JP2013235262A - 表示媒体、および表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】基板対向面に対する粒子の固着を抑制し得る表示媒体の提供。
【解決手段】電極を有し、少なくとも一方が透光性を有し且つ間隙をもって配置された一対の基板２０，２２と、一対の基板２０，２２間に封入された分散媒５０と、分散媒５０中に分散され、一対の基板２０，２２間に形成された電界に応じて分散媒５０中を移動する粒子群３４と、少なくとも１０モル％以上９０モル％以下の（１）（メタ）アクリル系モノマー、１モル％以上５０モル％以下の（２）シリコーンマクロマー、および２モル％以上７０モル％以下の（３）架橋性モノマーに由来する高分子化合物（但し前記比率は、前記（１）、（２）および（３）の成分の合計量を基準（１００モル％）とした場合の比率である）が、一対の基板２０，２２の対向面の少なくとも一方に設けられた表面層２１，２３と、を有する表示媒体１０。
【選択図】図１

Description

本発明は、表示媒体、および表示装置に関するものである。

従来、繰り返し書き換えし得る表示媒体として、粒子を用いた表示媒体が知られている。この表示媒体は、例えば一対の基板と、一対の基板間に形成された電界に応じて基板間を移動し得るよう該基板間に封入された粒子群と、を含んで構成されている。また、基板間には、粒子が基板内の特定の領域に偏るのを防ぐため等の理由により、基板間を複数のセルに仕切るための間隙部材が設けられる場合もある。

ここで、基板の表面に処理層を形成した態様として、特許文献１には、電極を有する一対の基板であって、少なくとも一方が透光性を有すると共に間隙をもって配置された一対の基板と、この一対の基板間に封入された分散媒と、この分散媒中に分散され一対の基板間に形成された電界に応じて該分散媒中を移動する粒子群と、を有する表示媒体の、この一対の基板の対向面の少なくとも一方に、シリコーン鎖を持つ高分子化合物により形成された処理層を形成する態様が開示されている。

また、粒子群における粒子の表面を処理した態様として、特許文献２には、情報表示用パネルに用いる帯電性を有する表示媒体用粒子であって、樹脂からなる母粒子の表面に外添剤を付与してなる表示媒体用粒子において、メタノール濡れ試験で測定した外添剤表面疎水度が２５％以上４０％以下である外添剤を用いることが開示されている。

特開２０１０−０７８８２６号公報 特開２０１０−２６２０６６号公報

本発明の課題は、基板対向面に対する粒子の固着を抑制し得る表示媒体を提供することにある。

上記課題は、以下の手段により解決される。
＜１＞ 電極を有し、少なくとも一方が透光性を有し且つ間隙をもって配置された一対の基板と、
前記一対の基板間に封入された分散媒と、
前記分散媒中に分散され、前記一対の基板間に形成された電界に応じて該分散媒中を移動する粒子群と、
少なくとも１０モル％以上９０モル％以下の（１）（メタ）アクリル系モノマー、１モル％以上５０モル％以下の（２）シリコーンマクロマー、および２モル％以上７０モル％以下の（３）架橋性モノマーに由来する高分子化合物（但し前記比率は、前記（１）、（２）および（３）の成分の合計量を基準（１００モル％）とした場合の比率である）が、前記一対の基板の対向面の少なくとも一方に設けられた表面層と、
を有する表示媒体である。

＜２＞ 前記表面層の表面の濡れ張力（ＪＩＳ−Ｋ６７６８／１９９９年）が３５ｍＮ／ｍ以下である前記＜１＞に記載の表示媒体である。

＜３＞ 前記高分子化合物が、前記シリコーンマクロマーとして下記構造式で示される化合物から選択される少なくとも１種に由来する構成単位を有する前記＜１＞または＜２＞に記載の表示媒体である。

〔上記構造式中、Ｒ_１は、水素原子またはメチル基を示す。Ｒ_１’は、水素原子または炭素数１以上４以下のアルキル基を示す。ｎは自然数を示す。ｘは１以上３以下の整数を示す。〕

＜４＞ 前記分散媒は、水を除く極性成分の含有量が０．０１質量％以下である前記＜１＞から＜３＞のいずれか一項に記載の表示媒体である。

＜５＞ 前記＜１＞から＜４＞のいずれか一項に記載の表示媒体と、
前記一対の基板間に電圧を印加する電圧印加手段と、
を備えた表示装置である。

前記＜１＞に係る発明によれば、基板対向面に少なくとも１０モル％以上９０モル％以下の（１）（メタ）アクリル系モノマー、１モル％以上５０モル％以下の（２）シリコーンマクロマー、および２モル％以上７０モル％以下の（３）架橋性モノマーに由来する高分子化合物が結合されて形成された表面層を有さない場合に比べ、基板対向面に対する粒子の固着を抑制し得る表示媒体が提供される。

前記＜２＞に係る発明によれば、表面層の表面の濡れ張力が３５ｍＮ／ｍ以下でない場合に比べ、基板対向面に対する粒子の固着を抑制し得る表示媒体が提供される。

前記＜３＞に係る発明によれば、シリコーンマクロマーとして前記構造式で示される化合物から選択される少なくとも１種を用いない場合に比べ、基板対向面に対する粒子の固着を抑制し得る表示媒体が提供される。

前記＜４＞に係る発明によれば、分散媒が水を除く極性成分を上記範囲を超えて含む場合に比べ、表示の繰り返し安定性が維持される表示媒体が提供される。

前記＜５＞に係る発明によれば、基板対向面に少なくとも１０モル％以上９０モル％以下の（１）（メタ）アクリル系モノマー、１モル％以上５０モル％以下の（２）シリコーンマクロマー、および２モル％以上７０モル％以下の（３）架橋性モノマーに由来する高分子化合物の表面層を有する表示媒体を備えない場合に比べ、基板対向面に対する粒子の固着を抑制し得る表示装置が提供される。

第１実施形態に係る表示装置の概略構成図である。 第１実施形態に係る表示装置の表示媒体の基板間に電圧を印加したときの粒子群の移動態様を模式的に示す説明図である。 第１実施形態に係る表示装置の表示媒体の基板間に電圧を印加したときの粒子群の移動態様を模式的に示す説明図である。 第２実施形態に係る表示装置の概略構成図である。 第２実施形態に係る表示装置における、印加する電圧と粒子の移動量（表示濃度）との関係を模式的に示す線図である。 表示媒体の基板間へ印加する電圧態様と、粒子の移動態様との関係を模式的に示す説明図である。

以下、本発明に係る表示媒体および表示装置の実施形態について説明する。

＜表示媒体および表示装置＞
本実施形態に係る表示媒体は、電極を有し、少なくとも一方が透光性を有し且つ間隙をもって配置された一対の基板と、前記一対の基板間に封入された分散媒と、前記分散媒中に分散され、前記一対の基板間に形成された電界に応じて該分散媒中を移動する粒子群と、少なくとも下記（１）、（２）および（３）の成分に由来する高分子化合物が、前記一対の基板の対向面の少なくとも一方に設けられた表面層と、を有する。
（１）（メタ）アクリル系モノマー：１０モル％以上９０モル％以下
（２）シリコーンマクロマー：１モル％以上５０モル％以下
（３）架橋性モノマー：２モル％以上７０モル％以下
（但し前記比率は、前記（１）、（２）および（３）の成分の合計量を基準（１００モル％）とした場合の比率である）

少なくとも上記（１）乃至（３）の化合物が上記の量比にて重合されてなる上記高分子化合物が基板の対向面に設けられた表面層を有することで、基板対向面に対する前記粒子群の粒子の固着が抑制される。

尚、（１）（メタ）アクリル系モノマーの量比が上記下限値未満であると、表面層が白化したり、上記高分子化合物がゲル化して成膜が困難となることがあり、一方上記上限値を超えると、成膜し得るものの粒子の固着が発生するようになる。
（メタ）アクリル系モノマーの量比は、４０モル％以上７０モル％以下がより好ましい。

また、（２）シリコーンマクロマーの量比が上記下限値未満であると、粒子固着の抑制の効果が得られず、一方上記上限値を越えると、高分子化合物がゲル化してしまい表面層の成膜が困難となる。
シリコーンマクロマーの量比は、２モル％以上４０モル％以下がより好ましい。

また、（３）架橋性モノマーの量比が上記下限値未満であると、粒子固着の抑制の効果が得られず、一方上記上限値を越えると、表面層の白化が発生する。
架橋性モノマーの量比は、５モル％以上４０モル％以下がより好ましい。

なお、この割合は、前記高分子化合物を合成する際の仕込み量の割合である。

・濡れ張力
また、前記表面層の表面の濡れ張力は３５ｍＮ／ｍ以下であることが好ましい。濡れ張力が上記範囲であることにより、基板対向面に対する粒子の固着がより効果的に抑制される。
上記濡れ張力は、３０ｍＮ／ｍ以下が好ましく、小さい程より好ましい。

上記濡れ張力は、ＪＩＳ−Ｋ６７６８（１９９９年）に準じて測定される。具体的には、濡れ張力試験用混合液（例えば２２．６ｍＮ／ｍから７３ｍＮ／ｍの範囲のもの／数値が大きいほど親密性が向上する）に綿棒を浸し、それを被験体（表面層）の表面に塗布し、この際に撥水すること無くベッタリと濡れる試験用混合液の番号の最小値を濡れ性指数として算出される。

表面層の表面の濡れ張力は、前記（メタ）アクリル系モノマー，シリコーンマクロマーおよび架橋性モノマーの種類と量を調整することで制御され、更にはシリコーンマクロマーおよび架橋性モノマーの種類と量が大きく寄与する。特に濡れ張力を上記範囲とする観点から、シリコーンマクロマーの量を前記下限値以上とし、且つ架橋性モノマーの量を前記下限値以上とすることが好ましい。

次いで、本実施形態に係る表示媒体および表示装置の構成について説明する

以下、本実施形態について図面を参照しつつ説明するが、作用および機能が同じ働きを担う部材には、全図面を通して同じ符合を付与し、重複する説明を省略する場合がある。

（第１実施形態）
図１は、第１実施形態に係る表示装置の概略構成図である。図２Ａおよび図２Ｂは、第１実施形態に係る表示装置の表示媒体の基板間に電圧を印加したときの粒子群の移動態様を模式的に示す説明図である。

第１実施形態に係る表示装置１０は、図１に示すように、表示媒体１２と、表示媒体１２に電圧を印加する電圧印加部１６（電圧印加手段の一種）と、制御部１８と、を含んでいる。

表示媒体１２は、画像表示面とされる表示基板２０、表示基板２０に間隙をもって対向する背面基板２２、これらの基板間を定められた間隔に保持すると共に、表示基板２０と背面基板２２との間を複数のセルに区画する間隙部材２４、各セル内に封入された粒子群３４、および粒子群３４とは異なる光学的反射特性を有する着色浮遊粒子群３６を含んでいる。

上記セルとは、表示基板２０と、背面基板２２と、間隙部材２４と、によって囲まれた領域を示している。このセル中には、分散媒５０が封入されている。粒子群３４（詳細後述）は、複数の粒子を含み、この分散媒５０中に分散され、セル内に形成された電界強度に応じて表示基板２０と背面基板２２との基板間を着色浮遊粒子群３６の間隙を通じて移動する。

なお、本実施形態では、１つのセル内に封入されている粒子群３４は、定められた色を有すると共に、正または負に帯電処理されて予め調製されているものとして説明する。

なお、この表示媒体１２に画像を表示したときの各画素に対応するように間隙部材２４を設け、各画素に対応するようにセルを形成することで、表示媒体１２を、画素毎の表示をしてもよい。

また、本実施形態では、説明を簡易化するために、１つのセルに注目した図を用いて本実施形態を説明する。以下、各構成について詳細に説明する。

・基板
まず、一対の基板について説明する。表示基板２０は、支持基板３８上に、表面電極４０を積層している。背面基板２２は、支持基板４４上に、背面電極４６を積層している。

表示基板２０、または表示基板２０と背面基板２２との双方は、透光性を有している。ここで、本実施形態における透光性とは、可視光の透過率が６０％以上であることを示している。

支持基板３８および支持基板４４としては、ガラス、またはプラスチック（例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂）等が挙げられる。

・電極
表面電極４０および背面電極４６には、インジウム、スズ、カドミウム、アンチモン等の酸化物、ＩＴＯ等の複合酸化物、金、銀、銅、ニッケル等の金属、ポリピロールやポリチオフェン等の有機材料等が使用される。これらは単層膜、混合膜あるいは複合膜として使用され、蒸着法、スパッタリング法、塗布法等で形成される。また、その厚さは、蒸着法、スパッタリング法によれば、通常１００Å以上２０００Å以下である。背面電極４６および表面電極４０は、従来の液晶表示媒体あるいはプリント基板のエッチング等従来公知の手段により、所望のパターン、例えば、マトリックス状、またはパッシブマトリックス駆動を行い得るストライプ状に形成してもよい。

また、表面電極４０を支持基板３８に埋め込んでもよい。また、背面電極４６を支持基板４４に埋め込んでもよい。この場合、支持基板３８および支持基板４４の材料を粒子群３４の各粒子の組成等に応じて選択する。

なお、背面電極４６および表面電極４０各々を表示基板２０および背面基板２２と分離させ、表示媒体１２の外部に配置してもよい。

なお、上記では、表示基板２０と背面基板２２の双方に電極（表面電極４０および背面電極４６）を備える場合を説明したが、何れか一方にだけ設けて、アクティブマトリクス駆動させてもよい。

また、アクティブマトリックス駆動を行い得る構成とするために、支持基板３８および支持基板４４は、画素毎にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を備えていてもよい。配線の積層化および部品実装が容易であることから、ＴＦＴは表示基板ではなく背面基板２２に形成することが望ましい。

・表面層
次に、表面層について説明する。表示基板２０と背面基板２２の対向面には、各々、表面層２１および表面層２３が設けられている。そして、間隙部材２４の表面（セル内側表面）にも、表面層２５が設けられている。

なお、本実施形態では、表示基板２０と背面基板２２の対向面の双方に表面層（表面層２１および表面層２３各々）が設けられている場合を説明するが、表示基板２０と背面基板２２の対向面の何れか一方にのみ設けられていてもよく、少なくとも表示基板２０側の対向面に表面層２１が設けられていることが粒子の固着に起因する画像欠陥が抑制される観点から望ましい。また、間隙部材２４の表面（セル内側表面）にも表面層２５を設けると、間隙部材２４に表面層が設けられていない場合に比べ、間隙部材２４に対する粒子の固着も抑制され、結果表示に寄与しない粒子の増加が抑制される。つまり、少なくとも表示基板２０の対向面に表面層を設けることがよいが、一対の基板および間隙部材の全て（即ち、これらで囲まれるセル内壁）に表面層が配設されていることが最もよい。

表面層２１、表面層２３および表面層２５の各々は、少なくとも下記（１）乃至（３）に由来する高分子化合物（以下単に「特定の高分子化合物」とも称す）が前記表示基板２０や背面基板２２の対向面、間隙部材２４の表面に設けられ、更に結合されて形成されることが好ましい。
（１）（メタ）アクリル系モノマー：１０モル％以上９０モル％以下
（２）シリコーンマクロマー：１モル％以上５０モル％以下
（３）架橋性モノマー：２モル％以上７０モル％以下
（但し前記比率は、前記（１）、（２）および（３）の成分の合計量を基準（１００モル％）とした場合の比率である）

表面層２１、表面層２３および表面層２５の各々は、前記特定の高分子化合物を含んでいる。具体的には、例えば、表示基板２０と背面基板２２各々の対向面や間隙部材２４同士の対向面に対して、前記特定の高分子化合物を化学的に結合させる処理、または前記特定の高分子化合物を被覆（塗布）させる処理（つまり高分子化合物を成膜する処理）によって、前記特定の高分子化合物を当該面に形成して、表面層２１、表面層２３および表面層２５の各々を構成している。

（１）（メタ）アクリル系モノマー
（メタ）アクリル系モノマーとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸アルキルエステル、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレートなどのアルキルオキシオリゴエチレングリコールの（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールの片末端（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ（メタ）アクリレート等が挙げられ、中でもヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレートが好ましい。

ここで、「（メタ）アクリル」とは、「アクリル」および「メタクリル」の双方を含むことを意味する。

（２）シリコーンマクロマー
マクロマーとは、分子中にポリマー構造を有するモノマーを指し、シリコーンマクロマーとはシリコーン鎖成分を有するマクロマーを表す。
該シリコーンマクロマーとしては、片末端に（メタ）アクリレート基を持つジメチルシリコーンマクロマー、片末端にエポキシ基を持つジメチルシリコーンマクロマー等が挙げられる。

片末端にエポキシ基を持つジメチルシリコーンマクロマーとしては、例えば下記構造式１で示されるシリコーン化合物が好適なものとして挙げられる。下記構造式１で示されるシリコーン化合物の例としては、例えば信越化学工業社製：Ｘ−２２−１７３ＤＸ等が挙げられる。

