JP2013251099A - Conductive particle and process of manufacturing the same - Google Patents

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健次 高井
Yuko Nagahara
憂子 永原
Masaru Watanabe
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductive particle and a process of manufacturing the same, capable of exerting excellent conductivity in a pressure direction and insulation properties in a surface direction when applied to an anisotropic conductive adhesive and capable of being downsized.SOLUTION: The conductive particle includes a mother particle having conductivity, a plurality of child particles disposed at an outside of the mother particle and having insulation properties, and a first polymer adhered to a surface of a child particle and having molecular mass of 500 or over.

Description

本発明は、導電粒子及びその製造方法に関する。   The present invention relates to conductive particles and a method for producing the same.

回路基板同士又はICチップや電子部品と回路基板とを電気的に接続する方法として、接着剤や、導電粒子を分散させた異方導電接着剤を用いる方法が知られている。このような接続方法は、液晶分野において発展が顕著である。例えば、液晶表示用ガラスパネルに液晶駆動用ICを実装する方式は、COG(Chip−on−Glass)実装とCOF(Chip−on−Flex)実装の2種類に大別することが出来る。   As a method for electrically connecting circuit boards or IC chips or electronic components to a circuit board, a method using an adhesive or an anisotropic conductive adhesive in which conductive particles are dispersed is known. Such a connection method is remarkably developed in the liquid crystal field. For example, a method of mounting a liquid crystal driving IC on a glass panel for liquid crystal display can be broadly classified into two types: COG (Chip-on-Glass) mounting and COF (Chip-on-Flex) mounting.

これらのうち、COG実装では、導電粒子を含む異方性導電接着剤を用いて液晶駆動用ICをガラスパネルに直接接合する。一方、COF実装では、金属配線を有するフレキシブルテープに液晶駆動用ICを接合し、導電粒子を含む異方性導電接着剤を用いてそれらをガラスパネルに接合する。なお、ここでいう異方性とは、接着のために加圧を行った際に、加圧する方向(以下、「加圧方向」という。)には導通する一方、加圧する方向と略直交する方向(以下、「面方向」という。)には絶縁性が保たれる性質を意味する。異方性導電接着剤は、このような性質を発揮できることから、対向する回路や端子間を導通させることができる一方、同じ基板等の面上に設けられた回路間を絶縁することができる。   Among these, in COG mounting, the liquid crystal driving IC is directly bonded to the glass panel using an anisotropic conductive adhesive containing conductive particles. On the other hand, in COF mounting, a liquid crystal driving IC is bonded to a flexible tape having metal wiring, and these are bonded to a glass panel using an anisotropic conductive adhesive containing conductive particles. Note that the anisotropy here refers to conduction in the direction of pressurization (hereinafter referred to as “pressurization direction”) when pressurization is performed for adhesion, while being substantially orthogonal to the pressurization direction. The direction (hereinafter referred to as “plane direction”) means the property of maintaining insulation. Since the anisotropic conductive adhesive can exhibit such properties, it can conduct between opposing circuits and terminals, and can insulate between circuits provided on the same substrate or the like.

異方性導電接着剤に用いられる導電粒子としては、プラスチック粒子の外側に、ニッケルめっき、ニッケル/金めっき、ニッケル/パラジウムめっき等を施した粒子が知られている。また、導電粒子として、導通性を改善する為にニッケルめっきの表面に突起を設けたものも知られている。そのような突起を形成する方法としては、特許文献1には、芯材としてニッケル粒子を用いてその上にニッケルめっきを施す方法が開示されている。また、それ以外では、特許文献2に、めっきの異常析出を利用して粗化形状を表面に形成する方法が示されている。   As conductive particles used for the anisotropic conductive adhesive, particles obtained by applying nickel plating, nickel / gold plating, nickel / palladium plating, or the like to the outside of plastic particles are known. In addition, a conductive particle having a protrusion on the surface of nickel plating for improving conductivity is also known. As a method for forming such protrusions, Patent Document 1 discloses a method in which nickel particles are used as a core material and nickel plating is performed thereon. In addition, Patent Document 2 discloses a method of forming a roughened shape on the surface using abnormal deposition of plating.

ところで、近年の液晶表示の高精細化に伴い、液晶駆動用ICの回路電極である金バンプが狭ピッチ化、狭面積化している。そのため、異方性導電接着剤による接着を行う際、異方性導電接着剤中の導電粒子が隣接する回路電極間にまで流れ込んだ場合に、それによって隣接する回路電極間でショートが発生するという問題が生じ易くなっている。特に、COG実装ではその傾向が顕著である。   By the way, with recent high definition of liquid crystal display, gold bumps, which are circuit electrodes of a liquid crystal driving IC, are narrowed in pitch and area. Therefore, when conducting adhesion using an anisotropic conductive adhesive, if conductive particles in the anisotropic conductive adhesive flow into adjacent circuit electrodes, a short circuit occurs between adjacent circuit electrodes. Problems are likely to arise. In particular, the tendency is remarkable in COG mounting.

また、そのように隣接する回路電極間に導電粒子が流れ込むと、金バンプとガラスパネルとの間に配置される導電粒子の数が減少してしまい、対向する回路電極間の接続抵抗が上昇して接続不良を起こし易くなるといった問題がある。特に、近年では、金バンプの狭ピッチ化、狭面積化に対応するため、単位面積あたり2万個/mm以上の導電粒子を投入することから、その傾向が顕著となり易い。 In addition, when conductive particles flow between adjacent circuit electrodes, the number of conductive particles arranged between the gold bump and the glass panel decreases, and the connection resistance between the facing circuit electrodes increases. Therefore, there is a problem that connection failure is likely to occur. In particular, in recent years, in order to cope with the narrowing of the pitch and the area of the gold bump, 20,000 particles / mm 2 or more are introduced per unit area, and this tendency tends to become remarkable.

そこで、これらの問題を解決する方法として、特許文献3には、異方性導電接着剤の少なくとも片面に絶縁性の接着剤を形成することにより、COG実装又はCOG実装における接合品質の低下を防ぐ方法が、また、特許文献4には、導電粒子の全表面を絶縁性の被膜で被覆する方法がそれぞれ示されている。   Therefore, as a method for solving these problems, Patent Document 3 discloses that an insulating adhesive is formed on at least one surface of an anisotropic conductive adhesive, thereby preventing deterioration in bonding quality in COG mounting or COG mounting. In addition, Patent Document 4 discloses a method in which the entire surface of conductive particles is covered with an insulating film.

特開2007‐324138号公報JP 2007-324138 A 特開2000‐243132号公報JP 2000-243132 A 特開平8‐279371号公報JP-A-8-279371 特許第2794009号公報Japanese Patent No. 2779409

しかしながら、上述したような異方性導電接着剤の片面に絶縁性の接着剤を形成する方法では、バンプ面積が比較的小さい(例えば、3000μm未満である)場合で、安定した接続抵抗を得るために導電粒子を増やす場合には、隣り合う回路電極間の絶縁性を十分に確保することが困難な傾向にあった。また、導電粒子の全表面を絶縁性の被膜で被覆する方法は、高い絶縁性が得られるものの、導電性が低くなりやすいといった問題がある。 However, in the method of forming an insulating adhesive on one side of the anisotropic conductive adhesive as described above, a stable connection resistance is obtained when the bump area is relatively small (for example, less than 3000 μm 2 ). For this reason, when increasing the number of conductive particles, it tends to be difficult to ensure sufficient insulation between adjacent circuit electrodes. In addition, the method of covering the entire surface of the conductive particles with an insulating coating has a problem that the conductivity tends to be low although high insulating properties can be obtained.

また、従来の異方性導電接着剤では、良好な導電性を得る観点から導電粒子を増やしたとしても、圧着時に樹脂が流動することによって導電粒子がバンプに乗りにくく、思うほどの導電性が得られないという課題もあった。そのため、導電粒子を増やす場合、圧着時に導電粒子がなるべく動かないようにすることが、良好な導電性及び絶縁性の双方を向上させる観点から重要である。   In addition, in the conventional anisotropic conductive adhesive, even if the number of conductive particles is increased from the viewpoint of obtaining good conductivity, the conductive particles are difficult to get on the bumps due to the resin flowing at the time of pressure bonding, and the conductivity as expected There was also a problem that it could not be obtained. Therefore, when increasing the number of conductive particles, it is important from the viewpoint of improving both good conductivity and insulation that the conductive particles do not move as much as possible at the time of pressure bonding.

さらに、導電粒子の表面を、絶縁性を有する子粒子によって被覆する方法も知られているが、この方法は、初期の絶縁性と導通性とのバランスが良好となり易い。ただし、この方法は、導電粒子の径が小さくなるに伴い、または、絶縁性の子粒子の粒子径が大きくなるに伴い、適用することが難しくなる傾向にある。特に、近年では、金バンプの狭ピッチ化に対応するために、導電粒子の小径化や絶縁性の子粒子の大径化が必要になってきているので、その傾向が顕著である。さらに、表面を絶縁性の子粒子で被覆した導電粒子の製造方法としては、ヘテロ凝集による方法が知られているが、その場合、絶縁性の子粒子と導電粒子との結合力が弱い為、フィルムや溶剤中で子粒子が導電粒子から脱落してしまう等の不具合が発生し易い。   Furthermore, a method of covering the surface of the conductive particles with the child particles having an insulating property is also known, but this method tends to improve the balance between the initial insulating property and the electrical conductivity. However, this method tends to be difficult to apply as the diameter of the conductive particles decreases or as the particle diameter of the insulating child particles increases. In particular, in recent years, in order to cope with the narrow pitch of gold bumps, it is necessary to reduce the diameter of the conductive particles and the diameter of the insulating child particles, and this tendency is remarkable. Furthermore, as a method for producing conductive particles whose surfaces are coated with insulating child particles, a method based on heteroaggregation is known, but in that case, since the bonding force between the insulating child particles and the conductive particles is weak, Problems such as child particles falling off the conductive particles in a film or solvent are likely to occur.

そこで、本発明は、上述した従来技術が有する事情に鑑みてなされたものであり、異方性導電接着剤に適用した場合に優れた加圧方向の導電性及び面方向の絶縁性を発揮することができ、且つ小径化が可能な導電粒子及びその製造方法を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention has been made in view of the circumstances of the above-described prior art, and exhibits excellent conductivity in the pressing direction and insulation in the surface direction when applied to an anisotropic conductive adhesive. It is an object to provide a conductive particle that can be reduced in diameter and a method for producing the same.

上記目的を達成するため、本発明の導電粒子は、導電性を有する母粒子と、この母粒子の外側に配置された絶縁性を有する複数の子粒子と、この子粒子の表面に付着した分子量500以上の第1の重合体とを備えることを特徴とする。   In order to achieve the above object, the conductive particles of the present invention include conductive mother particles, a plurality of insulating child particles arranged outside the mother particles, and a molecular weight attached to the surface of the child particles. And 500 or more first polymers.

本発明の導電粒子は、導電性を有する母粒子の外側に絶縁性を有する子粒子が配置された構成を有していることから、これを用いた異方性導電接着剤によれば、面方向の絶縁性を十分に維持しながら、加圧方向の導電性を良好に得ることが可能となる。また、本発明の導電粒子においては、絶縁性を有する子粒子の表面に分子量500以上の第1の重合体が付着していることにより、異方性導電接着剤中での導電粒子の分散性や、母粒子と子粒子との間の接着性が向上し、母粒子を小径化し、子粒子を大径化しつつ、全体として導電粒子を小径化しても、上述したような効果を良好に得ることができる。   Since the conductive particles of the present invention have a configuration in which the insulating child particles are arranged outside the conductive mother particles, the anisotropic conductive adhesive using the conductive particles has a surface. It is possible to satisfactorily obtain the conductivity in the pressing direction while sufficiently maintaining the insulation in the direction. Further, in the conductive particles of the present invention, the dispersibility of the conductive particles in the anisotropic conductive adhesive is caused by the adhesion of the first polymer having a molecular weight of 500 or more to the surface of the insulating child particles. In addition, the adhesion between the mother particles and the child particles is improved, and the above-described effects can be obtained well even if the conductive particles are made smaller as a whole while the mother particles are made smaller and the child particles are made larger in diameter. be able to.

本発明の導電粒子は、母粒子の表面に付着した分子量500以上の第2の重合体を更に備えることが好ましい。これにより、母粒子と子粒子との接着性が更に向上し、上述した効果が一層良好に得られるようになる。   The conductive particles of the present invention preferably further include a second polymer having a molecular weight of 500 or more attached to the surface of the mother particle. Thereby, the adhesiveness between the mother particles and the child particles is further improved, and the above-described effects can be obtained better.

第1の重合体は、シリコーンオリゴマーであることが好ましい。また、第1の重合体は、グリシジル基を有することが好ましい。第1の重合体がこれらの特徴を具備するものであると、本発明の導電粒子の分散性が向上するほか、母粒子と子粒子との接着性も一層良好に得られるようになる傾向にある。   The first polymer is preferably a silicone oligomer. The first polymer preferably has a glycidyl group. When the first polymer has these characteristics, the dispersibility of the conductive particles of the present invention is improved, and the adhesion between the mother particles and the child particles tends to be further improved. is there.

また、第2の重合体は、アミノ基を有することが好ましい。母粒子が、アミノ基を有する第2の重合体が表面に付着したものであると、子粒子の表面に付着した第1の重合体との接着性が一層向上することから、本発明の効果が更に良好に得られるようになる。   Moreover, it is preferable that a 2nd polymer has an amino group. The effect of the present invention is that when the mother particles have the amino group-containing second polymer attached to the surface, the adhesion with the first polymer attached to the surface of the child particles is further improved. Can be obtained more satisfactorily.

本発明の導電粒子において、子粒子の粒子径は、100nm以上500nmであると好ましい。また、母粒子の粒子径が、3.0μm以下であることが好ましい。これらの条件を満たす導電粒子は、全体として小さい粒径を有するので、狭ピッチ化、狭面積化したバンプを有する液晶駆動用IC等の接続を行う際に有利である。本発明の導電粒子は、上述の如く、母粒子の表面に子粒子が付着し、さらに子粒子の表面に分子量500以上の第1の重合体が付着した構成を有することから、このように小さい母粒子に対し、従来に比して比較的大きい子粒子が付着しても、両者の間の接着性が良好である。   In the conductive particles of the present invention, the particle diameter of the child particles is preferably 100 nm or more and 500 nm. Moreover, it is preferable that the particle diameter of a mother particle is 3.0 micrometers or less. Conductive particles satisfying these conditions have a small particle size as a whole, which is advantageous when connecting a liquid crystal driving IC having bumps with a narrow pitch and a small area. As described above, the conductive particles of the present invention have such a structure that the child particles adhere to the surface of the mother particles and the first polymer having a molecular weight of 500 or more adheres to the surface of the child particles. Even if relatively large child particles adhere to the mother particles as compared with the conventional particles, the adhesion between them is good.

また、子粒子は、シラノール基を有するものであると好適である。表面にシラノール基を有する子粒子は、表面に付着した分子量500以上の第1の重合体との間の接着性が更に良好なものとなり得るので、このような子粒子を備える導電粒子においては、母粒子と子粒子との接着性が一層良好となる傾向にある。   In addition, the child particles preferably have a silanol group. Since the child particles having a silanol group on the surface can have even better adhesion with the first polymer having a molecular weight of 500 or more attached to the surface, in the conductive particles including such child particles, There is a tendency that the adhesion between the mother particles and the child particles becomes even better.

母粒子の表面に分子量500以上の第2の重合体が付着している場合は、この第2の重合体と子粒子の表面に付着した第1の重合体との間で化学的な結合が生じていることが好ましい。これにより、導電粒子における母粒子と子粒子との接着性が極めて良好となるので、本発明による効果が更に得られ易くなる。   In the case where a second polymer having a molecular weight of 500 or more is attached to the surface of the mother particle, there is a chemical bond between the second polymer and the first polymer attached to the surface of the child particle. Preferably it has occurred. Thereby, since the adhesiveness between the mother particles and the child particles in the conductive particles becomes extremely good, the effect according to the present invention is further easily obtained.

本発明による導電粒子の製造方法は、上述した本発明の導電粒子を良好に得ることができる方法であって、導電性を有する母粒子の外側に、分子量500以上の第1の重合体が表面に付着した絶縁性を有する子粒子を複数配置させる工程を含むことを特徴とする。   The method for producing conductive particles according to the present invention is a method by which the above-described conductive particles of the present invention can be satisfactorily obtained, and the first polymer having a molecular weight of 500 or more is on the outside of the conductive mother particles. And a step of arranging a plurality of insulating child particles attached to the substrate.

このような本発明の導電粒子の製造方法においては、第1の重合体が、シリコーンオリゴマーであることが好ましい。また、第1の重合体が、グリシジル基を有することが好ましい。さらに、第2の重合体が、アミノ基を有することが好ましい。第1又は第2の重合体がこれらの特徴を具備することにより、本発明の製造方法により得られる導電粒子の分散性が向上するほか、母粒子と子粒子との接着性も一層良好に得られるようになる傾向にある。   In such a method for producing conductive particles of the present invention, the first polymer is preferably a silicone oligomer. Moreover, it is preferable that a 1st polymer has a glycidyl group. Furthermore, the second polymer preferably has an amino group. When the first or second polymer has these characteristics, the dispersibility of the conductive particles obtained by the production method of the present invention is improved, and the adhesion between the mother particles and the child particles is further improved. Tend to be.

