of an organic EL light emitting device showing a state of occurrence of optical color mixing. 第1の実施の形態に係る有機EL発光装置の第1実施例の1ピクセル部分の模式的断面構造図。FIG. 3 is a schematic cross-sectional structure diagram of one pixel portion of the first example of the organic EL light emitting device according to the first embodiment. 第1の実施の形態に係る有機EL発光装置の第2実施例の1ピクセル部分の模式的断面構造図。The typical cross-section figure of 1 pixel part of 2nd Example of the organic electroluminescent light-emitting device which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係る有機EL発光装置の第3実施例の1ピクセル部分の模式的断面構造図。The typical cross-section figure of 1 pixel part of the 3rd Example of the organic electroluminescent light emitting device which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係る有機EL発光装置の第4実施例の1ピクセル部分の模式的断面構造図。The typical cross-section figure of 1 pixel part of 4th Example of the organic electroluminescent light-emitting device which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係る有機EL発光装置の第5実施例の1ピクセル部分の模式的断面構造図。The typical cross-section figure of 1 pixel part of the 5th Example of the organic electroluminescent light-emitting device which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係る有機EL発光装置の第6実施例の1ピクセル部分の模式的断面構造図。The typical cross-section figure of 1 pixel part of the 6th Example of the organic electroluminescent light emitting device which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係る有機EL発光装置の第7実施例の1ピクセル部分の模式的断面構造図。The typical cross-section figure of 1 pixel part of the 7th Example of the organic electroluminescent light-emitting device which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係る有機EL発光装置の第8実施例の1ピクセル部分の模式的断面構造図。The typical cross-section figure of 1 pixel part of the 8th Example of the organic electroluminescent light-emitting device which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係る有機EL発光装置の第9実施例の1ピクセル部分の模式的断面構造図。The typical cross-section figure of 1 pixel part of the 9th Example of the organic electroluminescent light emitting device which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係る有機EL発光装置の第10実施例の1ピクセル部分の模式的断面構造図。The typical cross-section figure of 1 pixel part of the 10th Example of the organic electroluminescent light-emitting device which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係る有機EL発光装置に適用可能なフィルタであって、6角形を基調とするΔ配列パターン例を有する積層カラーフィルタの模式的平面構成図。FIG. 3 is a schematic plan configuration diagram of a laminated color filter that is applicable to the organic EL light emitting device according to the first embodiment and has a Δ array pattern example based on a hexagon. 第1の実施の形態に係る有機EL発光装置の鳥瞰表面SEM写真例。The bird's-eye view surface SEM photograph example of the organic electroluminescent light emitting device which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係る有機EL発光装置において、カラーフィルタのエッジ部の盛り上がり状態を示す断面SEM写真例。4 is a cross-sectional SEM photograph example showing a raised state of an edge portion of a color filter in the organic EL light emitting device according to the first embodiment. 第1の実施の形態に係る有機EL発光装置において、カラーフィルタのエッジ部の盛り上がり状態を示す模式的断面説明図。FIG. 3 is a schematic cross-sectional explanatory diagram illustrating a rising state of an edge portion of a color filter in the organic EL light emitting device according to the first embodiment. 第1の実施の形態に係る有機EL発光装置において、カラーフィルタのエッジ部の盛り上がり状態を説明する図であって、(a)複数の矩形状パターンのカラーフィルタを示す平面図、(b)図20(b)のI−I線に沿う模式的断面図。In the organic EL light-emitting device which concerns on 1st Embodiment, it is a figure explaining the rising state of the edge part of a color filter, Comprising: (a) The top view which shows the color filter of a several rectangular pattern, (b) FIG. Typical sectional drawing which follows the II line of 20 (b). 第1の実施の形態に係る有機EL発光装置において、カラーフィルタの周縁部に盛り上がり部を形成する方法の手順を示す説明図。Explanatory drawing which shows the procedure of the method of forming a swelling part in the peripheral part of a color filter in the organic electroluminescent light-emitting device which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係る有機EL発光装置において、カラーフィルタの表面をアッシングする状態を示す説明図。Explanatory drawing which shows the state which ashes the surface of a color filter in the organic electroluminescent light-emitting device which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係る有機EL発光装置において、他の実施例に係る有機EL発光装置の1ピクセル部分の模式的断面構造図。The organic EL light-emitting device which concerns on 1st Embodiment WHEREIN: The typical cross-section figure of 1 pixel part of the organic EL light-emitting device which concerns on another Example. 積層カラーフィルタを搭載した第1の実施の形態に係る有機EL発光装置の模式的断面構造図。1 is a schematic cross-sectional structure diagram of an organic EL light emitting device according to a first embodiment equipped with a laminated color filter. 比較例として、混色の発生を説明するための有機EL発光装置の模式的断面構造図。The typical cross-section figure of the organic electroluminescent light-emitting device for demonstrating generation | occurrence | production of color mixing as a comparative example. 第2の実施の形態に係る有機EL発光装置の第1実施例の模式的断面構造図。The typical cross-section figure of the 1st Example of the organic electroluminescent light-emitting device which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施の形態に係る有機EL発光装置において、第1電極層のテーパー構造の例を示す図であり、(a)は直線状の傾斜部を有する場合の断面図、(b)は曲線状の傾斜部を有する場合の断面図。In the organic electroluminescent light emitting device which concerns on 2nd Embodiment, it is a figure which shows the example of the taper structure of a 1st electrode layer, (a) is sectional drawing in the case of having a linear inclination part, (b) is a curve Sectional drawing in the case of having a sloped portion. 第2の実施の形態に係る有機EL発光装置の第2実施例の模式的断面構造図。The typical cross-section figure of the 2nd Example of the organic electroluminescent light-emitting device which concerns on 2nd Embodiment. (a)第2の実施の形態に係る有機EL発光装置の第2実施例の他の構成を示す模式的断面構造図、(b)比較例の模式的断面構造図。(A) The typical cross-section figure which shows the other structure of the 2nd Example of the organic electroluminescent light-emitting device which concerns on 2nd Embodiment, (b) The typical cross-section figure of a comparative example. 第2の実施の形態に係る有機EL発光装置の第3実施例の模式的断面構造図。The typical cross-section figure of the 3rd Example of the organic electroluminescent light-emitting device which concerns on 2nd Embodiment. 第1〜第2の実施の形態に係る有機EL発光装置において、正六角形を基本パターンとする第1電極の配列を示す平面図。The organic EL light-emitting device which concerns on the 1st-2nd embodiment WHEREIN: The top view which shows the arrangement | sequence of the 1st electrode which uses a regular hexagon as a basic pattern. (a)図31のII−II線に沿う模式的断面構造図、(b)図31のIII−III線に沿う模式的断面構造図。FIG. 32A is a schematic cross-sectional structure diagram taken along line II-II in FIG. 31; FIG. 33B is a schematic cross-sectional structure diagram taken along line III-III in FIG. 積層カラーフィルタを搭載した第1の実施の形態に係る有機EL発光装置の断面SEM写真例。2 is a cross-sectional SEM photograph example of the organic EL light emitting device according to the first embodiment on which a multilayer color filter is mounted. 図33の積層カラーフィルタ部分の拡大された断面SEM写真。FIG. 34 is an enlarged cross-sectional SEM photograph of the laminated color filter portion of FIG. 図34の積層カラーフィルタ部分の詳細説明図。FIG. 35 is a detailed explanatory diagram of the laminated color filter portion of FIG.

次に、図面を参照して、実施の形態を説明する。以下の図面の記載において、同一又は類似の部分には同一又は類似の符号を付している。ただし、図面は模式的なものであり、厚みと平面寸法との関係、各層の厚みの比率等は現実のものとは異なることに留意すべきである。したがって、具体的な厚みや寸法は以下の説明を参酌して判断すべきものである。又、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることはもちろんである。   Next, embodiments will be described with reference to the drawings. In the following description of the drawings, the same or similar parts are denoted by the same or similar reference numerals. However, it should be noted that the drawings are schematic, and the relationship between the thickness and the planar dimensions, the ratio of the thickness of each layer, and the like are different from the actual ones. Therefore, specific thicknesses and dimensions should be determined in consideration of the following description. Moreover, it is a matter of course that portions having different dimensional relationships and ratios are included between the drawings.

又、以下に示す実施の形態は、この発明の技術的思想を具体化するための装置や方法を例示するものであって、この発明の実施の形態は、構成部品の材質、形状、構造、配置等を下記のものに特定するものでない。この発明の実施の形態は、特許請求の範囲において、種々の変更を加えることができる。   Further, the embodiments described below exemplify apparatuses and methods for embodying the technical idea of the present invention, and the embodiments of the present invention include the material, shape, structure, The layout is not specified as follows. Various modifications can be made to the embodiment of the present invention within the scope of the claims.

以下の実施の形態に係る有機EL発光装置において、「透明」とは、透過率が約50%以上であるものと定義する。また「透明」とは、実施の形態に係る有機EL発光装置において、可視光線に対して、無色透明という意味でも使用する。可視光線は波長約360nm〜830nm程度、エネルギー約3.45eV〜1.49eV程度に相当し、この領域で透過率が50%以上あれば透明である。   In the organic EL light emitting devices according to the following embodiments, “transparent” is defined as having a transmittance of about 50% or more. In addition, “transparent” is also used to mean colorless and transparent with respect to visible light in the organic EL light emitting device according to the embodiment. Visible light corresponds to a wavelength of about 360 nm to 830 nm and an energy of about 3.45 eV to 1.49 eV, and is transparent if the transmittance is 50% or more in this region.

[有機EL発光装置の基本構造]
基本構造に係る有機EL発光装置の1ピクセル部分の模式的断面構造は、図1に示すように、駆動回路34R・34G・34Bと、各駆動回路34R・34G・34B上にそれぞれ配置されたVIA電極70と、各VIA電極70上に配置された下部電極30と、下部電極30上に共通領域として配置された有機EL層36と、有機EL層36上に配置された上部電極38と、上部電極38上に配置されたカラーフィルタ40R・40G・40Bとを備える。
[Basic structure of organic EL light emitting device]
As shown in FIG. 1, a schematic cross-sectional structure of one pixel portion of the organic EL light emitting device according to the basic structure includes a drive circuit 34R / 34G / 34B and a VIA disposed on each drive circuit 34R / 34G / 34B. An electrode 70, a lower electrode 30 disposed on each VIA electrode 70, an organic EL layer 36 disposed as a common region on the lower electrode 30, an upper electrode 38 disposed on the organic EL layer 36, and an upper portion Color filters 40R, 40G, and 40B disposed on the electrode 38 are provided.

駆動回路34R・34G・34Bは、それぞれ赤色(Red)・緑色(Green)・青色(Blue)用の駆動回路34を示す。   The drive circuits 34R, 34G, and 34B indicate the drive circuits 34 for red, green, and blue, respectively.

同様に、カラーフィルタ40R・40G・40Bは、それぞれ赤色(Red)・緑色(Green)・青色(Blue)用のカラーフィルタ40を示す。   Similarly, the color filters 40R, 40G, and 40B indicate the color filters 40 for red, green, and blue, respectively.

駆動回路34R・34G・34Bと、各駆動回路34R・34G・34B上にそれぞれ配置されたVIA電極70は、さらに詳細には、図2に示すように、半導体基板58上に配置された相補型(C:Complementary)MOSLSI600を構成する。CMOSFETのゲート電極56,さらに電極配線層を形成するM1電極52,M2電極54などは、層間絶縁膜およびVIA電極を介して接続されるが、図2では、詳細は省略している。   The drive circuits 34R, 34G, and 34B, and the VIA electrodes 70 disposed on the drive circuits 34R, 34G, and 34B, respectively, are more specifically shown in FIG. 2 as complementary types disposed on the semiconductor substrate 58. (C: Complementary) MOS LSI 600 is configured. The gate electrode 56 of the CMOSFET, and the M1 electrode 52 and the M2 electrode 54 forming the electrode wiring layer are connected via the interlayer insulating film and the VIA electrode, but details are omitted in FIG.

有機EL層36は、図2に示すように、下部電極30と上部電極38の間に挟まれ、下部電極30上に配置される正孔輸送層50と、正孔輸送層50上に配置される発光層48と、発光層48上に配置される電子輸送層46とを備える。   As shown in FIG. 2, the organic EL layer 36 is sandwiched between the lower electrode 30 and the upper electrode 38, and is disposed on the hole transport layer 50 and the hole transport layer 50 disposed on the lower electrode 30. A light emitting layer 48 and an electron transport layer 46 disposed on the light emitting layer 48.

さらに、基本構成に係る有機EL発光装置は、図2に示すように、電子輸送層46上に配置された上部電極38と、上部電極38上に配置されたシール層44と、シール層44上に配置されたカラーフィルタ40と、カラーフィルタ40上に配置された透明保護膜42とを備える。   Furthermore, as shown in FIG. 2, the organic EL light emitting device according to the basic configuration includes an upper electrode 38 disposed on the electron transport layer 46, a seal layer 44 disposed on the upper electrode 38, and a seal layer 44. And a transparent protective film 42 disposed on the color filter 40.

図1および図2には、1つのピクセル6に対応しており、有機EL発光装置は、このようなピクセル6の構造が、例えば、マトリックス状に配置される。   1 and 2 correspond to one pixel 6, and the organic EL light emitting device has such a structure of the pixel 6 arranged in a matrix, for example.

図1および図2の例では、上部電極38を共通電極として形成し、下部電極30を分割された電極として構成しているが、反対に、上部電極38を分割電極として形成し、下部電極30を共通電極として構成してもよい。この場合には、各VIA電極70は、分割電極として形成される上部電極38にそれぞれ接続される。さらに、図1の構成において、上部電極38も分割された電極として形成してもよい。   1 and 2, the upper electrode 38 is formed as a common electrode and the lower electrode 30 is formed as a divided electrode. Conversely, the upper electrode 38 is formed as a divided electrode, and the lower electrode 30 is formed. May be configured as a common electrode. In this case, each VIA electrode 70 is connected to an upper electrode 38 formed as a divided electrode. Furthermore, in the configuration of FIG. 1, the upper electrode 38 may also be formed as a divided electrode.