〔構造式１中、Ｒ_１’は、水素原子または炭素数１以上４以下のアルキル基を示す。ｎは自然数を示し、例えば３以上１００以下である。ｘは１以上３以下の整数を示す。〕

片末端に（メタ）アクリレート基を持つジメチルシリコーンマクロマーとしては、例えば下記構造式２で示されるシリコーン化合物が好適なものとして挙げられる。下記構造式２で示されるシリコーン化合物の例としては、例えば、ＪＮＣ社製：サイラプレーン：ＦＭ−０７１１，ＦＭ−０７２１，ＦＭ−０７２５等、信越化学工業社製：Ｘ−２２−１７４ＤＸ，Ｘ−２２−２４２６，Ｘ−２２−２４７５等が挙げられる。

〔構造式２中、Ｒ_１は、水素原子またはメチル基を示す。Ｒ_１’は、水素原子または炭素数１以上４以下のアルキル基を示す。ｎは自然数を示し、例えば３以上１００以下である。ｘは１以上３以下の整数を示す。〕

片末端に（メタ）アクリレート基を持つジメチルシリコーンマクロマーとしては、例えば下記構造式３、構造式４で示される分岐構造を有するシリコーン化合物も好適なものとして挙げられる。

〔構造式３、構造式４中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９およびＲ^１０はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、または炭素数１以上４以下のフルオロアルキル基を表す。Ｒ^１は、水素原子、またはメチル基を表す。ｐ、ｑおよびｒはそれぞれ独立に、１以上１０００以下の整数を表す。ｘは、１以上３以下の整数を表す。〕

上記構造式３で示されるシリコーン化合物の例としては、例えば、Ｇｅｌｅｓｔ社製のＭＣＳ−Ｍ１１等が挙げられる。上記構造式４で表されるシリコーン化合物としては、例えば、Ｇｅｌｅｓｔ社製のＲＴＴ−１０１１、信越化学工業社製のＸ−２２−２４０４等が挙げられる。以下にこれらのシリコーン化合物の構造式を示す。

ＭＣＳ−Ｍ１１は、上記の構造式においてｍおよびｌがそれぞれ独立に２以上４以下の整数であり、その分子量が８００以上１０００以下である。

ＲＴＴ−１０１１は、上記の構造式で表わされる化合物である。

Ｘ−２２−２４０４は、上記の構造式で表わされる化合物である。

（３）架橋性モノマー
架橋性モノマーとは、架橋構造を形成し得る基を有する重合性のモノマー、構造が変化することで架橋構造を形成し得る基となる基を有する重合性のモノマー、または、分子内に複数の反応性基を有する重合性のモノマーを表す。
架橋性モノマーとしては、例えば片末端に（メタ）アクリレート基を持ち且つ加熱により活性なイソシアネート基となるイソシアネートブロック体を有するイソシアネート系モノマー（例えば昭和電工社製：カレンズＭＯＩ−ＢＰ）が挙げられる。
また、片末端に（メタ）アクリレート基を持ち且つイソシアネート基を有するイソシアネート系モノマー（例えば昭和電工社製：カレンズＡＯＩ、カレンズＭＯＩ）、エポキシ基を有するグリシジル（メタ）アクリレートなども挙げられる。
また、ジイソシアネート化合物およびトリイソシアネート化合物（トルエンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、トリフェニルメタンイソシアネート（例えば三井化学社製：タケネートＤ−１６０Ｎ）等）、ジエポキシ化合物（１，７−オクタジエンジエポキシド、ジシクロペンタジエンジエポキシド等）なども挙げられる。
また、分子内に官能基としてイミノ基、メチロール基およびメトキシメチル基等を有するアルキル化メラミン化合物やアルキル化尿素化合物（例えば三和ケミカル社製：ニカラックＭＸ−２７０等）なども挙げられる。

これらの中でも、特に片末端に（メタ）アクリレート基を持ち且つ加熱により活性なイソシアネート基となるイソシアネートブロック体を有するイソシアネート系モノマーが好ましい。

（４）その他の重合成分
また、前記特定の高分子化合物は、更にその他の重合成分を含んだ共重合体であってもよい。
その他の重合成分としては、例えば、ジメチルアミノスチレン、ジエチルアミノスチレン、ジメチルアミノメチルスチレン、ジオクチルアミノスチレン等の含窒素基を有する芳香族置換エチレン系単量体類；ビニル−Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアミノエチルエーテル、ビニル−Ｎ−ブチル−Ｎ−フェニルアミノエチルエーテル、トリエタノールアミンジビニルエーテル、ビニルジフェニルアミノエチルエーテル、Ｎ−ビニルヒドロキシエチルベンズアミド、ｍ−アミノフェニルビニルエーテル等の含窒素ビニルエーテル単量体類；Ｎ−ビニルピロール等のピロール類；Ｎ−ビニル−２−ピロリン、Ｎ−ビニル−３−ピロリン等のピロリン類；Ｎ−ビニルピロリジン、ビニルピロリジンアミノエーテル、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン等のピロリジン類；Ｎ−ビニル−２−メチルイミダゾール等のイミダゾール類；Ｎ−ビニルイミダゾリン等のイミダゾリン類；Ｎ−ビニルインドール等のインドール類；Ｎ−ビニルインドリン等のインドリン類；Ｎ−ビニルカルバゾール、３，６−ジブロム−Ｎ−ビニルカルバゾール等のカルバゾール類；２−ビニルピリジン、４−ビニルピリジン、２−メチル−５−ビニルピロジン等のピリジン類；（メタ）アクリルピペリジン、Ｎ−ビニルピペリドン、Ｎ−ビニルピペラジン等のピペリジン類；２−ビニルキノリン、４−ビニルキノリン等のキノリン類；Ｎ−ビニルピラゾール、Ｎ−ビニルピラゾリン等のピラゾール類；２−ビニルオキサゾール等のオキサゾール類；４−ビニルオキサジン、モルホリノエチル（メタ）アクリレート等のオキサジン類；クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、シトラコン酸、またはそれらの無水物およびそのモノアルキルエステルやカルボキシエチルビニルエーテル、カルボキシプロピルビニルエーテルの如きカルボキシル基を有するビニルエーテル類；スチレンスルホン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホニックアシッド、３−スルホプロピル（メタ）アクリックアシッドエステル、ビス−（３−スルホプロピル）−イタコニックアシッドエステル等およびその塩；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリル酸の硫酸モノエステルおよびその塩；ビニルホスホン酸、ビニルホスフェート、アシッドホスホキシエチル（メタ）アクリレート、アシッドホスホキシプロピル（メタ）アクリレート、ビス（メタクリロキシエチル）ホスフェート、ジフェニル−２−メタクリロイロキシエチルホスフェート、ジフェニル−２−アクリロイロキシエチルホスフェート、ジブチル−２−メタクリロイロキシエチルホスフェート、ジブチル−２−アクリロイロキシエチルホスフェート、ジオクチル−２−（メタ）アクリロイロキシエチルホスフェート；スチレンやビニルナフタレン等の芳香族ビニル化合物類等が挙げられる。

また、上記その他の重合成分として、極性基を持つ重合成分を用いてもよい。

極性基を持つ重合成分としては、塩基（カチオン性基）を持つ重合成分、酸基（アニオン性基）を持つ重合成分、水酸基（ヒドロキシル基）を持つ重合成分等が挙げられる。
なお、極性基としての塩基（カチオン性基）は、例えば、アミノ基、４級アンモニウム基が挙げられる（これら基の塩も含む）。
極性基としての酸基（アニオン性基）は、例えば、フェノール基、カルボキシル基、カルボン酸塩基、スルホン酸基、スルホン酸塩基、リン酸基、リン酸塩基およびテトラフェニルボロン基が挙げられる。

塩基（カチオン性基）を持つ重合成分としては、例えば、以下のものが挙げられる。具体的には、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ヒドロキシエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ−エチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ−オクチル−Ｎ−エチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノエチル（メタ）アクリレート等の脂肪族アミノ基を持つ（メタ）アクリレート類；、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−オクチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニルメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｐ−メトキシ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド類；、ジメチルアミノスチレン、ジエチルアミノスチレン、ジメチルアミノメチルスチレン、ジオクチルアミノスチレン等の含窒素基を持つ芳香族置換エチレン系単量体類；、ビニル−Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアミノエチルエーテル、ビニル−Ｎ−ブチル−Ｎ−フェニルアミノエチルエーテル、トリエタノールアミンジビニルエーテル、ビニルジフェニルアミノエチルエーテル、Ｎ−ビニルヒドロキシエチルベンズアミド、ｍ−アミノフェニルビニルエーテル等の含窒素ビニルエーテル単量体類；、ビニルアミン、Ｎ−ビニルピロール等のピロール類；、Ｎ−ビニル−２−ピロリン、Ｎ−ビニル−３−ピロリン等のピロリン類；、Ｎ−ビニルピロリジン、ビニルピロリジンアミノエーテル、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン等のピロリジン類；、Ｎ−ビニル−２−メチルイミダゾール等のイミダゾール類；、Ｎ−ビニルイミダゾリン等のイミダゾリン類；、Ｎ−ビニルインドール等のインドール類；、Ｎ−ビニルインドリン等のインドリン類；、Ｎ−ビニルカルバゾール、３，６−ジブロム−Ｎ−ビニルカルバゾール等のカルバゾール類；、２−ビニルピリジン、４−ビニルピリジン、２−メチル−５−ビニルピリジン等のピリジン類；、（メタ）アクリルピペリジン、Ｎ−ビニルピペリドン、Ｎ−ビニルピペラジン等のピペリジン類；、２−ビニルキノリン、４−ビニルキノリン等のキノリン類；、Ｎ−ビニルピラゾール、Ｎ−ビニルピラゾリン等のピラゾール類；、２−ビニルオキサゾール等のオキサゾール類；、４−ビニルオキサジン、モルホリノエチル（メタ）アクリレート等のオキサジン類；などが挙げられる。
なお、塩基（カチオン性基）を持つ重合成分は、重合前または重合後に４級アンモニウム塩化して塩構造を形成してもよい。４級アンモニウム塩化は、例えば、カチオン性基をアルキルハライド類やトシル酸エステル類と反応させることで実現される。

酸基（アニオン性基）を持つ重合成分としては、例えば、以下のものが挙げられる。
カルボン酸基を持つ重合成分としては、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、シトラコン酸、それらの無水物、そのモノアルキルエステルやカルボキシエチルビニルエーテル、カルボキシプロピルビニルエーテルの如きカルボキシル基を持つビニルエーテル類、およびその塩等が挙げられる。
スルホン酸基を持つ重合成分としては、例えば、スチレンスルホン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、３−スルホプロピル（メタ）アクリックアシッドエステル、ビス−（３−スルホプロピル）−イタコニックアシッドエステル等およびその塩が挙げられる。また、スルホン酸基を持つ重合成分としては、その他２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリル酸の硫酸モノエステルおよびその塩も挙げられる。
リン酸基を持つ重合成分としては、例えば、ビニルホスホン酸、ビニルホスフェート、アシッドホスホキシエチル（メタ）アクリレート、アシッドホスホキシプロピル（メタ）アクリレート、ビス（メタクリロキシエチル）ホスフェート、ジフェニル−２−メタクリロイロキシエチルホスフェート、ジフェニル−２−アクリロイロキシエチルホスフェート、ジブチル−２−メタクリロイロキシエチルホスフェート、ジブチル−２−アクリロイロキシエチルホスフェート、ジオクチル−２−（メタ）アクリロイロキシエチルホスフェート等が挙げられる。
なお、酸基（アニオン性基）を持つ重合成分は、重合前若しくは重合後にアンモニウム塩化して塩構造を形成させてもよい。アンモニウム塩化は、例えば、アニオン性基を３級アミン類若しくは４級アンモニウムハイドロオキサイド類と反応させることで実現される。

水酸基（ヒドロキシル基）を持つ重合成分としては、例えば、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート（例えば、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等）、アリルアルコール、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート等が挙げられ、その他、グリシジル基を持つモノマーを共重合させたのち開環させたもの、ｔ−ブトキシキなどを持つモノマーを重合したのち加水分解させることでＯＨ基を導入したものも挙げられる。

また更に、上記で列挙したもの以外の重合成分としては、例えば、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリルアミド、エチレン、プロピレン、ブタジエン、イソプレン、イソブチレン、Ｎ−ジアルキル置換（メタ）アクリルアミド、ビニルカルバゾール、塩化ビニル、塩化ビニリデン、イソプレン、ブタジエン、ビニルピロリドン、等が挙げられる。

また、「その他の重合成分」として挙げた重合成分は、全重合成に対して占める質量比で０質量％以上７４質量％以下が望ましく、より望ましくは２５質量％以上７０質量％以下である。

前記特定の高分子化合物は、架橋体として表面層を構成してもよく、当該架橋体とするには、例えば、重合成分として反応性基（架橋性基）を持つ重合成分を重合させ、樹脂を架橋させる方法、高分子化合物とは別途、架橋剤を添加して、架橋させる方法が挙げられる。なお、架橋剤としては、例えば、イソシアネート等の周知の架橋剤が挙げられる。

但し、前記特定の高分子化合物が上述したその他の重合成分を原料として含む場合、該その他の重合成分の比率は、前述の（１）、（２）および（３）の成分の合計量（１００モル％）に対し９００モル％以下とすることが望ましく、より望ましくは３００モル％以下である。

前記特定の高分子化合物の重量平均分子量としては、１００以上１００万以下が望ましく、より望ましくは４００以上１００万以下であり、５００以上１００万以下が更に望ましく、更に望ましくは１０００以上５０万以下である。
なお、重量平均分子量は静的光散乱法またはサイズ排除カラムクロマトグラフィーにより測定され、本明細書に記載の数値は当該方法によって測定されたものである。

前記特定の高分子化合物を用いた表面層の形成は、基板や間隙部材が前記架橋性モノマーにおける架橋基と反応する官能基を持つ材料を含む場合、当該基板および間隙部材に直接反応させ結合させる処理を行うことで行われる。一方、特定の高分子化合物を用いた表面層の形成は、基板や間隙部材が前記架橋性モノマーにおける架橋基と反応する官能基を持つ材料を含まない場合、基板や間隙部材の表面を処理剤（例えば、シランカップリング剤）により処理した後、特定の高分子化合物を、当該基板や間隙部材に反応させる処理を行うことで行われる。

ここで、上記処理剤としては、シランカップリング剤が望ましく、例えば、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランおよびγ−クロロプロピルトリメトキシシラン等、（ｂ）γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランおよびγ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン等、（ｃ）Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、またはγ−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。

特定の高分子化合物による表面層の厚みとしては、望ましくは０．００１μｍ以上１０μｍ以下、より望ましくは０．０１μｍ以上１μｍ以下である。なお、表面層の厚みはＤｅｋｔａｋ ６Ｍ 段差計（Ｖｅｅｃｏ製）にて測定した。

・間隙部材
次に、間隙部材について説明する。表示基板２０と背面基板２２との基板間の隙を保持するための間隙部材２４は、表示基板２０の透光性を損なわないよう形成され、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化樹脂、光硬化樹脂、ゴム、金属等で形成される。

間隙部材２４は表示基板２０および背面基板２２の何れか一方と一体化されてもよい。この場合には、支持基板３８または支持基板４４をエッチングするエッチング処理、レーザー加工処理、予め作製した型を使用してプレス加工処理または印刷処理等を行うことによって作製する。
この場合、間隙部材２４は、表示基板２０側、背面基板２２側のいずれか、または双方に作製する。

間隙部材２４は有色でも無色でもよいが、表示媒体１２に表示される表示画像に悪影響を及ぼさないよう無色透明であることが望ましく、その場合には、例えば、ポリスチレンやポリエステルやアクリルなどの透明樹脂等が使用される。

また、粒子状の間隙部材２４もまた透明であることが望ましく、ポリスチレン、ポリエステルまたはアクリル等の透明樹脂粒子の他、ガラス粒子も使用される。

なお、「透明」とは、可視光に対して、透過率６０％以上有することを示している。

・分散媒
次に、分散媒について説明する。粒子群３４が分散される分散媒５０としては、絶縁性液体であることが望ましい。ここで、「絶縁性」とは、体積固有抵抗が１０^１１Ωｃｍ以上であることを示している。以下同義である。

分散媒５０としては、特に制限はないが、低誘電溶媒（例えば誘電率５．０以下、望ましくは３．０以下）が選択されることがよい。分散媒は、低誘電溶媒以外の溶媒を併用してもよいが、５０体積％以上の低誘電溶媒を含むことがよい。なお、低誘電率の誘電率は、誘電率計（日本ルフト製）により求められる。

上記絶縁性液体として具体的には、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、デカン、ヘキサデカン、ケロセン、パラフィン、イソパラフィン、シリコーンオイル、ジククロロエチレン、トリクロロエチレン、パークロロエチレン、高純度石油、エチレングリコール、アルコール類、エーテル類、エステル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン、２−ピロリドン、Ｎ−メチルホルムアミド、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、ベンジン、ジイソプロピルナフタレン、オリーブ油、イソプロパノール、トリクロロトリフルオロエタン、テトラクロロエタン、ジブロモテトラフルオロエタンなど、およびそれらの混合物が好適に使用される。これらの中でも、シリコーンオイルを適用することがよい。

また、下記体積抵抗値となるよう不純物を除去することで、水（所謂、純水）も、分散媒５０として好適に使用される。該体積抵抗値としては、１０^３Ωｃｍ以上であることが望ましく、１０^７Ωｃｍ以上１０^１９Ωｃｍ以下であることがより好適であり、さらに１０^１０Ωｃｍ以上１０^１９Ωｃｍ以下であることがより良い。

