JP2013225611A - 半導体素子等の実装方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】
隣接する接続パッド同士の短絡を防止して配線基板と半導体素子との電気的な接続が良好な半導体素子の実装方法を提供すること。
【解決手段】
複数の電極端子Tが配設された接続面Cに沿った方向に第1の熱膨張係数をもつ半導体素子Sを、電極端子Tに接続される複数の接続パッド2が配設された搭載面1aに沿った方向に第1の熱膨張係数より大きな第2の熱膨張係数をもつ配線基板10上に、電極端子Tが接続パッド2に半田バンプ4を介して接合されるようにリフロー処理して搭載する半導体素子Sの実装方法であって、リフロー処理前の常温時の電極端子Tの配列ピッチP1と接続パッド2の配列ピッチP2と半田バンプ4の配列ピッチP3とを、接続パッド2の配列ピッチP2の方が電極端子Tの配列ピッチP1より小さくなるように設定するとともに、電極端子Tの配列ピッチP1と半田バンプ4の配列ピッチP3とが一致するように設定する。
【選択図】図1
隣接する接続パッド同士の短絡を防止して配線基板と半導体素子との電気的な接続が良好な半導体素子の実装方法を提供すること。
【解決手段】
複数の電極端子Tが配設された接続面Cに沿った方向に第1の熱膨張係数をもつ半導体素子Sを、電極端子Tに接続される複数の接続パッド2が配設された搭載面1aに沿った方向に第1の熱膨張係数より大きな第2の熱膨張係数をもつ配線基板10上に、電極端子Tが接続パッド2に半田バンプ4を介して接合されるようにリフロー処理して搭載する半導体素子Sの実装方法であって、リフロー処理前の常温時の電極端子Tの配列ピッチP1と接続パッド2の配列ピッチP2と半田バンプ4の配列ピッチP3とを、接続パッド2の配列ピッチP2の方が電極端子Tの配列ピッチP1より小さくなるように設定するとともに、電極端子Tの配列ピッチP1と半田バンプ4の配列ピッチP3とが一致するように設定する。
【選択図】図1
Description
本発明は、配線基板に半導体素子等を実装する方法に関するものである。
従来、半導体集積回路素子等の半導体素子を配線基板に実装するときには、例えば図2(a)に示すように、まず、半導体素子Sと配線基板20とを準備する。半導体素子Sは、例えば主としてシリコンから成り、その下面に配線基板20と接続するための接続面Cを有している。この接続面Cには、複数の電極端子Tが配列ピッチP1で例えば格子状の並びに配列形成されている。また、配線基板20は、主としてエポキシ樹脂等の樹脂材料から成り、その上面の中央部に半導体素子Sを搭載するための搭載部11aを有している。この搭載部11aには、半導体素子Sの電極端子Tが半田バンプ14を介して接続される複数の接続パッド12が半導体素子Sの電極端子Tの配列ピッチP1と実質的に同じ配列ピッチP2で電極端子Tの並びに対応した格子状の並びで配列形成されている。なお、半田バンプ14は、接続パッド12上に予め形成しておく。
次に、図2(b)に示すように、半導体素子Sの電極端子Tを、それぞれが対応する接続パッド12上の半田バンプ14に載置する。この載置は常温において行なう。
次に、半導体素子Sが載置された配線基板20を、リフロー炉に入れて半田バンプ14が溶融する温度以上の温度に加熱して半田バンプ14を溶融させた後、常温まで冷却するリフロー処理を行なうことで図2(c)に示すように、半導体素子Sを配線基板20に実装する方法がとられる。
このとき、エポキシ樹脂等の樹脂材料から成る配線基板20の熱膨張係数がシリコンから成る半導体素子Sの熱膨張係数よりも大きいことから、半田バンプ14が溶融する温度においては、配線基板20の方が半導体素子Sよりも大きく熱膨張する。このため、リフロー処理前の常温時において電極端子Tの配列ピッチP1と接続パッド12の配列ピッチP2とが実質的に同じであっても、リフロー処理時の半田バンプ14が溶融する温度においては、電極端子Tの配列ピッチP1よりも接続パッド12の配列ピッチP2が大きくなる。そのため、一部の接続パッド12の直上に電極端子Tが配置されずに電極端子Tと接続パッド12とがずれて接合されてしまい、その結果、両者間の接続が不十分となったり、半導体素子Sが傾斜した状態で接合されたりし、ずれがひどいときには接合できなかったりする場合も発生する。特に、半導体素子Sの高密度化が進み、配列ピッチP1が狭い場合や半導体素子Sのサイズが大きい場合、このような不具合が発生しやすい傾向にある。