また、図2では、下部電極30に接する層として正孔輸送層50が配置され、上部電極38に接する層として電子輸送層46が配置されている例が示されているが、これに限定されるものではなく、下部電極30に接する層として電子輸送層46が配置され、上部電極38に接する層として正孔輸送層50が配置されていてもよい。但しこの場合には、CMOSLSI600からの配線が変更される。また、上述の上部電極38を分割電極とし
Rて形成し、下部電極30を共通電極とする構成と組み合わせてもよい。
2 shows an example in which the hole transport layer 50 is disposed as a layer in contact with the lower electrode 30, and the electron transport layer 46 is disposed as a layer in contact with the upper electrode 38. However, the present invention is not limited to this. The electron transport layer 46 may be disposed as a layer in contact with the lower electrode 30, and the hole transport layer 50 may be disposed as a layer in contact with the upper electrode 38. However, in this case, the wiring from the CMOS LSI 600 is changed. Further, the above-described upper electrode 38 may be formed as a split electrode R and combined with a configuration in which the lower electrode 30 is a common electrode.

基本構成に係る有機EL発光装置の断面SEM写真の例を図3に示す。   An example of a cross-sectional SEM photograph of the organic EL light emitting device according to the basic configuration is shown in FIG.

基本構成に係る有機EL発光装置は、図3に示すように、CMOSLSI600上に、下部電極30を介して、有機EL層36が積層化されている。   In the organic EL light emitting device according to the basic configuration, as shown in FIG. 3, an organic EL layer 36 is laminated on a CMOS LSI 600 via a lower electrode 30.

なお、図2ではM1電極52、M2電極54の2層メタルの構造を示しているが、これに限るものではない。図3のように3層メタルであってもよい。メタルの層数は、配線規模に応じて適切なものを選べばよい。   2 shows a two-layer metal structure of the M1 electrode 52 and the M2 electrode 54, the present invention is not limited to this. A three-layer metal may be used as shown in FIG. An appropriate number of metal layers may be selected according to the wiring scale.

図1および図2には、複数のデータ線と複数の走査線の交差部に配置された1つのピクセル(画素)の構成が示されており、半導体基板58上に形成されるCMOSFETからなるCMOSLSI600は、論理回路を構成し、1つのピクセル内においては、駆動回路34R・34G・34Bを構成している。   FIG. 1 and FIG. 2 show the configuration of one pixel (pixel) arranged at the intersection of a plurality of data lines and a plurality of scanning lines, and a CMOS LSI 600 formed of a CMOSFET formed on a semiconductor substrate 58. Constitutes a logic circuit, and constitutes drive circuits 34R, 34G, and 34B in one pixel.

また、基本構成に係る有機EL発光装置において、CMOSLSI600は、ピクセルアレイを駆動するための水平走査回路・垂直走査回路・ロードライバ・カラムドライバ・データラッチ回路・PNMドライバなどを構成する。   In the organic EL light emitting device according to the basic configuration, the CMOS LSI 600 configures a horizontal scanning circuit, a vertical scanning circuit, a row driver, a column driver, a data latch circuit, a PNM driver, and the like for driving the pixel array.

図1および図2に示す構成において、CMOSFET領域および各層間絶縁膜を介するM1電極52・M2電極54などの形成は、微細化シリコンプロセスと同様である。   In the configuration shown in FIGS. 1 and 2, the formation of the M1 electrode 52 and the M2 electrode 54 through the CMOSFET region and the respective interlayer insulating films is the same as in the miniaturized silicon process.

このようなM1電極52・M2電極54などの電極間は、所定のコンタクト部分において、例えば、メタルダマシン構造によって、VIA電極を介して接続される。   The electrodes such as the M1 electrode 52 and the M2 electrode 54 are connected to each other at a predetermined contact portion via a VIA electrode by, for example, a metal damascene structure.

透明保護膜42は、例えば、クリアーレジスト、ガラス、透明絶縁膜などで形成することができる。   The transparent protective film 42 can be formed of, for example, a clear resist, glass, a transparent insulating film, or the like.

可視光領域において、カラー画像を表示するためには、カラーフィルタ40をシール層44上に配置する。カラーフィルタは、赤色(Red)用、緑色(Green)用,青色(Blue)用を、隣り合う1つのピクセル内に設けて3組で1つのピクセルを構成する。カラーフィルタは、例えば、ガラス上の多層膜や、色素・顔料含有レジストの多層化によって形成することができる。   In order to display a color image in the visible light region, the color filter 40 is disposed on the seal layer 44. The color filters are provided in one adjacent pixel for red, green, and blue, and constitute one pixel in three sets. The color filter can be formed by, for example, a multilayer film on glass or a multilayer of a dye / pigment-containing resist.

シール層44は、上部電極38、有機EL層36、および有機EL下部電極30を保護し、これらを封止するものである。シール層44の材質としては、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜又はアルミナ膜等を用いる。また、シール層44は、熱を外部に放熱する機能を担っているので、熱伝導率の高いものが望ましい。   The seal layer 44 protects and seals the upper electrode 38, the organic EL layer 36, and the organic EL lower electrode 30. As the material of the seal layer 44, a silicon oxide film, a silicon nitride film, an alumina film, or the like is used. Moreover, since the sealing layer 44 has a function of radiating heat to the outside, a material having high thermal conductivity is desirable.

上部電極38は、光を透過可能であり、ITO(インジウム−スズ酸化物)、IZO(インジウム−亜鉛酸化物)などの無機導電体材料で形成することができる。また、上部電極38は、Al、Ag、MgAg等の金属の薄層化層(例えば、約10nm〜約20nm)などでも形成可能である。   The upper electrode 38 can transmit light and can be formed of an inorganic conductor material such as ITO (indium-tin oxide) or IZO (indium-zinc oxide). The upper electrode 38 can also be formed of a thin layer of metal such as Al, Ag, or MgAg (for example, about 10 nm to about 20 nm).

電子輸送層46は、上部電極38から注入された電子を円滑に発光層48に輸送するためのものであり、厚さが、例えば、約35nmのAlq(アルミニウムキノリノール錯体)からなる。ここで、Alqは、アルミニウム8−ヒドロキシキノリネート(Aluminum 8-hydroxyquinolinate)或いは、トリ8−キノリノラトアルミニウムと呼ばれる材料である。 The electron transport layer 46 is for smoothly transporting electrons injected from the upper electrode 38 to the light emitting layer 48, and is made of, for example, Alq 3 (aluminum quinolinol complex) having a thickness of about 35 nm. Here, Alq 3 is a material called aluminum 8-hydroxyquinolinate or tri-8-quinolinolato aluminum.

電子輸送層46を形成する他の電子輸送材料としては、t-butyl-PBD、TAZ、シロール誘導体、ホウ素置換型トリアリール系化合物、フェニルキノキサリン誘導体などがある。また、BCP、オキサジアゾール二量体、スターバーストオキサジアゾールなどが適用可能である。   Other electron transport materials for forming the electron transport layer 46 include t-butyl-PBD, TAZ, silole derivatives, boron-substituted triaryl compounds, phenylquinoxaline derivatives, and the like. Further, BCP, oxadiazole dimer, starburst oxadiazole, and the like are applicable.

発光層48は、注入された正孔及び電子が再結合して発光するためのものであり、例えば発光種であるクマリン化合物(C545T)が、例えば、約1%程度ドーピングされた厚さが、例えば、約30nmのAlqからなる。また、ドーパントとして、ルブレンや遷移金属原子を含む錯体などを含んでいても良い。 The light emitting layer 48 is for recombination of injected holes and electrons to emit light, and has a thickness doped with, for example, about 1% of a coumarin compound (C 545 T) as a light emitting species. Is made of, for example, about 30 nm of Alq 3 . Further, as a dopant, a complex containing rubrene or a transition metal atom may be included.

発光層48には、例えば、キャリア輸送性発光材料、或いは発光ドーパントとホスト材料の混合層を適用することもできる。キャリア輸送性発光材料としては、例えば、Alq,Almq,Mgq,BeBq2,ZnPBO,ZnPBT,Be(5Fla)2,Eu錯体,BPVBi,BAlq,Bepp2,BDPHVBi,spiro-BDPVBi,(PSA)2Np−5,(PPA)(PSA)Pe−1,BSN,APD,BSBなどの材料を用いることができる。発光ドーパントとホスト材料としては、例えば、クマリン6,C545T,Qd4,DEQ,ペリレン,DPT,DCM2,DCJTB,ルブレン,DPP,CBP,ABTX,DSA,DSAアミン,Co−6,PMDFB,キナクリドン,BTX,DCM,DCJTなどの材料を用いることができる。また、リン光発光材料とホスト、周辺材料としては、PtOEP,TPBI,btp2Ir(acac),Ir(ppy)3,Flrpic,CDBP,m−CP,デンドリマーIr(ppy)3,TCTA,CF−X,CF−Yなどの材料を用いることができる。 For the light emitting layer 48, for example, a carrier transporting light emitting material, or a mixed layer of a light emitting dopant and a host material can be applied. Examples of the carrier transporting light emitting material include Alq, Almq, Mgq, BeBq 2 , ZnPBO, ZnPBT, Be (5Fla) 2 , Eu complex, BPVBi, BAlq, Bepp 2 , BDPHVBi, spiro-BDPVBi, (PSA) 2 Np Materials such as -5, (PPA) (PSA) Pe-1, BSN, APD, BSB can be used. The light-emitting dopant and a host material, for example, coumarin 6, C 545 T, Qd4, DEQ, perylene, DPT, DCM2, DCJTB, rubrene, DPP, CBP, ABTX, DSA , DSA amine, Co-6, PMDFB, quinacridone, Materials such as BTX, DCM, and DCJT can be used. Further, phosphorescent materials and hosts, and peripheral materials include PtOEP, TPBI, btp 2 Ir (acac), Ir (ppy) 3 , Flrpic, CDBP, m-CP, dendrimer Ir (ppy) 3 , TCTA, CF− Materials such as X and CF-Y can be used.

正孔輸送層50は、下部電極30から注入された正孔を円滑に発光層48に輸送するためのものであり、厚さが、例えば、約60nm程度のNPB(N,N−ジ(ナフタリル)−N,N−ジフェニル−ベンジデン)からなる。他の正孔輸送層としては、例えば、α−NPDを用いることができる。ここで、α−NPDは、4,4−ビスN−(1−ナフチル−1−)[N−フェニル−アミノ]−ビフェニル(4,4-bis[N-(1-naphtyl-1-)N-phenyl-amino]-biphenyl)と呼ばれる。   The hole transport layer 50 is for smoothly transporting holes injected from the lower electrode 30 to the light emitting layer 48, and has a thickness of, for example, NPB (N, N-di (naphthalyl) of about 60 nm. ) -N, N-diphenyl-benzylidene). As another hole transport layer, for example, α-NPD can be used. Here, α-NPD is 4,4-bisN- (1-naphthyl-1-) [N-phenyl-amino] -biphenyl (4,4-bis [N- (1-naphtyl-1-) N]. -phenyl-amino] -biphenyl).

正孔輸送層50を形成する正孔輸送材料の分子構造例としては、GPD、spiro-TAD、spiro-NPD、oxidized-TPDを適用することができる。さらに別の正孔輸送材料としては、TDAPB、MTDATAなどがある。   As examples of the molecular structure of the hole transport material forming the hole transport layer 50, GPD, spiro-TAD, spiro-NPD, and oxidized-TPD can be applied. Still other hole transport materials include TDAPB and MTDATA.

下部電極30は、厚さが、例えば、約150nmで、材質がアルミニウムからなる。他の構成材料としては、Mo、Ag、Ptなどを適用可能である。   The lower electrode 30 has a thickness of, for example, about 150 nm and is made of aluminum. As other constituent materials, Mo, Ag, Pt and the like are applicable.

なお、有機EL層36は、上記、正孔輸送層、電子輸送層以外の層、例えば、正孔注入層、電子注入層等を用いて構成しても良い。   The organic EL layer 36 may be configured using a layer other than the hole transport layer and the electron transport layer, such as a hole injection layer and an electron injection layer.

基本構成に係る有機EL発光装置の動作原理は以下の通りである。   The operation principle of the organic EL light emitting device according to the basic configuration is as follows.

まず、下部電極30および上部電極38を介して、有機EL層36の正孔輸送層50および電子輸送層46の間に一定の電圧が印加される。これにより、正孔輸送層50発光層48に正孔が注入されるとともに、電子輸送層46から発光層48に電子が注入される。そして、発光層48に注入された正孔と電子とが再結合することによって、白色光を発光する。発光された白色光hνは、上部電極38を透過し、カラーフィルタ40を介して外部に出力される。   First, a constant voltage is applied between the hole transport layer 50 and the electron transport layer 46 of the organic EL layer 36 via the lower electrode 30 and the upper electrode 38. As a result, holes are injected into the hole transport layer 50 and the light emitting layer 48, and electrons are injected from the electron transport layer 46 into the light emitting layer 48. The holes and electrons injected into the light emitting layer 48 are recombined to emit white light. The emitted white light hν passes through the upper electrode 38 and is output to the outside through the color filter 40.

有機EL層36を構成する正孔輸送層50のHOMO(Highest Occupied Molecular Orbital)のエネルギー準位の絶対値が下部電極の仕事関数の絶対値よりも大きくすると良い。   The absolute value of the HOMO (Highest Occupied Molecular Orbital) energy level of the hole transport layer 50 constituting the organic EL layer 36 is preferably larger than the absolute value of the work function of the lower electrode.