なお、絶縁性液体には、酸、アルカリ、塩、分散安定剤、酸化防止や紫外線吸収などを目的とした安定剤、抗菌剤、防腐剤などを添加してもよいが、上記で示した特定の体積抵抗値の範囲となるよう添加することが望ましい。

また、絶縁性液体には、帯電制御剤として、陰イオン界面活性剤、陽イオン界面活性剤、両性界面活性剤、非イオン界面活性剤、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、金属石鹸、アルキルリン酸エステル類、コハク酸イミド類等を添加して使用してもよい。

イオン性および非イオン性の界面活性剤としては、より具体的には以下が挙げられる。ノニオン界面活性剤としては、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンドデシルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、脂肪酸アルキロールアミド等が挙げられる。アニオン界面活性剤としては、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルフェニルスルホン酸塩、アルキルナフタリンスルホン酸塩、高級脂肪酸塩、高級脂肪酸エステルの硫酸エステル塩、高級脂肪酸エステルのスルホン酸等がある。カチオン界面活性剤としては、第一級ないし第三級のアミン塩、第四級アンモニウム塩等があげられる。これら帯電制御剤は、粒子固形分に対して０．０１質量％以上２０質量％以下が望ましく、特に０．０５質量％以上１０質量％以下の範囲が望ましい。

なお、分散媒５０は、前記絶縁性液体と共に高分子樹脂を併用してもよい。この高分子樹脂としては、高分子ゲル、高分子ポリマー等であることも望ましい。

この高分子樹脂としては、アガロース、アガロペクチン、アミロース、アルギン酸ナトリウム、アルギン酸プロピレングリコールエステル、イソリケナン、インスリン、エチルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、カードラン、カゼイン、カラギーナン、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルデンプン、カロース、寒天、キチン、キトサン、絹フィブロイン、クアーガム、クインスシード、クラウンゴール多糖、グリコーゲン、グルコマンナン、ケラタン硫酸、ケラチン蛋白質、コラーゲン、酢酸セルロース、ジェランガム、シゾフィラン、ゼラチン、ゾウゲヤシマンナン、ツニシン、デキストラン、デルマタン硫酸、デンプン、トラガカントゴム、ニゲラン、ヒアルロン酸、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、プスツラン、フノラン、分解キシログルカン、ペクチン、ポルフィラン、メチルセルロース、メチルデンプン、ラミナラン、リケナン、レンチナン、ローカストビーンガム等の天然高分子由来の高分子ゲルが挙げられる他、合成高分子の場合にはほとんどすべての高分子ゲルが挙げられる。

更に、アルコール、ケトン、エーテル、エステル、およびアミドの官能基を繰り返し単位中に含む高分子等が挙げられ、例えば、ポリビニルアルコール、ポリ（メタ）アクリルアミドやその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキシドやこれら高分子を含む共重合体が挙げられる。これら中でも、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリ（メタ）アクリルアミド等が望ましく用いられる。

また、この分散媒５０に下記着色剤を混合することで、表示媒体１２に粒子群３４の色とは異なる色を表示させてもよい。例えば、着色剤として白色を示す着色剤を混合することにより、粒子群３４の色が黒色の場合には、表示媒体１２において白色と黒色とが表示される。

この分散媒５０に混合する着色剤としては、カーボンブラック、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、フタロシアニン銅系シアン色材、アゾ系イエロー色材、アゾ系マゼンタ色材、キナクリドン系マゼンタ色材、レッド色材、グリーン色材、ブルー色材等の公知の着色剤が挙げられる。具体的には、アニリンブルー、カルコイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５７：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９７、Ｃ．ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：３、等が代表的なものとして挙げられる。

分散媒５０はその中で粒子群３４が移動することから、分散媒５０の粘度が定められた値以上であると、背面基板２２および表示基板２０への力のばらつきが大きく、電界に対する粒子移動の閾値がとれないことから、分散媒５０の粘度についても、調整することがよい。

分散媒５０の粘度は、温度２０℃の環境下において、０．１ｍＰａ・ｓ以上１００ｍＰａ・ｓ以下であることが粒子の移動速度、すなわち、表示速度の観点から望ましく、０．１ｍＰａ・ｓ以上５０ｍＰａ・ｓ以下であることがより望ましく、０．１ｍＰａ・ｓ以上２０ｍＰａ・ｓ以下であることが更に望ましい。

分散媒５０の粘度の調整は、分散媒の分子量、構造、組成等を調整することによって行われる。なお、この粘度の測定には、東京計器製Ｂ−８Ｌ型粘度計を用いる。

・粒子群（泳動粒子群）
粒子群（泳動粒子群）３４は、複数の泳動粒子を含み、例えば、各泳動粒子は正または負に帯電されており、表面電極４０と背面電極４６との電極間に（すなわち、表示基板２０と背面基板２２と基板間に）、予め定められた電圧が印加されて表示基板２０と背面基板２２との間に、予め定められた電界強度以上の電界が形成されることで分散媒５０中を移動するものである。
表示媒体１２における表示色の変化は、この泳動粒子群３４に含まれる各泳動粒子の分散媒５０中の移動によって生じる。

泳動粒子群３４の泳動粒子は、例えば、着色した芯材粒子（以下、「コア粒子」と称する）と、コア粒子を被覆する被覆層と、を有している。

−コア粒子−
コア粒子は、例えば、樹脂（以下、「コア粒子の樹脂」と称する）と着色剤とを含む組成物を含む。

コア粒子の樹脂は、非架橋の樹脂であってもよいが、樹脂架橋体であることがよい。コア粒子の樹脂を樹脂架橋体とするには、例えば、樹脂の重合成分として反応性基（架橋性基）を持つ重合成分を重合させ、樹脂を架橋させる方法、樹脂とは別途、架橋剤を添加して、樹脂を架橋させる方法が挙げられる。

コア粒子の樹脂（架橋前の樹脂）としては、電気泳動粒子の製法上の観点から、水溶性樹脂またはアルコール可溶性樹脂であることがよい。なお、水溶性、アルコール可溶性とは、２５℃において、対象物質が水またはアルコールに対して１質量％以上溶解することを意味する。

コア粒子の樹脂は、帯電性樹脂（帯電性基を有する樹脂）であっても、非帯電性樹脂（帯電性基を有していない樹脂）であってもよいが、帯電量向上の観点から、帯電性樹脂であることがよい。
帯電性樹脂としては、例えば、帯電性基を持つ重合成分の単独重合体、帯電性基を持つ重合成分と帯電性基を持たない重合成分との共重合体等が挙げられる。
一方、非帯電性樹脂としては、例えば、帯電性基を持たない重合成分の単独重合体が挙げられる。
これら共重合体は、樹脂架橋体とする場合、反応性基（架橋性基）を持つ重合成分がさらに共重合されていてもよい。
なお、これら各重合成分は、１種単独でも、２種以上併用してもよい。

ここで、帯電性基（例えば極性基；分極性の官能基）としては、塩基または酸基が挙げられる。
帯電性基としての塩基（カチオン性基）は、例えば、アミノ基、４級アンモニウム基が挙げられる（これら基の塩も含む）。これら塩基（カチオン性基）は、例えば、粒子に正帯電極性を付与する傾向がある。
帯電性基としての酸基（アニオン性基）は、例えば、フェノール基、カルボキシル基、カルボン酸塩基、スルホン酸基、スルホン酸塩基、リン酸基、リン酸塩基およびテトラフェニルボロン基が挙げられる。これら酸基（アニオン性基）は、例えば、粒子に負帯電極性を付与する傾向がある。

以下、各重合成分について説明する。
なお、以下の説明において、「（メタ）アクリレート」等の記述は、「アクリレート」および「メタクリレート」等のいずれをも含む表現である。

塩基（カチオン性基）を持つ重合成分としては、例えば、表面層に含まれる特定の高分子化合物の重合成分として説明した塩基（カチオン性基）を持つ重合成分と同様なものが挙げられる。
酸基（アニオン性基）を持つ重合成分としては、例えば、表面層に含まれる特定の高分子化合物の重合成分として説明した酸基（アニオン性基）を持つ重合成分と同様なものが挙げられる。

帯電性基を持たない重合成分としては、非イオン性重合成分（ノニオン性重合成分）が挙げられ、例えば、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリルアミド、エチレン、プロピレン、ブタジエン、イソプレン、イソブチレン、Ｎ−ジアルキル置換（メタ）アクリルアミド、ビニルカルバゾール、塩化ビニル、塩化ビニリデン、イソプレン、ブタジエン、ビニルピロリドン、等が挙げられる。

反応性基（架橋性基）を持つ重合成分としては、例えば、エポキシ基を有するグリシジル（メタ）アクリレート、イソシアネート基を有するイソシアネート系モノマー（例えば、昭和電工：カレンズＡＯＩ（２−イソシアナトエチルアクリラート）、カレンズＭＯＩ（２−イソシアナトエチルメタクリレート））、ブロックされたイソシアネート基を有するイソシアネート系モノマー（例えば、昭和電工：カレンズＭＯＩ−ＢＭ（メタクリル酸２−（０−［１’−メチルプロピリデンアミノ］カルボキシアミノ）エチル）、カレンズＭＯＩ−ＢＰ（２−［（３，５−ジメチルピラゾリル）カルボニルアミノ］エチルメタクリレート））等が挙げられる。
なお、ブロックされたイソシアネート基とは、例えば、イソシアネート基が置換基と反応した状態となっており、イソシアネート基が加熱によって脱離する置換基と反応しない状態となっているものである。これにより、イソシアネート基の反応性が抑制され、加熱により置換基が離脱すると反応する状態となる。
このようなコア粒子の樹脂の重合成分として反応性基を持つ重合成分を用いると、コア粒子の樹脂自体が架橋し、コア粒子が樹脂架橋体となる。

コア粒子の樹脂において、帯電性基を持つ重合成分は、例えば、全重合成分に対して占める質量比で０．１質量％以上９０質量％以下が望ましく、より望ましくは０．５質量％以上７０質量％以下である。
また、反応性基を持つ重合成分は、全重合成分に対して占める質量比で１質量％以上８０質量％以下が望ましく、より望ましくは３質量％以上６０質量％以下である。

ここで、樹脂架橋体を得るための架橋剤としては、例えば、エポキシ化合物、カルボキシイミド化合物、ブロックイソシアネート等の架橋剤が挙げられる。
エポキシ化合物としては、グリシジル（メタ）アクリレート，イタコン酸ジグリシジルエステル，ブテントリカルボン酸トリグリシジルエステル，ｐ−スチレンカルボン酸グリシジルエステル等の不飽和カルボン酸グリシジルエステル，ビニルグリシジルエーテル，アリルグリシジルエーテル，２−メチルアリルグリシジルエーテル，メタクリルグリシジルエーテル，スチレン−ｐ−グリシジルエーテル等の不飽和グリシジルエーテル等が挙げられる。
カルボキシイミド化合物としては、サッカリン，こはく酸イミド，フタル酸イミド等が挙げられる。
ブロックイソシアネートとしては、例えば、上記例示したブロックされたイソシアネート基を有するイソシアネート系モノマーが挙げられる。
樹脂架橋体を得るための架橋剤の使用量は、例えば、コア粒子の樹脂に対して、１質量％以上８０質量％以下が望ましく、より望ましくは３質量％以上６０質量％以下である。

コア粒子の樹脂の重量平均分子量としては、１０００以上１００万以下が望ましく、より望ましくは１万以上２０万以下である。

着色剤としては、有機若しくは無機の顔料、油溶性染料等が挙げられ、例えば、マグネタイト、フェライト等の磁性紛、カーボンブラック、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、フタロシアニン銅系シアン色材、アゾ系イエロー色材、アゾ系マゼンタ色材、キナクリドン系マゼンタ色材、レッド色材、グリーン色材、ブルー色材等の公知の着色剤が挙げられる。具体的には、着色剤としては、アニリンブルー、カルコイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５７：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：３、等が代表的なものとして例示される。

着色剤の配合量としては、コア粒子の樹脂に対して１０質量％以上９９質量％以下が望ましく、望ましくは３０質量％以上９９質量％以下である。

コア粒子には、その他の配合材料を含んでいてもよい。
その他配合材料としては、例えば帯電制御材料、磁性材料が挙げられる。
帯電制御材料としては、電子写真用トナー材料に使用される公知のものが使用でき、例えば、セチルピリジルクロライド、ＢＯＮＴＲＯＮ Ｐ−５１、ＢＯＮＴＲＯＮ Ｐ−５３、ＢＯＮＴＲＯＮ Ｅ−８４、ＢＯＮＴＲＯＮ Ｅ−８１（以上、オリエント化学工業社製）等の第４級アンモニウム塩、サリチル酸系金属錯体、フェノール系縮合物、テトラフェニル系化合物、酸化金属粒子、各種カップリング剤により表面処理された酸化金属粒子を挙げられる。

磁性材料としては、必要に応じてカラーコートした無機磁性材料や有機磁性材料を使用する。また、透明な磁性材料、特に、透明有機磁性材料は着色顔料の発色を阻害し難く、比重も無機磁性材料に比べて小さく、より望ましい。
着色した磁性材料（カラーコートした材料）として、例えば、特開２００３−１３１４２０公報記載の小径着色磁性粉が挙げられる。核となる磁性粒子と該磁性粒子表面上に積層された着色層とを備えたものが用いられる。そして、着色層としては、顔料等により磁性粉を不透過に着色する等選定して差し支えないが、例えば光干渉薄膜を用いるのが好ましい。この光干渉薄膜とは、ＳｉＯ_２やＴｉＯ_２等の無彩色材料を光の波長と同等な厚みを有する薄膜にしたものであり、薄膜内の光干渉により光の波長を選択的に反射するものである。

−被覆層−
被覆層は、例えば、樹脂（以下、「被覆層の樹脂」と称する）を含む。

被覆層の樹脂は、非架橋の樹脂であってもよいが、樹脂架橋体であることがよい。被覆層の樹脂を樹脂架橋体とするには、例えば、樹脂の重合成分として反応性基（架橋性基）を持つ重合成分を重合させ、樹脂を架橋させる方法、樹脂とは別途、架橋剤を添加して、樹脂を架橋させる方法が挙げられる。

被覆層の樹脂は、電気泳動粒子の分散性向上の観点から、樹脂の重合成分としてシリコーン鎖を持つ重合成分が共重合されていることがよい。
被覆層の樹脂として具体的には、例えば、シリコーン鎖を持つ重合成分と、反応性基を持つ重合成分と、必要に応じて、帯電性基を持つ重合成分や、その他の重合成分と、の共重合体からなる樹脂が挙げられる。

シリコーン鎖を持つ重合成分（シリコーン鎖を持つ単量体）としては、例えば、表面層に含まれる特定の高分子化合物の重合成分として説明したシリコーン鎖を持つ重合成分（つまりシリコーンマクロマー）と同様なものが挙げられる。
反応性基（架橋性基）を持つ重合成分としては、コア粒子の樹脂の重合成分として説明した反応性基（架橋性基）を持つ重合成分と同様である。
なお、このような被覆層の樹脂の重合成分として反応性基を持つ重合成分を用いると、被覆層の樹脂自体が架橋し、被覆層が樹脂架橋体となる。また、被覆層の樹脂の反応性基がコア粒子の表面の官能基と結合した状態で、被覆層がコア粒子に被覆されることなる。
帯電性基を持つ重合成分としては、コア粒子の樹脂の重合成分として説明した帯電性基を持つ重合成分と同様なものが挙げられる。

その他重合成分としては、帯電性基を持たない重合成分が挙げられる。
帯電性基を持たない重合成分としては、コア粒子の樹脂の重合成分として説明した帯電性基を持たない重合成分と同様である。

被覆層の樹脂において、シリコーン鎖を持つ重合成分（つまりシリコーンマクロマー）は、全重合成分に対して占める質量比で１質量％以上９０質量％以下が望ましく、より望ましくは２質量％以上８０質量％以下である。
また、反応性基を持つ重合成分は、全重合成分に対して占める質量比で３質量％以上８０質量％以下が望ましく、より望ましくは５質量％以上６０質量％以下である。

ここで、樹脂架橋体を得るための架橋剤としては、例えば、コア粒子の樹脂を架橋体とするための架橋剤と同様に、エポキシ化合物、カルボキシイミド化合物、ブロックイソシアネート等の架橋剤が挙げられる。
樹脂架橋体を得るための架橋剤の使用量は、例えば、被覆層の樹脂に対して、１質量％以上８０質量％以下が望ましく、より望ましくは３質量％以上６０質量％以下である。

被覆層の樹脂の重量平均分子量としては、５００以上１００万以下が望ましく、より望ましくは１０００以上１００万以下である。

被覆層には、その他配合材料を含んでもよい。
その他配合材料としては、例えば、スチレン，クロロスチレン等のスチレン類，エチレン，プロピレン，ブチレン，イソプレン等のモノオレフィン，酢酸ビニル，プロピオン酸ビニル，安息香酸ビニル，酪酸ビニル等のビニルエステル、アクリル酸メチル，アクリル酸エチル，アクリル酸ブチル，アクリル酸ドデシル，アクリル酸オクチル，アクリル酸フェニル，メタクリル酸メチル，メタクリル酸エチル，メタクリル酸ブチル，メタクリル酸ドデシル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類，ビニルメチルエーテル，ビニルエチルエーテル，ビニルブチルエーテル等のビニルエーテル類，ビニルメチルケトン，ビニルヘキシルケトン，ビニルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類，ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート，ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート，テトラエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレートなどのアルキルオキシオリゴエチレングリコールの（メタ）アクリレート，ポリエチレングリコールの片末端（メタ）アクリレート，（メタ）アクリル酸およびその塩，ビニルスルホン酸およびその塩，ビニルピロリドン等周知の単量体の重合体、またはこれらの共重合体が挙げられる。