また、本発明の導電粒子の製造方法においては、子粒子の粒子径が、100nm以上500nmであることが好ましい。さらに、母粒子の粒子径が、3.0μm以下であることが好ましい。これらにより、本発明の製造方法により得られる導電粒子を含む異方性導電接着剤を、狭ピッチ化、狭面積化したバンプを有する液晶駆動用IC等の接続に良好に適用することが可能となる。そして、本発明の製造方法によれば、このように小さい母粒子に対し、従来に比して比較的大きい子粒子が付着させる場合であっても、子粒子の表面に第1の重合体が付着しているので、母粒子と子粒子との間の接着性を良好に得ることができる。   Moreover, in the manufacturing method of the electroconductive particle of this invention, it is preferable that the particle diameter of a child particle is 100 nm or more and 500 nm. Furthermore, the particle diameter of the mother particles is preferably 3.0 μm or less. As a result, the anisotropic conductive adhesive containing the conductive particles obtained by the production method of the present invention can be successfully applied to the connection of a liquid crystal driving IC having bumps with a narrow pitch and a small area. Become. According to the production method of the present invention, the first polymer is formed on the surface of the child particles even when relatively small child particles are attached to the small mother particles. Since it adheres, the adhesiveness between a mother particle and a child particle can be acquired favorably.

また、子粒子は、シラノール基を有するものであると好適である。表面にシラノール基を有する子粒子は、表面に付着した分子量500以上の第1の重合体との間の接着性が更に良好なものとなり得るので、このような子粒子を用いて導電粒子の製造を行うことにより、母粒子と子粒子との接着性が良好な導電粒子が更に得られ易くなる傾向にある。   In addition, the child particles preferably have a silanol group. Since the child particles having a silanol group on the surface can have even better adhesion to the first polymer having a molecular weight of 500 or more attached to the surface, production of conductive particles using such child particles is possible. By conducting the process, conductive particles having good adhesion between the mother particles and the child particles tend to be more easily obtained.

本発明によれば、異方性導電接着剤に適用した場合に優れた加圧方向の導電性及び面方向の絶縁性を発揮することができ、且つ小径化が可能な導電粒子及びその製造方法を提供することが可能となる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, when applied to an anisotropic conductive adhesive, the conductive particle which can exhibit the electrical conductivity of the pressurization direction excellent in the insulation of the surface direction, and can be reduced in diameter, and its manufacturing method Can be provided.

好適な実施形態の導電粒子の断面構成を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the cross-sectional structure of the electroconductive particle of suitable embodiment. 接続構造体の製造工程を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the manufacturing process of a connection structure.

以下、本発明の好適な実施形態について説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described.

(導電粒子)
まず、好適な実施形態に係る導電粒子について説明する。図1は、好適な実施形態の導電粒子の断面構成を模式的に示す図である。図1に示すように、本実施形態の導電粒子1は、導電性を有する母粒子2と、絶縁性を有する複数の子粒子4とを有している。また、導電粒子1において、子粒子4の表面には、分子量500以上の第1の重合体6が付着しており、母粒子2の表面には分子量500以上の第2の重合体8が付着している。
(Conductive particles)
First, the conductive particles according to a preferred embodiment will be described. FIG. 1 is a diagram schematically showing a cross-sectional configuration of conductive particles according to a preferred embodiment. As shown in FIG. 1, the conductive particle 1 of the present embodiment includes a mother particle 2 having conductivity and a plurality of child particles 4 having insulating properties. In the conductive particle 1, the first polymer 6 having a molecular weight of 500 or more is attached to the surface of the child particle 4, and the second polymer 8 having a molecular weight of 500 or more is attached to the surface of the mother particle 2. doing.

導電粒子1における母粒子2の粒径は、導電粒子1を含む異方性導電接着剤によって接続させるべき基板が有している電極における、隣り合う電極間の最小の間隔よりも小さいことが好ましい。また、この電極の高さにばらつきがある場合は、その高さのばらつきよりも大きいことが好ましい。   The particle diameter of the mother particle 2 in the conductive particle 1 is preferably smaller than the minimum interval between adjacent electrodes in the electrode of the substrate to be connected by the anisotropic conductive adhesive containing the conductive particle 1. . In addition, when there is a variation in the height of the electrode, it is preferable that the height is larger than the variation in the height.

これらの観点から、母粒子2の粒径は、1〜10μmの範囲であると好ましく、2.0〜5μmの範囲であるとより好ましく、2.0〜3μmの範囲であると更に好ましい。母粒子2の粒径が2.0μm未満である場合、電極の高さのばらつきがある場合、導電粒子1による接続が困難な電極が増えて、導通の信頼性が悪くなるおそれがある。一方、母粒子2の粒径が3.0μmを超える場合、面方向の絶縁信頼性が悪くなるおそれがある。   From these viewpoints, the particle diameter of the mother particle 2 is preferably in the range of 1 to 10 μm, more preferably in the range of 2.0 to 5 μm, and still more preferably in the range of 2.0 to 3 μm. When the particle diameter of the mother particle 2 is less than 2.0 μm, when there is a variation in the height of the electrode, the number of electrodes that are difficult to connect with the conductive particles 1 increases, and the reliability of conduction may be deteriorated. On the other hand, when the particle diameter of the mother particle 2 exceeds 3.0 μm, the insulation reliability in the surface direction may be deteriorated.

ここで、母粒子2の粒径とは、母粒子2において粒子状を成している部分の外径を意味している。例えば、母粒子2が後述するような所定のコア粒子とその表面上に形成された金属被覆とからなる場合はそれらを合わせた粒子部分の粒径であり、また、母粒子2が突起部分を有している場合は、その突起部分を含まない部分の粒径である。この粒径としては、走査型電子顕微鏡(SEM)により数千〜数万倍の倍率で100個程度の導電粒子を撮影し、画像解析を行って得られた母粒子2の粒径を適用することができる。粒径の測定は、例えば、HITACHI S−4500(日立ハイテク株式会社製)により行うことができる。   Here, the particle diameter of the mother particle 2 means the outer diameter of the part of the mother particle 2 forming a particle shape. For example, when the mother particle 2 is composed of a predetermined core particle as described later and a metal coating formed on the surface thereof, the particle size of the combined particle portion is used, and the mother particle 2 has a protruding portion. When it has, it is the particle size of the part which does not contain the projection part. As this particle size, about 100 conductive particles are photographed with a scanning electron microscope (SEM) at a magnification of several thousand to several tens of thousands times, and the particle size of the mother particle 2 obtained by image analysis is applied. be able to. The particle size can be measured by, for example, HITACHI S-4500 (manufactured by Hitachi High-Tech Corporation).

母粒子2は、導電性を有する粒子である。導電性を有する母粒子2としては、金属のみからなる粒子や、有機又は無機のコア粒子をめっき等の方法により金属で被覆した粒子のいずれも適用することができる。これらのなかでも、有機のコア粒子をめっきにより金属で被覆したものが好ましい。めっき等により被覆する金属としては、特に限定されないが、金、銀、銅、白金、亜鉛、鉄、パラジウム、ニッケル、錫、クロム、チタン、アルミニウム、コバルト、ゲルマニウム、カドミウム等の金属や、ITO、はんだ等の金属化合物が挙げられる。耐腐食性の観点からは、ニッケル、パラジウム、金が好ましい。   The mother particle 2 is a particle having conductivity. As the conductive mother particles 2, any of particles consisting only of metal and particles obtained by coating organic or inorganic core particles with metal by a method such as plating can be used. Among these, those obtained by coating organic core particles with metal by plating are preferable. The metal to be coated by plating or the like is not particularly limited, but metals such as gold, silver, copper, platinum, zinc, iron, palladium, nickel, tin, chromium, titanium, aluminum, cobalt, germanium, cadmium, ITO, Examples thereof include metal compounds such as solder. From the viewpoint of corrosion resistance, nickel, palladium, and gold are preferable.

コア粒子を被覆する金属被膜は、単層構造であってもよく、複数の層からなる積層構造であってもよい。単層構造である場合、金属被膜としては、コストや導通性、耐腐食性の観点から、ニッケルからなるものが好ましい。さらに、近年のガラス電極の平坦化を考えると、金属被膜としては、突起を有するニッケルめっきが好ましい。他方、複層構造である場合は、金属被膜としては、ニッケルからなる被膜の外側に金やパラジウムといった貴金属からなる被膜を有するものが好ましい。   The metal coating that coats the core particles may have a single layer structure or a laminated structure composed of a plurality of layers. In the case of a single layer structure, the metal film is preferably made of nickel from the viewpoints of cost, conductivity, and corrosion resistance. Furthermore, considering the recent flattening of the glass electrode, the metal coating is preferably nickel plating having protrusions. On the other hand, in the case of a multilayer structure, the metal film preferably has a film made of a noble metal such as gold or palladium on the outside of the film made of nickel.

母粒子2は、表面に突起を有するものであってもよい。母粒子2が突起を有するものであると、導電粒子1の電極等に固定され易くなり、より優れた導電性が得られ易くなる傾向にある。母粒子2における突起は、例えば、コア粒子の表面に形成された金属被膜に形成することができる。その場合、突起の形成方法としては、めっきの異常析出による方法や、芯材を用いる方法が挙げられる。   The mother particles 2 may have protrusions on the surface. If the mother particle 2 has protrusions, it tends to be fixed to the electrode of the conductive particle 1 and the like, and more excellent conductivity tends to be obtained. The protrusions in the mother particle 2 can be formed on, for example, a metal film formed on the surface of the core particle. In this case, as a method for forming the protrusion, a method using abnormal deposition of plating or a method using a core material may be used.

これらの突起の形成方法のなかでは、突起の形状を均一にする観点から、芯材を用いる方法が好ましい。芯材としては、ニッケルや炭素、パラジウム、金といった導電性材料やプラスチック、シリカ、酸化チタンといった非導電性材料が挙げられる。ただし、芯材に強磁性材料を用いると、母粒子2の磁性凝集が生じ易くなり、母粒子2の表面に子粒子4を付着させる際に子粒子4を均一に付着できなくなるおそれがある。そのため、芯材には非磁性材料を用いることが好ましい。例えば、ニッケルを芯材に用いる場合は、ニッケルにはリンが入っていることが好ましい。   Among these methods for forming protrusions, a method using a core material is preferable from the viewpoint of making the shape of the protrusions uniform. Examples of the core material include conductive materials such as nickel, carbon, palladium, and gold, and nonconductive materials such as plastic, silica, and titanium oxide. However, if a ferromagnetic material is used for the core material, magnetic aggregation of the mother particles 2 is likely to occur, and the child particles 4 may not be uniformly attached when the child particles 4 are attached to the surface of the mother particle 2. Therefore, it is preferable to use a nonmagnetic material for the core material. For example, when nickel is used for the core material, the nickel preferably contains phosphorus.

芯材を用いて突起を形成する方法としては、例えば、有機のコア粒子の表面に官能基を形成し、次に、このコア粒子に、当該コア粒子表面の官能基と結合し得る官能基を表面に形成した芯材を吸着した後、全体をニッケルめっきする方法等が挙げられる。   As a method for forming the protrusion using the core material, for example, a functional group is formed on the surface of the organic core particle, and then a functional group capable of binding to the functional group on the surface of the core particle is formed on the core particle. Examples include a method in which the entire core formed on the surface is adsorbed and then the whole is nickel-plated.

コア粒子の全体をニッケルめっきして金属被膜を形成する場合、ニッケルめっきは、1.0重量%以上10.0重量%以下のリンを含有することが望ましい。ここでいうリンの含有割合は、(リンの含有割合)=(全リン重量)/(全リン重量+全ニッケル重量)で表される。上記のように芯材を用いて突起を形成する場合において、芯材がニッケルである場合は、芯材中のニッケル及びリンの重量も含めて上記の条件を満たすことが好ましい。   When forming a metal film by nickel-plating the entire core particles, the nickel plating desirably contains 1.0 wt% or more and 10.0 wt% or less of phosphorus. The phosphorus content here is expressed as (phosphorus content) = (total phosphorus weight) / (total phosphorus weight + total nickel weight). In the case where the protrusion is formed using the core material as described above, when the core material is nickel, it is preferable to satisfy the above conditions including the weight of nickel and phosphorus in the core material.

このリンの含有割合が10.0重量%を超える場合、金属被膜全体の導電性が低下し、異方性導電接着剤による実装を行った際に導通抵抗が高くなる傾向がある。一方、リンの割合が1.0重量%未満である場合、母粒子2が凝集し易くなって、子粒子4を付着させる際にばらつきが大きくなる傾向にある。このような現象は、特に、母粒子2の粒径が3μm以下になると顕著である。   When the phosphorus content exceeds 10.0% by weight, the conductivity of the entire metal coating is lowered, and the conduction resistance tends to increase when mounting with an anisotropic conductive adhesive. On the other hand, when the proportion of phosphorus is less than 1.0% by weight, the mother particles 2 are likely to aggregate, and the dispersion tends to increase when the child particles 4 are adhered. Such a phenomenon is remarkable when the particle diameter of the mother particle 2 is 3 μm or less.

母粒子2の飽和磁化は45emu/cm以下であることが好ましく、30emu/cm以下であることがより好ましく、10emu/cm以下であることが更に好ましく、5emu/cm以下であることが一層好ましい。導電粒子の飽和磁化が45emu/cmを超え、且つ、母粒子2の粒子径が3μmを下回ると、母粒子2同士が磁性凝集し易くなり、子粒子4の付着が困難となる傾向がある。 Preferably the saturation magnetization of the mother particle 2 is 45 emu / cm 3 or less, more preferably 30 emu / cm 3 or less, still more preferably 10 emu / cm 3 or less, it is 5 emu / cm 3 or less Is more preferable. When the saturation magnetization of the conductive particles exceeds 45 emu / cm 3 and the particle diameter of the mother particles 2 is less than 3 μm, the mother particles 2 tend to be magnetically aggregated, and the child particles 4 tend to be difficult to adhere. .

母粒子2の飽和磁化は低ければ低いほど凝集しにくくなるが、例えば飽和磁化を下げるために、ニッケルめっきによる金属被膜にリンを含有させ過ぎると、良好な導電性が得られなくなるおそれがある。そのため、導電性等が過度に低下しないように、母粒子2の飽和磁化を設定することが好ましい。また、飽和磁化は、ニッケル中に異種金属を入れる方法によって低下させることもできる。この方法によると、導電性の低下を抑制することができる。例えば、ニッケルに、パラジウムのようなイオンマイグレーションのない金属を数パーセント添加する方法が好ましい。   The lower the saturation magnetization of the mother particle 2 is, the more difficult it is to agglomerate. However, for example, if too much phosphorus is contained in a metal film formed by nickel plating in order to lower the saturation magnetization, good conductivity may not be obtained. Therefore, it is preferable to set the saturation magnetization of the mother particle 2 so that the conductivity or the like does not decrease excessively. The saturation magnetization can also be lowered by a method of putting a different metal in nickel. According to this method, a decrease in conductivity can be suppressed. For example, a method of adding a few percent of a metal having no ion migration such as palladium to nickel is preferable.

母粒子2が突起を有する場合、突起の大きさは、30nm〜300nmの範囲であることが好ましく、50〜200nmの範囲であることがより好ましい。ここで、突起の大きさとは、突起を球とみなした場合の粒径を意味する。この突起の大きさが大きすぎると、隣接する回路間でのショートの確率が増すおそれがあり、小さすぎると、十分な導電性が得られなくなるおそれがある。好適な加圧方向の導電性と面方向の絶縁性とを両立する観点からは、母粒子2の表面積の5〜60%を突起が覆っていることが好ましい。   When the mother particle 2 has protrusions, the size of the protrusions is preferably in the range of 30 nm to 300 nm, and more preferably in the range of 50 to 200 nm. Here, the size of the protrusion means the particle diameter when the protrusion is regarded as a sphere. If the size of the protrusion is too large, the probability of a short circuit between adjacent circuits may increase, and if it is too small, sufficient conductivity may not be obtained. From the viewpoint of achieving both favorable conductivity in the pressing direction and insulation in the planar direction, it is preferable that the protrusions cover 5 to 60% of the surface area of the mother particle 2.

コア粒子に金属被膜を形成する方法としては、無電解めっきの他、置換めっき、電気めっき、スパッタリング等の方法が挙げられる。なかでも、無電解銅めっきは、コストが低く、簡便であり、しかも厚みを制御し易い点で優れた方法である。   Examples of the method for forming the metal film on the core particles include electroless plating, displacement plating, electroplating, and sputtering. Of these, electroless copper plating is an excellent method in that it is low in cost, simple and easy to control the thickness.

金属被膜の厚みは、特に限定されないが、0.001〜1.0μmの範囲が好ましく、0.005〜0.3μmの範囲がより好ましい。この金属被膜の厚みが0.001μm未満であると、異方性導電接着剤による実装を行った際に導通不良を起こし易くなる。一方、1.0μmを超える場合、コスト面で好ましくない。   Although the thickness of a metal film is not specifically limited, The range of 0.001-1.0 micrometer is preferable and the range of 0.005-0.3 micrometer is more preferable. When the thickness of the metal coating is less than 0.001 μm, poor conduction is likely to occur when mounting with an anisotropic conductive adhesive. On the other hand, when it exceeds 1.0 μm, it is not preferable in terms of cost.

有機コア粒子の材料としては、特に限定されないが、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート等のアクリル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブタジエン等のポリオレフィン樹脂等が挙げられる。   The material for the organic core particles is not particularly limited, and examples thereof include acrylic resins such as polymethyl methacrylate and polymethyl acrylate, and polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, polyisobutylene, and polybutadiene.

導電粒子1における子粒子4は、絶縁性を有する粒子である。子粒子4としては、有機微粒子、無機酸化物微粒子、有機無機ハイブリッド粒子が好ましい。そのうち、有機微粒子は溶剤に溶け易く、物理的な衝撃に対する安定性も高くない場合がある。他方、無機酸化物微粒子は、柔軟性が低いほか、導電粒子1による導電性を低下させ易い傾向にある。そこで、例えば、子粒子4としては、有機微粒子を無機微粒子によって被覆した構造を有するものも好ましい。このような子粒子4は、柔軟でありながら溶剤に溶け難いという良好な特性を有する。   The child particles 4 in the conductive particles 1 are particles having insulating properties. As the child particles 4, organic fine particles, inorganic oxide fine particles, and organic-inorganic hybrid particles are preferable. Among them, the organic fine particles are easily soluble in a solvent and may not be highly stable against physical impact. On the other hand, the inorganic oxide fine particles have low flexibility and tend to reduce the conductivity of the conductive particles 1. Therefore, for example, the child particles 4 preferably have a structure in which organic fine particles are covered with inorganic fine particles. Such child particles 4 have a good characteristic that they are flexible but hardly dissolved in a solvent.