ここで、HOMOのエネルギー準位とは、有機分子の基底状態を表す。また、LUMO(Lowest Unoccupied Molecular Orbital)のエネルギー準位とは、有機分子の励起状態を表す。   Here, the energy level of HOMO represents the ground state of an organic molecule. The energy level of LUMO (Lowest Unoccupied Molecular Orbital) represents an excited state of an organic molecule.

ここで、LUMO準位は最低励起一重項準位(S1)に対応する。さらに電子や正孔が有機物に注入され、ラジカルアニオン(M−),ラジカルカチオン(M+)が形成された場合の正孔および電子の準位は、励起子結合エネルギーが存在しない分、HOMO準位,LUMO準位の外側の位置に電子伝導準位、正孔伝導準位が位置することになる。   Here, the LUMO level corresponds to the lowest excited singlet level (S1). Furthermore, when electrons and holes are injected into an organic substance to form radical anions (M−) and radical cations (M +), the levels of holes and electrons are HOMO levels because there is no exciton binding energy. The electron conduction level and the hole conduction level are located outside the level and the LUMO level.

また、電子輸送層46のLUMOのエネルギー準位の絶対値が上部電極38の仕事関数の絶対値よりも小さくすれば良い。   The absolute value of the LUMO energy level of the electron transport layer 46 may be made smaller than the absolute value of the work function of the upper electrode 38.

基本構成に係る有機EL発光装置の構造において、各電極、各層はそれぞれスパッタ、蒸着、塗布などにより成膜される。   In the structure of the organic EL light emitting device according to the basic configuration, each electrode and each layer are formed by sputtering, vapor deposition, coating, or the like.

基本構成に係る有機EL発光装置の構造において、発光層48と正孔輸送層50の間、若しくは下部電極30と正孔輸送層50の間に、p型有機半導体層を介在させてもよい。同様に、発光層48と電子輸送層46の間、若しくは上部電極38と電子輸送層46の間に、n型有機半導体層を介在させてもよい。   In the structure of the organic EL light emitting device according to the basic configuration, a p-type organic semiconductor layer may be interposed between the light emitting layer 48 and the hole transport layer 50 or between the lower electrode 30 and the hole transport layer 50. Similarly, an n-type organic semiconductor layer may be interposed between the light emitting layer 48 and the electron transport layer 46 or between the upper electrode 38 and the electron transport layer 46.

(有機EL発光装置のブロック構成)
基本構成に係る有機EL発光装置8の周辺回路を含めた模式的ブロック構成の一例は、図4に示すように、ピクセルアレイ10と、ピクセルアレイ10の列方向に隣接して配置されるカラム(Column)ドライバ20と、カラムドライバ20の列方向に隣接して配置されるデータラッチ回路16と、データラッチ回路16の列方向に隣接して配置される水平シフトレジスタ(Hシフトレジスタ)12と、ピクセルアレイ10の行方向に隣接して配置されるロードライバ18と、ロードライバ18に隣接して配置される垂直シフトレジスタ(Vシフトレジスタ)14と、ピクセルアレイ10の行方向に隣接して配置されるPNMドライバ22とを備える。
(Block configuration of organic EL light emitting device)
An example of a schematic block configuration including a peripheral circuit of the organic EL light emitting device 8 according to the basic configuration includes a pixel array 10 and columns (see FIG. 4) arranged adjacent to each other in the column direction of the pixel array 10. Column) driver 20, a data latch circuit 16 disposed adjacent to the column driver 20 in the column direction, a horizontal shift register (H shift register) 12 disposed adjacent to the data latch circuit 16 in the column direction, A row driver 18 arranged adjacent to the row direction of the pixel array 10, a vertical shift register (V shift register) 14 arranged adjacent to the row driver 18, and arranged adjacent to the row direction of the pixel array 10. The PNM driver 22 is provided.

カラムドライバ20には、ピクセルアレイ10内のピクセル6を駆動するデータ線D0・D1・D2・D3…が接続される。   The column driver 20 is connected to data lines D0, D1, D2, D3... For driving the pixels 6 in the pixel array 10.

データラッチ回路16は、図4の例では、4ビットの映像データ信号RED[3:0]、GREEN[3:0]、およびBLUE[3:0]をラッチする回路である。また、データラッチ回路16は外部信号として、ラッチイネーブル信号LEを入力することで、アクティブになされる。   In the example of FIG. 4, the data latch circuit 16 is a circuit that latches the 4-bit video data signals RED [3: 0], GREEN [3: 0], and BLUE [3: 0]. The data latch circuit 16 is activated by inputting a latch enable signal LE as an external signal.

水平シフトレジスタ12は、ピクセルアレイ10を水平方向にスキャンする回路であり、ピクセルクロック信号HCLK,シフト/ホールド切替信号DEH,水平同期リセット信号HSYNCを受信している。   The horizontal shift register 12 is a circuit that scans the pixel array 10 in the horizontal direction, and receives a pixel clock signal HCLK, a shift / hold switching signal DEH, and a horizontal synchronization reset signal HSYNC.

ロードライバ18には、ピクセルアレイ10内のピクセル6を駆動する走査線K0・K1・K2・K3・…およびワード線WLが接続される。   Scan lines K0, K1, K2, K3,... That drive the pixels 6 in the pixel array 10 and the word lines WL are connected to the row driver 18.

垂直シフトレジスタ14は、ピクセルアレイ10を垂直方向にスキャンする回路であり、クロック信号VCK,シフト/ホールド切替信号DEV,垂直同期リセット信号VSYNCを受信する。   The vertical shift register 14 is a circuit that scans the pixel array 10 in the vertical direction, and receives a clock signal VCK, a shift / hold switching signal DEV, and a vertical synchronization reset signal VSYNC.

PNMドライバ22は、走査線K0・K1・K2・K3・…にPNM信号PNM0・PNM1・PNM2・PNM3…を伝送する。PNMドライバ22には、PNMクロック信号RCKおよびPNMリセット信号RRSTNが入力される。   The PNM driver 22 transmits PNM signals PNM0, PNM1, PNM2, PNM3,... To the scanning lines K0, K1, K2, K3,. The PNM driver 22 receives a PNM clock signal RCK and a PNM reset signal RRSTN.

また、基本構成に係る有機EL発光装置8には、例えば約マイナス5V程度のディスプレイ電源Vdisp、例えば約3.3V程度のシステム電源VDDが供給され、かつVssの共通接地電位も与えられている。   Further, the organic EL light emitting device 8 according to the basic configuration is supplied with a display power supply Vdisp of about minus 5V, for example, a system power supply VDD of about 3.3V, for example, and is also given a common ground potential of Vss.

図4のピクセルアレイ10内の各サブピクセルは、六角形を基本パターンとする構造となっている。なお、各サブピクセルの形状は六角形に限らず、円形・三角形・正方形・八角形などの多角形等であってもよい。   Each sub-pixel in the pixel array 10 of FIG. 4 has a structure having a hexagonal basic pattern. The shape of each subpixel is not limited to a hexagon, but may be a polygon such as a circle, a triangle, a square, or an octagon.

(光学的混色について)
有機ELディスプレイ、特にマイクロディスプレイでは、混色(クロストーク)と言われる問題がある。
(About optical color mixing)
An organic EL display, particularly a micro display, has a problem called color mixture (crosstalk).

混色が発生すると、ディスプレイの画質やNTSC比(色域)等を低下させるという不具合を生じる。   When color mixing occurs, the display image quality, NTSC ratio (color gamut), and the like are degraded.

混色は2種類に大別でき、1)オフ状態にあるはずの隣接サブピクセルが発光してしまう電気的混色(漏れ電流によるもの)と、2)該当サブピクセルから漏れた光が隣接するサブピクセルのカラーフィルタを通過して起こる光学的混色とがある。   Color mixing can be broadly divided into two types: 1) electrical color mixing (due to leakage current) in which adjacent subpixels that should be in the off state emit light, and 2) subpixels in which light leaked from the corresponding subpixel is adjacent. And optical color mixing that occurs through the color filter.

本発明によって軽減させ得る混色は、前記2)に該当する光学的混色についてである。   The color mixture that can be reduced by the present invention is the optical color mixture corresponding to 2).

ここで、比較例として、図5を参照して、光学的混色(CM)の発生の仕方の例について説明する。   Here, as a comparative example, an example of how optical color mixing (CM) occurs will be described with reference to FIG.

図5に示すように、有機EL層36の発光層48から射出される光線(白色光)の中には、法線からずれて、カラーフィルタ40B・40G・40Rに対して斜めに入射する光線がある。   As shown in FIG. 5, among the light rays (white light) emitted from the light emitting layer 48 of the organic EL layer 36, the light rays that are obliquely incident on the color filters 40 </ b> B, 40 </ b> G, and 40 </ b> R are shifted from the normal line. There is.

このような法線からずれた光線は、例えば、青色のカラーフィルタ40Bから隣接する緑色のカラーフィルタ40Gに入射して、当該カラーフィルタ40Gを透過後に青色のカラーフィルタ40Bを透過した光線と混ざり合って、青色と緑色の光線が混色された状態となる。   The light beam deviated from the normal line enters the adjacent green color filter 40G from the blue color filter 40B, for example, and mixes with the light beam transmitted through the blue color filter 40B after passing through the color filter 40G. Thus, the blue and green rays are mixed.

したがって、本来は青色のカラーフィルタ40Bのみを透過して使用者等の肉眼により「青色」と視認されるべきところ、一部に「青緑色」の光が混ざり、色純度が低下して画質やNTSC比(色域)等を低下させ、ディスプレイの色鮮やかさが低下してしまう。   Therefore, it should originally be transmitted through only the blue color filter 40B and be visually recognized as “blue” by the naked eye of the user or the like. However, “blue-green” light is mixed in part, and the color purity is lowered and the image quality or The NTSC ratio (color gamut) and the like are lowered, and the vividness of the display is lowered.

このような光学的混色は、有機EL表示装置の微細化に伴い、光路のアスペクト比(h/W)の増大により顕著となってきている。   Such optical color mixture has become remarkable due to an increase in the aspect ratio (h / W) of the optical path with the miniaturization of the organic EL display device.

特に、有機EL装置について、ミラーレス一眼レフカメラのEVF(Electric View Finder)等への適用が進展しつつあるなか、マイクロディスプレイの耐久性向上等の要求に応えるために、カラーフィルタと発光層の間に封止層などの種々の層が設けられる傾向にある。   In particular, as organic EL devices are being applied to EVF (Electric View Finder) etc. of mirrorless single-lens reflex cameras, in order to meet demands for improving the durability of microdisplays, color filters and light emitting layers Various layers such as a sealing layer tend to be provided therebetween.

そのため、図5に示す第2電極層38とカラーフィルタ40B・40G・40Rの距離「h」が、上述の種々の層の追加により増加することとなり、各カラーフィルタ40B、40G、40Rの幅「Wp」とのアスペクト比(h/Wp)は、さらに増加する傾向にあり、上述のような光学的混色が起き易い構造となっている。   Therefore, the distance “h” between the second electrode layer 38 and the color filters 40B, 40G, and 40R shown in FIG. 5 is increased by the addition of the various layers described above, and the width “of each color filter 40B, 40G, and 40R”. The aspect ratio (h / Wp) with respect to “Wp” tends to further increase, and has a structure in which the above-described optical color mixture easily occurs.

なお、マイクロディスプレイにおいて、1ピクセルのカラーフィルタ40B・40G・40Rの各幅Wpは、例えば、約1μm〜約20μm、第2電極層38とカラーフィルタ40B・40G・40Rの距離hは、例えば、約1μm〜約100μmである。   In the micro display, the width Wp of the color filters 40B, 40G, and 40R of one pixel is, for example, about 1 μm to about 20 μm, and the distance h between the second electrode layer 38 and the color filters 40B, 40G, and 40R is, for example, About 1 μm to about 100 μm.

[第1の実施の形態]
(有機EL発光装置の第1実施例)
図6を参照して、第1の実施の形態に係る有機EL発光装置の第1実施例について説明する。図6は、第1実施例に係る有機EL発光装置の1ピクセル部分の模式的断面構造図である。
[First embodiment]
(First Example of Organic EL Light Emitting Device)
A first example of the organic EL light emitting device according to the first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a schematic sectional view of one pixel portion of the organic EL light emitting device according to the first example.

なお、基本構成に係る有機EL発光装置と同様の構成については、同一符号を付して詳細な説明は省略する。また、以下の説明では、カラーレジストとカラーフィルタとを特に区別することなく同じ符号を用いる。   In addition, about the structure similar to the organic electroluminescent light-emitting device which concerns on a basic structure, the same code | symbol is attached | subjected and detailed description is abbreviate | omitted. In the following description, the same reference numerals are used without particularly distinguishing the color resist and the color filter.

図6に示すように、第1実施例に係る有機EL発光装置は、基板60と、基板60上に配置された第1電極層30(30B・30G・30R)と、第1電極層30上に配置された有機EL層36と、有機EL層36上に配置された第2電極層38と、第2電極層38の上に配置された複数色のカラーフィルタ40B・40G・40Rとを備え、各カラーフィルタ40B・40G・40R間の境界部に、有機EL層36から射出される光線の光学的混色を抑制する混色抑制手段が設けられている。   As shown in FIG. 6, the organic EL light emitting device according to the first example includes a substrate 60, first electrode layers 30 (30 </ b> B, 30 </ b> G, 30 </ b> R) disposed on the substrate 60, and the first electrode layer 30. An organic EL layer 36 disposed on the organic EL layer 36, a second electrode layer 38 disposed on the organic EL layer 36, and a plurality of color filters 40B, 40G, and 40R disposed on the second electrode layer 38. Color mixing suppression means for suppressing optical color mixing of light emitted from the organic EL layer 36 is provided at the boundary between the color filters 40B, 40G, and 40R.