被覆層は、コア粒子の表面に対する被覆量が、例えば、コア粒子に対して、０．４質量％以上１５質量％以下、望ましくは０．４質量％以上６質量％以下である。

−泳動粒子の特性−
泳動粒子の平均粒径（体積平均粒径）は、例えば、０．１μｍ以上１０μｍ以下であるが、用途に応じて選択され、これに限定されない。
平均粒径は、大塚電子株式会社製Ｐｈｏｔａｌ ＦＰＡＲ−１０００（動的光散乱式粒径分布測定装置）を用いて測定され、ＭＡＲＱＵＡＲＤＴ法により解析が行われる。

−泳動粒子の製造方法−
泳動粒子の製造方法の一例としては、例えば、次の製法が挙げられるが、これに限られるわけではない。
まず、コア粒子の樹脂、着色剤、およびその他配合材料を、第１溶媒に混合し、コア粒子の樹脂が溶解した混合液を調製する。
ここで、第１溶媒は、後述する第２溶媒（連続相を形成し得る貧溶媒）中で分散相を形成し得る良溶媒であり、第２溶媒よりも沸点が低く且つ、コア粒子の樹脂を溶解する溶媒から選択する。
第１溶媒としては、例えば、水、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、メタノール、エタノール、ブタノール、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどが挙げられる。

次に、得られた混合液を、第２溶媒と混合し、攪拌して、第２溶媒を連続相として混合液を乳化させ、乳化液を調製する。
そして、加熱等により、乳化液中の第１溶媒を除去（乾燥）して、コア粒子の樹脂を析出させ、これらと共に着色剤およびその他配合材料を含む粒状物として、コア粒子（第２溶媒に分散されたコア粒子）を得る。
ここで、第２溶媒は、分散相となる第１溶媒に対して連続相を形成し得る貧溶媒であり、第１溶媒よりも沸点が高く且つ、コア粒子の樹脂が不溶な溶媒から選択する。
第２溶媒としては、例えば、得られる電気泳動粒子を分散させるための分散媒が挙げられる。

次に、被覆層の樹脂とその他配合材料を、第３溶媒に混合し、被覆層の樹脂が溶解した混合液を調整する。
ここで、第３溶媒も、第２溶媒（連続相を形成し得る貧溶媒）中で分散相を形成し得る良溶媒であり、第２溶媒よりも沸点が低く且つ、被覆層の樹脂を溶解する溶媒から選択する。また、第３溶媒は、コア粒子の樹脂が不溶な溶媒から選択することがよい。
第３溶媒としても、例えば、水、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、メタノール、エタノール、ブタノール、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどが挙げられる。

次に、得られた混合液を、コア粒子が分散した第２溶媒と混合し、攪拌して、第２溶媒を連続相として混合液を乳化させ、乳化液を調製する。
そして、加熱等により、乳化液中の第３溶媒を除去（乾燥）して、コア粒子の表面に被覆層の樹脂を析出させ、これと共にその他配合材料を含む被覆層をコア粒子の表面に形成する。
その後、コア粒子および被覆層に含まれる樹脂を架橋させる場合、樹脂を架橋化させるための加熱処理を行う。

このようにして、コア粒子の表面に被覆層が形成された泳動粒子を得る。

−泳動粒子の含有量−
泳動粒子（泳動粒子群３４）の含有量（セル中の全質量に対する含有量（質量％））は、所望の色相が得られる濃度であれば特に限定されるものではなく、セルの厚さ（すなわち、表示基板２０と背面基板との基板間の距離）により含有量を調整することが、表示媒体１２としては有効である。即ち、所望の色相を得るために、セルが厚くなるほど含有量は少なくなり、セルが薄くなるほど含有量を多くなる。一般的には、０．０１質量％以上５０質量％以下である。

・着色浮遊粒子群
次に、着色浮遊粒子群について説明する。着色浮遊粒子群３６は、帯電されていない粒子群であり、粒子群３４とは異なる光学的反射特性を有する着色粒子を含み、粒子群３４とは異なる色を表示する反射部材として機能するものである。

着色浮遊粒子群３６は、具体的には、例えば、粒子群３４の色とは異なる色に着色されており、粒子群３４による色とは異なる色を表示媒体１２に表示させるための部材である。本実施形態では、着色浮遊粒子群３６は白色である場合を説明するが、この色に限定されることはない。

着色浮遊粒子群３６は、例えば、酸化チタンや酸化ケイ素、酸化亜鉛などの白色顔料を、ポリスチレンやポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ＰＭＭＡ、アクリル樹脂、フェノール樹脂、ホルムアルデヒド縮合物などに分散した粒子が使用される。また、白色以外の粒子を適用する場合、例えば、所望の色の顔料、あるいは染料を内包した前記した樹脂粒子を使用してもよい。顔料や染料は、例えばＲＧＢやＹＭＣ色であれば、印刷インキやカラートナーに使用されている一般的な顔料あるいは染料を使用してもよい。

着色浮遊粒子群３６を基板間へ封入するには、例えば、インクジェット法などにより行う。

表示媒体１２における上記セルの大きさとしては、表示媒体１２の解像度と密接な関係にあり、セルが小さいほど高解像度な画像を表示し得る表示媒体１２が作製され、通常、表示媒体１２の表示基板２０の板面方向の長さが１０μｍ以上１ｍｍ以下である。

上記表示基板２０および背面基板２２を、間隙部材２４を介して互いに固定するには、ボルトとナットの組み合わせ、クランプ、クリップ、基板固定用の枠等の固定手段を使用する。また、接着剤、熱溶融、超音波接合等の固定手段を使用してもよい。

表示媒体１２は、例えば、画像の保存および書換えを行い得る掲示板、回覧版、電子黒板、広告、看板、点滅標識、電子ペーパー、電子新聞、電子書籍、および複写機、プリンタと共用するドキュメントシート等に使用する。

上記に示した、本実施形態に係る表示装置１０は、表示媒体１２と、表示媒体１２に電圧を印加する電圧印加部１６（電圧印加手段の一種）と、制御部１８とを含んでいる（図１参照）。

電圧印加部１６は、表面電極４０および背面電極４６に電気的に接続されている。なお、本実施形態では、表面電極４０および背面電極４６の双方が、電圧印加部１６に電気的に接続されている場合を説明するが、表面電極４０および背面電極４６の一方が、接地されており、他方が電圧印加部１６に接続されていてもよい。

電圧印加部１６は、制御部１８に信号を授受し得るよう接続されている。

制御部１８は、装置全体の動作を司るＣＰＵ（中央処理装置）と、各種データを一時的に記憶するＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）と、装置全体を制御する制御プログラム等の各種プログラムが予め記憶されたＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）と、を含むマイクロコンピュータとしてもよい。

電圧印加部１６は、表面電極４０および背面電極４６に電圧を印加するための電圧印加装置であり、制御部１８の制御に応じた電圧を表面電極４０および背面電極４６間に印加する。

次に、表示装置１０の作用を説明する。この作用は制御部１８の動作に従って説明する。

ここで、表示媒体１２に封入されている粒子群３４は、黒色であり且つ負極性に帯電されている場合を説明する。また、分散媒５０は透明であり、着色浮遊粒子群３６が白色であるものとして説明する。すなわち、本実施形態では、表示媒体１２は、粒子群３４の移動によって黒色または白色を表示する場合を説明する。

まず、電圧を、定められた時間、表面電極４０が負極となり背面電極４６が正極となるよう印加することを示す初期動作信号を、電圧印加部１６へ出力する。基板間に負極で且つ濃度変動が終了する閾値電圧以上の電圧が印加されると、負極に帯電している粒子群３４が背面基板２２側へと移動して、背面基板２２に到る（図２Ａ参照）。
このとき、表示基板２０側から視認される表示媒体１２の色は、着色浮遊粒子群３６の色としての白色として視認される。

この定められた時間は、初期動作における電圧印加における電圧印加時間を示す情報として、予め制御部１８内の図示を省略するＲＯＭ等のメモリ等に記憶しておけばよい。そして、処理実行のときに、この定められた時間を示す情報を読み取ればよい。

次に、表面電極４０と背面電極４６との電極間に、基板間に印加した電圧とは極性を反転させて、表面電極４０を正極とし背面電極４６を負極として電圧を印加すると、図２Ｂに示すごとく、粒子群３４は表示基板２０側へと移動して表示基板２０側に到達し、粒子群３４による黒表示がなされる。

こうして、本実施形態に係る表示装置１０では、粒子群３４が表示基板２０または背面基板２２に到達して、付着することで表示が行われる。そして、表示基板２０と背面基板２２の対向面が、前記特定の高分子化合物による表面層２１、２３（表面層）を有することで、粒子群３４が当該対向面に移動し付着しても粒子群３４の各粒子の固着が抑制される。結果、色再現性や、高いコントラストが実現される。

以上説明した本実施形態に係る表示装置１０（表示媒体１２）では、表示基板２０と背面基板２２において、支持基板３８および支持基板４４の対向面が、上記特定の高分子化合物であって且つ極性基を有する重合成分を重合してなる高分子化合物を含んで構成された表面層２１、表面層２３を有することが好ましい。
これにより、繰り返し表示を行っても、泳動粒子群３４が当該対向面に移動し付着した状態が維持され、表示のメモリ性が付与される一方で、泳動粒子群３４の各泳動粒子の当該対向面に対する固着も抑制される。
この理由は定かではないが、表面層に含まれる高分子化合物として前記特定の高分子化合物を適用することから、シリコーン鎖により泳動粒子群３４に対する離形性を発現し、表示基板２０と背面基板２２の対向面において泳動粒子群３４の各泳動粒子の固着が抑制される一方で、極性基が泳動粒子群３４を吸着する官能基（吸着性官能基）として機能して、表示基板２０と背面基板２２の対向面において泳動粒子群３４の付着した状態が維持され易くなるためと考えられる。

しかしながら、泳動粒子群３４を分散する分散媒５０中に、水を除く極性成分が多く含まれていると、経時で、表示基板２０と背面基板２２の対向面において泳動粒子群３４の各泳動粒子の固着が発生して、各基板から離脱させる電圧が上昇し、表示の繰り返し安定性が低下することがある。
この理由も定かではないが、分散媒５０中に、水を除く極性成分が、表示基板２０と背面基板２２の対向面である表面層２１および表面層２３に吸着されると考えられるためである。

そこで、本実施形態に係る表示装置１０（表示媒体１２）では、分散媒５０中に含まれる水を除く極性成分の含有量を０．０１質量％以下望ましくは０．００５質量％以下とすることが好ましい。
これにより、本実施形態に係る表示装置１０（表示媒体１２）は、表示の繰り返し安定性が維持される。

ここで、表示の繰り返し安定性を低下させる原因となる「水を除く極性成分」とは、例えば、分散媒５０に接する部材（例えば、表面層２１、表面層２３、表面層２５、泳動粒子）に含まれる樹脂（高分子）中に含まれる未反応の極性基を持つ重合成分が分散媒５０へ溶出した成分である。つまり、「水を除く極性成分」とは、機能性官能基（例えば吸着性官能基や帯電性基）として働かせるために配合した極性基を持つ重合成分のうち未反応で残存した低分子量成分が、分散媒５０に接する部材から分散媒５０へ溶出した成分である。
また、「水を除く極性成分」とは、その他、泳動粒子を構成する樹脂（高分子）以外に含まれる極性成分が分散媒５０へ溶出した成分、残留溶媒等である。
なお、極性成分のうち「水」は、通常の使用条件ではシリコーンオイル中に１４０ｐｐｍ前後の水分が含まれており、ほぼ飽和しているため、表示の繰り返し安定性を低下させる原因とはならないことから、その含有量については考慮する必要はない。

そして、この水を除く極性成分を上記範囲内と低減する構成としては、例えば、以下の構成が挙げられる。

１）分散媒５０に接する部材に含まれる樹脂（高分子）を高分子量化（例えば重量平均分子量１００，０００以上）した構成。この構成では、分散媒５０が接する部材に含まれる樹脂自体において、未反応の極性基を持つ重合成分が低減され易くなり、その結果、分散媒５０が接する部材から分散媒５０へ溶出する極性成分が低減されると考えられる。

２）分散媒５０に接する部材に含まれる樹脂（高分子）を架橋体とした構成。この構成では、樹脂（高分子）の高分子鎖が３次元的に連結した所謂３次元網目構造を取ることから、分散媒５０が接する部材から分散媒５０へ溶出する極性成分が低減されると考えられる。

３）分散媒５０に接する部材に含まれる樹脂（高分子）において、当該樹脂（高分子）が持つ極性基を分散媒５０と接する側に配向させた構成。この構成では、樹脂（高分子）において、機能性官能基（例えは吸着性官能基や帯電性基）として機能させる極性基を持つ重合成分自体の量の低減が実現され、つまり、未反応の極性基を持つ重合成分も低減され易くなり、その結果、分散媒５０が接する部材から分散媒５０へ溶出する極性成分が低減されると考えられる。
なお、樹脂（高分子）が持つ極性基を分散媒５０と接する側に配向する方法としては、例えば、電場や磁場などにより配向する方法、気液、または２液界面に樹脂を展開させておき、基盤上に層を形成する方法等が挙げられる。

４）その他、再沈殿、再結晶等の方法により、分散媒５０自体を精製し、基板間に封入する前の分散媒５０に含まれる水を除く極性成分を低減させた構成。

「水を除く極性成分」の含有量の測定は、次の通りに行う。
まず、作製した表示装置１０（表示媒体１２）から、分散媒５０の一部を採取し、測定試料とする。
採取した測定試料を用いて、遠心分離等の操作により固体と液体とを分離する。分離した液体に対して電流測定を実施し、あらかじめ作成していた検量線と比較して、水を除く極性成分の含有量を測定する。

ここで、表示装置１０（表示媒体１２）の作製過程（製造方法）において、最終完成品の良品または不良品の判別工程として、水を除く極性成分の含有量の測定を行い、分散媒５０に含まれる水を除く極性成分の含有量が上記範囲内か否かの判別を行ってもよい。

（第２実施形態）
図３は、第２実施形態に係る表示装置の概略構成図である。図４は、第２実施形態に係る表示装置における、印加する電圧と粒子の移動量（表示濃度）との関係を模式的に示す線図である。図５は、第２実施形態に係る表示装置における、表示媒体の基板間へ印加する電圧態様と、粒子の移動態様との関係を模式的に示す説明図である。

第２実施形態に係る表示装置１０は、２種類以上の粒子群を適用した形態である。なお、２種類以上の粒子群は、全て同じ極性で帯電されている。

本実施形態に係る表示装置１０は、図３に示すごとく、表示媒体１２と、表示媒体１２に電圧を印加する電圧印加部１６と、制御部１８と、を含んでいる。
なお、本実施形態に係る表示装置１０は、上記第１実施形態で説明した表示装置１０と略同一の構成であるため、同一構成には同一符号を付与して詳細な説明を省略する。

表示媒体１２は、画像表示面とされる表示基板２０、表示基板２０に間隙をもって対向する背面基板２２、これらの基板間を定められた間隔に保持すると共に、表示基板２０と背面基板２２との基板間を複数のセルに区画する間隙部材２４、各セル内に封入された粒子群３４、および粒子群３４とは異なる光学的反射特性を有する着色浮遊粒子群３６を含んでいる。
表示基板２０および背面基板２２の対向面は、第１実施形態に記載のごとく帯電処理されており、この対向面上には、表面層２１および表面層２３各々が設けられている。

本実施形態では、粒子群３４として、互いに色の異なる複数種の粒子群３４が分散媒５０に分散されている。

なお、本実施形態では３種類の粒子群３４として、イエロー色のイエロー粒子群３４Ｙ、マゼンタ色のマゼンタ粒子群３４Ｍ、およびシアン色のシアン粒子群３４Ｃが分散されているとして説明するが、３種類に限られない。
この複数種類の粒子群３４は、基板間を電気泳動する粒子群であり、電界に応じて移動するために必要な電圧の絶対値が各色の粒子群でそれぞれ異なる。すなわち、各色の粒子群３４（イエロー粒子群３４Ｙ、マゼンタ粒子群３４Ｍ、およびシアン粒子群３４Ｃ）は、色毎に各色の粒子群３４を移動させるために必要な電圧範囲を有し、当該電圧範囲がそれぞれ異なる。

この電界に応じて移動するために必要な電圧の絶対値が異なる複数種の粒子群３４の各粒子としては、上記第１実施形態で説明した粒子群３４に含まれる材料の内の、例えば、帯電制御剤や磁性粉の量、粒子を構成する樹脂の種類や濃度等を換える等して、帯電量の異なる粒子を含む粒子分散液をそれぞれ作製し、これを混合することで得られる。