有機微粒子としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブタジエン等のポリオレフィン樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等からなる微粒子が挙げられる。これらの有機微粒子の製造方法としては、ソープフリーや沈殿重合が挙げられる。   Examples of the organic fine particles include fine particles made of polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, and polybutadiene, acrylic resins such as polymethyl methacrylate, epoxy resins, and polyimide resins. Examples of methods for producing these organic fine particles include soap-free and precipitation polymerization.

無機酸化物微粒子としては、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタン、ニオブ、亜鉛、錫、セリウム、マグネシウムの各元素を含む酸化物からなる微粒子が好ましい。また、これらの酸化物を二種類以上を組み合わせて含むものであってもよい。なかでも、絶縁性に優れており、しかも粒子径を制御し易い水分散コロイダルシリカ(SiO)が好ましい。このような無機酸化物微粒子の市販品としては、例えば、スノーテックス、スノーテックスUP(以上、日産化学工業社製)、クオートロンPLシリーズ(扶桑化学工業社製)等が挙げられる。 As the inorganic oxide fine particles, fine particles made of an oxide containing each element of silicon, aluminum, zirconium, titanium, niobium, zinc, tin, cerium, and magnesium are preferable. Moreover, these oxides may be included in combination of two or more. Of these, water-dispersed colloidal silica (SiO 2 ) is preferable because of its excellent insulating properties and easy particle size control. Examples of such commercially available inorganic oxide fine particles include Snowtex, Snowtex UP (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), Quatron PL series (manufactured by Fuso Chemical Industries, Ltd.) and the like.

異方性導電接着剤を用いる場合の面方向の絶縁信頼性を良好に得る観点からは、無機酸化物微粒子としては、金属アルコキシドの加水分解反応、いわゆるゾルゲル法により製造されるものが好適である。ゾルゲル法で微粒子を作製する場合は、テトラエトキシシランやテトラメトキシシランに加えて、メチル基やフェニル基を有する2〜3官能のシランを添加して、無機酸化物微粒子であるシリコーン微粒子を作製することもできる。この方法によると、架橋度や官能基を変更することができ、それによって柔軟性や疎水性を制御することができることから、更に好ましい。   From the viewpoint of obtaining good insulation reliability in the plane direction when using an anisotropic conductive adhesive, the inorganic oxide fine particles are preferably produced by hydrolysis reaction of metal alkoxide, so-called sol-gel method. . When producing fine particles by the sol-gel method, in addition to tetraethoxysilane or tetramethoxysilane, a bifunctional or trifunctional silane having a methyl group or a phenyl group is added to produce silicone fine particles which are inorganic oxide fine particles. You can also According to this method, the degree of crosslinking and the functional group can be changed, and thereby flexibility and hydrophobicity can be controlled.

さらに、有機無機ハイブリッド粒子としては、アクリル樹脂と多官能アルコキシシランとの共重合によって得られるものが挙げられる。このような有機無機ハイブリッド粒子によっても、有機微粒子及び無機酸化物微粒子の特性をそれぞれ適度に有する子粒子4が得られ易い傾向にある。有機無機ハイブリッド粒子は、原料中の多官能アルコキシシランの割合を増やすとより無機粒子の特性を示し、アクリル樹脂の割合を増やすと有機粒子の特性を示す。そのため、有機無機ハイブリッド粒子は、その製造時に原料の割合を適切に調整することによって、所望とする特性が得られ易くなる。有機無機ハイブリッド粒子の合成方法としては、分散重合や沈殿重合が挙げられる。   Furthermore, examples of the organic / inorganic hybrid particles include those obtained by copolymerization of an acrylic resin and a polyfunctional alkoxysilane. Even with such organic-inorganic hybrid particles, there is a tendency that the child particles 4 having moderate characteristics of the organic fine particles and the inorganic oxide fine particles can be easily obtained. The organic-inorganic hybrid particles exhibit more inorganic particle characteristics when the proportion of the polyfunctional alkoxysilane in the raw material is increased, and the organic particles properties when the proportion of the acrylic resin is increased. Therefore, the organic-inorganic hybrid particles can easily obtain desired characteristics by appropriately adjusting the ratio of raw materials at the time of production. Examples of the method for synthesizing the organic / inorganic hybrid particles include dispersion polymerization and precipitation polymerization.

子粒子4としては、コア粒子及びコア粒子を覆う被覆層が形成されたコアシェル構造を有するものも適用できる。そのようなコアシェル構造を有する子粒子4としては、内側が柔軟であり、且つ、外側が硬質であるものが好ましい。例えば、上記の有機微粒子をコア粒子として有し、その外側に架橋したシリコーン又はシリカからなる被覆層が設けられたものが挙げられる。このような構造を有する子粒子4は、柔軟で且つ耐溶剤性に優れるという特性を有する。   As the child particle 4, one having a core-shell structure in which a core particle and a coating layer covering the core particle are formed can be applied. As the child particles 4 having such a core-shell structure, those having a flexible inner side and a hard outer side are preferable. Examples thereof include those having the above organic fine particles as core particles and provided with a coating layer made of silicone or silica crosslinked on the outside thereof. The child particles 4 having such a structure have characteristics of being flexible and excellent in solvent resistance.

子粒子4は、その表面に水酸基、シラノール基、カルボキシル基、アミノ基といった反応性を有する官能基を有していると好ましく、なかでも、シラノール基を有しているとより好ましい。子粒子4がこれらの官能基を表面に有していることで、後述する第1の重合体6との反応性が良くなり、子粒子4と第1の重合体6との接着性、ひいては母粒子2と子粒子4との接着性が向上する傾向にある。   The child particles 4 preferably have a reactive functional group such as a hydroxyl group, a silanol group, a carboxyl group, or an amino group on the surface, and more preferably a silanol group. Since the child particles 4 have these functional groups on the surface, the reactivity with the first polymer 6 to be described later is improved, and the adhesion between the child particles 4 and the first polymer 6 is improved. The adhesion between the mother particle 2 and the child particle 4 tends to be improved.

表面にこれらの官能基を有する子粒子4としては、子粒子4そのものがこれらの官能基を有している化合物によって形成されるものや、コアシェル構造における被覆層がこれらの官能基を有する化合物によって構成されるものが挙げられる。例えば、上述したようなシリコーン又はシリカからなる被覆層が所定のコア粒子の表面に設けられたコアシェル構造を有する子粒子4は、表面にシラノール基を有する子粒子4となる。   As the child particle 4 having these functional groups on the surface, the child particle 4 itself is formed by a compound having these functional groups, or the coating layer in the core-shell structure is formed by a compound having these functional groups. What is composed is mentioned. For example, the child particle 4 having a core-shell structure in which the coating layer made of silicone or silica as described above is provided on the surface of a predetermined core particle becomes the child particle 4 having a silanol group on the surface.

子粒子4は、BET法による比表面積換算法又はX線小角散乱法で測定された粒径が、20nmから500nmであることが好ましく、100nmから500nmであることがより好ましく、200nmから400nmであることが更に好ましい。子粒子4の粒径が好適な範囲よりも小さいと、その範囲内である場合に比べて、母粒子2に付着した子粒子4による絶縁性が発揮されず、異方性導電接着剤を用いて接合を行った場合に、一部にショートが発生する要因となり易い。一方、それよりも大きいと、異方性導電接着剤を用いて接合を行った場合に、加圧方向の導電性が低下する傾向にある。なお、母粒子2が表面に突起を有するものである場合、子粒子4の大きさは、その突起よりも大きいことが望ましい。   The child particles 4 preferably have a particle size measured by a specific surface area conversion method by the BET method or a small-angle X-ray scattering method of 20 nm to 500 nm, more preferably 100 nm to 500 nm, and 200 nm to 400 nm. More preferably. When the particle size of the child particles 4 is smaller than the preferred range, the insulating property by the child particles 4 attached to the mother particles 2 is not exhibited as compared with the case where the particle size is within the range, and an anisotropic conductive adhesive is used. When joining, it is easy to cause a short circuit in part. On the other hand, when larger than it, when joining using anisotropic conductive adhesive, it exists in the tendency for the electroconductivity of a pressurization direction to fall. In addition, when the mother particle 2 has a protrusion on the surface, the size of the child particle 4 is desirably larger than the protrusion.

導電粒子1において、子粒子4の表面には、分子量500以上の第1の重合体6が付着している。ここで、本明細書において、重合体とは、一定の構造単位が少なくとも2つ以上結合した化合物を意味し、通常オリゴマーやポリマーに分類される化合物が含まれる。このように、子粒子4の表面に分子量500以上の第1の重合体6が付着していることで、導電粒子1の異方性導電接着剤中での分散性が良好となるほか、この第1の重合体6が有している官能基と、母粒子2やその表面に付着した第2の重合体8が有している官能基との間で強固な結合が生じるなどにより、母粒子2と子粒子4との接着性が良好となる。これにより、導電粒子1において、母粒子2の小径化や、子粒子4の大径化が可能となる。   In the conductive particle 1, the first polymer 6 having a molecular weight of 500 or more is attached to the surface of the child particle 4. Here, in the present specification, the polymer means a compound in which at least two certain structural units are bonded, and includes compounds usually classified into oligomers and polymers. Thus, the dispersibility in the anisotropic conductive adhesive of the conductive particles 1 becomes good because the first polymer 6 having a molecular weight of 500 or more adheres to the surface of the child particles 4. A strong bond is generated between the functional group of the first polymer 6 and the functional group of the second polymer 8 attached to the mother particle 2 or the surface thereof. Adhesiveness between the particles 2 and the child particles 4 is improved. As a result, in the conductive particle 1, it is possible to reduce the diameter of the mother particle 2 and increase the diameter of the child particle 4.

第1の重合体6は、官能基として、母粒子2やその表面に付着した第2の重合体8が有している官能基との反応を生じ得る官能基を有するものであると好ましい。具体的には、第1の重合体6は、グリシジル基、カルボキシル基、イソシアネート基等を有するものであると好ましい。第1の重合体6における官能基は、母粒子2やその表面に付着した重合体8が有している官能基の種類に応じて選択することができるが、上述したなかでも、グリシジル基がより好ましい。   The first polymer 6 preferably has a functional group capable of causing a reaction with the functional group of the mother particle 2 or the second polymer 8 attached to the surface thereof as a functional group. Specifically, the first polymer 6 is preferably one having a glycidyl group, a carboxyl group, an isocyanate group, or the like. The functional group in the first polymer 6 can be selected according to the type of the functional group that the polymer 8 attached to the mother particle 2 or the surface thereof has, but among those described above, the glycidyl group is More preferred.

また、第1の重合体6としては、シリコーンオリゴマーが挙げられる。第1の重合体6としては、特に、グリシジル基を有するシリコーンオリゴマーが好ましい。   Examples of the first polymer 6 include silicone oligomers. As the first polymer 6, a silicone oligomer having a glycidyl group is particularly preferable.

第1の重合体6の分子量は、500以上であり、500〜10000であると好ましく、1000〜4000であるとより好ましい。第1の重合体6が好適な分子量を有するほど、導電粒子1の異方性導電接着剤中での分散性や、母粒子2と子粒子4との接着性が良好に得られる傾向にある。   The molecular weight of the 1st polymer 6 is 500 or more, it is preferable in it being 500-10000, and it is more preferable in it being 1000-4000. The more the first polymer 6 has a suitable molecular weight, the better the dispersibility of the conductive particles 1 in the anisotropic conductive adhesive and the better the adhesion between the mother particles 2 and the child particles 4. .

子粒子4の表面には第1の重合体6が付着していることから、子粒子4は、いわば第1の重合体6によって少なくとも一部が被覆された状態となっている。第1の重合体6による子粒子4の被覆率が高すぎると、導電粒子1を異方性導電接着剤に用いた場合に、加圧方向の導電性が低くなるおそれがある。一方、この被覆率が小さすぎると、導電粒子1を異方性導電接着剤に用いた場合に、面方向の絶縁性が低くなるおそれがある。   Since the first polymer 6 is attached to the surface of the child particle 4, the child particle 4 is in a state of being at least partially covered with the first polymer 6. If the coverage of the child particles 4 by the first polymer 6 is too high, the conductivity in the pressurizing direction may be lowered when the conductive particles 1 are used as an anisotropic conductive adhesive. On the other hand, when this coverage is too small, when the conductive particles 1 are used as an anisotropic conductive adhesive, the insulation in the surface direction may be lowered.

そこで、子粒子4の第1の重合体6による被覆率は、10%〜50%の範囲であることが好ましく、20〜50%の範囲であることがより好ましい。被覆率は、例えば第1の重合体6が付着した子粒子4をSEM画像解析により観察して、子粒子4の第1の重合体6に覆われている部分の表面積(A)及び子粒子4の全体の表面積(B)を求め、(A)/(B)×100%により算出することができる。また、子粒子4の第1の重合体6による被覆率のばらつき(C.V.)は、0.4以下の範囲であることが好ましく、0.3以下であることが更に好ましい。これらの条件を満たすことで、導電粒子1を用いた異方性導電接着剤による加圧方向の導電性と、面方向の絶縁性とが良好に得られる傾向にある。   Therefore, the coverage of the child particles 4 with the first polymer 6 is preferably in the range of 10% to 50%, and more preferably in the range of 20 to 50%. The coverage is determined by, for example, observing the child particles 4 to which the first polymer 6 is adhered by SEM image analysis, and the surface area (A) of the portion of the child particles 4 covered with the first polymer 6 and the child particles. 4 can be calculated by (A) / (B) × 100%. Further, the variation (C.V.) in the coverage of the child particles 4 by the first polymer 6 is preferably in the range of 0.4 or less, and more preferably 0.3 or less. By satisfying these conditions, the conductivity in the pressing direction by the anisotropic conductive adhesive using the conductive particles 1 and the insulating property in the surface direction tend to be favorably obtained.

第1の重合体6は、子粒子4の表面に一層のみ形成されていてもよく、複数層形成されていてもよい。すなわち、例えば、子粒子4の表面には、それぞれ異なる種類の第1の重合体6からなる複数の層が形成されていてもよい。ただし、子粒子4の表面に複数層の第1の重合体6を形成する場合、積層量の制御が困難となる傾向にあることから、第1の重合体6は、子粒子4の表面に一層のみ形成されていることが好ましい。   Only one layer of the first polymer 6 may be formed on the surface of the child particle 4, or a plurality of layers may be formed. That is, for example, a plurality of layers made of different types of first polymers 6 may be formed on the surfaces of the child particles 4. However, in the case where the first polymer 6 having a plurality of layers is formed on the surface of the child particle 4, the first polymer 6 is formed on the surface of the child particle 4 because the amount of lamination tends to be difficult to control. It is preferable that only one layer is formed.

導電粒子1において、母粒子2の表面には、分子量500以上の第2の重合体8が付着している。ただし、第2の重合体8は、必ずしも母粒子2の表面に付着している必要はない。例えば、母粒子2自体が第1の重合体6が有している官能基と反応可能な官能基と有している場合は、母粒子2は、表面に第2の重合体8が付着していなくても、第1の重合体6を表面に有する子粒子4との間で十分な接着性を発揮することができる。母粒子2が表面に第2の重合体8を有することで、母粒子2と表面に第1の重合体6が付着している子粒子4との良好な接着性が得られるように制御し易くなる傾向にある。   In the conductive particle 1, the second polymer 8 having a molecular weight of 500 or more is attached to the surface of the mother particle 2. However, the second polymer 8 is not necessarily attached to the surface of the base particle 2. For example, when the mother particle 2 itself has a functional group capable of reacting with the functional group of the first polymer 6, the second polymer 8 adheres to the surface of the mother particle 2. Even if it is not, sufficient adhesiveness can be exhibited with the child particle 4 which has the 1st polymer 6 on the surface. Since the mother particle 2 has the second polymer 8 on the surface, it is controlled so that good adhesion between the mother particle 2 and the child particle 4 having the first polymer 6 attached to the surface is obtained. It tends to be easier.

第2の重合体8としては、第1の重合体6が有している官能基と反応して結合を生じることができる官能基、例えば、水溶液中で電離し、荷電を有する官能基を、主鎖又は側鎖に有しているものが好ましい。第2の重合体が有している官能基としては、正電荷を帯びることのできる官能基が好ましく、アミノ基等が挙げられる。   As the second polymer 8, a functional group capable of reacting with the functional group of the first polymer 6 to form a bond, for example, a functional group that is ionized in an aqueous solution and has a charge, What has in a principal chain or a side chain is preferable. The functional group possessed by the second polymer is preferably a functional group that can be positively charged, such as an amino group.

第2の重合体8としては、上述したような官能基を有する高分子電解質、例えばポリカチオンが好ましい。第2の重合体8としては、ポリエチレンイミン(PEI)、ポリアリルアミン塩酸塩(PAH)、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロリド(PDDA)、ポリビニルピリジン(PVP)、ポリリジン、ポリアクリルアミドや、それらを少なくとも1種以上を含む共重合体等が挙げられる。なかでも、ポリエチレンイミンは、電荷密度が高く、第1の重合体6との結合力が高い傾向にある。これらは、いずれも水溶性又はアルコール等の有機溶媒への可溶性を有していることから、例えば溶液等として母粒子2の表面に付着させることが容易である。   As the second polymer 8, a polymer electrolyte having a functional group as described above, for example, a polycation is preferable. As the second polymer 8, polyethyleneimine (PEI), polyallylamine hydrochloride (PAH), polydiallyldimethylammonium chloride (PDDA), polyvinylpyridine (PVP), polylysine, polyacrylamide, and at least one of them And the like. Among these, polyethyleneimine has a high charge density and tends to have a high binding force with the first polymer 6. Since these are both water-soluble or soluble in organic solvents such as alcohol, they can be easily attached to the surface of the mother particle 2 as a solution, for example.

