JP2013246392A - 樹脂膜除去方法および光学レンズの再製方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】樹脂膜除去方法は、ガラスをレンズ形状に成形して作られたレンズ基材の表面に樹脂膜を形成して構成される光学レンズにおいて、光学レンズから樹脂膜を取り除く方法であって、脱水作用を有する脱水溶液中に光学レンズを所定時間浸漬して表面の樹脂膜を除去するステップS211と、ステップS211において樹脂膜が除去されたレンズ基材の表面の残留樹脂膜を、洗浄液を用いて洗い流すステップS212と、ステップS212が行われたレンズ基材の表面を、有機溶剤を用いて拭き取るステップS213とを有する。
【選択図】図3
Description
2 レンズ基材
3 樹脂膜
20 濃硫酸(脱水溶液)
100 光学レンズの製造方法(光学レンズの再製方法)
S140 中間検査(検査工程)
S210 樹脂膜除去方法(樹脂膜除去工程)
Claims (13)
- ガラスをレンズ形状に成形して作られたレンズ基材の表面に樹脂膜を形成して構成される光学レンズにおいて、前記光学レンズから前記樹脂膜を取り除く樹脂膜除去方法であって、
脱水作用を有する脱水溶液中に前記光学レンズを所定時間浸漬して表面の樹脂膜を除去する第1工程と、
前記第1工程において前記樹脂膜が除去された前記レンズ基材の表面の残留樹脂膜を、洗浄液を用いて洗い流す第2工程と、
前記第2工程が行われた前記レンズ基材の表面を、有機溶剤を用いて拭き取る第3工程とを有することを特徴とする樹脂膜除去方法。 - 前記第1工程で用いる前記脱水溶液が、濃度90%以上の濃硫酸であることを特徴とする請求項1に記載の樹脂膜除去方法。
- 前記第3工程で用いる前記有機溶剤が、アルコール類であることを特徴とする請求項1または2に記載の樹脂膜除去方法。
- 前記第1工程において、前記光学レンズを浸漬する前記脱水溶液を攪拌して、前記樹脂膜近傍の前記脱水溶液を流動させることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の樹脂膜除去方法。
- 前記第1工程において、前記光学レンズを浸漬する前記脱水溶液を、途中で新たな脱水溶液に入れ替えることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の樹脂膜除去方法。
- 前記ガラスが光学用ガラスであり、前記樹脂膜の材料がエポキシ系樹脂であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の樹脂膜除去方法。
- 前記光学レンズは、前記レンズ基材の表面に前記樹脂膜が形成された後に反射防止膜が形成されて構成されることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の樹脂膜除去方法。
- 前記第1工程が行われる前に、前記反射防止膜を除去する反射防止膜除去工程を有することを特徴とする請求項7に記載の樹脂膜除去方法。
- ガラスをレンズ形状に成形して作られたレンズ基材の表面に樹脂膜を形成して構成された光学レンズの再製方法であって、
前記光学レンズの表面に形成された前記樹脂膜を検査する検査工程と、
前記検査工程において前記樹脂膜に欠陥が発見されたときに、この欠陥を有する光学レンズの樹脂膜を取り除く樹脂膜除去工程と、
前記樹脂膜除去工程において前記樹脂膜が取り除かれた前記レンズ基材の表面に、新たな前記樹脂膜を形成する樹脂膜再製工程とを有しており、
前記樹脂膜除去工程が、
脱水作用を有する脱水溶液中に前記光学レンズを所定時間浸漬して表面の樹脂膜を除去する第1工程と、
前記第1工程において前記樹脂膜が除去された前記レンズ基材の表面の残留樹脂膜を、洗浄液を用いて洗い流す第2工程と、
前記第2工程が行われた前記レンズ基材の表面を、有機溶剤を用いて拭き取る第3工程とを有することを特徴とする光学レンズの再製方法。 - 前記第1工程で用いる前記脱水溶液が、濃度90%以上の濃硫酸であることを特徴とする請求項9に記載の光学レンズの再製方法。
- 前記第3工程で用いる前記有機溶剤が、アルコール類であることを特徴とする請求項9または10に記載の光学レンズの再製方法。
- 前記光学レンズは、前記レンズ基材の表面に前記樹脂膜が形成された後に反射防止膜が形成されて構成されることを特徴とする請求項9〜11のいずれか一項に記載の光学レンズの再製方法。
- 前記第1工程が行われる前に、前記反射防止膜を除去する反射防止膜除去工程を有することを特徴とする請求項12に記載の光学レンズの再製方法。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62210467A (ja) * | 1986-03-12 | 1987-09-16 | Hoya Corp | レジスト塗布方法 |
JP2007130951A (ja) * | 2005-11-14 | 2007-05-31 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 島状構造を有する物品およびその製造方法 |
JP2008512729A (ja) * | 2004-09-09 | 2008-04-24 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | 光学基板を洗浄する方法 |
JP2008116348A (ja) * | 2006-11-06 | 2008-05-22 | Seiko Epson Corp | プラスチックレンズの有機反射防止膜の適否判定方法およびプラスチックレンズの製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62210467A (ja) * | 1986-03-12 | 1987-09-16 | Hoya Corp | レジスト塗布方法 |
JP2008512729A (ja) * | 2004-09-09 | 2008-04-24 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | 光学基板を洗浄する方法 |
JP2007130951A (ja) * | 2005-11-14 | 2007-05-31 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 島状構造を有する物品およびその製造方法 |
JP2008116348A (ja) * | 2006-11-06 | 2008-05-22 | Seiko Epson Corp | プラスチックレンズの有機反射防止膜の適否判定方法およびプラスチックレンズの製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019136672A (ja) * | 2018-02-13 | 2019-08-22 | 株式会社リコー | 接合レンズのリサイクル方法 |
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