ここで、上述のごとく、本実施形態に係る表示媒体１２には３種類の粒子群３４として、互いに色の異なるイエロー粒子群３４Ｙ、マゼンタ粒子群３４Ｍ、およびシアン粒子群３４Ｃが分散されており、これらの複数種類の粒子群３４は、電界に応じて移動するために必要な電圧の絶対値が各色の粒子群でそれぞれ異なる。

なお、本実施形態では、マゼンタ色のマゼンタ粒子群３４Ｍ、シアン色のシアン粒子群３４Ｃ、およびイエロー色のイエロー粒子群３４Ｙの３色の粒子群各々が移動を開始するときの電圧の絶対値として、マゼンタ色のマゼンタ粒子群３４Ｍが｜Ｖｔｍ｜、シアン色のシアン粒子群３４Ｃが｜Ｖｔｃ｜、イエロー色のイエロー粒子群３４Ｙが｜Ｖｔｙ｜であるとして説明する。また、各色粒子群３４のゼンタ色のマゼンタ粒子群３４Ｍ、シアン色のシアン粒子群３４Ｃ、およびイエロー色のイエロー粒子群３４Ｙの３色の粒子群各々をほぼ全て移動させるための最大電圧の絶対値として、マゼンタ色のマゼンタ粒子群３４Ｍが｜Ｖｄｍ｜、シアン色のシアン粒子群３４Ｃが｜Ｖｄｃ｜、イエロー色のイエロー粒子群３４Ｙが｜Ｖｄｙ｜であるとして説明する。

なお、以下で説明するＶｔｃ、−Ｖｔｃ、Ｖｄｃ、−Ｖｄｃ、Ｖｔｍ、−Ｖｔｍ、Ｖｄｍ、−Ｖｄｍ、Ｖｔｙ、−Ｖｔｙ、Ｖｄｙ、および−Ｖｄｙの絶対値は、｜Ｖｔｃ｜＜｜Ｖｄｃ｜＜｜Ｖｔｍ｜＜｜Ｖｄｍ｜＜｜Ｖｔｙ｜＜｜Ｖｄｙ｜の関係であるとして説明する。

具体的には、図４に示すごとく、例えば、３種類の粒子群３４は、全て同極性に帯電された状態で分散媒５０内に分散され、シアン粒子群３４Ｃを移動させるために必要な電圧範囲の絶対値｜Ｖｔｃ≦Ｖｃ≦Ｖｄｃ｜（ＶｔｃからＶｄｃの間の値の絶対値）、マゼンタ粒子群３４Ｍを移動させるために必要な電圧範囲の絶対値｜Ｖｔｍ≦Ｖｍ≦Ｖｄｍ｜（ＶｔｍからＶｄｍの間の値の絶対値）、およびイエロー粒子群３４Ｙを移動させるために必要な電圧範囲の絶対値｜Ｖｔｙ≦Ｖｙ≦Ｖｄｙ｜（ＶｔｙからＶｄｙの間の値の絶対値）が、この順で重複することなく、大きくなるよう設定されている。

また、各色の粒子群３４を独立駆動するために、シアン粒子群３４Ｃをほぼ全て移動させるための最大電圧の絶対値｜Ｖｄｃ｜が、マゼンタ粒子群３４Ｍを移動させるために必要な電圧範囲の絶対値｜Ｖｔｍ≦Ｖｍ≦Ｖｄｍ｜（ＶｔｍからＶｄｍの間の値の絶対値）、およびイエロー粒子群３４Ｙを移動させるために必要な電圧範囲の絶対値｜Ｖｔｙ≦Ｖｙ≦Ｖｄｙ｜（ＶｔｙからＶｄｙの間の値の絶対値）よりも小さく設定されている。また、マゼンタ粒子群３４Ｍをほぼ全て移動させるための最大電圧の絶対値｜Ｖｄｍ｜が、イエロー粒子群３４Ｙを移動させるために必要な電圧範囲の絶対値｜Ｖｔｙ≦Ｖｙ≦Ｖｄｙ｜（ＶｔｙからＶｄｙの間の値の絶対値）よりも小さく設定されている。

即ち、本実施形態では、各色の粒子群３４を移動させるために必要な電圧範囲が重ならないよう設定することによって、各色の粒子群３４を独立駆動している。

なお、「粒子群３４を移動させるために必要な電圧範囲」とは、粒子が移動開始するために必要な電圧と移動開始からさらに電圧および電圧印加時間を増加させても、表示濃度の変化が生じなくなり、表示濃度が飽和するまでの電圧範囲を示す。
また、「粒子群３４をほぼ全て移動させるために必要な最大電圧」とは上記の移動開始からさらに電圧および電圧印加時間を増加させても、表示濃度の変化が生じなくなり、表示濃度が飽和する電圧を示す。
また、「ほぼ全て」とは、各色の粒子群３４の特性ばらつきがあるため、一部の粒子群３４の特性が表示特性に寄与しない程に異なるものがあることを表す。すなわち上述した移動開始からさらに電圧および電圧印加時間を増加させても、表示濃度の変化が生じなくなり、表示濃度が飽和した状態である。
また、「表示濃度」は、表示面側における色濃度を光学濃度（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｄｅｎｓｉｔｙ＝０Ｄ）の反射濃度計Ｘ−ｒｉｔｅ社の反射濃度計で測定しながら、表示面側と背面側との間に電圧を印加して且つこの電圧を測定濃度が増加する方向に徐々に変化（印加電圧を増加または減少）させて、単位電圧あたりの濃度変化が飽和し、且つその状態で電圧および電圧印加時間を増加させても濃度変化が生じず、濃度が飽和したときの濃度を示している。

そして、本実施形態に係る表示媒体１２では、表示基板２０と背面基板２２との間に０Ｖから電圧を印加して除々に印加電圧の電圧値を上昇させて、基板間に印加された電圧が＋Ｖｔｃを超えると、表示媒体１２においてシアン粒子群３４Ｃの移動により表示濃度に変化が現れ始める。さらに、電圧値を上昇させて、基板間に印加された電圧が＋Ｖｄｃとなると、表示媒体１２においてシアン粒子群３４Ｃの移動による表示濃度の変化が止まる。

さらに電圧値を上昇させて、表示基板２０と背面基板２２との間に印加された電圧が＋Ｖｔｍを超えると、表示媒体１２においてマゼンタ粒子群３４Ｍの移動による表示濃度の変化が現れ始める。さらに電圧値を上昇させて、表示基板２０と背面基板２２との間に印加された電圧が＋Ｖｄｍとなると、表示媒体１２においてマゼンタ粒子群３４Ｍの移動による表示濃度の変化が止まる。

さらに、電圧値を上昇させて、基板間に印加された電圧が＋Ｖｔｙを超えると、表示媒体１２においてイエロー粒子群３４Ｙの移動による表示濃度の変化が現れ始める。さらに電圧値を上昇させて、基板間に印加された電圧が＋Ｖｄｙとなると、表示媒体１２においてイエロー粒子群３４Ｙの移動による表示濃度の変化が止まる。

反対に、表示基板２０と背面基板２２との間に０Ｖからマイナス極の電圧を印加して除々に電圧の絶対値を上昇させ、基板間に印加された電圧−Ｖｔｃの絶対値を超えると、表示媒体１２においてシアン粒子群３４Ｃの基板間の移動により表示濃度に変化が現れ始める。さらに、電圧値の絶対値を上昇させ、表示基板２０と背面基板２２との間に印加された電圧が−Ｖｄｃ以上となると、表示媒体１２においてシアン粒子群３４Ｃの移動による表示濃度の変化が止まる。

さらに電圧値の絶対値を上昇させてマイナス極の電圧を印加し、表示基板２０と背面基板２２との基板間に印加される電圧が−Ｖｔｍの絶対値を超えると、表示媒体１２においてマゼンタ粒子群３４Ｍの移動による表示濃度の変化が現れ始める。さらに電圧値の絶対値を上昇させて、表示基板２０と背面基板２２との間に印加された電圧が−Ｖｄｍとなると、表示媒体１２においてマゼンタ粒子群３４Ｍの移動による表示濃度の変化が止まる。

さらに電圧値の絶対値を上昇させてマイナス極の電圧を印加し、表示基板２０と背面基板２２との間に印加される電圧が−Ｖｔｙの絶対値を超えると、表示媒体１２においてイエロー粒子群３４Ｙの移動により表示濃度に変化が現れ始める。さらに電圧値の絶対値を上昇させて、基板間に印加された電圧が−Ｖｄｙとなると、表示媒体１２においてイエロー粒子群３４Ｙの移動による表示濃度の変化が止まる。

すなわち、本実施形態では、図４に示すごとく、基板間に印加される電圧が−Ｖｔｃから＋Ｖｔｃの範囲内（電圧範囲｜Ｖｔｃ｜以下）となる電圧が表示基板２０と背面基板２２との間に印加された場合には、表示媒体１２の表示濃度に変化が発生する程の粒子群３４（シアン粒子群３４Ｃ、マゼンタ粒子群３４Ｍ、およびイエロー粒子群３４Ｙ）の粒子の移動は生じていないといえる。そして、基板間に、電圧＋Ｖｔｃおよび電圧−Ｖｔｃの絶対値より高い電圧が印加されると、３色の粒子群３４の内のシアン粒子群３４Ｃについて表示媒体１２の表示濃度に変化が発生する程の粒子の移動が生じはじめて表示濃度に変化が生じはじめ、電圧−Ｖｄｃおよび電圧Ｖｄｃの絶対値｜Ｖｄｃ｜以上の電圧が印加されると、単位電圧あたりの表示濃度に変化は生じなくなる。

さらに、基板間に印加される電圧が−Ｖｔｍから＋Ｖｔｍの範囲内（電圧範囲｜Ｖｔｍ｜以下）となる電圧が表示基板２０と背面基板２２との間に印加された場合には、表示媒体１２の表示濃度に変化が発生する程のマゼンタ粒子群３４Ｍおよびイエロー粒子群３４Ｙの粒子の移動は生じていないといえる。そして、基板間に、電圧＋Ｖｔｍおよび電圧−Ｖｔｍの絶対値より高い電圧が印加されると、マゼンタ粒子群３４Ｍおよびイエロー粒子群３４Ｙの内のマゼンタ粒子群３４Ｍについて、表示媒体１２の表示濃度に変化が発生する程の粒子の移動が生じはじめて単位電圧あたりの表示濃度に変化が生じはじめ、電圧−Ｖｄｍおよび電圧Ｖｄｍの絶対値｜Ｖｄｍ｜以上の電圧が印加されると、表示濃度に変化は生じなくなる。

さらに、基板間に印加する電圧が−Ｖｔｙから＋Ｖｔｙの範囲内（電圧範囲｜Ｖｔｙ｜以下）となる電圧が表示基板２０と背面基板２２との間に印加された場合には、表示媒体１２の表示濃度に変化が発生する程のイエロー粒子群３４Ｙの粒子の移動は生じていないといえる。そして、基板間に、電圧＋Ｖｔｙおよび電圧−Ｖｔｙの絶対値より高い電圧が印加されると、イエロー粒子群３４Ｙについて、表示媒体１２の表示濃度に変化が発生する程の粒子の移動が生じ始めて表示濃度に変化が生じはじめ、電圧−Ｖｄｙおよび電圧Ｖｄｙの絶対値｜Ｖｄｙ｜以上の電圧が印加されると、表示濃度に変化は生じなくなる。

次に、図５を参照して、表示媒体１２に画像を表示するときの粒子移動のメカニズムを説明する。

例えば、表示媒体１２に、複数種類の粒子群３４として、図４を用いて説明したイエロー粒子群３４Ｙ、マゼンタ粒子群３４Ｍ、シアン粒子群３４Ｃが封入されているとして説明する。

また、以下では、イエロー粒子群３４Ｙを構成する粒子が移動開始するために必要な電圧の絶対値より大きく、且つイエロー粒子群３４Ｙの上記最大電圧以下で基板間に印加する電圧を「大電圧」と称し、マゼンタ粒子群３４Ｍを構成する粒子が移動開始するために必要な電圧の絶対値より大きく、且つマゼンタ粒子群３４Ｍの上記最大電圧以下で基板間に印加する電圧を「中電圧」と称し、シアン粒子群３４Ｃを構成する粒子が移動開始するために必要な電圧の絶対値より大きく、且つシアン粒子群３４Ｃの上記最大電圧以下で基板間に印加する電圧を「小電圧」と称して説明する。

また、表示基板２０側に背面基板２２側より高い電圧を印加する場合には、各々の電圧を、「＋大電圧」、「＋中電圧」、および「＋小電圧」各々と称する。また、背面基板２２側に表示基板２０側より高い電圧を印加する場合には、各々の電圧を、「−大電圧」、「−中電圧」、および「−小電圧」各々と称して説明する。

図５（Ａ）に示すごとく、初期状態では全ての粒子群としてのマゼンタ粒子群３４Ｍ、シアン粒子群３４Ｃ、およびイエロー粒子群３４Ｙの全てが背面基板２２側に位置されるとすると（白色表示状態）、この初期状態から、表示基板２０と背面基板２２との間に「＋大電圧」を印加させると、全ての粒子群として、マゼンタ粒子群３４Ｍ、シアン粒子群３４Ｃ、およびイエロー粒子群３４Ｙが表示基板２０側に移動する。この状態で、電圧印加を解除しても、各粒子群各々は表示基板２０側に付着したまま移動せずに、マゼンタ粒子群３４Ｍ、シアン粒子群３４Ｃ、およびイエロー粒子群３４Ｙによる減色混合（マゼンタと、シアンと、イエロー色の減色混合）により黒色を表示したままの状態となる。（図５（Ｂ）参照）。

次に、図５（Ｂ）の状態から、表示基板２０と背面基板２２との間に「−中電圧」を印加させると、全ての色の粒子群３４の内、マゼンタ粒子群３４Ｍと、シアン粒子群３４Ｃと、が背面基板２２側に移動する。このため、表示基板２０側にはイエロー粒子群３４Ｙのみが付着した状態となることから、イエロー色表示がなされる（図５（Ｃ）参照）。

さらに、図５（Ｃ）の状態から、表示基板２０と背面基板２２との間に「＋小電圧」を印加させると、背面基板２２側に移動したマゼンタ粒子群３４Ｍおよびシアン粒子群３４Ｃの内、シアン粒子群３４Ｃが表示基板２０側に移動する。このため、表示基板２０側には、イエロー粒子群３４Ｙおよびシアン粒子群３４Ｃが付着した状態となり、イエローとシアンとの減色混合による緑色が表示される（図５（Ｄ）参照）。

また、上記図５（Ｂ）の状態から、表示基板２０と背面基板２２との間に「−小電圧」を印加させると、全ての粒子群３４の内、シアン粒子群３４Ｃが背面基板２２側に移動する。このため、表示基板２０側にはイエロー粒子群３４Ｙとマゼンタ粒子群３４Ｍが付着した状態となることから、シアンとマゼンタの加色混合による赤色表示がなされる（図５（Ｉ）参照）。

一方、図５（Ａ）に示す上記初期状態から、表示基板２０と背面基板２２との間に「＋中電圧」を印加させると、全ての粒子群３４（マゼンタ粒子群３４Ｍ、シアン粒子群３４Ｃ、およびイエロー粒子群３４Ｙ）の内、マゼンタ粒子群３４Ｍとシアン粒子群３４Ｃとが表示基板２０側に移動する。このため、表示基板２０側には、マゼンタ粒子群３４Ｍとシアン粒子群３４Ｃとが付着するので、マゼンタとシアンの減色混合による青色が表示される（図５（Ｅ）参照）。

この図５（Ｅ）の状態から、表示基板２０と背面基板２２との間に「−小電圧」を印加させると、表示基板２０側に付着しているマゼンタ粒子群３４Ｍとシアン粒子群３４Ｃの内の、シアン粒子群３４Ｃが背面基板２２側に移動する。
このため、表示基板２０側には、マゼンタ粒子群３４Ｍのみが付着した状態となるので、マゼンタ色が表示される（図５（Ｆ）参照）。

この図５（Ｆ）の状態から、表示基板２０と背面基板２２との間に「−大電圧」を印加させると、表示基板２０側に付着しているマゼンタ粒子群３４Ｍが背面基板２２側に移動する。
このため、表示基板２０側には、何も付着しない状態となるため、着色浮遊粒子群３６の色としての白色が表示される（図５（Ｇ）参照）。

また、上記図５（Ａ）に示す上記初期状態から、表示基板２０と背面基板２２との間に「＋小電圧」を印加させると、全ての粒子群３４（マゼンタ粒子群３４Ｍ、シアン粒子群３４Ｃ、およびイエロー粒子群３４Ｙ）の内、シアン粒子群３４Ｃが表示基板２０側に移動する。このため、表示基板２０側には、シアン粒子群３４Ｃが付着するので、シアン色が表示される（図５（Ｈ）参照）。

さらに、上記図５（Ｉ）に示す状態から、表示基板２０と背面基板２２との間に「−大電圧」を印加させると、図５（Ｇ）に示すごとく全ての粒子群３４が背面基板２２側に移動して白色表示がなされる。
同様に、上記図５（Ｄ）に示す状態から、表示基板２０と背面基板２２との間に「−大電圧」を印加させると、図５（Ｇ）に示すごとく全ての粒子群３４が背面基板２２側に移動して白色表示がなされる。