第2の重合体8として適用する高分子電解質は、エレクトロマイグレーションや腐食を避けるために、アルカリ金属(Li、Na、K、Rb、Cs)イオン、アルカリ土類金属(Ca、Sr、Ba、Ra)イオン、ハロゲン化物イオン(フッ素イオン、クロライドイオン、臭素イオン、ヨウ素イオン)等を含まないものであることが好ましい。   The polymer electrolyte applied as the second polymer 8 is made of alkali metal (Li, Na, K, Rb, Cs) ions, alkaline earth metals (Ca, Sr, Ba, Ra, Ra) in order to avoid electromigration and corrosion. ) Ions, halide ions (fluorine ions, chloride ions, bromine ions, iodine ions) and the like are preferable.

第2の重合体8の分子量は、当該第2の重合体8として適用する高分子電解質の種類により異なるが、500以上であると好ましく、500〜200,000であるとより好ましい。第2の重合体8の分子量が500未満である場合、500以上とした場合に比べて、例えば、後述するような製造方法において、第2の重合体8の溶液中に母粒子2を分散させる際に、母粒子2の分散性が不十分となり易い傾向にある。その場合、母粒子2の粒径が小さい(例えば3.0μm以下である)と、母粒子2の凝集が過度に生じて導電粒子1の製造が困難となるおそれがある。また特に、第2の重合体8としてアミノ基を有する化合物を用いる場合は、分子量が小さすぎると第2の重合体8が母粒子2の表面から外れ易くなり、異方性導電接着剤による接着を行う際に硬化反応が阻害されるおそれがある。   The molecular weight of the second polymer 8 varies depending on the type of polymer electrolyte applied as the second polymer 8, but is preferably 500 or more, and more preferably 500 to 200,000. When the molecular weight of the second polymer 8 is less than 500, the mother particles 2 are dispersed in the solution of the second polymer 8 in a manufacturing method as described later, for example, as compared with the case where the molecular weight is 500 or more. At this time, the dispersibility of the mother particles 2 tends to be insufficient. In that case, when the particle diameter of the mother particle 2 is small (for example, 3.0 μm or less), the mother particle 2 may be excessively aggregated and it may be difficult to produce the conductive particle 1. In particular, when a compound having an amino group is used as the second polymer 8, if the molecular weight is too small, the second polymer 8 tends to be detached from the surface of the mother particle 2, and adhesion by an anisotropic conductive adhesive is performed. When performing, there is a possibility that the curing reaction is inhibited.

このように母粒子2の表面には第2の重合体8が付着している場合、母粒子2の第2の重合体8による被覆率は、子粒子4の第1の重合体6による被覆率と同様に求めることができる。   Thus, when the 2nd polymer 8 has adhered to the surface of the mother particle 2, the coverage of the mother particle 2 with the second polymer 8 is the coverage of the child particle 4 with the first polymer 6. It can be obtained in the same way as the rate.

母粒子2の表面に第2の重合体8が付着していることにより、この母粒子2と、表面に第1の重合体6が付着している子粒子2との接着性が良好に得られるので、導電性を有する母粒子2の表面に絶縁性を有する子粒子4が均一に付着することができる。特に、母粒子2の粒径が小さい場合は、導電粒子1の製造過程において、母粒子2が磁性凝集し易くなり、表面に子粒子4を付着させることが困難となるが、母粒子2の表面に第2の重合体8が付着していることにより、母粒子2の分散性が良好となるので、子粒子4の付着が容易となり易い。その結果、導電粒子1を異方性導電接着剤に適用して接着を行った際に、加圧方向の導電性が好適に得られるとともに、回路電極の間隔が狭ピッチであっても、面方向の絶縁性が良好に得られるようになる。   Since the second polymer 8 is attached to the surface of the mother particle 2, good adhesion between the mother particle 2 and the child particle 2 having the first polymer 6 attached to the surface is obtained. Therefore, the child particles 4 having insulating properties can uniformly adhere to the surface of the mother particles 2 having conductivity. In particular, when the particle diameter of the mother particles 2 is small, the mother particles 2 are likely to be magnetically aggregated in the process of producing the conductive particles 1 and it is difficult to attach the child particles 4 to the surface. Since the dispersibility of the mother particles 2 is good because the second polymer 8 is attached to the surface, the child particles 4 are easily attached. As a result, when the conductive particles 1 are applied to the anisotropic conductive adhesive and bonded, the conductivity in the pressurizing direction can be suitably obtained, and even if the distance between the circuit electrodes is a narrow pitch, the surface Good direction insulation can be obtained.

本実施形態の導電粒子1は、上記のように、第2の重合体8が表面に付着した母粒子2の外側に、第1の重合体6が表面に付着した子粒子4が複数付着した構成を有している。そのため、導電粒子1においては、母粒子2の少なくとも一部の表面が複数の子粒子4によって被覆された状態となっている。この母粒子2の子粒子4による被覆率も、子粒子4の第1の重合体6による被覆率と同様に求めることができる。   As described above, in the conductive particle 1 of the present embodiment, a plurality of child particles 4 having the first polymer 6 adhered to the surface are adhered to the outside of the mother particle 2 having the second polymer 8 adhered to the surface. It has a configuration. Therefore, in the conductive particles 1, at least a part of the surface of the mother particle 2 is covered with the plurality of child particles 4. The coverage of the mother particles 2 with the child particles 4 can also be determined in the same manner as the coverage of the child particles 4 with the first polymer 6.

(導電粒子の製造方法)
次に、上述した好適な実施形態の導電粒子1の製造方法の好適な例について説明する。
(Method for producing conductive particles)
Next, the suitable example of the manufacturing method of the electrically-conductive particle 1 of suitable embodiment mentioned above is demonstrated.

導電粒子1は、導電性を有する母粒子2の外側に直接及び/又は所定の層を介して、分子量500以上の第1の重合体6が表面に付着した絶縁性を有する子粒子4を付着させる工程を経て製造することができる。本実施形態では、母粒子2の表面上に第2の重合体8を付着させる場合の例について説明する。   The conductive particles 1 are attached to the outer surfaces of the conductive mother particles 2 directly and / or through a predetermined layer, and the insulating child particles 4 having the first polymer 6 having a molecular weight of 500 or more attached to the surface. It can manufacture through the process of making it. In the present embodiment, an example in which the second polymer 8 is attached on the surface of the mother particle 2 will be described.

まず、母粒子2として、上述したような金属のみからなる粒子や、有機又は無機のコア粒子をめっき等の方法により金属で被覆した粒子を準備する。母粒子2は、その表面に所定の官能基が形成されていることが好ましい。所定の官能基が表面に形成された母粒子2によれば、母粒子2の表面に第2の重合体8や子粒子4を良好に付着させることが可能となる。例えば、水酸基は、水酸基、カルボキシル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、グリシジル基と強固な接合を形成することができ、水酸基とこれらの官能基との結合としては、例えば、脱水縮合による共有結合や、水素結合が挙げられる。そこで、子粒子4の付着を良好に行う観点からは、母粒子2の表面には、水酸基、カルボキシル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基等が形成されていることが好ましい。   First, as the mother particle 2, particles made of only the metal as described above, or particles obtained by coating an organic or inorganic core particle with a metal by a method such as plating are prepared. The mother particle 2 preferably has a predetermined functional group formed on the surface thereof. According to the mother particle 2 having a predetermined functional group formed on the surface, the second polymer 8 and the child particle 4 can be satisfactorily adhered to the surface of the mother particle 2. For example, a hydroxyl group can form a strong bond with a hydroxyl group, a carboxyl group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, an amino group, or a glycidyl group. As a bond between the hydroxyl group and these functional groups, for example, by dehydration condensation A covalent bond and a hydrogen bond are mentioned. Therefore, from the viewpoint of favorably attaching the child particles 4, it is preferable that a hydroxyl group, a carboxyl group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, or the like is formed on the surface of the mother particle 2.

上記のような官能基が表面に形成された母粒子2の態様としては、母粒子2そのものが表面に上記官能基を有する場合や、母粒子2の表面に上記官能基を有する化合物が付着している場合等が挙げられる。後者の場合、母粒子2の表面を、上記官能基を有する化合物によって処理することにより、母粒子2の表面に上記官能基を形成することができる。特に、母粒子2の凝集を起こりにくくする観点からは、以下の方法が好ましい。   As the aspect of the mother particle 2 having the functional group formed on the surface, the mother particle 2 itself has the functional group on the surface, or the compound having the functional group adheres to the surface of the mother particle 2. And the like. In the latter case, the functional group can be formed on the surface of the mother particle 2 by treating the surface of the mother particle 2 with the compound having the functional group. In particular, from the viewpoint of making aggregation of the mother particles 2 difficult to occur, the following method is preferable.

例えば、母粒子2が、金又はパラジウムからなる表面を有している場合、その表面を、金やパラジウムに対して配位結合を形成する官能基と、上述したような母粒子2の表面に形成させる官能基(水酸基、カルボキシル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基等)との両方を有する化合物で処理する方法が挙げられる。金やパラジウムに対して配位結合を形成する官能基としては、メルカプト基、スルフィド基、ジスルフィド基が挙げられる。それらの官能基を有する化合物としては、メルカプト酢酸、2−メルカプトエタノール、メルカプト酢酸メチル、メルカプトコハク酸、チオグリセリン、システイン等が挙げられる。   For example, when the mother particle 2 has a surface made of gold or palladium, the surface is formed on the surface of the mother particle 2 as described above with a functional group that forms a coordinate bond with gold or palladium. The method of processing with the compound which has both the functional group to form (a hydroxyl group, a carboxyl group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, etc.) is mentioned. Examples of the functional group that forms a coordinate bond with gold or palladium include a mercapto group, a sulfide group, and a disulfide group. Examples of the compound having these functional groups include mercaptoacetic acid, 2-mercaptoethanol, methyl mercaptoacetate, mercaptosuccinic acid, thioglycerin, cysteine and the like.

また、母粒子2がニッケルからなる表面を有している場合、その表面を、ニッケルに対して強固な結合を形成するシラノール基や水酸基と、母粒子2の表面に形成させる官能基との両方を有する化合物や、母粒子2の表面に形成させる官能基を有する窒素化合物等で処理する方法が挙げられる。そのような化合物としては、例えば、カルボキシベンゾトリアゾール等が挙げられる。   Further, when the mother particle 2 has a surface made of nickel, both the silanol group and the hydroxyl group that form a strong bond with nickel and the functional group that is formed on the surface of the mother particle 2 are used. And a method of treating with a nitrogen compound having a functional group formed on the surface of the mother particle 2 or the like. Examples of such a compound include carboxybenzotriazole.

母粒子2の表面を上記のような化合物で処理する方法としては、母粒子2の表面に上記化合物を付着させることができれば特に制限されないが、例えば、メタノールやエタノール等の有機溶媒中に、上述した化合物(メルカプト酢酸、カルボキシベンゾトリアゾール等)を10〜100mmol/Lの濃度となる程度に分散し、その溶液の中に母粒子2を分散させた後、母粒子2を取り出す方法が挙げられる。   The method of treating the surface of the mother particle 2 with the above compound is not particularly limited as long as the compound can be attached to the surface of the mother particle 2. For example, the above-described method may be performed in an organic solvent such as methanol or ethanol. Examples include a method in which the obtained compounds (mercaptoacetic acid, carboxybenzotriazole, etc.) are dispersed to a concentration of 10 to 100 mmol / L, the mother particles 2 are dispersed in the solution, and then the mother particles 2 are taken out.

このように、母粒子2の表面に水酸基、カルボキシル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基等が形成されていると、その全体の表面電位(ゼータ電位)は、通常(pHが中性領域である場合)はマイナスである。一方、子粒子4も、子粒子4自体やその表面に付着した第1の重合体6により、表面に水酸基やシラノール、グリシジル基が存在している場合があり、その場合、全体としての表面電位が通常マイナスとなる。   Thus, when a hydroxyl group, a carboxyl group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group or the like is formed on the surface of the mother particle 2, the overall surface potential (zeta potential) is usually (when the pH is in a neutral region). ) Is negative. On the other hand, the child particle 4 may have a hydroxyl group, a silanol, or a glycidyl group on the surface due to the child particle 4 itself or the first polymer 6 attached to the surface thereof. Is usually negative.

ところが、表面電位がマイナスの粒子に対し、表面電位がマイナスの粒子を付着させることは、それらが反発するため、通常容易ではない。その場合、母粒子2の表面に、上述した第2の重合体8(特に高分子電解質)を付着させることで、そのような反発が生じないようにして、母粒子2の表面に子粒子4を良好に付着させることが可能となる。   However, it is usually not easy to attach particles having a negative surface potential to particles having a negative surface potential because they repel. In that case, the above-described second polymer 8 (particularly, polymer electrolyte) is adhered to the surface of the mother particle 2 so that such repulsion does not occur, and the child particle 4 is formed on the surface of the mother particle 2. Can be adhered well.

第2の重合体8が表面に付着した母粒子2は、例えば、母粒子2を、第2の重合体8を含む溶液(以下、「第2の重合体溶液」という。)中に分散させた後、これにより第2の重合体8が表面に付着した母粒子2を、第2の重合体溶液から取り出し、更に必要に応じて乾燥等を行うことにより得ることができる。第2の重合体8を含む溶液は、第2の重合体8を溶媒に溶解又は分散させて得ることができる。   For example, the mother particles 2 having the second polymer 8 attached to the surface thereof are dispersed in a solution containing the second polymer 8 (hereinafter referred to as “second polymer solution”). Thereafter, the mother particles 2 to which the second polymer 8 is adhered to the surface can be taken out from the second polymer solution and dried or the like if necessary. The solution containing the second polymer 8 can be obtained by dissolving or dispersing the second polymer 8 in a solvent.

上記のようにして、第2の重合体8が表面に付着した母粒子2が得られるが、第1の重合体6が表面に付着した子粒子4も同様にして得ることができる。すなわち、子粒子4を、第1の重合体6を含む溶液中に分散させた後、第1の重合体6が表面に付着した子粒子4を溶液から取り出し、必要に応じて乾燥等を行うことにより得ることができる。第1の重合体6を含む溶液は、第1の重合体6を、溶媒に溶解又は分散させて得ることができる。溶媒としては、第1の重合体6を溶解又は分散可能なものであれば特に限定されない。   As described above, the mother particle 2 having the second polymer 8 attached to the surface is obtained, but the child particle 4 having the first polymer 6 attached to the surface can be obtained in the same manner. That is, after the child particles 4 are dispersed in a solution containing the first polymer 6, the child particles 4 having the first polymer 6 attached to the surface are taken out of the solution and dried or the like as necessary. Can be obtained. The solution containing the first polymer 6 can be obtained by dissolving or dispersing the first polymer 6 in a solvent. The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve or disperse the first polymer 6.

導電粒子1は、上記のように第2の重合体8が表面に付着した母粒子2に、第1の重合体6が表面に付着した子粒子4を吸着等させることによって得ることができる。例えば、第1の重合体6が表面に付着した子粒子4を、所定の溶媒に分散させた溶液(以下、「子粒子分散液」という。)中に、第2の重合体8が表面に付着した母粒子2を分散させた後、これにより子粒子4が表面に付着した母粒子2を取り出す方法が挙げられる。   The conductive particles 1 can be obtained by adsorbing the child particles 4 with the first polymer 6 attached to the surface to the mother particles 2 with the second polymer 8 attached to the surface as described above. For example, in a solution in which the child particles 4 having the first polymer 6 attached to the surface are dispersed in a predetermined solvent (hereinafter referred to as “child particle dispersion”), the second polymer 8 is formed on the surface. There is a method in which after the adhered mother particles 2 are dispersed, the mother particles 2 to which the child particles 4 adhere to the surface are removed.

特に、導電粒子1の好適な製造方法としては、母粒子2の表面に、第2の重合体8及び第1の重合体6が表面に付着した子粒子4を順に付着させる方法が好ましい。具体的には、(1)水酸基、カルボキシル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基等が表面に形成された母粒子2を、第2の重合体溶液中に分散させ、母粒子2の表面に第2の重合体8を付着させた後、リンスする工程、及び、(2)第2の重合体8が表面に付着した母粒子2を、子粒子分散液中に分散させ、第2の重合体8が付着した母粒子2の表面に、第1の重合体6が表面に付着した子粒子4を付着させた後、リンスする工程を行うことにより、母粒子2の表面に子粒子4が付着した導電粒子1を得ることができる。   In particular, as a preferred method for producing the conductive particles 1, a method in which the child particles 4 having the second polymer 8 and the first polymer 6 attached to the surface of the mother particle 2 are sequentially attached to the surface of the mother particle 2 is preferable. Specifically, (1) the mother particle 2 having a hydroxyl group, a carboxyl group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group or the like formed on the surface is dispersed in the second polymer solution, and the second particle is dispersed on the surface of the mother particle 2. A step of rinsing after the polymer 8 is adhered, and (2) the mother particles 2 having the second polymer 8 adhered to the surface are dispersed in the child particle dispersion liquid, and the second polymer 8 After the child particles 4 having the first polymer 6 attached to the surface are attached to the surface of the mother particles 2 to which the particles are attached, the child particles 4 are attached to the surface of the mother particles 2 by performing a rinsing step. Conductive particles 1 can be obtained.