図6に示す第1実施例に係る有機EL発光装置において、混色抑制手段は、各カラーフィルタ40B・40G・40Rの表面全体に形成される凹面部である。   In the organic EL light emitting device according to the first embodiment shown in FIG. 6, the color mixing suppressing means is a concave surface portion formed on the entire surface of each color filter 40B, 40G, 40R.

また、図6に示す第1実施例に係る有機EL発光装置において、混色抑制手段は、少なくとも一種類のカラーフィルタ(即ち、カラーフィルタ40B・40G・40Rの少なくとも一種類)の周縁部(エッジ部)に形成される盛り上がり部であっても良い。   Further, in the organic EL light emitting device according to the first embodiment shown in FIG. 6, the color mixing suppressing means is a peripheral portion (edge portion) of at least one kind of color filter (that is, at least one kind of color filters 40B, 40G, and 40R). ) May be formed.

さらに、図6に示す第1実施例に係る有機EL発光装置において、盛り上がり部は、各カラーフィルタ40B・40G・40Rの中央部から周縁部に向かって正の勾配を有するように形成されていても良い。   Furthermore, in the organic EL light emitting device according to the first embodiment shown in FIG. 6, the raised portion is formed to have a positive gradient from the central portion of each color filter 40B, 40G, 40R toward the peripheral portion. Also good.

また、盛り上がり部は、断面形状が山形状に形成されている(図19参照)。なお、盛り上がり部の断面形状は山形状に限らず、台形状であってもよい。   Further, the rising portion has a mountain-like cross-sectional shape (see FIG. 19). The cross-sectional shape of the raised portion is not limited to the mountain shape, and may be a trapezoidal shape.

第1実施例に係る有機EL発光装置において、基板60は、Siウェハ、ガラス、ガスバリア付プラスチックフィルムなどで構成される。ここで、基板60は、基本構成に係る有機EL発光装置においては、CMOSLSI600が形成されたSiウェハである。また、例えば、TFT(Thin Film Transistor)からなるLSIが形成されたガラス基板であっても良い。   In the organic EL light emitting device according to the first embodiment, the substrate 60 is made of a Si wafer, glass, a plastic film with a gas barrier, or the like. Here, in the organic EL light emitting device according to the basic configuration, the substrate 60 is a Si wafer on which a CMOS LSI 600 is formed. Further, for example, a glass substrate on which an LSI made of TFT (Thin Film Transistor) is formed may be used.

第1電極層30は、Al,Mo,Ag,Ptなど高反射率金属で構成することができる。また、上記高反射率金属を主体とする合金(AlCuなど)で構成するようにしてもよい。また、第1電極層30は、酸化させた際に、正孔注入材料になる陽極材料であっても良い。酸化させた際に、正孔注入材料になる金属としては、例えば、Mo、V、Ru、InSnなどを適用可能である。これらの材料を酸化させると、それぞれ、MoOx、VOx、RuOx、ITOとなる。 The first electrode layer 30 can be made of a highly reflective metal such as Al, Mo, Ag, or Pt. Moreover, you may make it comprise the alloy (AlCu etc.) which has the said high reflectance metal as a main body. The first electrode layer 30 may be an anode material that becomes a hole injection material when oxidized. For example, Mo, V, Ru, InSn, or the like is applicable as a metal that becomes a hole injection material when oxidized. When these materials are oxidized, they become MoO x , VO x , RuO x , and ITO, respectively.

さらに、第1電極層30の下部に基板60との密着層として、Ti、Cr、TiN、Ni、Ta、Wが挿入されていても良い。   Furthermore, Ti, Cr, TiN, Ni, Ta, and W may be inserted under the first electrode layer 30 as an adhesion layer with the substrate 60.

また、第2電極層38は、Al、Ag、MgAgなどの金属薄膜(厚さ約0.1nm〜約50nm)やITO、IZO(厚さ約1nm〜約500nm)などの透明電極(金属酸化膜)で構成される。   The second electrode layer 38 is made of a metal thin film (thickness: about 0.1 nm to about 50 nm) such as Al, Ag, MgAg, or a transparent electrode (metal oxide film) such as ITO, IZO (thickness: about 1 nm to about 500 nm). ).

カラーフィルタ40B・40G・40Rは、顔料を含む高分子材料などで構成される。   The color filters 40B, 40G, and 40R are made of a polymer material containing a pigment.

第1実施例に係る有機EL発光装置によれば、有機EL層36の発光層48から射出され法線方向(0°)からずれた一部の光線A1は、例えば、青色のカラーフィルタ40Bの端部側を進んだ場合には、カラーフィルタ40Bの表面全体に形成された凹部(盛り上がり部)によるレンズ効果により、法線(0°)側に屈折される。   According to the organic EL light emitting device according to the first example, a part of the light rays A1 emitted from the light emitting layer 48 of the organic EL layer 36 and shifted from the normal direction (0 °) are, for example, from the blue color filter 40B. When the light travels on the end side, the light is refracted to the normal (0 °) side by a lens effect caused by a concave portion (a raised portion) formed on the entire surface of the color filter 40B.

また、有機EL層36の発光層48から射出され法線方向(0°)からずれた他の光線A2は、例えば、青色カラーフィルタ40Bの端部側を所定距離進んだ後、隣接した緑色カラーフィルタ40Gに入射するが、緑色カラーフィルタ40Gの表面全体に形成された凹部(盛り上がり部)によるレンズ効果により、法線(0°)から離れる方向(90°側)に屈折される。   Further, another light ray A2 emitted from the light emitting layer 48 of the organic EL layer 36 and deviating from the normal direction (0 °) travels, for example, a predetermined distance on the end side of the blue color filter 40B, and then the adjacent green color. Although it is incident on the filter 40G, it is refracted in the direction away from the normal line (0 °) (90 ° side) by the lens effect of the concave portion (swelled portion) formed on the entire surface of the green color filter 40G.

これにより、青色の光線A1と緑色の光線A2とは、互いに離間する方向に進むので、混色する事態が回避される。   Thereby, since the blue light ray A1 and the green light ray A2 travel in directions away from each other, a situation where color mixing occurs is avoided.

このような効果は、緑色カラーフィルタ40Gと赤色カラーフィルタ40Rの間、図示されない他のピクセルとの関係で赤色カラーフィルタ40Rと青色カラーフィルタ40Bとの間、あるいは青色カラーフィルタ40Bと赤色カラーフィルタ40Rとの間でも同様に発揮される。   Such an effect is obtained between the green color filter 40G and the red color filter 40R, between the red color filter 40R and the blue color filter 40B in relation to other pixels (not shown), or between the blue color filter 40B and the red color filter 40R. It is also demonstrated in the same way.

したがって、第1実施例に係る有機EL発光装置によれば、光学的混色が有効に軽減され、ディスプレイの画質やNTSC比(色域)等が低下する事態を回避することができる。   Therefore, according to the organic EL light emitting device according to the first embodiment, optical color mixing is effectively reduced, and a situation in which the image quality of the display, the NTSC ratio (color gamut), and the like are reduced can be avoided.

(有機EL発光装置の第2実施例)
図7を参照して、第1の実施の形態に係る有機EL発光装置の第2実施例について説明する。図7は、第2実施例に係る有機EL発光装置の1ピクセル部分の模式的断面構造図である。
(Second Example of Organic EL Light Emitting Device)
A second example of the organic EL light emitting device according to the first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a schematic sectional view of one pixel portion of the organic EL light emitting device according to the second embodiment.

なお、基本構成に係る有機EL発光装置と同様の構成については、同一符号を付して詳細な説明は省略する。   In addition, about the structure similar to the organic electroluminescent light-emitting device which concerns on a basic structure, the same code | symbol is attached | subjected and detailed description is abbreviate | omitted.

図7に示すように、第2実施例に係る有機EL発光装置は、基板60と、基板60上に配置された第1電極層30(30B・30G・30R)と、第1電極層30上に配置された有機EL層36と、有機EL層36上に配置された第2電極層38と、第2電極層38の上に配置された複数色のカラーフィルタ40B・40G・40Rとを備え、各カラーフィルタ40B・40G・40R間の境界部に、有機EL層36から射出される光線の光学的混色を抑制する混色抑制手段が設けられている。   As shown in FIG. 7, the organic EL light emitting device according to the second embodiment includes a substrate 60, a first electrode layer 30 (30B · 30G · 30R) disposed on the substrate 60, and a first electrode layer 30. An organic EL layer 36 disposed on the organic EL layer 36, a second electrode layer 38 disposed on the organic EL layer 36, and a plurality of color filters 40B, 40G, and 40R disposed on the second electrode layer 38. Color mixing suppression means for suppressing optical color mixing of light emitted from the organic EL layer 36 is provided at the boundary between the color filters 40B, 40G, and 40R.

第1実施例との相違点は、有機EL層36が青色光を発光する発光層48Bを備え、カラーフィルタ40B・40G・40Rは、青色光に対する色変換フィルタで構成されるである。   The difference from the first embodiment is that the organic EL layer 36 includes a light emitting layer 48B that emits blue light, and the color filters 40B, 40G, and 40R are configured as color conversion filters for blue light.

カラーフィルタ40B・40G・40Rの形状等は第1実施例と同様である。   The shape and the like of the color filters 40B, 40G, and 40R are the same as in the first embodiment.

第2実施例に係る有機EL発光装置によれば、有機EL層36の発光層48Bから射出され法線方向(0°)からずれた一部の光線hνBは、例えば、青色カラーフィルタ40Bの端部側を進んだ場合には、青色カラーフィルタ40Bの表面全体に形成された凹部(盛り上がり部)によるレンズ効果により、法線(0°)側に屈折される。 According to the organic EL light emitting device according to the second example, a part of the light ray hν B emitted from the light emitting layer 48B of the organic EL layer 36 and deviated from the normal direction (0 °) is, for example, from the blue color filter 40B. When the light travels on the end side, the light is refracted to the normal (0 °) side by the lens effect due to the concave portion (the raised portion) formed on the entire surface of the blue color filter 40B.

また、有機EL層36の発光層48から射出され法線方向(0°)からずれた他の光線hνGは、例えば、青色カラーフィルタ40Bの端部側を所定距離進んだ後、隣接した緑色カラーフィルタ40Gに入射するが、緑色カラーフィルタ40Gの表面全体に形成された凹部(盛り上がり部)によるレンズ効果により、法線(0°)から離れる方向(90°側)に屈折される。 Further, another light ray hν G emitted from the light emitting layer 48 of the organic EL layer 36 and deviated from the normal direction (0 °) travels, for example, by a predetermined distance on the end side of the blue color filter 40B, and then is adjacent to the green color. Although it is incident on the color filter 40G, it is refracted in the direction away from the normal line (0 °) (90 ° side) due to the lens effect of the concave portion (swelled portion) formed on the entire surface of the green color filter 40G.

これにより、光線hνBと光線hνGとは、互いに離間する方向に進むので、混色する事態が回避される。 As a result, the light ray hν B and the light ray hν G travel in directions away from each other, so that a situation where color mixing occurs is avoided.

このような効果は、緑色カラーフィルタ40Gと赤色カラーフィルタ40Rの間、図示されない他のピクセルとの関係で赤色カラーフィルタ40Rと青色カラーフィルタ40Bとの間あるいは青色カラーフィルタ40Bと赤色カラーフィルタ40Rとの間でも同様に発揮される。   Such an effect is obtained between the green color filter 40G and the red color filter 40R, between the red color filter 40R and the blue color filter 40B, or between the blue color filter 40B and the red color filter 40R in relation to other pixels (not shown). It is also demonstrated in the same way.

したがって、第2実施例に係る有機EL発光装置によれば、光学的混色が有効に軽減され、ディスプレイの画質やNTSC比(色域)等が低下する事態を回避することができる。   Therefore, according to the organic EL light emitting device according to the second embodiment, optical color mixing is effectively reduced, and a situation in which the image quality of the display, the NTSC ratio (color gamut), and the like are reduced can be avoided.

(有機EL発光装置の第3実施例)
図8を参照して、第1の実施の形態に係る有機EL発光装置の第3実施例について説明する。図8は、第3実施例に係る有機EL発光装置の1ピクセル部分の模式的断面構造図である。
(Third embodiment of organic EL light emitting device)
A third example of the organic EL light emitting device according to the first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a schematic sectional view of one pixel portion of the organic EL light emitting device according to the third embodiment.

なお、基本構成に係る有機EL発光装置と同様の構成については、同一符号を付して詳細な説明は省略する。   In addition, about the structure similar to the organic electroluminescent light-emitting device which concerns on a basic structure, the same code | symbol is attached | subjected and detailed description is abbreviate | omitted.

第1実施例との相違点は、各カラーフィルタ40B・40G・40Rの表面上に、高屈折率層41が形成されている点である。   The difference from the first embodiment is that a high refractive index layer 41 is formed on the surface of each color filter 40B, 40G, 40R.

高屈折率層41は、硫黄原子を含む高分子材料やSiNx、SiOxy、SiOx、AlOxなどで構成される。 The high refractive index layer 41 is made of a polymer material containing sulfur atoms, SiN x , SiO x N y , SiO x , AlO x or the like.

これにより、光学的混色を軽減すると共に、カラーフィルタ40B・40G・40Rの表面を平坦化することができ、光取り出し効率を向上させることができる。   As a result, optical color mixing can be reduced, and the surfaces of the color filters 40B, 40G, and 40R can be flattened, and the light extraction efficiency can be improved.

(有機EL発光装置の第4実施例)
図9を参照して、第1の実施の形態に係る有機EL発光装置の第4実施例について説明する。図9は、第4実施例に係る有機EL発光装置の1ピクセル部分の模式的断面構造図である。
(Fourth Example of Organic EL Light Emitting Device)
A fourth example of the organic EL light emitting device according to the first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 9 is a schematic sectional view of one pixel portion of the organic EL light emitting device according to the fourth embodiment.