本実施形態では、各粒子群３４に応じた電圧を基板間に印加することで、当該電圧による電界に応じて選択的に所望の粒子を移動させるので、所望の色以外の色の粒子が分散媒５０中を移動することが抑制され、所望の色以外の色が混じる混色が抑制されて、カラー表示がなされる。なお、各粒子群３４は、互いに電界に応じて移動するために必要な電圧の絶対値が異なれば、互いに電界に応じて移動するために必要な電圧範囲が重なっていても、鮮明なカラー表示が実現されるが、当該電圧範囲が互いに異なるほうが、より混色を抑制してカラー表示が実現される。

また、シアン、マゼンタ、イエローの３色の粒子群３４を分散媒５０中に分散することによって、シアン、マゼンタ、イエロー、青色、赤色、緑色、および黒色を表示するとともに、白色の着色浮遊粒子群３６によって白色を表示し、特定のカラー表示を行うことが実現される。

こうして、本実施形態に係る表示装置１０でも、上記第１実施形態で説明した表示装置１０に示すごとく、粒子群３４が表示基板２０または背面基板２２に到達して、付着することで表示が行われる。そして、表示基板２０と背面基板２２の対向面が、前記特定の高分子化合物による表面層２１、２３（表面層）を有することで、粒子群３４が当該対向面に移動し付着しても粒子群３４の各粒子の固着が抑制される。結果、色再現性や、高いコントラストが実現される。

以下に本発明を実施例を挙げてより詳細に説明するが、本発明は以下の実施例にのみ限定されるものではない。

［測定方法］
−粒子の体積平均一次粒径の測定−
粒子の体積平均一次粒径は、コールターマルチサイザー−ＩＩ型（ベックマン−コールター社製）を用いて、５０μｍのアパーチャー径で測定した。この時、測定は粒子を電解質水溶液（アイソトン水溶液、ベックマン−コールター社製）に分散させ、超音波により３０秒以上分散させた後に行う。
測定法としては、分散剤として界面活性剤、望ましくはアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウムの５％水溶液２ｍｌ中に、測定試料を０．５乃至５０ｍｇ加え、これを前記電解液１００乃至１５０ｍｌ中に添加する。この測定試料を懸濁させた電解液を超音波分散器で１分間分散処理を行い、粒子の粒度分布を測定する。測定する粒子数は５０，０００である。
測定された粒度分布を、分割された粒度範囲（チャンネル）に対し、体積について小径側から累積分布を描き、累積５０％となる粒径を体積平均一次粒径と定義する。

−粒子に含まれる樹脂のガラス転移温度の測定−
ガラス転移温度は、示差走査熱量計（島津製作所製のＤＳＣ−５０）を用い、ＪＩＳ ７１２１−１９８７に準拠して測定した。この装置の検出部の温度補正にはインジウムと亜鉛との混合物の溶融温度を用い、熱量の補正にはインジウムの融解熱を用いた。
粒子をそのままアルミニウム製パンに入れ、粒子の入ったアルミニウム製パンと対照用の空のアルミニウム製パンとをセットし、昇温速度１０℃／ｍｉｎで測定を行った。
測定により得られたＤＳＣ曲線の吸熱部におけるベースラインと立ち上がりラインとの延長線の交点の温度をもってガラス転移温度とした。

≪実施例Ａ≫
［着色浮遊粒子群（白色粒子群）の調製］
１）コア粒子の作製
−連続相の調製−
以下の材料を混合し、ラジカル溶液重合（５５℃／６時間）にて高分子分散剤Ｅ１を合成した。
・サイラプレーンＦＭ−０７１１（ＪＮＣ社製、重量平均分子量Ｍｎ＝１，０００）：３６ｇ
・メタクリル酸（アルドリッチ社製）：０．３５ｇ
・シリコーンオイルＫＦ−９６Ｌ−２ＣＳ（信越化学工業社製）：４０ｇ
・重合開始剤Ｖ−６５（和光純薬工業社製）：０．０６ｇ
重合反溶成分が３ｇになるようにシリコーンオイルＫＦ−９６Ｌ−２ＣＳ（信越化学工業社製）を用いて希釈し、高分子分散剤Ｅ１を含む溶液Ａ１（連続相）を調製した。

−分散相の調製−
スチレンアクリル系樹脂Ｘ−１２０２Ｌ（星光ＰＭＣ社製）１０ｇ、二酸化チタンＴＴＯ−５５Ａ（石原産業社製）１０ｇ、および蒸留水９０ｇを混合したものにジルコニアビーズを加え、ロッキングミルで１時間分散処理を行い、溶液Ｂ１（分散相）とした。

−乳化および液中乾燥工程−
溶液Ａ１（連続相）８０ｇと、溶液Ｂ１（分散相）２０ｇとを混合して、オムニホモジナイザーＧＬＨ−１１５を用いて２０，０００ｒｐｍで１０分間乳化を行い乳化液を調製した。
次に、得られた乳化液をナスフラスコに入れ、攪拌しながらエバポレーターにて６５℃、１０ｍＰａに加熱減圧することで水を除去し、二酸化チタン粒子がシリコーンオイル中に分散された粒子分散液を得た。得られた分散液を遠心分離を用いて沈降させ、上澄みを除去し、トルエンを加えて粒子固形分濃度２０質量％となるように調製し、粒子トルエン分散液Ｃ１を得た。

２）シェル化工程
−シェル樹脂の合成−
・スチレン（和光純薬工業社製）：７０ｇ
・サイラプレーンＦＭ−０７２１（ＪＮＣ社製、重量平均分子量Ｍｗ＝５０００）：２５ｇ
・メタクリル酸（東京化成工業社製）：５ｇ
・ラウロイルパーオキサイド（アルドリッチ社製）：１ｇ
・トルエン（関東化学社製）：１００ｇ
上記組成で各材料を混合し、７５℃で６時間加熱した後、イソプロピルアルコール（関東化学社製）中に滴下し、再沈殿法により精製し、白色の固体（シェル樹脂）を得た。得られたシェル樹脂の重量平均分子量Ｍｗ＝３００００であった。

−シェル化工程−
酸化チタン粒子分散液の作製
・シェル樹脂：１０ｇ
・粒子トルエン分散液Ｃ１（粒子固形分濃度２０質量％）：５０ｇ
上記組成で各材料を混合し、それにシリコーンオイルＫＦ−９６Ｌ−２ＣＳ（信越化学工業社製）を２００ｇ滴下しシェル樹脂を析出させた。その後、エバポレーターを用いて６０℃、２０ｍｂａｒ下でトルエンを除去することで、シェル樹脂で被覆された酸化チタンよりなる、着色浮遊粒子群（白色粒子群）の分散液を得た。

［シアン粒子群の調製］
１）コア粒子の作製
−分散相の調製−
下記成分を６０℃に加温しながら混合し、インク固形分濃度が１５質量％、乾燥後の顔料濃度が５０質量％となるように分散相を調製した。
・スチレンアクリル系ポリマーＸ３４５（星光ＰＭＣ社製）：７．２ｇ
・シアン顔料ＰＢ１５：３の水分散液Ｅｍａｃｏｌ ＳＦ Ｂｌｕｅ Ｈ５２４Ｆ（山陽色素社製、固形分２６質量％）：１８．８ｇ
・蒸留水：２４．１ｇ

−連続相の調製−
下記成分を混合して連続相を準備した。
・界面活性剤ＫＦ−６０２８（信越化学工業社製）：３．５ｇ
・シリコーンオイルＫＦ−９６Ｌ−２ＣＳ（信越化学工業社製）：３４６．５ｇ

−粒子作製−
上記分散相５０ｇと、上記連続相３５０ｇと、を混合し内歯式卓上分散機ＲＯＢＯＭＩＣＳ（特殊機化工業社製）を用い回転数１０，０００ｒｐｍ、温度３０℃で１０分間乳化を行った。その結果、乳化液滴径が２μｍの乳化液を得た。これをロータリーエバポレーターを用いて真空度２０ｍｂａｒ、水浴温度４０℃で１８時間乾燥を行った。
得られた粒子懸濁液を６，０００ｒｐｍで１５分間遠心分離し、上澄み液を除去した後、シリコーンオイルＫＦ−９６Ｌ−２ＣＳを用いて再分散させる洗浄工程を３回繰り返した。こうしてコア粒子６ｇを得た。ＳＥＭ画像解析した結果、平均粒径は０．６μｍであった。

２）シェル形成（コアセルベーション法）
−シェル樹脂の合成−
下記成分を混合し、窒素下で７０℃、６時間重合を行なった。
・サイラプレーンＦＭ−０７２１（ＪＮＣ社製）：５０ｇ
・ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ／アルドリッチ社製）：３２ｇ
・フェノキシ基を含むモノマーＡＭＰ−１０Ｇ（新中村化学社製）：１８ｇ
・ブロックイソシアネート基を含むモノマー・カレンズＭＯＩ−ＢＰ（昭和電工社製）：２ｇ
・イソプロピルアルコール（関東化学社製）：２００ｇ
・重合開始剤ＡＩＢＮ（２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、アルドリッチ社製）：０．２ｇ
生成物をシクロヘキサンを再沈殿溶媒として精製、乾燥しシェル樹脂を得た。このシェル樹脂２ｇをｔ−ブタノール溶媒２０ｇに溶解し、シェル樹脂溶液を作製した。

−シェル樹脂による粒子被覆−
上記コア粒子１ｇを２００ｍＬのナスフラスコに取り、シリコーンオイルＫＦ−９６Ｌ−２ＣＳを１５ｇ加え、超音波を加えながら攪拌分散した。これに、ｔ−ブタノール７．５ｇ、上記シェル樹脂溶液２２ｇ、シリコーンオイルＫＦ−９６Ｌ−２ＣＳ１２．５ｇを順次加えた。投入速度は全て２ｍＬ／ｓとした。上記ナスフラスコをロータリーエバポレーターに接続し、真空度２０ｍｂａｒ、水浴温度５０℃で１時間、ｔ−ブタノール除去を行った。
これをさらに攪拌しながらオイルバス中で加温した。まず１００℃で１時間加温し、残留水分と残留するｔ−ブタノールを除いた後、続けて１３０℃で１．５時間の加熱を行い、ブロックイソシアネート基のブロック基を脱離させ、シェル材料の架橋反応を行った。
冷却後、得られた粒子懸濁液を６，０００ｒｐｍで１５分間遠心分離し、上澄み液を除去した後、シリコーンオイルＫＦ−９６Ｌ−２ＣＳを用いて再分散させる洗浄工程を３回繰り返した。こうしてシアン（Ｃ）粒子群０．６ｇを得た。

［赤色粒子群の調製］
−分散液Ａ−１Ａの調製−
下記成分を混合し、１０ｍｍΦのジルコニアボールにてボールミル粉砕を２０時間実施して分散液Ａ−１Ａを調製した。
・メタクリル酸メチル（アルドリッチ社製）：５３質量部
・メタクリル酸２−（ジエチルアミノ）エチル（アルドリッチ社製）：０．３質量部
・赤色顔料Ｒｅｄ３０９０（山陽色素社製）：１．５質量部

−分散液Ａ−１Ｂの調製−
下記成分を混合し、上記分散液Ａ−１Ａに記載の方法によりボールミルにて粉砕して炭酸カルシウム分散液Ａ−１Ｂを調製した。
・炭酸カルシウム：４０質量部
・水：６０質量部

−混合液Ａ−１Ｃの調製−
下記成分を混合し、超音波機で脱気を１０分間行い、ついで乳化機で攪拌して混合液Ａ−１Ｃを調製した。
・炭酸カルシウム分散液Ａ−１Ｂ：４ｇ
・２０％食塩水：６０ｇ

−着色粒子の調製−
下記成分を混合後、超音波機で脱気を１０分行った。
・分散液Ａ−１Ａ：２０ｇ
・ジメタクリル酸エチレングリコール：０．６ｇ
・重合開始剤Ｖ６０１（Ｄｉｍｅｔｈｙｌ ２，２’−ａｚｏｂｉｓ（２−ｍｅｔｈｙｌｐｒｏｐｉｏｎａｔｅ）：和光純薬工業社製）：０．２ｇ
これを前記混合液Ａ−１Ｃに加え、乳化機で乳化を実施した。次にこの乳化液をフラスコにいれ、減圧脱気を充分行い、窒素ガスで封入した。次に６５℃で１５時間反応させ粒子を調製した。冷却後、粒子を濾過し、得られた粒子粉をイオン交換水中に分散させ、塩酸水で炭酸カルシウムを分解させ、ろ過を行った。充分な蒸留水で洗浄し、目開き：１５μｍ、１０μｍのナイロン篩にかけ、粒度を揃えた。得られた粒子は、体積平均一次粒径１３μｍであった。

−４級アンモニウム化処理−
得られた粒子をシリコーンオイルＫＦ−９６Ｌ−１ＣＳ（信越化学工業社製）に分散し、臭化ドデシル（４級化剤）を、粒子の調整に用いたメタクリル酸２−（ジエチルアミノ）エチルと等モル量加え、９０℃で６時間加熱した。
冷却後、この分散液を多量のシリコーンオイルにて洗浄し、減圧乾燥させることにより赤色（Ｒ）粒子群を得た。この赤色（Ｒ）粒子群に含まれる樹脂のガラス転移温度は１４５℃であった。

［シアン・赤・白混合液の調製］
上記白色（Ｗ）粒子群と、シアン（Ｃ）粒子群と、赤色（Ｒ）粒子群と、を固形分でＣ粒子群が０．１ｇ、Ｒ粒子群が１．３ｇ、Ｗ粒子群が２．０ｇとなるように秤量して混合し、液量が１０ｇとなるようにシリコーンオイルＫＦ−９６Ｌ−２ＣＳ（信越化学工業社製）を加え、超音波攪拌して表示用分散液を得た。

＜実施例Ａ１＞
（表面層および表示媒体の作製）
−高分子化合物Ａ１の合成−
・（メタ）アクリル系モノマー１（ヒドロキシエチルメタクリレート、ＨＥＭＡ、和光純薬工業社製）：２３質量部
・（メタ）アクリル系モノマー２（メタクリル酸、ＭＡＡ、和光純薬工業社製）１３質量部
・シリコーンマクロマー（サイラプレーンＦＭ−０７１１、ＪＮＣ社製、重量平均分子量Ｍｗ＝１０００）：２５質量部
・架橋性モノマー（ブロックイソシアネート基を含むモノマー、カレンズＭＯＩ−ＢＰ、昭和電工社製）：３８質量部
・イソプロピルアルコール（和光純薬工業社製）：４５質量部
・重合開始剤（アゾビスバレロニトリル、和光純薬製：Ｖ−６５）：０．１質量部
上記組成物を混合して、５５℃１０時間重合を実施した後、得られた生成物を、ヘキサンを再沈殿溶媒として精製、乾燥し、高分子化合物Ａ１を調製した。重量平均分子量は４５，０００であった。そして、イソプロピルアルコール（和光純薬工業社製）に溶解することで高分子化合物Ａ１の４質量％イソプロピルアルコール溶液を準備した。

−表示媒体の作製−
以下のごとく、表示媒体を作製した。
厚さ０．７ｍｍのガラスからなる支持基板上に電極としてＩＴＯをスパッタリング法により５０ｎｍの厚さで成膜した。このＩＴＯ／ガラス基板で構成された背面基板の電極面をγ−アミノプロピルトリエトキシシランの２質量％水溶液に１５分間浸漬し、純水でリンスした後、１２０℃３０分間の乾燥を行った。その後、上記高分子化合物Ａ１の４質量％イソプロピルアルコール溶液を用いてスピン塗布法により薄膜を形成後、１２０℃６０分間の加熱を行った。これにより、表面層を形成した。この表面層の膜厚は１００ｎｍであり、ジメチルシリコーンオイル（信越化学工業社製ＫＦ−９６Ｌ−１ＣＳ）、アセトン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）の各種有機溶媒には不溶であった。なお、表面層の厚みはＤｅｋｔａｋ ６Ｍ 段差計（Ｖｅｅｃｏ製）にて測定した。

その後、感光性ポリイミドワニス（富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製、ＰＲＯＢＩＭＩＤＥ ７００５）を用いて層を塗布した後、露光、およびウエットエッチングを行うことにより高さ１００μｍ、幅２０μｍの間隙部材を形成した。この間隙部材の表面（セル側表面）に対しても、背面基板と同じ方法により表面層を形成した。

間隙部材の上部に熱融着性の接着層を形成し、上記表示用分散液（Ｃ粒子群、Ｒ粒子群、およびＷ粒子群の混合分散液）を充填した後、背面基板と同じ方法により作製したＩＴＯ／ガラスで構成され、且つ表面層の形成された表示基板を、互いの表面層の形成された側の面（電極面）が対向するように背面基板に張り合わせて熱をかけて表示媒体を作製した。

−表面層の濡れ張力の測定−
形成された表面層の濡れ張力を、ＪＩＳ−Ｋ６７６８（１９９９年）に準じて測定した。結果を下記表１に示す。

−粒子の固着評価試験−
前記作製した表示媒体を用いて、表面基板の電極がマイナスとなるように電極間に１５Ｖの電位差を５秒間印加した。分散された正帯電のシアン粒子群と正帯電の赤色粒子群はマイナス側電極、すなわち表面電極側へ移動し、表示基板側から観察すると黒色が観察された。
その後、表面電極がプラスとなるように電極間に１５Ｖの電位差を５秒間印加したところ、正帯電のシアン粒子群と正帯電の赤色粒子群はマイナス側電極、すなわち背面電極側へ移動し、表示基板側から観察すると白色が観察された。