このような方法は、交互積層法(Layer−by−Layer assembly)と呼ばれる(G.Decherら,Thin Solid Films,210/211,p831(1992))方法に基づくものである。交互積層法では、正電荷を有するポリマー電解質(ポリカチオン)の水溶液及び負電荷を有するポリマー電解質(ポリアニオン)の水溶液に、基材を交互に浸漬することにより、基板上に静電的引力によって吸着したポリカチオンとポリアニオンの組が積層して複合膜(交互積層膜)が得られる。このような交互積層法では、静電的な引力によって、基材上に形成された材料の電荷と、溶液中の反対電荷を有する材料が引き合うことにより膜成長するので、吸着が進行して電荷の中和が起こると、それ以上の吸着が起こらなくなる。したがって、この吸着が飽和点まで達すると、それ以上膜厚が増加することはない。   Such a method is based on a method called a layer-by-layer assembly (G. Decher et al., Thin Solid Films, 210/211, p831 (1992)). In the alternate lamination method, the substrate is alternately immersed in an aqueous solution of a polymer electrolyte (polycation) having a positive charge and an aqueous solution of a polymer electrolyte (polyanion) having a negative charge, and is adsorbed by electrostatic attraction on a substrate. A composite membrane (alternate laminated membrane) is obtained by laminating a combination of the polycation and the polyanion. In such an alternate lamination method, the film grows by attracting the charge of the material formed on the substrate and the material having the opposite charge in the solution by electrostatic attraction, so that the adsorption progresses and the charge grows. When the neutralization of the water occurs, no further adsorption occurs. Therefore, when this adsorption reaches the saturation point, the film thickness does not increase any more.

このような交互積層法は、微粒子を用いる場合にも応用することができることが報告されている。例えば、シリカやチタニア、セリアの各微粒子分散液と、これらの微粒子の表面電荷と反対電荷を有する高分子電解質の溶液とを用いて、微粒子及び高分子電解質を交互積層法で積層する方法が知られている(Lvovら,Langmuir、Vol.13、(1997),p6195−6203)。この方法によれば、負の表面電荷を有する絶縁性子粒子と、その反対電荷を持つポリカチオンであるポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド(PDDA)やポリエチレンイミン(PEI)等とを交互に積層することができ、絶縁性子粒子と高分子電解質が交互に積層された微粒子積層薄膜を形成することが可能となる。   It has been reported that such an alternate lamination method can be applied even when fine particles are used. For example, a method of laminating fine particles and a polymer electrolyte by an alternating lamination method using a dispersion of fine particles of silica, titania, and ceria and a solution of a polymer electrolyte having a charge opposite to the surface charge of these fine particles is known. (Lvov et al., Langmuir, Vol. 13, (1997), p6195-6203). According to this method, insulator particles having a negative surface charge and polydiallyldimethylammonium chloride (PDDA) and polyethyleneimine (PEI), which are polycations having the opposite charge, can be alternately stacked. It becomes possible to form a fine particle laminated thin film in which insulator particles and polymer electrolyte are alternately laminated.

上述のように、母粒子2の表面に第2の重合体8を付着させた後、及び、第2の重合体8が付着した母粒子2の表面にm第1の重合体6が表面に付着した子粒子4を付着させた後には、溶媒のみを用いてそれらをリンスすることにより、余分な第2の重合体溶液や子粒子分散液を洗い流すことが好ましい。このようなリンスには、水、アルコール、アセトン等を用いることができる。   As described above, after the second polymer 8 is attached to the surface of the mother particle 2, and on the surface of the mother particle 2 to which the second polymer 8 is attached, the m first polymer 6 is attached to the surface. After the attached child particles 4 are attached, it is preferable to rinse away the excess second polymer solution and child particle dispersion by rinsing them only with a solvent. For such rinsing, water, alcohol, acetone or the like can be used.

また、この方法で用いる第2の重合体溶液としては、第2の重合体8を水又は有機溶媒の混合溶媒に溶解したものが挙げられる。水溶性の有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、アセトン、ジメチルホルムアミド、アセトニトリルなどが挙げられる。なお、溶液中の第2の重合体8の濃度は、0.01〜10%(重量基準)程度が好ましい。また、第2の重合体溶液のpHは、特に限定されない。   Moreover, as a 2nd polymer solution used by this method, what melt | dissolved the 2nd polymer 8 in the mixed solvent of water or an organic solvent is mentioned. Examples of the water-soluble organic solvent include methanol, ethanol, propanol, acetone, dimethylformamide, acetonitrile, and the like. The concentration of the second polymer 8 in the solution is preferably about 0.01 to 10% (weight basis). Further, the pH of the second polymer solution is not particularly limited.

上述した方法においては、第2の重合体8の種類や分子量、また第2の重合体溶液の濃度を調整することによって、母粒子2が子粒子4によって被覆される割合(子粒子4の被覆率)を適度にコントロールすることが出来る。   In the method described above, by adjusting the type and molecular weight of the second polymer 8 and the concentration of the second polymer solution, the ratio of the mother particles 2 covered by the child particles 4 (the coating of the child particles 4). Rate) can be controlled moderately.

例えば、第2の重合体8としてポリエチレンイミン等の電荷密度の高い高分子電解質を用いた場合は、子粒子4の被覆率が高くなる傾向がある。一方、第2の重合体8としてポリジアリルジメチルアンモニウムクロリド等の電荷密度の低い高分子電解質を用いた場合は、子粒子4の被覆率が低くなる傾向がある。また、第2の重合体8の分子量が大きい場合、子粒子4の被覆率が高くなる傾向があり、第2の重合体8の分子量が小さい場合、子粒子4の被覆率が低くなる傾向がある。さらに、第2の重合体溶液が高濃度である場合、子粒子4の被覆率が高くなる傾向があり、第2の重合体溶液が低濃度である場合、子粒子4の被覆率が低くなる傾向がある。   For example, when a polymer electrolyte having a high charge density such as polyethyleneimine is used as the second polymer 8, the coverage of the child particles 4 tends to increase. On the other hand, when a polymer electrolyte having a low charge density such as polydiallyldimethylammonium chloride is used as the second polymer 8, the coverage of the child particles 4 tends to be low. Further, when the molecular weight of the second polymer 8 is large, the coverage of the child particles 4 tends to be high, and when the molecular weight of the second polymer 8 is small, the coverage of the child particles 4 tends to be low. is there. Furthermore, when the second polymer solution has a high concentration, the coverage of the child particles 4 tends to increase, and when the second polymer solution has a low concentration, the coverage of the child particles 4 decreases. Tend.

以上のようにして、母粒子2の表面に子粒子4を付着させた導電粒子1を、さらに加熱乾燥することによって母粒子2と子粒子4との結合を強化することができる。そのように結合力が向上する理由としては、それらの粒子が表面に有している官能基同士が化学的に結合することが挙げられる。加熱乾燥の温度は60〜200℃が好ましく、また加熱時間は10〜180分の範囲が好ましい。温度が60℃より低い場合や、加熱時間が10分より短い場合は、子粒子4が母粒子2から剥離し易くなるおそれがあり、温度が200℃より高い場合や、加熱時間が180分より長い場合は、導電粒子1の変形が生じ易くなるおそれがある。   As described above, the bonding between the mother particles 2 and the child particles 4 can be strengthened by further heating and drying the conductive particles 1 having the child particles 4 attached to the surfaces of the mother particles 2. The reason why the bonding force is improved is that the functional groups of these particles are chemically bonded to each other. The drying temperature is preferably 60 to 200 ° C., and the heating time is preferably in the range of 10 to 180 minutes. When the temperature is lower than 60 ° C or when the heating time is shorter than 10 minutes, the child particles 4 may be easily peeled off from the mother particle 2, and when the temperature is higher than 200 ° C or when the heating time is longer than 180 minutes. If the length is long, the conductive particles 1 may be easily deformed.

なお、以上のようにして作製した導電粒子1は、表面の官能基の量や種類によっては、信頼性が不十分となるおそれがある。そこで、そのようなおそれのある導電粒子1は、さらに表面ンがシリコーンオリゴマーによって処理され、表面にシリコーンオリゴマーが付着したものであると好ましい。このような導電粒子1は、たとえ子粒子4を母粒子2に付着させた時点で導電粒子1の信頼性を低下させるおそれがある官能基を有していたとしても、高い絶縁信頼性を有するものとなる。ここで用いるシリコーンオリゴマーとしては、メチル基やフェニル基といった疎水性の官能基を有するものが挙げられ、分子量が500〜5000程度のものを用いることが好ましい。   In addition, there exists a possibility that the reliability of the electroconductive particle 1 produced as mentioned above may become inadequate depending on the quantity and kind of surface functional group. Therefore, it is preferable that the conductive particles 1 having such a fear are those in which the surface is further treated with a silicone oligomer and the silicone oligomer is attached to the surface. Such a conductive particle 1 has high insulation reliability even if it has a functional group that may reduce the reliability of the conductive particle 1 at the time when the child particle 4 is attached to the mother particle 2. It will be a thing. Examples of the silicone oligomer used here include those having a hydrophobic functional group such as a methyl group and a phenyl group, and those having a molecular weight of about 500 to 5,000 are preferably used.

(異方導電性接着剤)
上述したような導電粒子1は、接着剤に分散することによって異方導電性接着剤として用いることができる。
(Anisotropic conductive adhesive)
The conductive particles 1 as described above can be used as an anisotropic conductive adhesive by being dispersed in an adhesive.

本実施形態における接着剤としては、熱反応性樹脂と硬化剤との混合物を用いることができる。なかでも、接着剤としては、エポキシ樹脂と潜在性硬化剤との混合物が好ましい。潜在性硬化剤としては、イミダゾール系、ヒドラジド系、三フッ化ホウ素−アミン錯体、スルホニウム塩、アミンイミド、ポリアミンの塩、ジシアンジアミド等が挙げられる。この他に、接着剤としては、ラジカル反応性樹脂と有機過酸化物との混合物や、紫外線等のエネルギー線により硬化する硬化性樹脂を適用することもできる。   As the adhesive in the present embodiment, a mixture of a heat-reactive resin and a curing agent can be used. Especially, as an adhesive agent, the mixture of an epoxy resin and a latent hardener is preferable. Examples of the latent curing agent include imidazole series, hydrazide series, boron trifluoride-amine complex, sulfonium salt, amine imide, polyamine salt, dicyandiamide, and the like. In addition, as the adhesive, a mixture of a radical reactive resin and an organic peroxide or a curable resin that is cured by energy rays such as ultraviolet rays can be applied.

エポキシ樹脂としては、エピクロルヒドリンとビスフェノールAやF、AD等とから誘導されるビスフェノール型エポキシ樹脂、エピクロルヒドリンとフェノールノボラックやクレゾールノボラックとから誘導されるエポキシノボラック樹脂、ナフタレン環を含んだ骨格を有するナフタレン系エポキシ樹脂、グリシジルアミン、グリシジルエーテル、ビフェニル、脂環式等の1分子内に2個以上のグリシジル基を有する各種のエポキシ化合物等が挙げられる。これらは、単独で又は2種以上を混合して用いることができる。   Epoxy resins include bisphenol-type epoxy resins derived from epichlorohydrin and bisphenol A, F, AD, and the like, epoxy novolac resins derived from epichlorohydrin and phenol novolac and cresol novolac, and naphthalene having a skeleton containing a naphthalene ring Examples thereof include various epoxy compounds having two or more glycidyl groups in one molecule such as epoxy resin, glycidylamine, glycidyl ether, biphenyl, and alicyclic. These can be used alone or in admixture of two or more.

これらのエポキシ樹脂としては、不純物イオン(Na+、Cl−等)や、加水分解性塩素等を300ppm以下に低減した高純度品を用いることが、異方導電性接着剤を用いて接着を行った場合のエレクトロマイグレーションを防止し易いので好ましい。   As these epoxy resins, it is possible to use a high-purity product in which impurity ions (Na +, Cl-, etc.), hydrolyzable chlorine, etc. are reduced to 300 ppm or less, and adhesion is performed using an anisotropic conductive adhesive. This is preferable because it is easy to prevent electromigration.

接着剤には、接着後の応力を低減するために、又は接着性を向上するために、ブタジエンゴム、アクリルゴム、スチレン−ブタジエンゴム、シリコーンゴム等を更に混合することができる。   In order to reduce the stress after adhesion or to improve the adhesiveness, butadiene rubber, acrylic rubber, styrene-butadiene rubber, silicone rubber or the like can be further mixed into the adhesive.

異方導電性接着剤の形状としては、例えば、ペースト状やフィルム状が挙げられる。フィルム状の異方導電性接着剤とするためには、接着剤にフェノキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂等の熱可塑性樹脂を配合することが効果的である。これらの熱可塑性樹脂は、フィルム形成性高分子として機能するほか、熱反応性樹脂が硬化する際の応力を緩和することもできる。特に、これらのフィルム形成性高分子が水酸基等の官能基を有する場合、異方導電性接着剤による接着性が更に向上するためより好ましい傾向にある。   Examples of the shape of the anisotropic conductive adhesive include a paste shape and a film shape. In order to obtain a film-like anisotropic conductive adhesive, it is effective to add a thermoplastic resin such as a phenoxy resin, a polyester resin, or a polyamide resin to the adhesive. These thermoplastic resins function as a film-forming polymer and can also relieve stress when the thermoreactive resin is cured. In particular, when these film-forming polymers have a functional group such as a hydroxyl group, the adhesiveness due to the anisotropic conductive adhesive is further improved, which tends to be more preferable.

フィルム状の異方導電性接着剤は、例えば、エポキシ樹脂、アクリルゴム、潜在性硬化剤を含む接着剤(接着組成物)を有機溶剤に溶解又は分散させて液状化させ、これを剥離性を有する基材上に塗布し、さらに潜在性硬化剤の活性温度以下で溶剤を除去することによって得ることができる。この際、導電粒子1は、接着剤を有機溶剤に溶解又は分散させる際に添加することが好ましい。有機溶剤としては、芳香族炭化水素系と含酸素系の混合溶剤が、優れた溶解性が得られるので好ましい。   For example, an anisotropic conductive adhesive in the form of a film is obtained by dissolving or dispersing an adhesive (adhesive composition) containing an epoxy resin, acrylic rubber, and a latent curing agent in an organic solvent to liquefy the adhesive. It can apply | coat on the base material which has, and can obtain by removing a solvent below the active temperature of a latent hardening | curing agent. At this time, the conductive particles 1 are preferably added when the adhesive is dissolved or dispersed in an organic solvent. As the organic solvent, an aromatic hydrocarbon-based and oxygen-containing mixed solvent is preferable because excellent solubility can be obtained.

フィルム状の異方導電性接着剤の厚みは、導電粒子1の粒径や異方性導電接着剤の特性を考慮して決定することができる。フィルム状の異方導電性接着剤としては、導電粒子1を含有する層と、導電粒子1を含有しない層との2層構成を有するものが好ましい。このような2層構成のフィルム状の異方導電性接着剤を用いる場合、導電粒子1を含有しない層を金属バンプ側に配置し、導電粒子1を含有する層をガラス側に配置することで、導電粒子1が高効率で金属バンプに補足されるようになる。   The thickness of the film-like anisotropic conductive adhesive can be determined in consideration of the particle diameter of the conductive particles 1 and the characteristics of the anisotropic conductive adhesive. The film-like anisotropic conductive adhesive preferably has a two-layer structure of a layer containing the conductive particles 1 and a layer not containing the conductive particles 1. When using such a film-like anisotropic conductive adhesive having a two-layer structure, a layer not containing the conductive particles 1 is arranged on the metal bump side, and a layer containing the conductive particles 1 is arranged on the glass side. The conductive particles 1 are captured by the metal bumps with high efficiency.

そのような効果をより良好に得る観点からは、導電粒子1を含有する層はなるべく薄いことが好ましい。また、導電粒子1を含有しない層は、導電粒子1を含有する層よりも厚くて流動性が高いことが好ましい。例えば、導電粒子1を含有する層が厚み3〜15μmの範囲であり、導電粒子1を含有しない層が厚み7〜20μmの範囲であり、且つ、導電粒子1を含有する層が、異方導電性フィルム全体の50重量%以下であることが好ましい。   From the viewpoint of obtaining such an effect better, the layer containing the conductive particles 1 is preferably as thin as possible. Further, the layer not containing the conductive particles 1 is preferably thicker and has higher fluidity than the layer containing the conductive particles 1. For example, the layer containing the conductive particles 1 has a thickness of 3 to 15 μm, the layer not containing the conductive particles 1 is in the range of 7 to 20 μm, and the layer containing the conductive particles 1 is anisotropically conductive. It is preferable that it is 50 weight% or less of the whole adhesive film.

さらに、フィルム状の異方導電性接着剤は、ガラスやITOとの接着性を強化する観点から、上記の2層構造に加えて、ガラスやITOが配置される側に、更に厚み4μm以下の導電粒子を含有しない層を備える3層構成を有していても好ましい。このような導電粒子を含有しない層は、流動性が高いことが特に好ましい。   Furthermore, the film-like anisotropic conductive adhesive has a thickness of 4 μm or less on the side where the glass or ITO is disposed in addition to the above two-layer structure from the viewpoint of enhancing the adhesion with glass or ITO. It is preferable to have a three-layer structure including a layer not containing conductive particles. It is particularly preferable that such a layer not containing conductive particles has high fluidity.

(接続構造体)
上述したような異方導電性接着剤を用いてチップ等と基板等とを接続することによって、接続構造体を得ることができる。以下、異方性導電接着剤を用いた接続構造体の製造方法の一例を、図2を参照して説明する。図2は、接続構造体の製造工程を模式的に示す図である。
(Connection structure)
A connection structure can be obtained by connecting a chip or the like to a substrate or the like using the anisotropic conductive adhesive as described above. Hereinafter, an example of a method for manufacturing a connection structure using an anisotropic conductive adhesive will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a diagram schematically showing a manufacturing process of the connection structure.

