JP2013242216A5 - - Google Patents
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Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012115295A JP6061496B2 (ja) | 2012-05-21 | 2012-05-21 | パターン計測装置、パターン計測方法及びパターン計測プログラム |
| US13/898,620 US9521372B2 (en) | 2012-05-21 | 2013-05-21 | Pattern measuring apparatus, pattern measuring method, and computer-readable recording medium on which a pattern measuring program is recorded |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012115295A JP6061496B2 (ja) | 2012-05-21 | 2012-05-21 | パターン計測装置、パターン計測方法及びパターン計測プログラム |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013242216A JP2013242216A (ja) | 2013-12-05 |
| JP2013242216A5 true JP2013242216A5 (enExample) | 2015-06-11 |
| JP6061496B2 JP6061496B2 (ja) | 2017-01-18 |
Family
ID=49669764
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012115295A Active JP6061496B2 (ja) | 2012-05-21 | 2012-05-21 | パターン計測装置、パターン計測方法及びパターン計測プログラム |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9521372B2 (enExample) |
| JP (1) | JP6061496B2 (enExample) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5542478B2 (ja) * | 2010-03-02 | 2014-07-09 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線顕微鏡 |
| JP2016058637A (ja) * | 2014-09-11 | 2016-04-21 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | オーバーレイ計測方法、装置、および表示装置 |
| JP2016070912A (ja) * | 2014-09-26 | 2016-05-09 | 株式会社東芝 | 欠陥検査装置および欠陥検査方法 |
| US9858379B2 (en) * | 2015-02-18 | 2018-01-02 | Toshiba Memory Corporation | Mask data generation system, mask data generation method, and recording medium |
| US9793183B1 (en) * | 2016-07-29 | 2017-10-17 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | System and method for measuring and improving overlay using electronic microscopic imaging and digital processing |
| JP2019011972A (ja) * | 2017-06-29 | 2019-01-24 | 株式会社 Ngr | パターンエッジ検出方法 |
| US10748290B2 (en) * | 2018-10-31 | 2020-08-18 | Fei Company | Smart metrology on microscope images |
| KR20220095472A (ko) * | 2020-12-30 | 2022-07-07 | 삼성전자주식회사 | 패턴 분석 시스템 및 상기 시스템을 이용한 반도체 장치 제조 방법 |
| KR20240168457A (ko) * | 2022-05-30 | 2024-11-29 | 주식회사 히타치하이테크 | 레시피 작성 시스템, 측장 시스템, 및 레시피 작성 방법 |
| CN118280868B (zh) * | 2024-06-03 | 2024-08-13 | 华芯程(杭州)科技有限公司 | 测量曲线图案线边缘粗糙度的方法、装置、终端、介质及程序产品 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6197510A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-05-16 | Hitachi Ltd | 走査型電子顕微鏡による立体形状測定装置 |
| JPH07111336B2 (ja) * | 1990-02-07 | 1995-11-29 | 株式会社東芝 | パターン寸法測定方法及び装置 |
| JP2978034B2 (ja) | 1993-06-24 | 1999-11-15 | 株式会社日立製作所 | 測長機能を備えた走査電子顕微鏡 |
| JP3109785B2 (ja) * | 1993-12-21 | 2000-11-20 | 株式会社日立製作所 | 走査電子顕微鏡の自動焦点合わせ装置 |
| US6067164A (en) * | 1996-09-12 | 2000-05-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method and apparatus for automatic adjustment of electron optics system and astigmatism correction in electron optics device |
| US6538249B1 (en) * | 1999-07-09 | 2003-03-25 | Hitachi, Ltd. | Image-formation apparatus using charged particle beams under various focus conditions |
| JP4871350B2 (ja) | 1999-07-09 | 2012-02-08 | 株式会社日立製作所 | パターン寸法測定方法、及びパターン寸法測定装置 |
| JP3819828B2 (ja) | 2002-10-21 | 2006-09-13 | 株式会社東芝 | 微細パターン測定方法 |
| JP3961438B2 (ja) * | 2003-03-25 | 2007-08-22 | 株式会社東芝 | パターン計測装置、パターン計測方法および半導体装置の製造方法 |
| JP4988274B2 (ja) * | 2006-08-31 | 2012-08-01 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | パターンのずれ測定方法、及びパターン測定装置 |
| JP5425601B2 (ja) * | 2009-12-03 | 2014-02-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置およびその画質改善方法 |
| JP2013088415A (ja) * | 2011-10-24 | 2013-05-13 | Hitachi High-Technologies Corp | 半導体パターン計測方法及び半導体パターン計測装置 |
-
2012
- 2012-05-21 JP JP2012115295A patent/JP6061496B2/ja active Active
-
2013
- 2013-05-21 US US13/898,620 patent/US9521372B2/en active Active
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