ここで、粒子群の表面層への固着の程度を、前記の黒色表示と白色表示を１００回繰り返した後の白反射率の低下分によって評価した。具体的には、分光輝度計 ＣＭ−２０２２（ミノルタ社製）を使って、１回目の白色表示の際の白反射率Ｙ１と、１００回駆動後の白反射率Ｙ１００と、を測定し、固着の程度αを「α（％）＝（Ｙ１−Ｙ１００）／Ｙ１×１００」で定義し評価の指標とした。尚、反射率は視感反射率を用いた。結果を下記表１に示す。

＜実施例Ａ２＞
実施例Ａ１にて用いた高分子化合物の組成を、下記高分子化合物Ａ２の組成に変更した以外は、実施例Ａ１に記載の方法により表面層を形成し評価を行なった。
−高分子化合物Ａ２の合成−
・（メタ）アクリル系モノマー１（ヒドロキシエチルメタクリレート、ＨＥＭＡ、和光純薬工業社製）：６５質量部
・シリコーンマクロマー（サイラプレーンＦＭ−０７１１、ＪＮＣ社製、重量平均分子量Ｍｗ＝１０００）：２８質量部
・架橋性モノマー（ブロックイソシアネート基を含むモノマー、カレンズＭＯＩ−ＢＰ、昭和電工社製）：７質量部
・イソプロピルアルコール（和光純薬工業社製）：４５質量部
・重合開始剤（アゾビスバレロニトリル、和光純薬工業社製：Ｖ−６５）：０．１質量部

＜実施例Ａ３＞
実施例Ａ１にて用いた高分子化合物の組成を、下記高分子化合物Ａ３の組成に変更した以外は、実施例Ａ１に記載の方法により表面層を形成し評価を行なった。
−高分子化合物Ａ３の合成−
・（メタ）アクリル系モノマー１（ヒドロキシエチルメタクリレート、ＨＥＭＡ、和光純薬社製）：１７質量部
・（メタ）アクリル系モノマー２（メタクリル酸、ＭＡＡ、和光純薬工業社製）６質量部
・シリコーンマクロマー（サイラプレーンＦＭ−０７１１、ＪＮＣ社製、重量平均分子量Ｍｗ＝１０００）：２２質量部
・架橋性モノマー（ブロックイソシアネート基を含むモノマー、カレンズＭＯＩ−ＢＰ、昭和電工社製）：５５質量部
・イソプロピルアルコール（和光純薬工業社製）：４５質量部
・重合開始剤（アゾビスバレロニトリル、和光純薬工業社製：Ｖ−６５）：０．１質量部

＜実施例Ａ４＞
実施例Ａ１にて用いた高分子化合物の組成を、下記高分子化合物Ａ４の組成に変更し、表示媒体の作製の方法を変更した以外は、実施例Ａ１に記載の方法により表面層を形成し評価を行なった。
−高分子化合物Ａ４の合成−
・（メタ）アクリル系モノマー１（ヒドロキシエチルメタクリレート、ＨＥＭＡ、和光純薬工業社製）：４質量部
・（メタ）アクリル系モノマー３（メチルメタクリレート、ＭＭＡ、和光純薬工業社製）：３質量部
・シリコーンマクロマー（サイラプレーンＦＭ−０７１１、ＪＮＣ社製、重量平均分子量Ｍｗ＝１０００）：３質量部
・１−メトキシ−２−プロパノール（和光純薬工業社製）：３０質量部
・重合開始剤（アゾビスバレロニトリル、和光純薬工業社製：Ｖ−６５）：０．２質量部

−表示媒体の作製−
実施例Ａ１の「−表示媒体の作製−」において、表面層の形成方法を以下の方法に変更した以外は、実施例Ａ１に記載の方法により表示媒体を作製した。
表面層は、上記高分子化合物Ａ４が４質量％、架橋性モノマーとしてタケネートＤ−１６０Ｎ（三井化学社製）が２質量％となるようシクロヘキサノン溶液を調製し、スピン塗布法により薄膜を形成後、０Ｐａ１００℃６０分間の加熱を行って形成した。この表面層の膜厚は１００ｎｍであり、ジメチルシリコーンオイル（信越化学工業社製ＫＦ−９６Ｌ−１ＣＳ）、アセトン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）の各種有機溶媒には不溶であった。

＜実施例Ａ５＞
実施例Ａ１にて用いた高分子化合物の組成を、下記高分子化合物Ａ５の組成に変更した以外は、実施例Ａ１に記載の方法により表面層を形成し評価を行った。
−高分子化合物Ａ５の合成−
・（メタ）アクリル系モノマー１（ヒドロキシエチルメタクリレート、ＨＥＭＡ、和光純薬工業社製）：５８質量部
・（メタ）アクリル系モノマー２（メタクリル酸、ＭＡＡ、和光純薬工業社製）：１８質量部
・シリコーンマクロマー（サイラプレーンＦＭ−０７１１、ＪＮＣ社製、重量平均分子量Ｍｗ＝１０００）：１４質量部
・架橋性モノマー（ブロックイソシアネート基を含むモノマー、カレンズＭＯＩ−ＢＰ、昭和電工社製）：９質量部
・イソプロピルアルコール（和光純薬工業社製）：４５質量部
・重合開始剤（アゾビスバレロニトリル、和光純薬工業社製：Ｖ−６５）：０．１質量部

＜実施例Ａ６＞
実施例Ａ１にて用いた高分子化合物の組成を、下記高分子化合物Ａ６の組成に変更した以外は、実施例Ａ１に記載の方法により表面層を形成し評価を行った。
−高分子化合物Ａ６の合成−
・（メタ）アクリル系モノマー１（ヒドロキシエチルメタクリレート、ＨＥＭＡ、和光純薬工業社製）：３１質量部
・シリコーンマクロマー（ＶＴＴ１０６、Ｇｅｌｅｓｔ社製、重量平均分子量Ｍｗ＝５５０）：３０質量部
・架橋性モノマー（ブロックイソシアネート基を含むモノマー、カレンズＭＯＩ−ＢＰ、昭和電工社製）：５１質量部
・イソプロピルアルコール（和光純薬工業社製）：４５質量部
・重合開始剤（アゾビスバレロニトリル、和光純薬工業社製：Ｖ−６５）：０．１質量部

＜実施例Ａ７＞
実施例Ａ１にて用いた高分子化合物の組成を、下記高分子化合物Ａ７の組成に変更した以外は、実施例Ａ１に記載の方法により表面層を形成し評価を行った。
−高分子化合物Ａ７の合成−
・（メタ）アクリル系モノマー１（ヒドロキシエチルメタクリレート、ＨＥＭＡ、和光純薬工業社製）：５２質量部
・シリコーンマクロマー（ＶＴＴ１０６、Ｇｅｌｅｓｔ社製、重量平均分子量Ｍｗ＝５５０）：６８質量部
・架橋性モノマー（ブロックイソシアネート基を含むモノマー、カレンズＭＯＩ−ＢＰ、昭和電工社製）：６質量部
・イソプロピルアルコール（和光純薬工業社製）：４５質量部
・重合開始剤（アゾビスバレロニトリル、和光純薬工業社製：Ｖ−６５）：０．１質量部

＜実施例Ａ８＞
実施例Ａ１にて用いた高分子化合物の組成を、下記高分子化合物Ａ８の組成に変更した以外は、実施例Ａ１に記載の方法により表面層を形成し評価を行った。
−高分子化合物Ａ８の合成−
・（メタ）アクリル系モノマー２（メタクリル酸、ＭＡＡ、和光純薬工業社製）：３．６質量部
・シリコーンマクロマー（サイラプレーンＦＭ−０７１１、ＪＮＣ社製、重量平均分子量Ｍｗ＝１０００）：４．１質量部
・その他の重合成分（スチレン、和光純薬工業社製）：２．９質量部
・架橋性モノマー（グリシジルメタクリレート、ＧＭＡ、和光純薬工業社製：２．６質量部
・イソプロピルアルコール（和光純薬工業社製）：４０質量部
・重合開始剤（アゾビスバレロニトリル、和光純薬工業社製：Ｖ−６５）：０．３質量部

＜比較例Ａ１＞
実施例Ａ１にて用いた高分子化合物の組成を、下記高分子化合物Ｂ１の組成に変更した以外は、実施例Ａ１に記載の方法により表面層を形成し評価を行なった。
−高分子化合物Ｂ１の合成−
・（メタ）アクリル系モノマー１（ヒドロキシエチルメタクリレート、ＨＥＭＡ、和光純薬工業社製）：７１質量部
・シリコーンマクロマー（サイラプレーンＦＭ−０７１１、ＪＮＣ社製、重量平均分子量Ｍｗ＝１０００）：２９質量部
・イソプロピルアルコール（和光純薬工業社製）：４５質量部
・重合開始剤（アゾビスバレロニトリル、和光純薬工業社製：Ｖ−６５）：０．１質量部

＜比較例Ａ２＞
実施例Ａ１にて用いた高分子化合物の組成を、下記高分子化合物Ｂ２の組成に変更した以外は、実施例Ａ１に記載の方法により表面層を形成し評価を行なった。
−高分子化合物Ｂ２の合成−
・（メタ）アクリル系モノマー１（ヒドロキシエチルメタクリレート、ＨＥＭＡ、和光純薬工業社製）：６６質量部
・（メタ）アクリル系モノマー２（メタクリル酸、ＭＡＡ、和光純薬工業社製）：２０質量部
・シリコーンマクロマー（サイラプレーンＦＭ−０７１１、ＪＮＣ社製、重量平均分子量Ｍｗ＝１０００）：４質量部
・架橋性モノマー（ブロックイソシアネート基を含むモノマー、カレンズＭＯＩ−ＢＰ、昭和電工社製）：１０質量部
・イソプロピルアルコール（和光純薬工業社製）：４５質量部
・重合開始剤（アゾビスバレロニトリル、和光純薬工業社製：Ｖ−６５）：０．１質量部

＜比較例Ａ３＞
実施例Ａ１にて用いた高分子化合物の組成を、下記高分子化合物Ｂ３の組成に変更した以外は、実施例Ａ１に記載の方法により表面層を形成した。
−高分子化合物Ｂ３の合成−
・（メタ）アクリル系モノマー１（ヒドロキシエチルメタクリレート、ＨＥＭＡ、和光純薬工業社製）：１９質量部
・シリコーンマクロマー（サイラプレーンＦＭ−０７１１、ＪＮＣ社製、重量平均分子量Ｍｗ＝１０００）：４９質量部
・架橋性モノマー（ブロックイソシアネート基を含むモノマー、カレンズＭＯＩ−ＢＰ、昭和電工社製）：３３質量部
・イソプロピルアルコール（和光純薬工業社製）：４５質量部
・重合開始剤（アゾビスバレロニトリル、和光純薬工業社製：Ｖ−６５）：０．１質量部
しかし比較例Ａ３では、上記高分子化合物Ｂ３がゲル化してしまい、表面層の成膜ができなかった。そのため、「表面層の濡れ張力の測定」および「粒子の固着評価試験」は行えなかった。

＜比較例Ａ４＞
実施例Ａ１にて用いた高分子化合物の組成を、下記高分子化合物Ｂ４の組成に変更した以外は、実施例Ａ１に記載の方法により表面層を形成した。
−高分子化合物Ｂ４の合成−
・（メタ）アクリル系モノマー１（ヒドロキシエチルメタクリレート、ＨＥＭＡ、和光純薬工業社製）：１０質量部
・シリコーンマクロマー（サイラプレーンＦＭ−０７１１、ＪＮＣ社製、重量平均分子量Ｍｗ＝１０００）：１９質量部
・架橋性モノマー（ブロックイソシアネート基を含むモノマー、カレンズＭＯＩ−ＢＰ、昭和電工社製）：７１質量部
・イソプロピルアルコール（和光純薬工業社製）：４５質量部
・重合開始剤（アゾビスバレロニトリル、和光純薬工業社製：Ｖ−６５）：０．１質量部
しかし比較例Ａ４では、表面層の白化が発生した。そのため、「表面層の濡れ張力の測定」および「粒子の固着評価試験」は行わなかった。

＜実施例Ａ９〜Ａ２６、比較例Ａ５、Ａ６＞
［基板表面層材料］
−基板表面層材料ａ１〜ａ１９の作製−
表２および表３に従った組成のシリコーン鎖を持つ高分子化合物をラジカル溶液重合で合成し、これらを基板表面層材料ａ１〜ａ１９とした。

［基板］
−表面層付き基板ｂ１〜ｂ１８、比較用表面層付き基板ｂｂ１、ｂｂ２の作製−
表２および表３に従った基板表面層材料を混合溶媒（トルエン／テトラヒドロフラン＝２５／７５質量比の溶媒）に溶解して、基板表面層材料の４質量％溶液を準備し、この溶液４質量部に、表２および表３に示す割合で架橋性モノマー（後添加）剤を混合した。
一方、厚さ０．７ｍｍのガラス基板上に電極としてＩＴＯ（酸化スズインジウム）をスパッタリング法により５０ｎｍの厚さで成膜し、ＩＴＯ電極基板を準備した。
そして、得られた溶液を、ＩＴＯ電極基板の電極面にスピンコート（２０００ｒｐｍ×３０ｓｅｃ，３５００ｒｐｍ×２ｓｅｃ）にて塗布し、１３０℃にて１時間焼成して、膜厚１００ｎｍの表面層を形成し、表面層付き基板ｂ１〜ｂ１８、比較用表面層付き基板ｂｂ１、ｂｂ２を得た。

実施例Ａ１の表示媒体の作製において、用いる表示基板を上記表面層付き基板ｂ１〜ｂ１８、比較用表面層付き基板ｂｂ１、ｂｂ２に変更した以外は、実施例Ａ１と同様にして表示媒体を作製し、実施例Ａ１と同様に評価を行った。結果を表４に示す。

なお、表２および表３中の略称等の詳細は、以下の通りである。
・ＦＭ−０７１１：「サイラプレーンＦＭ−０７１１（ＪＮＣ社製）」、重量平均分子量Ｍｗ＝１，０００
・Ｘ−２２−２４０４：「Ｘ−２２−２４０４（信越化学工業社製）」

・ＨＥＭＡ：２−ヒドロキシエチルメタクリレート
・ＭＡＡ：メタクリル酸
・ＭＭＡ：メタクリル酸メチル
・ＣＸＭＡ：メタクリル酸シクロヘキシル
・ＤＥＡＥＭＡ：Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレート
・Ａ−ＳＡ：２−アクリロイルオキシエチルサクシネート（新中村化学社製）
・ＭＯＩ−ＢＰ：ブロック化されたイソシアネート基を有するイソシアネート系モノマー：２−［（３，５−ジメチルピラゾリル）カルボニルアミノ］エチルメタクリレート「カレンズＭＯＩ−ＢＰ（昭和電工社製）」
・Ｄ−１６０Ｎ：イソシアネート化合物「タケネートＤ−１６０（三井化学社製）」
・ＭＸ−２７０：メチル化尿素化合物「ニカラックＭＸ−２７０（三和ケミカル社製）」

上記結果から、本実施例Ａでは、比較例Ａに比べ、粒子の固着が抑制されることがわかる。

≪実施例Ｂ≫
［基板表面層材料］
−基板表面層材料Ａ１〜Ａ１７の作製−
表５および表６に従った組成のシリコーン鎖を持つ高分子化合物をラジカル溶液重合で合成し、これらを基板表面層材料Ａ１〜Ａ１７とした。

［基板］
−表面層付き基板Ｂ１〜Ｂ１７の作製−
表５および表６に従った基板表面層材料を混合溶媒（トルエン／テトラヒドロフラン＝２５／７５質量比の溶媒）に溶解して、基板表面層材料の４質量％溶液を準備し、この溶液４質量部に，トリイソシアネート系架橋剤（「タケネートＤ１６０Ｎ（タケダ薬品工業社製）」）２質量部を混合した。
一方、厚さ０．７ｍｍのガラス基板上に電極としてＩＴＯ（酸化スズインジウム）をスパッタリング法により５０ｎｍの厚さで成膜し、ＩＴＯ電極基板を準備した。
そして、得られた溶液を、ＩＴＯ電極基板の電極面にスピンコート（２０００ｒｐｍ×３０ｓｅｃ，３５００ｒｐｍ×２ｓｅｃ）にて塗布し，１３０℃にて１時間焼成して，膜厚１００ｎｍの表面層を形成し、表面層付き基板Ｂ１〜Ｂ１７を得た。

−比較用表面層付き基板ＢＢ１の作製−
フッ素樹脂を希釈用フッ素溶媒に溶解して、フッ素樹脂の３３質量％溶液を準備した。
得られた溶液を、表面層付き基板Ｂ１と同様のＩＴＯ電極基板の電極面にスピンコート（５００ｒｐｍ×２０ｓｅｃ，２５００ｒｐｍ×１０ｓｅｃ）にて塗布し，１３０℃にて１時間焼成して，膜厚１００ｎｍの表面層を形成し、比較用表面層付き基板ＢＢ１を得た。