なお、基本構成に係る有機EL発光装置と同様の構成については、同一符号を付して詳細な説明は省略する。   In addition, about the structure similar to the organic electroluminescent light-emitting device which concerns on a basic structure, the same code | symbol is attached | subjected and detailed description is abbreviate | omitted.

第3実施例との相違点は、各カラーフィルタ40B・40G・40Rの表面上に、封止層を兼ねる高屈折率層43が形成されている点である。   The difference from the third embodiment is that a high refractive index layer 43 also serving as a sealing layer is formed on the surface of each color filter 40B, 40G, 40R.

封止層を兼ねる高屈折率層43は、被覆性が高くなる条件で成膜したSiN膜、PCVD−TEOS膜などで構成される。   The high refractive index layer 43 that also serves as the sealing layer is formed of a SiN film, a PCVD-TEOS film, or the like formed under the condition that the coverage is high.

これにより、光学的混色を軽減すると共に、水分や酸素等の浸入を防止して、有機EL発光装置の耐久性を向上させることができる。また、カラーフィルタ40B・40G・40Rの表面を平坦化することができ、光取り出し効率を向上させることができる。   As a result, optical color mixing can be reduced and intrusion of moisture, oxygen and the like can be prevented, and the durability of the organic EL light emitting device can be improved. Further, the surfaces of the color filters 40B, 40G, and 40R can be flattened, and the light extraction efficiency can be improved.

また、高屈折率層41が封止層を兼ねているので、製造工程を減らしてコストを低減することができる。   Further, since the high refractive index layer 41 also serves as a sealing layer, the manufacturing process can be reduced and the cost can be reduced.

(有機EL発光装置の第5実施例)
図10を参照して、第1の実施の形態に係る有機EL発光装置の第5実施例について説明する。図10は、第5実施例に係る有機EL発光装置の1ピクセル部分の模式的断面構造図である。
(5th Example of organic electroluminescent light-emitting device)
A fifth example of the organic EL light emitting device according to the first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 10 is a schematic sectional view of one pixel portion of the organic EL light emitting device according to the fifth embodiment.

なお、基本構成に係る有機EL発光装置と同様の構成については、同一符号を付して詳細な説明は省略する。   In addition, about the structure similar to the organic electroluminescent light-emitting device which concerns on a basic structure, the same code | symbol is attached | subjected and detailed description is abbreviate | omitted.

第3実施例との相違点は、高屈折率層41の上に封止層47aが形成されている点である。   The difference from the third embodiment is that a sealing layer 47 a is formed on the high refractive index layer 41.

封止層47aは、SiNx、SiOxy、SiOx、AlOxなどで構成される。 The sealing layer 47a is made of SiN x , SiO x N y , SiO x , AlO x or the like.

これにより、光学的混色を軽減すると共に、水分や酸素等の浸入を防止して、有機EL発光装置の耐久性を向上させることができる。   As a result, optical color mixing can be reduced and intrusion of moisture, oxygen and the like can be prevented, and the durability of the organic EL light emitting device can be improved.

(有機EL発光装置の第6実施例)
図11を参照して、第1の実施の形態に係る有機EL発光装置の第6実施例について説明する。図11は、第6実施例に係る有機EL発光装置の1ピクセル部分の模式的断面構造図である。
(Sixth embodiment of organic EL light emitting device)
A sixth example of the organic EL light emitting device according to the first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 11 is a schematic sectional view of one pixel portion of the organic EL light emitting device according to the sixth example.

なお、基本構成に係る有機EL発光装置と同様の構成については、同一符号を付して詳細な説明は省略する。   In addition, about the structure similar to the organic electroluminescent light-emitting device which concerns on a basic structure, the same code | symbol is attached | subjected and detailed description is abbreviate | omitted.

第5実施例との相違点は、第2電極層38と各カラーフィルタ40B・40G・40Rとの間に、封止層47bが形成されている点である。   The difference from the fifth embodiment is that a sealing layer 47b is formed between the second electrode layer 38 and the color filters 40B, 40G, and 40R.

封止層47bは、SiNx、SiOxy、SiOx、AlOxなどなどで構成される。 The sealing layer 47b is, SiN x, SiO x N y , SiO x, composed etc. AlO x.

これにより、光学的混色を軽減すると共に、水分や酸素等の浸入を防止して、有機EL発光装置の耐久性を向上させることができる。また、カラーフィルタ40B・40G・40Rの表面を平坦化することができ、光取り出し効率を向上させることができる。   As a result, optical color mixing can be reduced and intrusion of moisture, oxygen and the like can be prevented, and the durability of the organic EL light emitting device can be improved. Further, the surfaces of the color filters 40B, 40G, and 40R can be flattened, and the light extraction efficiency can be improved.

(有機EL発光装置の第7実施例)
図12を参照して、第1の実施の形態に係る有機EL発光装置の第7実施例について説明する。図12は、第7実施例に係る有機EL発光装置の1ピクセル部分の模式的断面構造図である。
(Seventh Example of Organic EL Light Emitting Device)
A seventh example of the organic EL light emitting device according to the first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 12 is a schematic cross-sectional structure diagram of one pixel portion of the organic EL light emitting device according to the seventh embodiment.

なお、基本構成に係る有機EL発光装置と同様の構成については、同一符号を付して詳細な説明は省略する。   In addition, about the structure similar to the organic electroluminescent light-emitting device which concerns on a basic structure, the same code | symbol is attached | subjected and detailed description is abbreviate | omitted.

第6実施例との相違点は、封止層47bに加えて、高屈折率層41の上にも封止層47aが形成されている点である。   The difference from the sixth embodiment is that a sealing layer 47a is formed on the high refractive index layer 41 in addition to the sealing layer 47b.

封止層47a・47bは、SiNx、SiOxy、SiOx、AlOxなどで構成される。 The sealing layers 47a and 47b are made of SiN x , SiO x N y , SiO x , AlO x or the like.

これにより、光学的混色を軽減すると共に、水分や酸素等の浸入をより有効に防止して、有機EL発光装置の耐久性を一層向上させることができる。また、カラーフィルタ40B・40G・40Rの表面を平坦化することができ、光取り出し効率を向上させることができる。   As a result, optical color mixing can be reduced, and intrusion of moisture, oxygen, and the like can be more effectively prevented, and the durability of the organic EL light emitting device can be further improved. Further, the surfaces of the color filters 40B, 40G, and 40R can be flattened, and the light extraction efficiency can be improved.

(有機EL発光装置の第8実施例)
図13を参照して、第1の実施の形態に係る有機EL発光装置の第8実施例について説明する。図13は、第8実施例に係る有機EL発光装置の1ピクセル部分の模式的断面構造図である。
(Eighth Example of Organic EL Light Emitting Device)
An eighth example of the organic EL light emitting device according to the first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 13 is a schematic sectional view of one pixel portion of the organic EL light emitting device according to the eighth embodiment.

なお、基本構成に係る有機EL発光装置と同様の構成については、同一符号を付して詳細な説明は省略する。   In addition, about the structure similar to the organic electroluminescent light-emitting device which concerns on a basic structure, the same code | symbol is attached | subjected and detailed description is abbreviate | omitted.

第7実施例との相違点は、封止層47bの上に平坦化層49が形成されている点である。   The difference from the seventh embodiment is that a planarizing layer 49 is formed on the sealing layer 47b.

平坦化層49は、例えば、SiNx、SiOxy、SiOx、AlOx、TEOS膜などで構成される。また、平坦化層49は、例えば、ガラス板やプラスチック(PET)板等で構成することもできる。また、平坦化のために、化学的機械的研磨(CMP:Chemical Mechanical Polishing)技術を適用することも可能である。 The planarization layer 49 is composed of, for example, SiN x , SiO x N y , SiO x , AlO x , TEOS film, or the like. Moreover, the planarization layer 49 can also be comprised with a glass plate, a plastic (PET) board, etc., for example. Further, it is possible to apply a chemical mechanical polishing (CMP) technique for planarization.

これにより、光学的混色を軽減すると共に、カラーフィルタ40B・40G・40Rの密着性を高めて、有機EL発光装置の耐久性を一層向上させることができる。また、カラーフィルタ40B・40G・40Rの表面を平坦化することができ、光取り出し効率を向上させることができる。   As a result, optical color mixing can be reduced, and the adhesion of the color filters 40B, 40G, and 40R can be improved, and the durability of the organic EL light emitting device can be further improved. Further, the surfaces of the color filters 40B, 40G, and 40R can be flattened, and the light extraction efficiency can be improved.

(有機EL発光装置の第9実施例)
図14を参照して、第1の実施の形態に係る有機EL発光装置の第9実施例について説明する。図14は、第9実施例に係る有機EL発光装置の1ピクセル部分の模式的断面構造図である。
(Ninth embodiment of organic EL light emitting device)
A ninth example of the organic EL light emitting device according to the first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 14 is a schematic sectional view of one pixel portion of the organic EL light emitting device according to the ninth example.

なお、基本構成に係る有機EL発光装置と同様の構成については、同一符号を付して詳細な説明は省略する。   In addition, about the structure similar to the organic electroluminescent light-emitting device which concerns on a basic structure, the same code | symbol is attached | subjected and detailed description is abbreviate | omitted.

第1実施例との相違点は、高屈折率層41の上に保護コート層49bが形成されている点である。   The difference from the first embodiment is that a protective coat layer 49 b is formed on the high refractive index layer 41.

保護コート層49bは、例えば、SiNx、SiOxy、SiOx、AlOx、TEOS膜などで構成される。また、保護コート層49bは、ガラス板やプラスチック(PET)板等で構成することもできる。 The protective coat layer 49b is made of, for example, SiN x , SiO x N y , SiO x , AlO x , TEOS film, or the like. Further, the protective coat layer 49b can be formed of a glass plate, a plastic (PET) plate, or the like.

これにより、光学的混色を軽減すると共に、有機EL発光装置の耐久性を一層向上させることができる。また、カラーフィルタ40B・40G・40Rの表面を平坦化することができ、光取り出し効率を向上させることができる。   Thereby, optical color mixing can be reduced and the durability of the organic EL light emitting device can be further improved. Further, the surfaces of the color filters 40B, 40G, and 40R can be flattened, and the light extraction efficiency can be improved.

(有機EL発光装置の第10実施例)
図15を参照して、第1の実施の形態に係る有機EL発光装置の第10実施例について説明する。図15は、第10実施例に係る有機EL発光装置の1ピクセル部分の模式的断面構造図である。
(10th Example of organic EL light-emitting device)
A tenth example of the organic EL light emitting device according to the first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 15 is a schematic sectional view of one pixel portion of the organic EL light emitting device according to the tenth example.

なお、基本構成に係る有機EL発光装置と同様の構成については、同一符号を付して詳細な説明は省略する。   In addition, about the structure similar to the organic electroluminescent light-emitting device which concerns on a basic structure, the same code | symbol is attached | subjected and detailed description is abbreviate | omitted.

第1実施例との相違点は、高屈折率層41の上に接着層53を介して、保護板51が設けられている点である。   The difference from the first embodiment is that a protective plate 51 is provided on the high refractive index layer 41 via an adhesive layer 53.

接着層53は、例えば、熱硬化型樹脂、2液硬化型樹脂、可視光硬化型樹脂等で形成することができる。   The adhesive layer 53 can be formed of, for example, a thermosetting resin, a two-component curable resin, a visible light curable resin, or the like.

また、保護板51は、ガラス板やプラスチック(PET)板等で構成することができる。   The protective plate 51 can be formed of a glass plate, a plastic (PET) plate, or the like.

これにより、光学的混色を軽減すると共に、有機EL発光装置の耐久性を一層向上させることができる。また、カラーフィルタ40B・40G・40Rの表面を平坦化することができ、光取り出し効率を向上させることができる。   Thereby, optical color mixing can be reduced and the durability of the organic EL light emitting device can be further improved. Further, the surfaces of the color filters 40B, 40G, and 40R can be flattened, and the light extraction efficiency can be improved.

[カラーフィルタの構成例]
図16〜20を参照して、本発明に係る有機EL発光装置に適用可能なカラーフィルタの構成例について説明する。
[Example of color filter configuration]
With reference to FIGS. 16-20, the structural example of the color filter applicable to the organic electroluminescent light-emitting device which concerns on this invention is demonstrated.

第1の実施の形態に係る有機EL発光装置に適用可能なフィルタであって、6角形を基調とするΔ配列パターン例を有する積層カラーフィルタの模式的平面構成は、図16に示すように表される。   A schematic planar configuration of a multilayer color filter that is applicable to the organic EL light emitting device according to the first embodiment and has a Δ array pattern example based on a hexagon is shown in FIG. Is done.

図16に示すように、3色のカラーフィルタ40R・40G・40Bは、正六角形を基本パターンとする配列とすることができる。   As shown in FIG. 16, the three color filters 40R, 40G, and 40B can be arranged with a regular hexagon as a basic pattern.

各色のフィルタは、例えば第2電極上にカラーレジストを塗布し、リソグラフィによってパターニングされる。   Each color filter is patterned by lithography, for example, by applying a color resist on the second electrode.

カラーレジストは、例えば光硬化性樹脂で構成され、紫外線等が照射された部位が硬化し、例えば正六角形のパターンを形成する。   The color resist is made of, for example, a photocurable resin, and a portion irradiated with ultraviolet rays or the like is cured to form, for example, a regular hexagonal pattern.

カラーフィルタ40R・40G・40Bは、各色毎に形成され、各フィルタのエッジ部が盛り上がっている。また、各フィルタのエッジ部において互いに重なり合うようになる。   The color filters 40R, 40G, and 40B are formed for each color, and the edge portions of the filters are raised. Further, they overlap each other at the edge of each filter.