図2(a)は、チップ10を異方導電性接着剤20を用いて基板19と接続する際のそれぞれの配置を示す模式断面図である。チップ10は、ICチップ11上に金属バンプ12が形成された構成を有する。また、基板19は、ガラス基板18上に電極17が形成された構成を有する。ここで、電極17は、ITO(Indium Tin Oxide)電極又はIZO(Indium Zinc Oxide)電極である。   FIG. 2A is a schematic cross-sectional view showing each arrangement when the chip 10 is connected to the substrate 19 using the anisotropic conductive adhesive 20. The chip 10 has a configuration in which metal bumps 12 are formed on the IC chip 11. The substrate 19 has a configuration in which the electrode 17 is formed on the glass substrate 18. Here, the electrode 17 is an ITO (Indium Tin Oxide) electrode or an IZO (Indium Zinc Oxide) electrode.

さらに、異方導電性接着剤20は、導電粒子1を含有する層(導電粒子含有層14)が、一対の導電粒子1を含有しない層(導電粒子非含有層13,15)に挟まれた3層構成を有する。導電粒子含有層14は、接着剤16中に導電粒子1が分散されたものである。ここで、導電粒子1は、図1に示す導電粒子1と同じ構成を有するものであるが、説明の便宜上、第1の重合体6及び第2の重合体8は省略する。接着剤16、導電粒子非含有層13,15は、いずれも同じ接着剤によって構成される。接着剤としては上記で例示したものが挙げられる。   Further, in the anisotropic conductive adhesive 20, the layer containing the conductive particles 1 (conductive particle-containing layer 14) is sandwiched between the pair of layers not containing the conductive particles 1 (conductive particle-free layers 13, 15). It has a three-layer structure. The conductive particle-containing layer 14 is a layer in which the conductive particles 1 are dispersed in the adhesive 16. Here, the conductive particles 1 have the same configuration as the conductive particles 1 shown in FIG. 1, but the first polymer 6 and the second polymer 8 are omitted for convenience of explanation. The adhesive 16 and the conductive particle non-containing layers 13 and 15 are both made of the same adhesive. Examples of the adhesive include those exemplified above.

図2(a)に示すように、この工程では、チップ10と基板19とを、それらの金属バンプ12と電極17とが向き合うように対向配置し、それらの間3層構成のフィルム状の異方導電性接着剤20を配置する。また、異方導電性接着剤20は、導電粒子非含有層13がチップ10側に、導電粒子非含有層15が基板19側に向くように配置する。   As shown in FIG. 2A, in this step, the chip 10 and the substrate 19 are arranged to face each other so that the metal bumps 12 and the electrodes 17 face each other, and a film-like structure having a three-layer structure therebetween. A one-way conductive adhesive 20 is disposed. The anisotropic conductive adhesive 20 is disposed such that the conductive particle non-containing layer 13 faces the chip 10 side and the conductive particle non-containing layer 15 faces the substrate 19 side.

そして、このように配置したチップ10、異方導電性接着剤20及び基板19を、加熱及び加圧しながら積層方向に圧着することで、図2(b)に示す接続構造体100が得られる。   And the connection structure 100 shown in FIG.2 (b) is obtained by crimping | bonding the chip | tip 10, the anisotropic conductive adhesive 20, and the board | substrate 19 which were arranged in this way to a lamination direction, heating and pressurizing.

このような接続構造体100の製造においては、導電粒子1が、表面の子粒子4によって金属バンプ12に補足され易くなるので、横方向への流動が抑制される。その結果、積層方向(金属バンプ12と電極17との間)の導電性が良好に得られる。また、導電粒子1の横方向への流動が抑制されるため、金属バンプ12間や電極17間に導電粒子1が流れ込むことが少なくなり、横方向への絶縁性が良好に維持される。またこれにより、横方向の絶縁性を維持し易くなるので、導電粒子1における子粒子4による母粒子2の被覆率を小さくすることができ、積層方向の導電性を向上させることもできる。   In manufacture of such a connection structure 100, since the conductive particles 1 are easily captured by the metal bumps 12 by the child particles 4 on the surface, the lateral flow is suppressed. As a result, good conductivity in the stacking direction (between the metal bump 12 and the electrode 17) can be obtained. In addition, since the flow of the conductive particles 1 in the lateral direction is suppressed, the conductive particles 1 are less likely to flow between the metal bumps 12 and between the electrodes 17, and the insulation in the lateral direction is favorably maintained. Moreover, since it becomes easy to maintain the insulation of a horizontal direction by this, the coverage of the mother particle 2 by the child particle 4 in the electrically-conductive particle 1 can be made small, and the electroconductivity of a lamination direction can also be improved.

また、圧着時には、異方導電性接着剤20における導電粒子非含有層13,15がまず、金属バンプ12や電極17に接触するため、金属バンプ12間や電極17間の埋め込み性や、チップ10と基板19との接着性が良好に得られるようになる。   Moreover, since the conductive particle non-containing layers 13 and 15 in the anisotropic conductive adhesive 20 are first brought into contact with the metal bumps 12 and the electrodes 17 at the time of pressure bonding, the embedding property between the metal bumps 12 and the electrodes 17, and the chip 10. And good adhesion to the substrate 19 can be obtained.

以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention still in detail, this invention is not limited to a following example.

[母粒子M1の作製]
まず、架橋度を調整したジビニルベンゼンとアクリル酸の共重合体からなる平均粒径2.6μmのプラスチック核体10gを準備した。このプラスチック核体は、その表面にカルボキシル基を有するものである。プラスチック核体の硬さ(200℃において粒子直径が20%変位したときの圧縮弾性率(20%K値))は、280kgf/mmであった。
[Preparation of mother particle M1]
First, 10 g of a plastic core having an average particle size of 2.6 μm made of a copolymer of divinylbenzene and acrylic acid having an adjusted degree of crosslinking was prepared. This plastic core has a carboxyl group on its surface. The hardness of the plastic core (compression elastic modulus (20% K value) when the particle diameter is displaced by 20% at 200 ° C.) was 280 kgf / mm 2 .

また、分子量70000の30質量%ポリエチレンイミン水溶液(和光純薬社製)を、超純水で0.3質量%となるように希釈した。   In addition, a 30% by mass polyethyleneimine aqueous solution (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) having a molecular weight of 70,000 was diluted with ultrapure water to 0.3% by mass.

次に、0.3質量%ポリエチレンイミン水溶液300mLに、上記のプラスチック核体10gを加え、室温で15分攪拌した。この分散液を、φ3μmのメンブレンフィルタ(ミリポア社製)により濾過してプラスチック核体を取り出し、取り出されたプラスチック核体を超純水300gに入れ、室温で5分間攪拌した。次いで、この分散液を、φ3μmのメンブレンフィルタ(ミリポア社製)により濾過してプラスチック核体を取り出した後、メンブレンフィルタ上のプラスチック核体を200gの超純水で2回洗浄して、プラスチック核体に吸着していないポリエチレンイミンを除去した。これにより、ポリエチレンイミンが表面に吸着したプラスチック核体を得た。   Next, 10 g of the above plastic core was added to 300 mL of a 0.3 mass% polyethyleneimine aqueous solution, and the mixture was stirred at room temperature for 15 minutes. The dispersion was filtered through a φ3 μm membrane filter (manufactured by Millipore) to take out the plastic core. The taken out plastic core was put into 300 g of ultrapure water and stirred at room temperature for 5 minutes. Next, this dispersion is filtered through a 3 μm membrane filter (manufactured by Millipore) to remove the plastic core, and then the plastic core on the membrane filter is washed twice with 200 g of ultrapure water. Polyethyleneimine not adsorbed on the body was removed. As a result, a plastic core having polyethyleneimine adsorbed on the surface was obtained.

また、平均粒子径100nmのコロイダルシリカ分散液を超純水で希釈して、0.33質量%シリカ粒子分散液(シリカ総量:1g)を得た。   Further, a colloidal silica dispersion having an average particle diameter of 100 nm was diluted with ultrapure water to obtain a 0.33% by mass silica particle dispersion (total amount of silica: 1 g).

この0.33質量%シリカ粒子分散液に、上記のポリエチレンイミンが吸着したプラスチック核体を入れ、室温で15分攪拌した。この分散液を、φ3μmのメンブレンフィルタ(ミリポア社製)により濾過して、プラスチック核体を取り出した。濾液からはシリカが抽出されなかったことから、実質的に全てのシリカ粒子がプラスチック核体に吸着したことが確認された。   The 0.33 mass% silica particle dispersion was charged with the plastic core adsorbed with the polyethyleneimine and stirred at room temperature for 15 minutes. The dispersion was filtered through a φ3 μm membrane filter (Millipore) to take out the plastic core. Since no silica was extracted from the filtrate, it was confirmed that substantially all silica particles were adsorbed on the plastic core.

次いで、シリカ粒子が吸着したプラスチック核体を、超純水200gに入れて室温で5分間攪拌した。この分散液を、φ3μmのメンブレンフィルタ(ミリポア社製)により濾過して、プラスチック核体を取り出した後、メンブレンフィルタ上のプラスチック核体を200gの超純水で2回洗浄した。洗浄後のプラスチック核体を、80℃で30分及び120℃で1時間の条件で順に加熱することにより乾燥させて、表面にシリカ粒子が吸着したプラスチック核体(複合粒子)を得た。   Next, the plastic core on which the silica particles were adsorbed was placed in 200 g of ultrapure water and stirred at room temperature for 5 minutes. This dispersion was filtered through a 3 μm membrane filter (manufactured by Millipore) to remove the plastic core, and then the plastic core on the membrane filter was washed twice with 200 g of ultrapure water. The plastic nuclei after washing were dried by sequentially heating at 80 ° C. for 30 minutes and 120 ° C. for 1 hour to obtain plastic nuclei (composite particles) having silica particles adsorbed on the surface.

上記の複合粒子を1g分取し、共振周波数28kHz、出力100Wの超音波を15分間照射した後、パラジウム触媒であるアトテックネネオガント834(アトテックジャパン株式会社製:商品名)を8質量%含有するパラジウム触媒化液100mLに添加して、超音波を照射しながら30℃で30分攪拌した。その後、φ3μmのメンブレンフィルタ(ミリポア社製)を用いた濾過により複合粒子を取出し、取り出された複合粒子を水洗した。水洗後の複合粒子を、pH6.0に調整された0.5質量%ジメチルアミンボラン液に添加し、表面が活性化された複合粒子を得た。   1 g of the above composite particles were collected, irradiated with ultrasonic waves having a resonance frequency of 28 kHz and an output of 100 W for 15 minutes, and then contained 8% by mass of Atotech Nene Gantt 834 (trade name, manufactured by Atotech Japan Co., Ltd.) which is a palladium catalyst. The resulting solution was added to 100 mL of the palladium catalyzed solution and stirred at 30 ° C. for 30 minutes while being irradiated with ultrasonic waves. Thereafter, the composite particles were taken out by filtration using a φ3 μm membrane filter (Millipore), and the taken out composite particles were washed with water. The composite particles after washing with water were added to a 0.5% by mass dimethylamine borane solution adjusted to pH 6.0 to obtain composite particles whose surface was activated.

この表面が活性化された複合粒子を、蒸留水に浸漬し、超音波分散して、懸濁液を得た。この懸濁液を50℃で攪拌しながら、硫酸ニッケル6水和物50g/L、次亜リン酸ナトリウム一水和物20g/L、ジメチルアミンボラン2.5g/L及びクエン酸50g/Lを混合してpHを7.5に調整した無電解めっき液Aを徐々に添加した。これにより、複合粒子上に無電解ニッケルめっき層を形成させた。なお、ニッケル中の含リン率は約7%であった。サンプリングと原子吸光によって、ニッケルの膜厚を調整し、ニッケルめっき層の膜厚が750Åになった時点で無電解めっき液Aの添加を中止した。   The surface-activated composite particles were immersed in distilled water and ultrasonically dispersed to obtain a suspension. While stirring this suspension at 50 ° C., nickel sulfate hexahydrate 50 g / L, sodium hypophosphite monohydrate 20 g / L, dimethylamine borane 2.5 g / L and citric acid 50 g / L were added. The electroless plating solution A having a pH adjusted to 7.5 by mixing was gradually added. As a result, an electroless nickel plating layer was formed on the composite particles. The phosphorus content in nickel was about 7%. The thickness of the nickel was adjusted by sampling and atomic absorption, and the addition of the electroless plating solution A was stopped when the thickness of the nickel plating layer reached 750 mm.

無電解ニッケルめっき層が形成された複合粒子を濾過した後、100mLの純水を用いて60秒洗浄し、突起が形成されたニッケル膜を表面に有する導電粒子(母粒子)を得た。ニッケル膜の突起の高さをSEMで観測したところ、プラスチック核体に吸着したシリカ粒子の粒径とほぼ同じ100nmであった。また、この母粒子における突起による被覆率を、SEM像の画像解析により測定した結果、約40%であった。さらに、理研電子製BHV−525及び比重計を用いて単位体積あたりの飽和磁化を測定したところ、0.5emu/cmであった。 The composite particles on which the electroless nickel plating layer was formed were filtered and then washed with 100 mL of pure water for 60 seconds to obtain conductive particles (mother particles) having a nickel film on which protrusions were formed on the surface. When the height of the protrusion of the nickel film was observed with an SEM, it was 100 nm, which was almost the same as the particle size of the silica particles adsorbed on the plastic core. Further, the coverage of the mother particles by the protrusions was measured by image analysis of the SEM image, and was about 40%. Furthermore, when the saturation magnetization per unit volume was measured using BHV-525 manufactured by Riken Denshi and a specific gravity meter, it was 0.5 emu / cm 3 .

[シリコーンオリゴマーの調製]
(シリコーンオリゴマー1)
攪拌装置、コンデンサー及び温度計を備えたガラスフラスコに、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン118g及びメタノール5.9gを配合した溶液を入れ、これに活性白土5g及び蒸留水4.8gを添加し、75℃で一定時間攪拌して、分子量2000(GPCによる重量平均分子量測定、ポリスチレン換算)のシリコーンオリゴマーを合成した。得られたシリコーンオリゴマーは、水酸基と反応する末端官能基としてメトキシ基又はシラノール基を有するものである。
[Preparation of silicone oligomer]
(Silicone oligomer 1)
A glass flask equipped with a stirrer, a condenser and a thermometer is charged with a solution containing 118 g of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 5.9 g of methanol, and 5 g of activated clay and 4.8 g of distilled water are added thereto. The mixture was stirred at 75 ° C. for a certain time to synthesize a silicone oligomer having a molecular weight of 2000 (weight average molecular weight measurement by GPC, converted to polystyrene). The obtained silicone oligomer has a methoxy group or a silanol group as a terminal functional group that reacts with a hydroxyl group.

(シリコーンオリゴマー2)
攪拌時間及び反応温度を調整して、分子量を600とした以外はシリコーンオリゴマー1と同様にして、シリコーンオリゴマー2を合成した。
(Silicone oligomer 2)
Silicone oligomer 2 was synthesized in the same manner as silicone oligomer 1, except that the molecular weight was 600 by adjusting the stirring time and reaction temperature.

(シリコーンオリゴマー3の作製)
攪拌時間及び反応温度を調整し、分子量を1100とした以外はシリコーンオリゴマー1と同様にしてシリコーンオリゴマー3を合成した。
(Preparation of silicone oligomer 3)
Silicone oligomer 3 was synthesized in the same manner as silicone oligomer 1 except that the stirring time and reaction temperature were adjusted and the molecular weight was 1100.

(シリコーンオリゴマー4の作製)
攪拌時間及び反応温度を調整し、分子量を3200とした以外はシリコーンオリゴマー1と同様にしてシリコーンオリゴマー4を合成した。
(Preparation of silicone oligomer 4)
Silicone oligomer 4 was synthesized in the same manner as silicone oligomer 1 except that the stirring time and reaction temperature were adjusted and the molecular weight was 3200.

(シリコーンオリゴマー5の作製)
攪拌時間及び反応温度を調整し、分子量を3900とした以外はシリコーンオリゴマー1と同様にしてシリコーンオリゴマー5を合成した。
(Preparation of silicone oligomer 5)
Silicone oligomer 5 was synthesized in the same manner as silicone oligomer 1 except that the stirring time and reaction temperature were adjusted and the molecular weight was 3900.

(シリコーンオリゴマー6の作製)
攪拌時間及び反応温度を調整し、分子量を6000とした以外はシリコーンオリゴマー1と同様にしてシリコーンオリゴマー6を作製した。
(Preparation of silicone oligomer 6)
Silicone oligomer 6 was produced in the same manner as silicone oligomer 1 except that the stirring time and reaction temperature were adjusted and the molecular weight was 6000.

[子粒子の製造]
(子粒子C1)
3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン(73.13質量%)、アクリル酸メチル(5.42質量%)、メタクリル酸(19.5質量%)、アゾビスイソブチロ二トリル(1.95質量%)の組成で微粒子を作製した。すなわち、500mlフラスコに、上記各化合物をそれぞれ上記の濃度を調整して一括して仕込み、さらに溶媒としてアセト二トリル350gを加えた後、窒素(100mL/min)により1時間処理して溶液中の溶存酸素を置換した。溶存酸素計(飯島電子工業製DoメーターB506)を用いて溶存酸素の濃度を測定したところ、0.07mg/mLであった。
[Manufacture of child particles]
(Child particle C1)
3-acryloxypropyltrimethoxysilane (73.13% by mass), methyl acrylate (5.42% by mass), methacrylic acid (19.5% by mass), azobisisobutyronitrile (1.95% by mass) Fine particles were prepared with the composition of That is, each of the above compounds was collectively charged into a 500 ml flask while adjusting the above concentrations, and 350 g of acetonitrile was added as a solvent, followed by treatment with nitrogen (100 mL / min) for 1 hour. Dissolved oxygen was replaced. It was 0.07 mg / mL when the density | concentration of the dissolved oxygen was measured using the dissolved oxygen meter (Do meter B506 by Iijima Denshi Kogyo).