［泳動粒子（その分散液）］
−シアン粒子Ｃ１（その分散液Ｃ１）の作製−
コア粒子の樹脂としてスチレン／アクリル樹脂Ａ４５質量部と、架橋剤としてメチル化メラミン樹脂（「ＭＸ−０３５（三和ケミカル社製）」）５質量部と，着色剤としてシアン顔料ＰＢ１５：３を２６質量％含む水分散液Ｅｍａｃｏｌ ＳＦ Ｂｌｕe Ｈ５２４Ｆ (山陽色素社製)５０質量部と、蒸留水２４．１質量部とを、６０℃に加温しながら混合し、インク固形分濃度が１５％、乾燥後の顔料濃度が５０％となるように分散相を調製した。

次に、界面活性剤ＫＦ−６０２８(信越化学工業社製)３．５質量部をシリコーンオイルＫＦ−９６Ｌ−２ｃｓ (信越化学工業社製)に溶解して連続相３５０質量部を調製し、これに上記分散相５０質量部を加えて内歯式卓上分散機ＲＯＢＯＭＩＣＳ（特殊機化工業社製）を用い回転数１００００ｒｐｍ、温度３０℃で１０分間乳化を行った。その結果、乳化液滴径が約２μmの乳化液を得た。これをロータリーエバポレーターを用いて真空度２０ｍｂａｒ、水浴温度４０℃で１８時間乾燥を行った。
次に、このシリコーンオイル中粒子分散液を遠心分離器を用いた沈降工程と、超音波洗浄機を用いた再分散工程を３回繰り返し、過剰な界面活性剤ＫＦ−６０２８を除き濃縮してコア粒子６質量部を得た。なお、遠心分離の条件は６０００ｒｐｍで１５分である。
得られた粒子をSEM観察して、画像解析した結果、平均粒径は０．６μｍ、Ｃ.Ｖ.値（単分散性を示す指標：Coefficient of Variation：CV[%] ＝ (σ/D)×100（σ：標準偏差，D：平均粒径））は２５%であった。

次に，各重合成分として、サイラプレーンＦＭ−０７２１（ＪＮＣ社製）１．７質量部と、サイラプレーンＦＭ−０７２５（ＪＮＣ社製）０．２質量部、ヒドロキシエチルメタクリレート５９．８質量部と、ＡＭＰ−１０Ｇ（新中村化学工業社製）６．５質量部と、カレンズＭＯＩ−ＢＰ（昭和電工社製）２１．８質量部と、をイソプロピルアルコール２００質量部に混合して溶解した。これに重合開始剤としてＡＩＢＮ（２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル））０．２質量部を溶解し、窒素下で７０℃、６時間重合を行なった。生成物をシクロヘキサンを再沈殿溶媒として精製、乾燥し、被覆層の樹脂（シェル樹脂）を得た。この被覆層の樹脂２質量部をt-ブタノール溶媒２０質量部に溶解し、被覆層形成用溶液（シェル溶液）を作製した。

次に、上記コア粒子１質量部を２００ｍＬのナスフラスコに取り、シリコーンオイルＫＦ−９６Ｌ−２ｃｓを１５質量部加え、２５℃でコア粒子分散液に超音波を加えながら撹拌分散した。これに、ｔ−ブタノール７．５質量部、上記被覆層形成用溶液（シェル溶液）２２質量部、シリコーンオイル「ＫＦ−９６Ｌ−２ｃｓ（信越化学工業社製）」１２．５質量部を順次加えた。投入速度は全て２ｍＬ／ｓで行った。上記ナスフラスコをロータリーエバポレーターに接続し、真空度２０ｍｂａｒ、水浴温度５０℃で１時間、ｔ−ブタノール除去を行った。
これを、さらに撹拌しながらオイルバス中で加温した。まず１００℃で１時間加温し、残留水分と残留するｔ−ブタノールを除いた後、続けて１３０℃で１．５時間の加熱を行い、ブロックイソシアネート基のブロック基を脱離させ、被覆層の樹脂（シェル樹脂）の架橋反応を行った。
冷却後、シリコーンオイル粒子分散液を、遠心分離機を用いた沈降工程と、超音波洗浄機を用いた再分散工程を3回繰り返し、過剰な被覆層の樹脂（シェル樹脂）を除去した。最終的に得られた粒子は０．６質量部であった。

以上の工程を経て、コア粒子の表面に被覆層を形成したシアン粒子（泳動粒子）Ｃ１の分散液を得た。
なお、液中に分散されたシアン粒子（泳動粒子）Ｃ１は、遠心分離機を用いてシリコーンオイルで洗浄し、シリコーンオイルに分散されたシアン粒子分散液Ｃ１（粒子固形分５質量％）として得た。
作製したシアン粒子分散液中のシアン粒子（泳動粒子）の平均粒径を測定した結果、６００ｎｍであった。
また、シアン粒子分散液中のシアン粒子（泳動粒子）の帯電極性を、２枚の電極基板間に該分散液を封入し、直流電圧を印加して泳動方向を評価した結果、正帯電であった。

−シアン粒子Ｃ２〜Ｃ６（その分散液Ｃ２〜Ｃ６）の作製−
表７および表８に従って、コア粒子および被覆層の組成を変更した以外は、シアン粒子Ｃ１（その分散液Ｃ１）と同様にしてシアン粒子（泳動粒子）Ｃ２〜Ｃ６（その分散液Ｃ２〜Ｃ６）を得た。
作製したシアン粒子分散液中のシアン粒子（泳動粒子）の帯電極性を、２枚の電極基板間に該分散液を封入し、直流電圧を印加して泳動方向を評価した結果、シアン粒子Ｃ５は負帯電で、シアン粒子Ｃ１〜Ｃ４、Ｃ６は正帯電であった。

−比較用シアン粒子ＣＣ１（その分散液ＣＣ１）の作製−
シリコーン変性ポリマーＫＰ−５４５（信越化学工業社製）３質量部をジメチルシリコーンオイル（信越化学工業社製ＫＦ−９６Ｌ−２ＣＳ）９７質量部に溶解して溶液Ａを調製した。
次に、ジメチルアミン・エピクロロヒドリンポリマー１０質量部、水分散顔料溶液（Ｃｉｂａ社製ユニスパース・シアン色、顔料濃度２０質量％）５質量部、純水８５質量部を混合して溶液Ｂを調整した。
次に、得られた溶液Ａと溶液Ｂを混合し、超音波破砕機（エスエムテー社製ＵＨ−６００Ｓ）にて分散し乳化を行った。
次に、この懸濁液を減圧（２ＫＰａ）、加熱（７０℃）して水分を除去し、濃度を調整することにより、シリコーンオイル中に比較用シアン粒子（泳動粒子）ＣＣ１が分散した比較用シアン粒子分散液ＣＣ１（粒子固形分５質量％）を得た。
作製したシアン粒子分散液中のシアン粒子（泳動粒子）の平均粒径を測定した結果、２９０ｎｍであった。
また、シアン粒子分散液中のシアン粒子（泳動粒子）の帯電極性を、２枚の電極基板間に該分散液を封入し、直流電圧を印加して泳動方向を評価した結果、正帯電であった。

［白色粒子Ｗ１］
−分散液ＡＡ１の調製−
下記成分を混合し、１０ｍｍΦのジルコニアボールにてボールミル粉砕を２０時間実施して分散液ＡＡを調製した。
＜組成＞
・メタクリル酸シクロヘキシル： ５３質量部
・酸化チタン： ４５質量部
（白色顔料：一次粒子径０．３μｍ、タイペークＣＲ６３：石原産業社製）
・シクロヘキサン： ５質量部

−炭カル分散液ＡＢの調製−
下記成分を混合し、上記と同様にボールミルにて微粉砕して炭カル分散液ＡＢを調製した。
＜組成＞
・炭酸カルシウム： ４０質量部
・水： ６０質量部

−混合液ＡＣの調製−
下記成分を混合し、超音波機で脱気を１０分間おこない、ついで乳化機で攪拌して混合液ＡＣを調製した。
＜組成＞
・２％セロゲン ４．３質量部
・炭カル分散液ＡＢ： ８．５質量部
・２０％食塩水： ５０質量部

次に、分散液ＡＡ３５質量部、ジビニルベンゼン１質量部、および重合開始剤ＡＩＢＮ（アゾビスイソブチロニトリル）０．３５質量部を計り取り、これらを混合し、超音波機で脱気を１０分おこなった。これを混合液ＡＣに加え、乳化機で乳化を実施した。
次に、この乳化液をビンに入れ、シリコーン詮をし、注射針を使用し、減圧脱気を充分行い、窒素ガスで封入した。
次に、６５℃で１５時間反応させ粒子を調製した。冷却後、この分散液を凍結乾燥機により−３５℃、０．１Ｐａの下で２日間でシクロヘキサンを除去した。得られた粒子粉をイオン交換水中に分散させ、塩酸水で炭酸カルシウムを分解させ、ろ過を行った。その後充分な蒸留水で洗浄し、目開き：２０μｍ、２５μｍのナイロン篩にかけ、粒度を揃えた。これを乾燥させ、平均粒子径２０μｍの白色粒子Ｗ１を得た。

［実施例Ｂ１〜Ｂ２２、比較例Ｂ１〜Ｂ４］
表９に従って、２枚の同じ表面層付き基板を準備し、これを第１基板、および第２基板とした。そして、５０μｍのテフロン（登録商標）シートをスペーサーとして、第１基板上に第２基板を互いの表面層を対向させるようにして重ね合わせて、クリップにて固定した。
次に、表９に従って、白色粒子１０質量部およびシアン粒子５質量部となるように、シアン粒子分散液に白色粒子を混合し、これを上記基板間の間隙に注入した後、封止して、評価用セルを作製した。

評価用セルを作製し、１２時間経過した後、当該評価用セルからシリコーンオイル（分散媒）の一部を採取し、これを測定試料として、既述の方法に従って、シリコーンオイル（分散媒）の水を除く極性成分の含有量を測定した。

次に、作製した評価用セルを用いて、第１基板を表示基板とし、その表示面がシアン色となるように（つまり、第１基板側にシアン粒子が泳動するように）、第１基板および第２基板の互いの電極に１５Ｖの電圧を印加した。

その後、第１基板を表示基板とし、その表示面が白色となるように（つまり、第２基板側にシアン粒子が泳動するように）、第１基板および第２基板の互いの電極に１５Ｖの電圧を印加した。
このとき第１基板側から観察した白色の白色濃度を、Ｘ−Ｒｉｔｅ４０４にて測定して、白色反射率に換算した。このときの白色反射率を「初期白色反射率」とした。
そして、同様の操作を１００回繰り返した後、同様に、白色反射率を測定し、このときの白色反射率を「経時白色反射率」とした。

その後、再び、第１基板を表示基板とし、その表示面が白色となるように（つまり、第２基板側にシアン粒子が泳動するように）、第１基板および第２基板の互いの電極に１５Ｖの電圧を印加した。

上記結果から、実施例Ｂでは、比較例Ｂに比べ、経時白色反射率の低下が抑制されていることがわかる。

なお、表５〜表８中の略称等の詳細は、以下の通りである。
・ＦＭ−０７１１：「サイラプレーンＦＭ−０７１１（ＪＮＣ社製）」、重量平均分子量Ｍｗ＝１，０００
・ＦＭ−０７２１：「サイラプレーンＦＭ−０７２１（ＪＮＣ社製）」、重量平均分子量Ｍｗ＝５，０００
・ＦＭ−０７２５：「サイラプレーンＦＭ−０７２５（ＪＮＣ社製）」、重量平均分子量Ｍｗ＝１０，０００
・Ｘ−２２−２４０４：「Ｘ−２２−２４０４（信越化学工業社製）」

・ＨＥＭＡ：２−ヒドロキシエチルメタクリレート
・ＭＡＡ：メタクリル酸
・ＭＭＡ：メタクリル酸メチル
・ＣＸＭＡ：メタクリル酸シクロヘキシル
・ＤＭＡＰＡＡ：ジメチルアミノプロピルアクリルアミド
・Ａ−ＳＡ：２−アクリロイルオキシエチルサクシネート（新中村化学社製）
・ＭＯＩ−ＢＰ：ブロック化されたイソシアネート基を有するイソシアネート系モノマー：２−［（３，５−ジメチルピラゾリル）カルボニルアミノ］エチルメタクリレート「カレンズＭＯＩ−ＢＰ（昭和電工社製）」
・Ｄ−１６０Ｎ：イソシアネート化合物「タケネートＤ−１６０（三井化学社製）」
・ＭＸ−２７０：メチル化尿素化合物「ニカラックＭＸ−２７０（三和ケミカル社製）」

・スチレン／アクリル樹脂Ａ：「Ｘ−３４５（星光ＰＭＣ社製）」（アクリル部位のカルボン酸が２−ヒドロキシエチルジメチルアンモニウムによりアンモニウム塩化）
・アクリル樹脂Ｂ：アクリル系化合物の重合体「ＡＷ−３６Ｈ（星光ＰＭＣ社製）」（アクリル部位のカルボン酸がアンモニア水によりアンモニウム塩化）
・スチレン／マレイン酸樹脂Ｃ：スチレン系化合物とマレイン酸系化合物の共重合体「Ｘ−１２０２Ｌ（星光ＰＭＣ社製）」（マレイン酸がアンモニア水によりアンモニウム塩化）
・スルホン酸樹脂Ｄ：２−アクリルアミド−２−メチルプパンスルホン酸を含む重合物
・ＣＴＸ−８０９Ｍ：フッ素樹脂「ＣＴＸ−８０９Ｍ(ＡＧＣ社製)」
・ＡＭＰ−１０Ｇ：フェノキシ化合物の重合体
・ＭＸ−０３５：メチル化メラミン樹脂「ＭＸ−０３５（三和ケミカル社製）」
・Ｈ５２５Ｆ：シアン顔料（「Ｈ５２５Ｆ（山陽色素社製）」）

また、前記実施例Ｂ１〜Ｂ２２において用いた白色粒子Ｗ１を、下記白色粒子Ｗ２に変更した以外は同様にして、実施例および比較例を実施した。
白色粒子Ｗ２を用いた実施例でも、前記実施例Ｂ１〜Ｂ２２と同等の効果が得られた。

［白色粒子Ｗ２］
・４−ビニルビフェニル（新日鉄住金化学社製） ：１質量部
・サイラプレーンＦＭ−０７２１（ＪＮＣ社製、重量平均分子量Ｍｗ＝５０００、構造（構造式２においてＲ_１＝メチル基、Ｒ_１’＝ブチル基、ｎ＝６８、ｘ＝３）） ：１質量部
・ラウロイルパーオキサイド（アルドリッチ社製）：０．０３質量部
・アイソパーＭ（Ｉｓｏｐａｒ Ｍ：登録商標、エクソンモービル社製） ：１０質量部
・ヘキサン（関東化学社製） ：２質量部
・トルエン（関東化学社製） ：２質量部
上記組成で各材料を混合し、６５℃で１８時間加熱した後、ジメチルシリコーンオイル（信越化学工業社製ＫＦ−９６Ｌ−２ｃｓ、粘度２ｃｓ）で溶媒置換を行った。これにより、４−ビニルビフェニルを重合成分として含む共重合体で構成された樹脂粒子分散液を得た。樹脂粒子の体積平均粒径は０．５３μｍであった。得られた樹脂粒子分散液を、白色粒子Ｗ２分散液とした。

１０ 表示装置
１２ 表示媒体
１６ 電圧印加部
１８ 制御部
２０ 表示基板
２１ 表面層
２２ 背面基板
２３ 表面層
２４ 間隙部材
２５ 表面層
３４ 粒子群
３４Ｙ イエロー粒子群
３４Ｃ シアン粒子群
３４Ｍ マゼンタ粒子群
３６ 着色浮遊粒子群
３８ 支持基板
４０ 表面電極
４４ 支持基板
４６ 背面電極
５０ 分散媒

Claims (5)

1. 電極を有し、少なくとも一方が透光性を有し且つ間隙をもって配置された一対の基板と、
   前記一対の基板間に封入された分散媒と、
   前記分散媒中に分散され、前記一対の基板間に形成された電界に応じて該分散媒中を移動する粒子群と、
   少なくとも１０モル％以上９０モル％以下の（１）（メタ）アクリル系モノマー、１モル％以上５０モル％以下の（２）シリコーンマクロマー、および２モル％以上７０モル％以下の（３）架橋性モノマーに由来する高分子化合物（但し前記比率は、前記（１）、（２）および（３）の成分の合計量を基準（１００モル％）とした場合の比率である）が、前記一対の基板の対向面の少なくとも一方に設けられた表面層と、
   を有する表示媒体。
2. 前記表面層の表面の濡れ張力（ＪＩＳ−Ｋ６７６８／１９９９年）が３５ｍＮ／ｍ以下である請求項１に記載の表示媒体。
3. 前記高分子化合物が、前記シリコーンマクロマーとして下記構造式で示される化合物から選択される少なくとも１種に由来する構成単位を有する請求項１または請求項２に記載の表示媒体。
   
   
   〔上記構造式中、Ｒ_１は、水素原子またはメチル基を示す。Ｒ_１’は、水素原子または炭素数１以上４以下のアルキル基を示す。ｎは自然数を示す。ｘは１以上３以下の整数を示す。〕
4. 前記分散媒は、水を除く極性成分の含有量が０．０１質量％以下である請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の表示媒体。
5. 請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の表示媒体と、
   前記一対の基板間に電圧を印加する電圧印加手段と、
   を備えた表示装置。