即ち、図16に示すように、赤色カラーフィルタ40Rと青色カラーフィルタ40Bのエッジ部TRB、青色カラーフィルタ40Bと赤色カラーフィルタ40Rのエッジ部TBR、緑色カラーフィルタ40Gと赤色カラーフィルタ40Rのエッジ部TGR、青色カラーフィルタ40Bと緑色カラーフィルタ40Gのエッジ部TBRにおいて、所定幅(例えば、1μm程度)にわたって盛り上がり、重なっている。各エッジ部における重なりの幅は、例えば、約1μm程度である。 That is, as shown in FIG. 16, the edge portions T RB of the red color filter 40R and the blue color filter 40B, the edge portions T BR of the blue color filter 40B and the red color filter 40R, and the edges of the green color filter 40G and the red color filter 40R. In the portion T GR , the edge portion T BR of the blue color filter 40B and the green color filter 40G rises and overlaps over a predetermined width (for example, about 1 μm). The width of the overlap at each edge is, for example, about 1 μm.

(断面SEM写真)
第1の実施の形態に係る有機EL発光装置の鳥瞰表面SEM写真例は、図17に示すように表される。図17においては、6角形を基本パターンとするサブピクセル上に、6角形を基調とする積層カラーフィルタが配置される例が示されている。図17によれば、赤色カラーフィルタ40R・緑色カラーフィルタ40G・青色カラーフィルタ40Bのフィルタのうち、1種類のサブピクセルのエッジが盛り上がって、隣接するサブピクセルと一部が重なり合っている状態が分かる。図17によれば、RGBのフィルタの少なくとも一種類のサブピクセルについてエッジ部が盛り上がっている状態が分かる。
(SEM cross section)
An example of a bird's-eye surface SEM photograph of the organic EL light emitting device according to the first embodiment is expressed as shown in FIG. FIG. 17 shows an example in which a stacked color filter based on a hexagon is arranged on a subpixel having a hexagon as a basic pattern. According to FIG. 17, it can be seen that the edge of one type of sub-pixel rises from the red color filter 40R, the green color filter 40G, and the blue color filter 40B, and the adjacent sub-pixel partially overlaps. . According to FIG. 17, it can be seen that the edge portion is raised for at least one type of sub-pixel of the RGB filter.

また、第1の実施の形態に係る有機EL発光装置において、カラーフィルタのエッジ部の盛り上がり状態を示す断面SEM写真例は、図18に示すように表され、カラーフィルタのエッジ部の盛り上がり状態を示す模式的断面説明は、図19に示すように表される。図18によれば、カラーフィルタのエッジ部は、中央部等の他の部位より0.4μm盛り上がっている様子が分かる。   Further, in the organic EL light emitting device according to the first embodiment, an example of a cross-sectional SEM photograph showing the rising state of the edge portion of the color filter is represented as shown in FIG. 18, and the rising state of the edge portion of the color filter is shown. The schematic cross-sectional explanation shown is expressed as shown in FIG. According to FIG. 18, it can be seen that the edge portion of the color filter is raised by 0.4 μm from other portions such as the central portion.

また、図19に示すように、例えば、カラーフィルタ40B、40G、40Rについて、エッジ部TRG、TGBの幅は、例えば、約1μmである。また、盛り上がり部の深さDは、図18に示すように、例えば、約0.4μmである。 As shown in FIG. 19, for example, the widths of the edge portions T RG and T GB are about 1 μm for the color filters 40B, 40G, and 40R, for example. Further, the depth D of the raised portion is, for example, about 0.4 μm as shown in FIG.

第1の実施の形態に係る有機EL発光装置において、カラーフィルタのエッジ部の盛り上がり状態を説明する図であって、複数の矩形状パターンのカラーフィルタを示す平面構成は、図20(a)に示すように表され、図20(a)のI−I線に沿う模式的断面構造は、図20(b)に示すように表される。カラーフィルタ40B・40R・40G・40B・40R…を矩形状のパターンとした場合において、図20(a)および図20(b)に示すように、周縁部(エッジ部)は、中央部等の他の部位より盛り上がった形状となっている。エッジ部を含むカラーフィルタ40B・40R・40G・40B・40R…の厚さDFは、例えば、約2μm〜約3μmであり、エッジ部の深さは、例えば、約0.4μmである。 In the organic EL light emitting device according to the first embodiment, FIG. 20A is a diagram illustrating a rising state of the edge portion of the color filter, and a planar configuration showing the color filters having a plurality of rectangular patterns is shown in FIG. A schematic cross-sectional structure taken along line II in FIG. 20A is represented as shown in FIG. When the color filters 40B, 40R, 40G, 40B, 40R,... Have a rectangular pattern, as shown in FIGS. 20 (a) and 20 (b), the peripheral portion (edge portion) is a center portion or the like. The shape is raised from other parts. The thickness DF of the color filters 40B, 40R, 40G, 40B, 40R... Including the edge portion is, for example, about 2 μm to about 3 μm, and the depth of the edge portion is, for example, about 0.4 μm.

(盛り上がり部の形成方法)
図21および図22を参照して、カラーフィルタ40R・40G・40Bの周縁部に盛り上がり部を形成する方法について説明する。
(Method of forming the raised part)
With reference to FIG. 21 and FIG. 22, a method of forming a raised portion at the peripheral edge of the color filters 40R, 40G, and 40B will be described.

まず、基板を準備する工程と、基板上に第1電極層を形成する工程と、第1電極層上に有機EL層36を形成する工程と、有機EL層36上に第2電極層38を形成する工程と、第2電極層38上に複数のカラーフィルタ40R・40G・40Bを形成する工程とを経て図21(a)に示すような構成を得る。   First, a step of preparing a substrate, a step of forming a first electrode layer on the substrate, a step of forming an organic EL layer 36 on the first electrode layer, and a second electrode layer 38 on the organic EL layer 36 Through the step of forming and the step of forming a plurality of color filters 40R, 40G, and 40B on the second electrode layer 38, a configuration as shown in FIG.

次いで、各カラーフィルタ40R・40G・40Bの境界に所定幅でレジスト55を塗布する工程を経て、図21(b)に示すような構成を得る。   Next, a process as shown in FIG. 21B is obtained through a step of applying a resist 55 with a predetermined width to the boundary between the color filters 40R, 40G, and 40B.

次に、レジスト55を塗布したカラーフィルタ40R・40G・40Bの表面をアッシングして、境界に盛り上がり部が形成される(図21(c)参照)。   Next, the surface of the color filters 40R, 40G, and 40B coated with the resist 55 is ashed to form a raised portion at the boundary (see FIG. 21C).

アッシング工程は、例えば、図22に示すように、カラーフィルタ40R・40G・40B・40R…の表面にオゾンガスを作用させて行うことができる。   For example, as shown in FIG. 22, the ashing process can be performed by causing ozone gas to act on the surfaces of the color filters 40R, 40G, 40B, 40R,.

これにより、カラーフィルタ40R・40G・40B・40R…の表面が図22に示すようにA1→A2→A3→A4のように順次、灰化されて、カラーフィルタ40R・40G・40B・40R…の表面全体に凹部が形成され、結果的に図21(c)に示すようにカラーフィルタ40R・40G・40Bの境界に盛り上がり部が形成される。   As a result, the surfaces of the color filters 40R, 40G, 40B, 40R,... Are sequentially ashed in the order of A1, A2, A3, A4 as shown in FIG. 22, and the color filters 40R, 40G, 40B, 40R,. Concave portions are formed on the entire surface, and as a result, raised portions are formed at the boundaries of the color filters 40R, 40G, and 40B as shown in FIG.

なお、アッシングの過程において、レジスト55も同時に灰化されて消滅する。   In the ashing process, the resist 55 is simultaneously ashed and disappears.

(有機EL発光装置の他の実施例)
図23を参照して、有機EL発光装置の他の実施例について説明する。図23は、他の実施例に係る有機EL発光装置の1ピクセル部分の模式的断面構造図である。
(Another example of organic EL light emitting device)
With reference to FIG. 23, another embodiment of the organic EL light emitting device will be described. FIG. 23 is a schematic cross-sectional structure diagram of one pixel portion of an organic EL light emitting device according to another embodiment.

なお、基本構成に係る有機EL発光装置と同様の構成については、同一符号を付して詳細な説明は省略する。   In addition, about the structure similar to the organic electroluminescent light-emitting device which concerns on a basic structure, the same code | symbol is attached | subjected and detailed description is abbreviate | omitted.

前出の第2実施例との相違点は、有機EL層36が青色光を発光する発光層48Bを備え、カラーフィルタ40G・40Rは、青色光に対する色変換フィルタで構成される点である。   The difference from the second embodiment described above is that the organic EL layer 36 includes a light emitting layer 48B that emits blue light, and the color filters 40G and 40R are configured by a color conversion filter for blue light.

即ち、図23に示す実施例では、有機EL層36から射出される光線は青色光hνBであり、カラーフィルタは、青色光hνBを吸収して緑色光hνGを発光する色変換フィルタ40Gと、青色光hνBを吸収して赤発光を行う色変換フィルタ40Rとから構成される。 23, the light emitted from the organic EL layer 36 is blue light hν B , and the color filter absorbs the blue light hν B and emits green light hν G. And a color conversion filter 40R that absorbs blue light hν B and emits red light.

カラーフィルタ40G・40Rの形状等は前出の第1実施例と同様である。   The shape and the like of the color filters 40G and 40R are the same as those in the first embodiment.

この実施例に係る有機EL発光装置によれば、有機EL層36の発光層48Bから射出され法線方向からずれた光線hνGは、例えば、カラーフィルタ40Gに入射し、カラーフィルタ40Gの表面全体に形成された凹部(盛り上がり部)によるレンズ効果により、法線から離れる方向に屈折される。 According to the organic EL light emitting device of this embodiment, the light ray hν G emitted from the light emitting layer 48B of the organic EL layer 36 and deviated from the normal direction is incident on, for example, the color filter 40G and the entire surface of the color filter 40G. The lens is refracted in the direction away from the normal due to the lens effect caused by the concave portion (swelled portion) formed in.

これにより、青色光hνBと緑色光hνGとは、互いに離間する方向に進むので、混色する事態が回避される。 As a result, the blue light hν B and the green light hν G travel in directions away from each other, so that a situation where colors are mixed is avoided.

したがって、この実施例に係る有機EL発光装置によれば、光学的混色が有効に軽減され、ディスプレイの画質やNTSC比(色域)等が低下する事態を回避することができる。   Therefore, according to the organic EL light emitting device according to this embodiment, the optical color mixture is effectively reduced, and a situation in which the image quality of the display, the NTSC ratio (color gamut), and the like are reduced can be avoided.

(カラーフィルタの構成例)
積層カラーフィルタを搭載した第1の実施の形態に係る有機EL発光装置の模式的断面構造は、図24に示すように表される。
(Example of color filter configuration)
A schematic cross-sectional structure of the organic EL light emitting device according to the first embodiment on which the laminated color filter is mounted is expressed as shown in FIG.

図24に示す構成例では、例えば、赤色カラーフィルタ40Rと緑色カラーフィルタ40Gをそれぞれ2層のフィルタ40R1・40R2および40G1・40G2で構成している。また、青色のカラーフィルタ40Bについては3層のフィルタ40B1・40B2・40B3で構成している。   In the configuration example shown in FIG. 24, for example, the red color filter 40R and the green color filter 40G are configured by two layers of filters 40R1 and 40R2 and 40G1 and 40G2, respectively. The blue color filter 40B is composed of three layers of filters 40B1, 40B2, and 40B3.

このように多層構造でカラーフィルタを構成することにより、例えばカラーフィルタを光硬化型樹脂で形成する場合に、硬化させる際の光線を十分な深さまで到達させて樹脂を完全に硬化させることができ、密着性等に優れたカラーフィルタ40B・40G・40Rを形成することができる。   By configuring the color filter with a multilayer structure in this way, for example, when the color filter is formed of a photocurable resin, the resin can be completely cured by reaching a sufficient depth of light when curing. In addition, the color filters 40B, 40G, and 40R having excellent adhesion and the like can be formed.

なお、青色カラーフィルタ40Bについて、他の色にフィルタよりも層数を増やしているのは、青色の顔料を含む光硬化型樹脂は、硬化用の光線を吸収し易いため、光線が透過し易い薄い層を重ねる必要があるからである。   In addition, about the blue color filter 40B, the number of layers is increased to the other colors than the filter because the light curable resin containing a blue pigment easily absorbs the light beam for curing, and thus the light beam is easily transmitted. This is because it is necessary to stack thin layers.

なお、各カラーフィルタ40B・40G・40Rのエッジ部の盛り上がり部については、図21、図22において説明した方法によって形成することができる。   Note that the raised portions of the edge portions of the color filters 40B, 40G, and 40R can be formed by the method described with reference to FIGS.

また、各カラーフィルタ40B・40G・40Rの表面側には、段差を埋めて平坦化するために透明保護膜42が形成されている。   Further, a transparent protective film 42 is formed on the surface side of each of the color filters 40B, 40G, and 40R in order to fill and level the step.

(断面SEM写真)
積層カラーフィルタを搭載した第1の実施の形態に係る有機EL発光装置の断面SEM写真例は、図33に示すように表される。また、図33の積層カラーフィルタ部分の拡大された断面SEM写真は、図34に示すように表され、図33の積層カラーフィルタ部分の詳細説明は、図35に示すように表される。図35は、図34の写真に輪郭線を加えたものである。
(SEM cross section)
An example of a cross-sectional SEM photograph of the organic EL light emitting device according to the first embodiment on which the laminated color filter is mounted is expressed as shown in FIG. Further, an enlarged cross-sectional SEM photograph of the laminated color filter portion of FIG. 33 is represented as shown in FIG. 34, and a detailed description of the laminated color filter portion of FIG. 33 is represented as shown in FIG. FIG. 35 is obtained by adding an outline to the photograph of FIG.