その後、この溶液を、攪拌機を用いて、ウォーターバス温度80℃で約6時間加熱撹拌をして、有機無機複合粒子が溶媒中に分散した分散液を得た。次に、得られた分散液について、遠心分離機により有機無機複合粒子を沈降させ、上澄みを捨てた後、再度アセトニトリルを添加し、有機無機複合粒子を再分散させた。その後、粒子硬化触媒としてアンモニア水溶液(28質量%)を1.76g(有機無機複合粒子の仕込みカルボキシル基量に対して等モル)添加し、有機無機複合粒子に架橋を生じさせた。続いて、得られた分散液について、再度遠心分離にて有機無機複合粒子を沈降させ、上澄みを捨てた後、メタノールに粒子を再分散させた。これにより、子粒子C1である有機無機複合粒子がメタノール中に分散した子粒子分散液を得た。得られた子粒子C1の平均粒子径をSEMにより測定したところ、300nmであった。   Then, this solution was heated and stirred for about 6 hours at a water bath temperature of 80 ° C. using a stirrer to obtain a dispersion in which organic-inorganic composite particles were dispersed in a solvent. Next, about the obtained dispersion liquid, the organic-inorganic composite particles were settled by a centrifuge, and after discarding the supernatant, acetonitrile was added again to re-disperse the organic-inorganic composite particles. Thereafter, 1.76 g of an aqueous ammonia solution (28% by mass) was added as a particle curing catalyst (equal moles with respect to the charged carboxyl group amount of the organic-inorganic composite particles) to cause crosslinking of the organic-inorganic composite particles. Subsequently, with respect to the obtained dispersion, the organic-inorganic composite particles were again settled by centrifugation, and the supernatant was discarded. Then, the particles were redispersed in methanol. Thereby, the child particle dispersion liquid in which the organic-inorganic composite particles as the child particles C1 were dispersed in methanol was obtained. It was 300 nm when the average particle diameter of the obtained child particle C1 was measured by SEM.

(子粒子C2)
有機無機複合粒子を作製する際の各成分の濃度を調整して、平均粒子径がφ150nmとなるようにした以外は、子粒子C1と同様にして子粒子C2を得た。この際、粒子の組成は子粒子C1と同一となるようにした。
(Child particle C2)
A child particle C2 was obtained in the same manner as the child particle C1, except that the concentration of each component at the time of preparing the organic-inorganic composite particle was adjusted so that the average particle diameter was 150 nm. At this time, the composition of the particles was set to be the same as that of the child particles C1.

(子粒子C3)
有機無機複合粒子を作製する際の各成分の濃度を調整して、平均粒子径がφ400nmとなるようにした以外は、子粒子C1と同様にして子粒子C3を得た。この際、粒子の組成は子粒子C1と同一となるようにした。
(Child particle C3)
A child particle C3 was obtained in the same manner as the child particle C1, except that the concentration of each component in preparing the organic-inorganic composite particles was adjusted so that the average particle diameter was 400 nm. At this time, the composition of the particles was set to be the same as that of the child particles C1.

(子粒子C4)
有機無機複合粒子を作製する際の各成分の濃度を調整して、平均粒子径がφ600nmとなるようにした以外は、子粒子C1と同様にして子粒子C4を得た。この際、粒子の組成は子粒子C1と同一となるようにした。
(Child particle C4)
A child particle C4 was obtained in the same manner as the child particle C1, except that the concentration of each component at the time of preparing the organic-inorganic composite particle was adjusted so that the average particle diameter was φ600 nm. At this time, the composition of the particles was set to be the same as that of the child particles C1.

[導電粒子の製造]
(導電粒子E1)
まず、メルカプト酢酸8mmolをメタノール200mlに溶解させて、反応液を作製した。次に、この反応液に上述した母粒子M1を10g加え、室温で2時間スリーワンモーター及び直径45mmの攪拌羽で攪拌した。この処理後の母粒子M1をメタノールで洗浄した後、φ3μmのメンブレンフィルタ(ミリポア社製)で濾過することにより、表面にカルボキシル基を有する母粒子M1を10g得た。
[Manufacture of conductive particles]
(Conductive particle E1)
First, 8 mmol of mercaptoacetic acid was dissolved in 200 ml of methanol to prepare a reaction solution. Next, 10 g of the mother particle M1 described above was added to the reaction solution, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours with a three-one motor and a stirring blade having a diameter of 45 mm. The treated mother particles M1 were washed with methanol and then filtered through a φ3 μm membrane filter (Millipore) to obtain 10 g of mother particles M1 having a carboxyl group on the surface.

次に、分子量70000の30%ポリエチレンイミン水溶液(和光純薬社製)を超純水で希釈して、0.3重量%ポリエチレンイミン水溶液を得た。この0.3重量%ポリエチレンイミン水溶液に、上記の表面にカルボキシル基を有する母粒子M1の10gを加え、室温で15分攪拌した。次に、φ3μmのメンブレンフィルタ(ミリポア社製)で母粒子M1をろ過し、超純水200gに入れて室温で5分攪拌した。その後、φ3μmのメンブレンフィルタ(ミリポア社製)で母粒子M1をろ過し、このメンブレンフィルタ上で200gの超純水で母粒子M1を2回洗浄して、母粒子M1に吸着していないポリエチレンイミンを除去した。これにより、表面にポリエチレンイミン(アミノ基含有ポリマー;第2の重合体)が付着した母粒子M1を得た。   Next, a 30% polyethyleneimine aqueous solution (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) having a molecular weight of 70,000 was diluted with ultrapure water to obtain a 0.3 wt% polyethyleneimine aqueous solution. 10 g of the mother particle M1 having a carboxyl group on the surface was added to the 0.3 wt% polyethyleneimine aqueous solution, and the mixture was stirred at room temperature for 15 minutes. Next, the mother particle M1 was filtered with a φ3 μm membrane filter (manufactured by Millipore), put in 200 g of ultrapure water, and stirred at room temperature for 5 minutes. Thereafter, the mother particle M1 is filtered with a membrane filter of φ3 μm (manufactured by Millipore), and the mother particle M1 is washed twice with 200 g of ultrapure water on this membrane filter, so that the polyethyleneimine that is not adsorbed on the mother particle M1 Was removed. Thus, mother particles M1 having polyethyleneimine (amino group-containing polymer; second polymer) attached to the surface were obtained.

次に、上記シリコーンオリゴマー1で、上記子粒子C1の表面を処理して、表面にシリコーンオリゴマー1(グリシジル基含有オリゴマー;第1の重合体)が付着した子粒子C1がメタノール中に分散された子粒子分散液1を作製した。   Next, the surface of the child particle C1 was treated with the silicone oligomer 1, and the child particle C1 with the silicone oligomer 1 (glycidyl group-containing oligomer; first polymer) attached to the surface was dispersed in methanol. A child particle dispersion 1 was prepared.

次に、表面にポリエチレンイミンが付着した母粒子M1をイソプロピルアルコールに浸漬し、そこに、上記の子粒子分散液1を滴下することで、母粒子M1の表面に子粒子C1が付着した複合粒子を得た。なお、この複合粒子における子粒子C1による母粒子M1の被覆率は35%とし、この被覆率は子粒子分散液1の滴下量で調整した。その後、得られた複合粒子について、80℃、30分の条件で乾燥を行い、さらに120℃で1時間の加熱乾燥行うことにより、導電粒子E1を得た。   Next, the mother particle M1 with polyethyleneimine attached to the surface is immersed in isopropyl alcohol, and the above-described child particle dispersion 1 is dropped therein, whereby the composite particle with the child particle C1 attached to the surface of the mother particle M1. Got. The coverage of the mother particles M1 by the child particles C1 in the composite particles was 35%, and this coverage was adjusted by the amount of the child particle dispersion 1 dropped. Thereafter, the obtained composite particles were dried at 80 ° C. for 30 minutes, and further heated and dried at 120 ° C. for 1 hour to obtain conductive particles E1.

(導電粒子E2)
分子量70000のポリエチレンイミンの代わりに分子量10000(市販)のポリエチレンイミンを用いた以外は、導電粒子E1と同様の条件で導電粒子E2を作製した。この際、子粒子C1による母粒子M1の被覆率(子粒子被覆率)は、35%となるようにした。
(Conductive particle E2)
Conductive particles E2 were produced under the same conditions as the conductive particles E1, except that polyethyleneimine with a molecular weight of 10,000 (commercially available) was used instead of polyethyleneimine with a molecular weight of 70,000. At this time, the coverage of the mother particles M1 with the child particles C1 (child particle coverage) was set to 35%.

(導電粒子E3)
分子量70000のポリエチレンイミンの代わりに分子量1800(市販)のポリエチレンイミンを用いた以外は、導電粒子E1と同様の条件で導電粒子E3を作製した。この際、子粒子C1による母粒子M1の被覆率は、35%となるようにした。
(Conductive particle E3)
Conductive particles E3 were produced under the same conditions as the conductive particles E1, except that polyethyleneimine with a molecular weight of 1800 (commercially available) was used instead of polyethyleneimine with a molecular weight of 70,000. At this time, the coverage of the mother particles M1 with the child particles C1 was set to 35%.

(導電粒子E4)
分子量70000のポリエチレンイミンの代わりに分子量600(市販)のポリエチレンイミンを用いた以外は、導電粒子E1と同様の条件で導電粒子E4を作製した。この際、子粒子C1による母粒子M1の被覆率は、35%となるようにした。
(Conductive particle E4)
Conductive particles E4 were produced under the same conditions as the conductive particles E1, except that polyethyleneimine with a molecular weight of 600 (commercially available) was used instead of polyethyleneimine with a molecular weight of 70,000. At this time, the coverage of the mother particles M1 with the child particles C1 was set to 35%.

(導電粒子E5)
シリコーンオリゴマー1の代わりにシリコーンオリゴマー2を用いた以外は、導電粒子E1と同様の条件で導電粒子E5を作製した。この際、子粒子C1による母粒子M1の被覆率は、35%となるようにした。
(Conductive particle E5)
Conductive particles E5 were produced under the same conditions as the conductive particles E1, except that the silicone oligomer 2 was used instead of the silicone oligomer 1. At this time, the coverage of the mother particles M1 with the child particles C1 was set to 35%.

(導電粒子E6)
シリコーンオリゴマー1の代わりにシリコーンオリゴマー3を用いた以外は、導電粒子E1と同様の条件で導電粒子E6を作製した。この際、子粒子C1による母粒子M1の被覆率は、35%となるようにした。
(Conductive particle E6)
Conductive particles E6 were produced under the same conditions as the conductive particles E1, except that the silicone oligomer 3 was used instead of the silicone oligomer 1. At this time, the coverage of the mother particles M1 with the child particles C1 was set to 35%.

(導電粒子E7)
シリコーンオリゴマー1の代わりにシリコーンオリゴマー4を用いた以外は、導電粒子E1と同様の条件で導電粒子E7を作製した。この際、子粒子C1による母粒子M1の被覆率は、35%となるようにした。
(Conductive particle E7)
Conductive particles E7 were produced under the same conditions as the conductive particles E1, except that the silicone oligomer 4 was used instead of the silicone oligomer 1. At this time, the coverage of the mother particles M1 with the child particles C1 was set to 35%.

(導電粒子E8)
シリコーンオリゴマー1の代わりにシリコーンオリゴマー5を用いた以外は、導電粒子E1と同様の条件で導電粒子E8を作製した。この際、子粒子C1による母粒子M1の被覆率は、35%となるようにした。
(Conductive particles E8)
Conductive particles E8 were produced under the same conditions as the conductive particles E1, except that the silicone oligomer 5 was used instead of the silicone oligomer 1. At this time, the coverage of the mother particles M1 with the child particles C1 was set to 35%.

(導電粒子E9)
シリコーンオリゴマー1の代わりにシリコーンオリゴマー6を用いた以外は、導電粒子E1と同様の条件で導電粒子E9を作製した。この際、子粒子C1による母粒子M1の被覆率は、35%となるようにした。
(Conductive particles E9)
Conductive particles E9 were produced under the same conditions as the conductive particles E1, except that the silicone oligomer 6 was used instead of the silicone oligomer 1. At this time, the coverage of the mother particles M1 with the child particles C1 was set to 35%.

(導電粒子E10)
子粒子C1の代わりに子粒子C2を用いた以外は、導電粒子E1と同様の条件で導電粒子E10を作製した。この際、子粒子C2による母粒子M1の被覆率は、35%となるようにした。
(Conductive particles E10)
A conductive particle E10 was produced under the same conditions as the conductive particle E1, except that the child particle C2 was used instead of the child particle C1. At this time, the coverage of the mother particles M1 with the child particles C2 was set to 35%.

(導電粒子E11)
子粒子C1の代わりに子粒子C3を用いた以外は、導電粒子E1と同様の条件で導電粒子E11を作製した。この際、子粒子C3による母粒子M1の被覆率は、35%となるようにした。
(Conductive particles E11)
Conductive particles E11 were produced under the same conditions as the conductive particles E1, except that the child particles C3 were used instead of the child particles C1. At this time, the coverage of the mother particles M1 with the child particles C3 was set to 35%.

(導電粒子E12)
子粒子C1の代わりに子粒子C4を用いた以外は、導電粒子E1と同様の条件で導電粒子E12を作製した。この際、子粒子C4による母粒子M1の被覆率は、35%となるようにした。
(Conductive particle E12)
Conductive particles E12 were produced under the same conditions as the conductive particles E1, except that the child particles C4 were used instead of the child particles C1. At this time, the coverage of the mother particles M1 with the child particles C4 was set to 35%.

(導電粒子E13)
シリコーンオリゴマー1の代わりに、モノマーである3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを用いた以外は、導電粒子E1と同様の条件で導電粒子E13を作製した。この際、子粒子C1による母粒子M1の被覆率は、35%となるようにした。
(Conductive particles E13)
Conductive particles E13 were produced under the same conditions as the conductive particles E1, except that 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, which is a monomer, was used instead of the silicone oligomer 1. At this time, the coverage of the mother particles M1 with the child particles C1 was set to 35%.

(導電粒子E14)
シリコーンオリゴマー1により子粒子C1の表面の処理を行わなかったこと以外は、導電粒子E1と同様の条件で導電粒子E14を作製した。この際、子粒子C1による母粒子M1の被覆率は、35%となるようにした。
(Conductive particle E14)
Conductive particles E14 were produced under the same conditions as the conductive particles E1, except that the surface of the child particles C1 was not treated with the silicone oligomer 1. At this time, the coverage of the mother particles M1 with the child particles C1 was set to 35%.

[特性評価]
(接続サンプル1の作製)
まず、フェノキシ樹脂(ユニオンカーバイド社製商品名、PKHC)100g、及び、アクリルゴム(ブチルアクリレート40部、エチルアクリレート30部、アクリロニトリル30部、グリシジルメタクリレート3部の共重合体、分子量:85万)75gを、酢酸エチルとトルエンとを重量比1:1で混合した溶媒300gに溶解させて、30重量%の溶液を得た。次いで、この溶液に、マイクロカプセル型潜在性硬化剤を含有する液状エポキシ(エボキシ当量185、旭化成エポキシ株式会社製、ノバキュアHX−3941)300g、及び、液状エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ株式会社製、YL980)400gを加え、撹拌して、接着剤溶液1を得た。
[Characteristic evaluation]
(Preparation of connection sample 1)
First, 100 g of phenoxy resin (trade name, PKHC, manufactured by Union Carbide) and 75 g of acrylic rubber (40 parts of butyl acrylate, 30 parts of ethyl acrylate, 30 parts of acrylonitrile, 3 parts of glycidyl methacrylate, molecular weight: 850,000) Was dissolved in 300 g of a solvent in which ethyl acetate and toluene were mixed at a weight ratio of 1: 1 to obtain a 30 wt% solution. Next, in this solution, 300 g of a liquid epoxy (Eboxy equivalent 185, manufactured by Asahi Kasei Epoxy Co., Ltd., Novacure HX-3941) containing a microcapsule type latent curing agent, and a liquid epoxy resin (manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd., YL980) 400 g was added and stirred to obtain an adhesive solution 1.

また、接着剤溶液1に、φ14nmシリカ(R202,日本アエロジル社製)を溶剤に分散したシリカスラリーを、接着剤の固形分に対するシリカ固形分の含有量が5wt%となるように加えた。   Moreover, the silica slurry which disperse | distributed (phi) 14nm silica (R202, Nippon Aerosil Co., Ltd.) to the solvent was added to the adhesive solution 1 so that the content of the silica solid content with respect to the solid content of an adhesive agent might be 5 wt%.

次に、上記の導電粒子E1を、酢酸エチルとトルエンとを重量比1:1で混合した溶媒10g中に超音波分散して、導電粒子分散液を得た。この超音波分散は、38kHZ400W20L(試験装置:US107、藤本科学社商品名)の超音波槽に、導電粒子E1及び溶媒が入ったビーカーを浸漬し、1分攪拌することにより行った。   Next, the conductive particles E1 were ultrasonically dispersed in 10 g of a solvent in which ethyl acetate and toluene were mixed at a weight ratio of 1: 1 to obtain a conductive particle dispersion. This ultrasonic dispersion was performed by immersing the beaker containing the conductive particles E1 and the solvent in an ultrasonic bath of 38 kHZ400W20L (test apparatus: US107, trade name of Fujimoto Kagakusha) and stirring for 1 minute.

上記のようにして得た接着剤溶液1、シリカスラリーを添加した接着剤溶液1、及び、導電粒子分散液を用いて、フィルム状の異方導電性接着剤を形成するためのフィルムA、B及びCを以下のようにして得た。   Films A and B for forming a film-like anisotropic conductive adhesive using the adhesive solution 1 obtained as described above, the adhesive solution 1 to which silica slurry is added, and the conductive particle dispersion. And C were obtained as follows.