図33に示すように、CMOSLSI600上に下部電極30を介して有機EL層36が積層化され、有機EL層36上にシール層44を介して、さらにカラーフィルタ40と透明保護膜42が配置されている。   As shown in FIG. 33, the organic EL layer 36 is laminated on the CMOS LSI 600 via the lower electrode 30, and the color filter 40 and the transparent protective film 42 are further arranged on the organic EL layer 36 via the seal layer 44. ing.

図35に示すように、青色カラーレジスト40B1の端部の上に緑色カラーレジスト40G1の端部が重なっている。同様に、緑色カラーレジスト40G1、青色カラーレジスト40B2、緑色カラーレジスト40G2、青色カラーレジスト40B3の順に端部が重なっている。緑色カラーレジスト40G2と青色カラーレジスト40B3の上には透明保護膜42が配置され、平坦化されている。   As shown in FIG. 35, the end of the green color resist 40G1 overlaps the end of the blue color resist 40B1. Similarly, the end portions of the green color resist 40G1, the blue color resist 40B2, the green color resist 40G2, and the blue color resist 40B3 are overlapped in this order. A transparent protective film 42 is disposed on the green color resist 40G2 and the blue color resist 40B3 and is flattened.

尚、カラーフィルタの構成は上記の積層カラーフィルタに限定されるものではなく、単層構成であっても良い。また、カラーフィルタのエッジ部にブラックマトリックスを有する構成なども適用可能である。   The configuration of the color filter is not limited to the above laminated color filter, and may be a single layer configuration. A configuration having a black matrix at the edge of the color filter is also applicable.

[第2の実施の形態]
(混色の発生について)
図25を参照して、前出の図5とは異なる原因に基づく混色の発生について説明する。
[Second Embodiment]
(About the occurrence of color mixing)
With reference to FIG. 25, the occurrence of color mixing based on a cause different from FIG. 5 described above will be described.

図25に示すように、例えば、赤色カラーフィルタ40Rを備えるサブピクセルSPRと緑色カラーフィルタ40Gを備えるサブピクセルSPGにおいて、サブピクセルSPRに対応する第1電極層30Rがオン状態され、サブピクセルSPGに対応する第1電極層30Gがオフ状態の場合を想定する。   As shown in FIG. 25, for example, in the subpixel SPR including the red color filter 40R and the subpixel SPG including the green color filter 40G, the first electrode layer 30R corresponding to the subpixel SPR is turned on, and the subpixel SPG Assume that the corresponding first electrode layer 30G is in an off state.

この場合には、第1電極層30Rに対応する有機EL層36が、第1電極層30Rと第2電極層38との間に印加される電圧により発光し、表面方向に光線hνRが射出される。 In this case, the organic EL layer 36 corresponding to the first electrode layer 30R emits light by the voltage applied between the first electrode layer 30R and the second electrode layer 38, and the light ray hν R is emitted in the surface direction. Is done.

したがって、使用者等の肉眼には、本来、赤色のカラーフィルタ40Rを透過した赤色の光線のみが入射するはずである。   Therefore, only the red light beam that has been transmitted through the red color filter 40R should be incident on the naked eye of the user or the like.

しかしながら、有機EL素子において、第1電極層30Rと第2電極層38との間で発光された光線は、表面側に向かう以外に、総発光量の数十%程度の光線が有機EL層36を導波光として水平方向に導波されるという性質がある。   However, in the organic EL element, the light emitted between the first electrode layer 30R and the second electrode layer 38 is directed to the organic EL layer 36 in addition to the light emitted from the first electrode layer 30R and the second electrode layer 38. Is guided in the horizontal direction as guided light.

そのため、この導波光が隣接するサブピクセルSPG側の第1電極層30Gの端部によって反射されて、緑色カラーフィルタ40Gを透過して表面側から緑色の光線hνGとして射出されてしまう。 Therefore, this guided light is reflected by the end of the first electrode layer 30G on the adjacent subpixel SPG side, passes through the green color filter 40G, and is emitted as a green light ray hν G from the surface side.

これにより、使用者の肉眼には、赤色の光線hνR以外に、緑色の光線hνGも入射してしまい、赤色と緑色が混色した状態として視認される。 As a result, in addition to the red light ray hν R , the green light ray hν G is also incident on the user's naked eyes, and is visually recognized as a state in which red and green are mixed.

(有機EL発光装置の第1実施例)
図26を参照して、第2の実施の形態に係る有機EL発光装置の第1実施例について説明する。図26は、第1実施例に係る有機EL発光装置の隣接するサブピクセル部分の模式的断面構造図である。
(First Example of Organic EL Light Emitting Device)
A first example of the organic EL light emitting device according to the second embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 26 is a schematic cross-sectional structure diagram of adjacent subpixel portions of the organic EL light emitting device according to the first example.

なお、基本構成に係る有機EL発光装置と同様の構成については、同一符号を付して詳細な説明は省略する。   In addition, about the structure similar to the organic electroluminescent light-emitting device which concerns on a basic structure, the same code | symbol is attached | subjected and detailed description is abbreviate | omitted.

図2に示すように、第1実施例に係る有機EL発光装置は、基板60と、基板60上に配置された第1電極層30(30B・30G・30R)と、第1電極層30上に配置された有機EL層36と、有機EL層36上に配置された第2電極層38と、第2電極層38の上に配置された複数色のカラーフィルタ40B・40G・40Rとを備え、第1電極層30および第2電極層38の少なくとも一方に、有機EL層36から射出される光線の光学的混色を抑制する混色抑制手段が設けられている。   As shown in FIG. 2, the organic EL light emitting device according to the first example includes a substrate 60, a first electrode layer 30 (30B · 30G · 30R) disposed on the substrate 60, and a first electrode layer 30. An organic EL layer 36 disposed on the organic EL layer 36, a second electrode layer 38 disposed on the organic EL layer 36, and a plurality of color filters 40B, 40G, and 40R disposed on the second electrode layer 38. Further, at least one of the first electrode layer 30 and the second electrode layer 38 is provided with a color mixing suppressing means for suppressing optical color mixing of light emitted from the organic EL layer 36.

図26に示す第1実施例に係る有機EL発光装置において、混色抑制手段は、第1電極層301・302の端部において45度以下(θ1≦45°)に形成されたテーパー構造である。 In the organic EL light emitting device according to the first embodiment shown in FIG. 26, the color mixing suppressing means is a tapered structure formed at 45 degrees or less (θ 1 ≦ 45 °) at the end portions of the first electrode layers 30 1 and 30 2. It is.

これにより、第1電極層301がオン状態となった場合に、導波光hνtは隣接する第2電極層302の端部に形成されたテーパー構造によって、表面側に反射されることなく水平方向に導波される。 Thus, when the first electrode layer 30 1 is turned on, the guided light hv t by tapered structures formed in the end portion of the second electrode layer 30 2 adjacent, without being reflected on the surface side It is guided in the horizontal direction.

したがって、使用者等に肉眼には、第1電極層301側で発光された光線hν1のみが入射することとなり、混色が発生しない。 Therefore, only the light ray hν 1 emitted on the first electrode layer 30 1 side is incident on the naked eye to the user or the like, and no color mixing occurs.

この効果は、第2電極層302がオン状態となった場合も同様である。 This effect is the same when the second electrode layer 30 2 is turned on.

(第1電極層のテーパー構造の形状)
図27は、第1電極層30のテーパー構造の例を示す図であり、図27(a)は直線状の傾斜部を有する場合の断面図、図27(b)は曲線状の傾斜部を有する場合の断面図である。
(Shape of the taper structure of the first electrode layer)
27A and 27B are diagrams illustrating an example of a tapered structure of the first electrode layer 30. FIG. 27A is a cross-sectional view in the case of having a linear inclined portion, and FIG. 27B is a curved inclined portion. It is sectional drawing in the case of having.

図27(a)において、30aが45°の場合であり、30b→30c→30d→30eの順に、45°より鋭角となる場合を示している。   FIG. 27 (a) shows a case where 30a is 45 °, and an acute angle is obtained from 45 ° in the order of 30b → 30c → 30d → 30e.

なお、導波光の反射を防止するという観点では、テーパー構造の角度は鋭角なほど効果が高いといえるが、一方で第1電極層30の上面の面積が減少するため電圧印加に影響を与える虞がある。   From the viewpoint of preventing the reflection of guided light, it can be said that the sharper the angle of the tapered structure, the higher the effect. On the other hand, since the area of the upper surface of the first electrode layer 30 decreases, the voltage application may be affected. There is.

したがって、テーパー構造の適度な角度は、導波光の反射防止効果と、電圧印加への影響とを勘案して決定される。   Therefore, an appropriate angle of the tapered structure is determined in consideration of the antireflection effect of guided light and the influence on voltage application.

図27(b)は、第1電極層30の全体が曲線状の傾斜部を有する場合である。曲線の具体的な形状は、導波光の反射防止効果と、電圧印加への影響とを勘案して決定される。   FIG. 27B shows a case where the entire first electrode layer 30 has a curved inclined portion. The specific shape of the curve is determined in consideration of the antireflection effect of guided light and the influence on voltage application.

(有機EL発光装置の第2実施例)
図28および図29を参照して、第2の実施の形態に係る有機EL発光装置の第2実施例について説明する。図28は、第2実施例に係る有機EL発光装置の隣接するサブピクセル部分の模式的断面構造図である。図29(a)は第2の実施の形態に係る有機EL発光装置の第2実施例の他の構成を示す模式的断面構造図、(b)は比較例の模式的断面構造図である。
(Second Example of Organic EL Light Emitting Device)
A second example of the organic EL light emitting device according to the second embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 28 is a schematic cross-sectional structure diagram of adjacent subpixel portions of the organic EL light emitting device according to the second embodiment. FIG. 29A is a schematic sectional view showing another configuration of the second example of the organic EL light emitting device according to the second embodiment, and FIG. 29B is a schematic sectional view of a comparative example.

なお、基本構成に係る有機EL発光装置と同様の構成については、同一符号を付して詳細な説明は省略する。   In addition, about the structure similar to the organic electroluminescent light-emitting device which concerns on a basic structure, the same code | symbol is attached | subjected and detailed description is abbreviate | omitted.

第2実施例に係る有機EL発光装置は、混色抑制手段は、第2電極層38の底部38bの位置が、第1電極層301・302の上部301t・302tよりも、基板60に垂直な方向で、上方向に形成される構造となっている。即ち、図28に示すように、基板60上に、第1電極層301・302が、底部301b・302bから所定厚さで上部301t・302t面が形成されている。 In the organic EL light emitting device according to the second embodiment, the color mixing suppressing means is such that the position of the bottom 38 b of the second electrode layer 38 is higher than the upper portions 30 1t and 30 2t of the first electrode layers 30 1 and 30 2. The structure is formed in a direction perpendicular to 60 and upward. That is, as shown in FIG. 28, the first electrode layers 30 1 and 30 2 are formed on the substrate 60 with the upper 30 1t and 30 2t surfaces having a predetermined thickness from the bottoms 30 1b and 30 2b .

また、有機EL層36を介して、第2電極層38が、凹部に相当する底部38bと凸部に上部38tが形成されている。 In addition, the second electrode layer 38 is formed with a bottom 38 b corresponding to a concave portion and an upper portion 38 t on the convex portion via the organic EL layer 36.

第2実施例に係る有機EL発光装置では、第1電極層30・302の上部301t・302t面と第2電極層38の底部38bとの間に距離H1の間隔が形成され、第2電極層38の底部38bの位置が、第1電極層301・302の上部301t・302tよりも、基板60に垂直な方向で、上方向に形成されている。 In the organic EL light emitting device according to the second embodiment, a distance H1 is formed between the upper surfaces 30 1t and 30 2t of the first electrode layers 30 1 and 30 2 and the bottom 38 b of the second electrode layer 38. The position of the bottom 38 b of the second electrode layer 38 is formed upward in the direction perpendicular to the substrate 60 relative to the upper portions 30 1t and 30 2t of the first electrode layers 30 1 and 30 2 .

これにより、有機EL層36を水平方向に導波する導波光は、第1電極層30・302の端部による反射が低減され、混色を抑制することができる。 Thereby, the light guided through the organic EL layer 36 in the horizontal direction is less reflected by the end portions of the first electrode layers 30 1 and 30 2 , and color mixing can be suppressed.

また、図29(a)に示すように、基板60に凹部が形成される場合において、第2電極層38の底部38bの位置が、第1電極層30の上部30tよりも距離H1だけ上方に形成されるようにしてもよい。 Further, as shown in FIG. 29 (a), when the recesses are formed on the substrate 60, the position of the bottom 38 b of the second electrode layer 38 by a distance H1 than the top 30 t of the first electrode layer 30 It may be formed above.

一方、図29(b)に示すように、第2電極層38の底部38bの位置が、第1電極層30の上部30tと距離H2の分だけ重なるような構成の場合には、有機EL層36を水平方向に導波する導波光は、第2電極層38を介して外部に放出されるので、混色を発生する虞があり好ましくない。 On the other hand, as shown in FIG. 29 (b), the position of the bottom 38 b of the second electrode layer 38, when the amount corresponding overlapping configuration of the upper 30 t and the distance H2 of the first electrode layer 30, an organic Since the guided light guided in the EL layer 36 in the horizontal direction is emitted to the outside through the second electrode layer 38, color mixing may occur, which is not preferable.

(有機EL発光装置の第3実施例)
図30を参照して、第2の実施の形態に係る有機EL発光装置の第3実施例について説明する。図30は、第3実施例に係る有機EL発光装置の隣接するサブピクセル部分の模式的断面構造図である。
(Third embodiment of organic EL light emitting device)
A third example of the organic EL light emitting device according to the second embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 30 is a schematic cross-sectional structure diagram of adjacent sub-pixel portions of the organic EL light emitting device according to the third embodiment.