フィルムA:導電粒子分散液を、シリカスラリーを添加した接着剤溶液1に分散し、この溶液をセパレータ(シリコーン処理したポリエチレンテレフタレートフイルム、厚み40μm)にロールコータで塗布し、90℃、10分乾燥させて、厚み10μmのフィルムAを作製した。このフィルムAには単位面積あたり10万個/mmの導電粒子E1が入っていた。 Film A: Conductive particle dispersion is dispersed in adhesive solution 1 to which silica slurry is added, and this solution is applied to a separator (silicone-treated polyethylene terephthalate film, thickness 40 μm) with a roll coater and dried at 90 ° C. for 10 minutes. Thus, a film A having a thickness of 10 μm was produced. This film A contained 100,000 particles / mm 2 of conductive particles E1 per unit area.

フィルムB:接着剤溶液1をセパレータ(シリコーン処理したポリエチレンテレフタレートフイルム、厚み40μm)にロールコータで塗布し、90℃、10分乾燥させて、厚み3μmの導電粒子を含有しないフィルムBを作製した。   Film B: Adhesive solution 1 was applied to a separator (silicone-treated polyethylene terephthalate film, thickness 40 μm) with a roll coater and dried at 90 ° C. for 10 minutes to prepare film B containing no conductive particles having a thickness of 3 μm.

フィルムC:接着剤溶液1をセパレータ(シリコーン処理したポリエチレンテレフタレートフイルム、厚み40μm)にロールコータで塗布し、90℃、10分乾燥させて、厚み10μmの導電粒子を含有しないフィルムCを作製した。   Film C: Adhesive solution 1 was applied to a separator (silicone-treated polyethylene terephthalate film, thickness 40 μm) with a roll coater and dried at 90 ° C. for 10 minutes to produce film C containing 10 μm-thick conductive particles.

このようにして得たフィルムA、B及びCを、フィルムB、フィルムA及びフィルムCの順で順次ラミネートして、3層構成を有するフィルム状の異方導電性接着剤を作製した。   Films A, B, and C thus obtained were sequentially laminated in the order of film B, film A, and film C to produce a film-like anisotropic conductive adhesive having a three-layer structure.

そして、得られたフィルム状の異方導電性接着剤を用いて、金バンプ(面積:30×90μm、スペース8μm、高さ:15μm、バンブ数362)付きチップ(1.7×1.7mm、厚み:0.5μm)と、回路付きガラス基板(厚み:0.7mm)の接続を以下に示すように行った。   Then, using the obtained film-like anisotropic conductive adhesive, a chip (1.7 × 1.7 mm) with gold bumps (area: 30 × 90 μm, space: 8 μm, height: 15 μm, bump number: 362), Thickness: 0.5 μm) and a glass substrate with a circuit (thickness: 0.7 mm) were connected as shown below.

すなわち、まず、フィルム状の異方導電性接着剤を、回路付きガラス基板の回路側の面に80℃、0.98MPa(10kgf/cm)の条件で貼り付けた後、セパレータを剥離した。 That is, first, a film-like anisotropic conductive adhesive was attached to a circuit side surface of a glass substrate with a circuit under conditions of 80 ° C. and 0.98 MPa (10 kgf / cm 2 ), and then the separator was peeled off.

次いで、異方導電性接着剤上に、金バンプが異方導電性接着剤側に向くようにチップを配置し、チップの金バンプと回路付きガラス基板の位置合わせを行った後、190℃、40g/バンプ、10秒の条件でチップの上方から加熱、加圧を行い、チップと回路付きガラス基板との本接続を行って、チップと回路付きガラス基板とが上記のフィルム状の異方導電性接着剤により接続された接続サンプル1を得た。   Next, on the anisotropic conductive adhesive, the chip is arranged so that the gold bump faces the anisotropic conductive adhesive side, and after aligning the gold bump of the chip and the glass substrate with a circuit, Heating and pressing are performed from above the chip under the conditions of 40 g / bump for 10 seconds, the main connection between the chip and the glass substrate with a circuit is performed, and the chip and the glass substrate with a circuit are connected with the above film-like anisotropic conductivity. The connection sample 1 connected by the adhesive was obtained.

(接続サンプル2の作製)
導電粒子E1の代わりに導電粒子E2を用いた以外は、接続サンプル1と同様の方法で接続サンプル2を作製した。
(Preparation of connection sample 2)
A connection sample 2 was produced in the same manner as the connection sample 1 except that the conductive particles E2 were used instead of the conductive particles E1.

(接続サンプル3の作製)
導電粒子E1の代わりに導電粒子E3を用いた以外は、接続サンプル1と同様の方法で接続サンプル3を作製した。
(Preparation of connection sample 3)
A connection sample 3 was produced in the same manner as the connection sample 1 except that the conductive particles E3 were used instead of the conductive particles E1.

(接続サンプル4の作製)
導電粒子E1の代わりに導電粒子E4を用いた以外は、接続サンプル1と同様の方法で接続サンプル4を作製した。
(Preparation of connection sample 4)
A connection sample 4 was produced in the same manner as the connection sample 1 except that the conductive particles E4 were used instead of the conductive particles E1.

(接続サンプル5の作製)
導電粒子E1の代わりに導電粒子E5を用いた以外は、接続サンプル1と同様の方法で接続サンプル5を作製した。
(Preparation of connection sample 5)
A connection sample 5 was produced in the same manner as the connection sample 1 except that the conductive particles E5 were used instead of the conductive particles E1.

(接続サンプル6の作製)
導電粒子E1の代わりに導電粒子E6を用いた以外は、接続サンプル1と同様の方法で接続サンプル6を作製した。
(Preparation of connection sample 6)
A connection sample 6 was produced in the same manner as the connection sample 1 except that the conductive particles E6 were used instead of the conductive particles E1.

(接続サンプル7の作製)
導電粒子E1の代わりに導電粒子E7を用いた以外は、接続サンプル1と同様の方法で接続サンプル7を作製した。
(Preparation of connection sample 7)
A connection sample 7 was produced in the same manner as the connection sample 1 except that the conductive particles E7 were used instead of the conductive particles E1.

(接続サンプル8の作製)
導電粒子E1の代わりに導電粒子E8を用いた以外は、接続サンプル1と同様の方法で接続サンプル8を作製した。
(Preparation of connection sample 8)
A connection sample 8 was produced in the same manner as the connection sample 1 except that the conductive particles E8 were used instead of the conductive particles E1.

(接続サンプル9の作製)
導電粒子E1の代わりに導電粒子E9を用いた以外は、接続サンプル1と同様の方法で接続サンプル9を作製した。
(Preparation of connection sample 9)
A connection sample 9 was produced in the same manner as the connection sample 1 except that the conductive particles E9 were used instead of the conductive particles E1.

(接続サンプル10の作製)
導電粒子E1の代わりに導電粒子E10を用いた以外は、接続サンプル1と同様の方法で接続サンプル10を作製した。
(Preparation of connection sample 10)
A connection sample 10 was produced in the same manner as the connection sample 1 except that the conductive particles E10 were used instead of the conductive particles E1.

(接続サンプル11の作製)
導電粒子E1の代わりに導電粒子E11を用いた以外は、接続サンプル1と同様の方法で接続サンプル11を作製した。
(Preparation of connection sample 11)
A connection sample 11 was produced in the same manner as the connection sample 1 except that the conductive particles E11 were used instead of the conductive particles E1.

(接続サンプル12の作製)
導電粒子E1の代わりに導電粒子E12を用いた以外は、接続サンプル1と同様の方法で接続サンプル12を作製した。
(Preparation of connection sample 12)
A connection sample 12 was produced in the same manner as the connection sample 1 except that the conductive particles E12 were used instead of the conductive particles E1.

(接続サンプル13の作製)
導電粒子E1の代わりに導電粒子E13を用いた以外は、接続サンプル1と同様の方法で接続サンプル13を作製した。
(Preparation of connection sample 13)
A connection sample 13 was produced in the same manner as the connection sample 1 except that the conductive particles E13 were used instead of the conductive particles E1.

(接続サンプル14の作製)
導電粒子E1の代わりに導電粒子E14を用いた以外は、接続サンプル1と同様の方法で接続サンプル14を作製した。
(Preparation of connection sample 14)
A connection sample 14 was produced in the same manner as the connection sample 1 except that the conductive particles E14 were used instead of the conductive particles E1.

(絶縁抵抗試験及び導通抵抗試験)
上記で得た接続サンプル1〜14の絶縁抵抗及び導通抵抗をそれぞれ測定した。異方導電性接着剤は、チップにおける隣り合う金属バンプ間の絶縁抵抗が高い一方、対向する金属バンプと回路との導通抵抗が低いことが重要である。
(Insulation resistance test and conduction resistance test)
The insulation resistance and conduction resistance of the connection samples 1 to 14 obtained above were measured. It is important that the anisotropic conductive adhesive has high insulation resistance between adjacent metal bumps in the chip, but low conduction resistance between the metal bumps facing each other and the circuit.

本測定においては、チップにおける隣り合う金属バンプ間の絶縁抵抗は、各接続サンプルにつき20個のサンプルについて測定した。そして、絶縁抵抗は初期値の測定を行い、絶縁抵抗が10(Ω)を超えたものを良品とし、20個のサンプル中の良品の歩留まりを算出した。また、金属バンプと回路との導通抵抗は、各接続サンプルにつき14個のサンプルについて測定し、それらの平均値を算出した。この導通抵抗は、初期値と吸湿耐熱試験(気温85℃、湿度85%の条件で500時間放置)後の値の両方を測定した。 In this measurement, the insulation resistance between adjacent metal bumps in the chip was measured for 20 samples for each connection sample. And the insulation resistance measured the initial value, the thing whose insulation resistance exceeded 10 < 9 > ((ohm)) was made into the non-defective product, and the yield of the good product in 20 samples was computed. Further, the conduction resistance between the metal bump and the circuit was measured for 14 samples for each connection sample, and the average value thereof was calculated. For the conduction resistance, both an initial value and a value after a moisture absorption heat test (standing for 500 hours under conditions of an air temperature of 85 ° C. and a humidity of 85%) were measured.

(子粒子被覆率)
各導電粒子E1〜E14のSEM像を撮影し、中心から50%の部分を画像解析することにより、実際の導電粒子における母粒子が子粒子によって被覆されている割合(子粒子被覆率)を測定した。
(Child particle coverage)
Take a SEM image of each conductive particle E1 to E14 and analyze the image of 50% from the center to measure the ratio of the actual conductive particles covered with the child particles (child particle coverage) did.

(子粒子による被覆のばらつき(C.V.))
各導電粒子E1〜E14のSEM像を撮影し、中心から50%の部分を画像解析することにより、導電粒子における母粒子が子粒子によって被覆されている割合(子粒子被覆率)のばらつきを測定した。
(Coating variation by child particles (C.V.))
By taking SEM images of each of the conductive particles E1 to E14 and analyzing the image of 50% from the center, the variation in the ratio of the conductive particles covered by the child particles (child particle coverage) is measured. did.

(結果)
上記の各測定によって得られた結果をまとめて表1に示す。表1中A〜Cは、各評価において得られた結果を以下の基準で判定した結果である。A:良好、B:Aよりは劣るが使用可能、C:使用不可

Figure 2013251099
(result)
Table 1 summarizes the results obtained by each of the above measurements. In Table 1, A to C are results obtained by determining the results obtained in each evaluation according to the following criteria. A: Good, B: Inferior to A, usable, C: Unusable
Figure 2013251099

接続サンプル1〜4は、母粒子の表面に付着させるポリエチレンイミン(第2の重合体)の重量平均分子量(Mw)を変えたときの結果である。分子量が大きいほど子粒子被覆率のばらつきが小さい傾向にあった。ポリエチレンイミンの分子量が600の場合、絶縁性が若干低下した。そのため、ポリエチレンイミンの分子量がこれより小さいと、母粒子と子粒子との結合強度が弱くなるおそれがある。接続サンプル5〜9は、子粒子の表面に付着するシリコーンオリゴマー(第1の重合体)の重量平均分子量(Mw)を変えたときの結果である。シリコーンオリゴマーの分子量が小さいほど、子粒子の被覆ばらつきが大きくなり、絶縁性が低下する傾向にあった。また、シリコーンオリゴマーの分子量が6000の場合も子粒子の被覆ばらつきが大きくなった。接続サンプル10〜12は、子粒子の径を変えたときの結果である。子粒子径が600nmの場合、それよりも大きい場合に比べて、子粒子被覆率が低下し、被覆ばらつきも大きく、絶縁性が低くなった。接続サンプル13〜14は、子粒子を第1の重合体により被覆しなかった例であるが、それらはいずれも、他のサンプルに比べて劣る結果となった。
Connection samples 1 to 4 are results obtained when the weight average molecular weight (Mw) of polyethyleneimine (second polymer) attached to the surface of the mother particle is changed. The larger the molecular weight, the smaller the variation in the child particle coverage. When the molecular weight of polyethyleneimine was 600, the insulation was slightly lowered. Therefore, if the molecular weight of polyethyleneimine is smaller than this, the bond strength between the mother particles and the child particles may be weakened. Connection samples 5 to 9 are results when the weight average molecular weight (Mw) of the silicone oligomer (first polymer) adhering to the surface of the child particles is changed. The smaller the molecular weight of the silicone oligomer, the greater the variation in the coating of the child particles and the lower the insulating property. Also, when the molecular weight of the silicone oligomer was 6000, the variation in the coating of the child particles became large. Connection samples 10 to 12 are results when the diameter of the child particles is changed. When the child particle diameter was 600 nm, the child particle coverage was reduced, the coating variation was large, and the insulation was lower than when the child particle diameter was larger than that. Connection samples 13 to 14 are examples in which the child particles were not coated with the first polymer, but all of them were inferior to the other samples.

Claims (17)

導電性を有する母粒子と、
前記母粒子の外側に配置された絶縁性を有する複数の子粒子と、
前記子粒子の表面に付着した分子量500以上の第1の重合体と、
を備えることを特徴とする導電粒子。
Conductive mother particles,
A plurality of child particles having insulating properties arranged outside the mother particles;
A first polymer having a molecular weight of 500 or more attached to the surface of the child particles;
Conductive particles comprising:
前記母粒子の表面に付着した分子量500以上の第2の重合体を備える、ことを特徴とする請求項1記載の導電粒子。   The conductive particle according to claim 1, further comprising a second polymer having a molecular weight of 500 or more attached to a surface of the mother particle. 前記第1の重合体が、シリコーンオリゴマーである、ことを特徴とする請求項1又は2記載の導電粒子。   The conductive particles according to claim 1, wherein the first polymer is a silicone oligomer. 前記第1の重合体が、グリシジル基を有する、ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の導電粒子。   The conductive particles according to claim 1, wherein the first polymer has a glycidyl group. 前記第2の重合体が、アミノ基を有する、ことを特徴とする請求項2〜4のいずれか一項に記載の導電粒子。   The conductive particles according to any one of claims 2 to 4, wherein the second polymer has an amino group. 前記子粒子の粒子径が、100nm以上500nmである、ことを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の導電粒子。   The particle diameter of the said child particle is 100 nm or more and 500 nm, The electroconductive particle as described in any one of Claims 1-5 characterized by the above-mentioned. 前記母粒子の粒子径が、3.0μm以下である、ことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の導電粒子。   The particle diameter of the said mother particle is 3.0 micrometers or less, The electroconductive particle as described in any one of Claims 1-6 characterized by the above-mentioned. 前記子粒子が、シラノール基を有する、ことを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の導電粒子。   The conductive particle according to claim 1, wherein the child particle has a silanol group. 前記第1の重合体と前記第2の重合体との間に、化学的な結合が生じている、ことを特徴とする請求項2〜8のいずれか一項に記載の導電粒子。   The conductive particles according to any one of claims 2 to 8, wherein a chemical bond is generated between the first polymer and the second polymer. 導電性を有する母粒子の外側に、分子量500以上の第1の重合体が表面に付着した絶縁性を有する子粒子を複数配置させる工程を含む、ことを特徴とする導電粒子の製造方法。   A method for producing conductive particles, comprising a step of arranging a plurality of insulating child particles having a first polymer having a molecular weight of 500 or more attached to a surface outside a conductive mother particle. 分子量500以上の第2の重合体が表面に付着した前記母粒子を用いる、ことを特徴とする請求項10記載の導電粒子の製造方法。   The method for producing conductive particles according to claim 10, wherein the base particles having a second polymer having a molecular weight of 500 or more attached to the surface thereof are used. 前記第1の重合体が、シリコーンオリゴマーである、ことを特徴とする請求項10又は11記載の導電粒子の製造方法。   The method for producing conductive particles according to claim 10 or 11, wherein the first polymer is a silicone oligomer. 前記第1の重合体が、グリシジル基を有する、ことを特徴とする請求項10〜12のいずれか一項に記載の導電粒子の製造方法。   The said 1st polymer has a glycidyl group, The manufacturing method of the electrically-conductive particle as described in any one of Claims 10-12 characterized by the above-mentioned. 前記第2の重合体が、アミノ基を有する、ことを特徴とする請求項11〜13のいずれか一項に記載の導電粒子の製造方法。   The method for producing conductive particles according to any one of claims 11 to 13, wherein the second polymer has an amino group. 前記子粒子の粒子径が、100nm以上500nmである、ことを特徴とする請求項10〜14のいずれか一項に記載の導電粒子の製造方法。   The method for producing conductive particles according to claim 10, wherein a particle diameter of the child particles is 100 nm or more and 500 nm. 前記母粒子の粒子径が、3.0μm以下である、ことを特徴とする請求項10〜15のいずれか一項に記載の導電粒子の製造方法。   The method for producing conductive particles according to claim 10, wherein a particle diameter of the base particles is 3.0 μm or less. 前記子粒子が、シラノール基を有する、ことを特徴とする請求項10〜16のいずれか一項に記載の導電粒子の製造方法。


The said child particle has a silanol group, The manufacturing method of the electrically-conductive particle as described in any one of Claims 10-16 characterized by the above-mentioned.


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