なお、基本構成に係る有機EL発光装置と同様の構成については、同一符号を付して詳細な説明は省略する。   In addition, about the structure similar to the organic electroluminescent light-emitting device which concerns on a basic structure, the same code | symbol is attached | subjected and detailed description is abbreviate | omitted.

第3実施例に係る有機EL発光装置は、第2電極層38は、45度以下(即ち、θ2≦45°)に形成されたテーパー構造を有している。 In the organic EL light emitting device according to the third example, the second electrode layer 38 has a tapered structure formed at 45 degrees or less (that is, θ 2 ≦ 45 °).

これにより、有機EL層36を水平方向に導波する導波光は、第2電極層38からの透過が低減され、混色を抑制することができる。   As a result, the guided light guided in the horizontal direction through the organic EL layer 36 has reduced transmission from the second electrode layer 38 and can suppress color mixing.

[第1電極の構成例]
第1〜第2の実施の形態に係る有機EL発光装置において、正六角形を基本パターンとする第1電極の配列を示す平面構成は、図31に示すように表される。また、図31のII−II線に沿う模式的断面構造は、図32(a)に示すように表され、図31のIII−III線に沿う模式的断面構造は、図32(b)に示すように表される。
[Configuration example of the first electrode]
In the organic EL light emitting devices according to the first and second embodiments, the planar configuration showing the arrangement of the first electrodes having a regular hexagon as a basic pattern is expressed as shown in FIG. A schematic cross-sectional structure taken along line II-II in FIG. 31 is represented as shown in FIG. 32A, and a schematic cross-sectional structure taken along line III-III in FIG. 31 is shown in FIG. Represented as shown.

図31および図32を参照して、第1〜第2の実施の形態に係る有機EL発光装置に適用可能な第1電極の構成例について説明する。   With reference to FIG. 31 and FIG. 32, the structural example of the 1st electrode applicable to the organic electroluminescent light emitting device concerning the 1st-2nd embodiment is demonstrated.

図31に示すように、RGBの3色に対応する第1電極層30R・30G・30BがAl、Mo、Ag、Ptなど高反射率を有する金属で正六角形状に形成されている。   As shown in FIG. 31, the first electrode layers 30R, 30G, and 30B corresponding to the three colors of RGB are formed in a regular hexagonal shape with a metal having a high reflectance such as Al, Mo, Ag, and Pt.

図32(a)および図32(b)に示すように、第1電極層30R・30G・30Bの端部にはテーパー構造が形成されており、図26に示す第1実施例と同様に、そのテーパー角は45度以下である。   As shown in FIG. 32 (a) and FIG. 32 (b), the end portions of the first electrode layers 30R, 30G, and 30B are formed with a tapered structure, and as in the first embodiment shown in FIG. The taper angle is 45 degrees or less.

これにより、有機EL層を水平方向に導波する導波光は、第1電極層30R・30G・30Bの端部による反射が低減され、混色を抑制することができる。   As a result, the guided light that guides the organic EL layer in the horizontal direction is less reflected by the end portions of the first electrode layers 30R, 30G, and 30B, and color mixing can be suppressed.

以上説明したように、本発明によれば、低コストで光学的混色を低減させることができる有機EL発光装置およびその製造方法を提供することができる。   As described above, according to the present invention, it is possible to provide an organic EL light emitting device capable of reducing optical color mixing at a low cost and a manufacturing method thereof.

[その他の実施の形態]
上記のように、実施の形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述および図面は例示的なものであり、この発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例および運用技術が明らかとなろう。
[Other embodiments]
As described above, the embodiments have been described. However, it should be understood that the descriptions and drawings constituting a part of this disclosure are illustrative and do not limit the present invention. From this disclosure, various alternative embodiments, examples and operational techniques will be apparent to those skilled in the art.

このように、本発明はここでは記載していない様々な実施の形態などを含む。   As described above, the present invention includes various embodiments not described herein.

本発明の有機EL発光装置は、有機ELマイクロディスプレイ、電子ビューファインダー(EVF)、ヘッドマウントディスプレイ、有機ELディスプレイ、有機EL照明などに適用可能である。   The organic EL light-emitting device of the present invention can be applied to an organic EL micro display, an electronic viewfinder (EVF), a head mounted display, an organic EL display, organic EL illumination, and the like.

6…ピクセル
8…有機EL発光装置
10…ピクセルアレイ
12…水平シフトレジスタ
14…垂直シフトレジスタ
16…データラッチ回路
18…ロードライバ
20…カラムドライバ
22…PNMドライバ
30、301、302…下部電極(第1電極層)
30t、301t、302t、38t…上部
301b、302b、38b…底部
34…駆動回路
36…有機EL層
38…上部電極(第2電極層)
40…カラーフィルタ
41…高屈折率層
42…透明保護膜
43…高屈折率層
44…シール層
46…電子輸送層
47a、47b…封止層
48、48B…発光層
49…平坦化層
49b…保護コート層
50…正孔輸送層
51…保護板
52、54…電極
53…接着層
55…レジスト
56…ゲート電極
58…半導体基板
60…基板
70…VIA電極
600…CMOSLSI
6 ... Pixel 8 ... organic EL light emitting device 10 ... pixel array 12 ... horizontal shift register 14 ... vertical shift register 16 ... data latch circuit 18 ... row driver 20 ... column driver 22 ... PNM driver 30, 30 1, 30 2 ... lower electrode (First electrode layer)
30 t , 30 1t , 30 2t , 38 t ... upper part 30 1b , 30 2b , 38 b ... bottom part 34 ... drive circuit 36 ... organic EL layer 38 ... upper electrode (second electrode layer)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 40 ... Color filter 41 ... High refractive index layer 42 ... Transparent protective film 43 ... High refractive index layer 44 ... Sealing layer 46 ... Electron carrying layer 47a, 47b ... Sealing layer 48, 48B ... Light emitting layer 49 ... Flattening layer 49b ... Protective coat layer 50 ... Hole transport layer 51 ... Protective plate 52, 54 ... Electrode 53 ... Adhesive layer 55 ... Resist 56 ... Gate electrode 58 ... Semiconductor substrate 60 ... Substrate 70 ... VIA electrode 600 ... CMOS LSI

Claims (21)

基板と、
前記基板上に配置された第1電極層と、
前記第1電極層上に配置された有機EL層と、
前記有機EL層上に配置された第2電極層と、
前記第2電極層の上に配置された複数色のカラーフィルタと
を備え、
前記各カラーフィルタ間の境界部に、前記有機EL層から射出される光線の光学的混色を抑制する混色抑制手段が設けられていることを特徴とする有機EL発光装置。
A substrate,
A first electrode layer disposed on the substrate;
An organic EL layer disposed on the first electrode layer;
A second electrode layer disposed on the organic EL layer;
A plurality of color filters disposed on the second electrode layer,
An organic EL light emitting device characterized in that color mixing suppression means for suppressing optical color mixing of light emitted from the organic EL layer is provided at a boundary between the color filters.
前記混色抑制手段は、少なくとも一種類の前記カラーフィルタの周縁部に形成される盛り上がり部であることを特徴とする請求項1に記載の有機EL発光装置。   The organic EL light emitting device according to claim 1, wherein the color mixture suppressing unit is a raised portion formed at a peripheral portion of at least one kind of the color filter. 前記盛り上がり部は、前記各カラーフィルタの中央部から周縁部に向かって正の勾配を有するように形成されることを特徴とする請求項2に記載の有機EL発光装置。   The organic EL light emitting device according to claim 2, wherein the raised portion is formed to have a positive gradient from a central portion to a peripheral portion of each color filter. 前記盛り上がり部は、断面形状が山形状に形成されることを特徴とする請求項2に記載の有機EL発光装置。   The organic EL light emitting device according to claim 2, wherein the swelled portion is formed in a mountain shape in cross section. 前記盛り上がり部は、断面形状が台形状に形成されることを特徴とする請求項2に記載の有機EL発光装置。   The organic EL light-emitting device according to claim 2, wherein the raised portion has a trapezoidal cross-sectional shape. 前記混色抑制手段は、前記各カラーフィルタの表面全体に形成される凹面部であることを特徴とする請求項1に記載の有機EL発光装置。   2. The organic EL light emitting device according to claim 1, wherein the color mixture suppressing means is a concave surface portion formed on the entire surface of each color filter. 前記各カラーフィルタの表面上に、高屈折率層および封止層の少なくとも一方が形成されることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の有機EL発光装置。   The organic EL light-emitting device according to claim 1, wherein at least one of a high refractive index layer and a sealing layer is formed on the surface of each color filter. 前記第2電極層と前記各カラーフィルタとの間に、封止層が形成されることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の有機EL発光装置。   The organic EL light-emitting device according to claim 1, wherein a sealing layer is formed between the second electrode layer and each color filter. 前記封止層の上に平坦化層が形成されることを特徴とする請求項8に記載の有機EL発光装置。   The organic EL light emitting device according to claim 8, wherein a planarizing layer is formed on the sealing layer. 前記高屈折率層の上に保護コート層が形成されることを特徴とする請求項7〜9のいずれか1項に記載の有機EL発光装置。   The organic EL light-emitting device according to claim 7, wherein a protective coat layer is formed on the high refractive index layer. 前記高屈折率層の上に接着層を介して保護板が設けられることを特徴とする請求項7〜9のいずれか1項に記載の有機EL発光装置。   The organic EL light-emitting device according to claim 7, wherein a protective plate is provided on the high refractive index layer via an adhesive layer. 前記有機EL層から射出される光線は白色光であり、前記カラーフィルタは、赤色、緑色、青色の3色のフィルタで構成されることを特徴とする請求項1〜11のいずれか1項に記載の有機EL発光装置。   The light beam emitted from the organic EL layer is white light, and the color filter is composed of three color filters of red, green, and blue. The organic EL light emitting device described. 前記有機EL層から射出される光線は青色光であり、前記カラーフィルタは、前記青色光を吸収して緑発光を行う色変換フィルタと、前記青色光を吸収して赤発光を行う色変換フィルタとから構成されることを特徴とする請求項1〜11のいずれか1項に記載の有機EL発光装置。   The light emitted from the organic EL layer is blue light, and the color filter absorbs the blue light and emits green light, and the color conversion filter absorbs the blue light and emits red light. The organic EL light-emitting device according to claim 1, wherein 前記各カラーフィルタの平面形状は、六角形であることを特徴とする請求項1〜13のいずれか1項に記載の有機EL発光装置。   The organic EL light-emitting device according to claim 1, wherein a planar shape of each color filter is a hexagon. 基板と、
前記基板上に配置された第1電極層と、
前記第1電極層上に配置された有機EL層と、
前記有機EL層上に配置された第2電極層と、
前記第2電極層の上に配置された複数色のカラーフィルタと
を備え、
前記第1電極層および前記第2電極層の少なくとも一方に、前記有機EL層から射出される光線の光学的混色を抑制する混色抑制手段が設けられていることを特徴とする有機EL発光装置。
A substrate,
A first electrode layer disposed on the substrate;
An organic EL layer disposed on the first electrode layer;
A second electrode layer disposed on the organic EL layer;
A plurality of color filters disposed on the second electrode layer,
An organic EL light emitting device, wherein color mixing suppression means for suppressing optical color mixing of light emitted from the organic EL layer is provided on at least one of the first electrode layer and the second electrode layer.
前記混色抑制手段は、前記第1電極層の端部において45度以下に形成されたテーパー構造であることを特徴とする請求項15に記載の有機EL発光装置。   16. The organic EL light emitting device according to claim 15, wherein the color mixture suppressing means has a tapered structure formed at 45 degrees or less at an end portion of the first electrode layer. 前記テーパー構造は、直線状の傾斜部を有することを特徴とする請求項16に記載の有機EL発光装置。   The organic EL light emitting device according to claim 16, wherein the tapered structure has a linear inclined portion. 前記テーパー構造は、曲線状の傾斜部を有することを特徴とする請求項16に記載の有機EL発光装置。   The organic EL light emitting device according to claim 16, wherein the tapered structure has a curved inclined portion. 前記混色抑制手段は、前記第2電極層の底部の位置が、前記前記第1電極層の上部よりも上方に形成される構造であることを特徴とする請求項15〜18のいずれか1項に記載の有機EL発光装置。   19. The structure according to claim 15, wherein the color mixture suppressing unit has a structure in which a position of a bottom portion of the second electrode layer is formed above an upper portion of the first electrode layer. The organic EL light-emitting device described in 1. 前記第2電極層は、45度以下に形成されたテーパー構造を有することを特徴とする請求項15〜19のいずれか1項に記載の有機EL発光装置。   The organic EL light-emitting device according to claim 15, wherein the second electrode layer has a tapered structure formed at 45 degrees or less. 基板を準備する工程と、
前記基板上に第1電極層を形成する工程と、
前記第1電極層上に有機EL層を形成する工程と、
前記有機EL層上に第2電極層を形成する工程と、
前記第2電極層上に複数のカラーフィルタを形成する工程と、
前記各カラーフィルタの境界に所定幅でレジストを塗布する工程と、
前記レジストを塗布したカラーフィルタの表面をアッシングして、前記境界に盛り上がり部を形成する工程と
を有することを特徴とする有機EL発光装置の製造方法。
Preparing a substrate;
Forming a first electrode layer on the substrate;
Forming an organic EL layer on the first electrode layer;
Forming a second electrode layer on the organic EL layer;
Forming a plurality of color filters on the second electrode layer;
Applying a resist with a predetermined width at the boundary of each color filter;
Ashing the surface of the color filter coated with the resist to form a raised portion at the boundary. A method for manufacturing an organic EL light emitting device.
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