そこで、このような状態を回避するため、図3に示すように、リフロー処理前の常温時において、接続パッド12の配列ピッチP2を電極端子Tの配列ピッチP1よりも狭いものとなるように設定しておくことで、リフロー処理時の半田バンプ14の溶融温度における電極端子Tの配列ピッチP1と接続パッド12の配列ピッチP2とが実質的に一致するようにしておき、次にこれをリフロー処理後に常温まで冷却することで、電極端子Tの配列ピッチP1と接続パッド12の配列ピッチP2とが実質的に一致した状態で電極端子Tと接続パッド12とを半田バンプ14を介して精度よく接合する方法がとられることがある。
しかしながら、上述した実装方法によると、接続パッド12上に形成された半田バンプ14は、その配列ピッチが接続パッド12の配列ピッチP2と同じであり、常温においては、電極端子Tの配列ピッチP1よりも狭いことから、半導体素子Sの各電極端子Tをそれぞれ対応する半田バンプ14の上に載置する際、特に半導体素子Sの外周部に配置された電極端子Tの一部が対応する半田バンプ14からはみ出してしまうことがある。そのため、一部の電極端子Tが隣接する半田バンプ14同士の間にずれて載置された状態でリフロー処理される場合があり、溶融した半田バンプ14が隣接する接続パッド12に接触して短絡不良が生じる恐れがあった。
本発明は、配線基板の搭載面の接続パッドに半導体素子の接続面の電極端子を半田バンプを介して実装する方法において、配線基板の熱膨張係数が半導体素子の熱膨張係数よりも大きい場合でも、隣接する接続パッド同士の短絡を防止して配線基板と半導体素子との信頼性の高い電気的に良好な実装方法を提供することを課題とする。
本発明の半導体素子の実装方法は、複数の電極端子が配設された接続面を有し、接続面に沿った方向に対して第1の熱膨張係数を有する半導体素子を、電極端子に接続される複数の接続パッドが配設された搭載面を有し、搭載面に沿った方向に対して第1の熱膨張係数よりも大きな第2の熱膨張係数を有するとともに接続パッド上に半田バンプが形成された配線基板上に、電極端子が接続パッドに半田バンプを介して接合されるようにリフロー処理して搭載する半導体素子の実装方法であって、リフロー処理前の常温における電極端子の配列ピッチと接続パッドの配列ピッチと半田バンプの配列ピッチとを、接続パッドの配列ピッチの方が電極端子の配列ピッチよりも小さくなるように設定するとともに、電極端子の配列ピッチと半田バンプの配列ピッチとが一致するように設定することを特徴とするものである。
本発明の半導体素子の実装方法によれば、リフロー処理前の常温における接続パッドの配列ピッチの方が電極端子の配列ピッチよりも小さくなるように設定されているものの、接続パッド上に形成された半田バンプの配列ピッチは電極端子の配列ピッチと一致することから、リフロー処理前に半導体素子の電極端子を接続パッド上の半田バンプに載置する際、電極端子を半田バンプからはみ出すことなく載置することができる。したがって、一部の電極端子が隣接する半田バンプ同士の間にずれて載置された状態でリフロー処理されることはなく、溶融した半田バンプが隣接する接続パッドに接触して短絡不良が生じることを防止することができる。さらに、半田バンプが溶融する温度においては、電極端子の配列ピッチと接続パッドの配列ピッチとが実質的に一致するとともに、溶融した半田バンプが接続パッドの直上に集まり、電極端子と接続パッドとが精度よく接合される。これにより、配線基板と半導体素子との信頼性の高い電気的に良好な実装方法を提供することができる。
次に、本発明の半導体素子等の実装方法の実施形態の一例を図1(a)〜(c)を基にして詳細に説明する。
まず、図1(a)に示すように、本発明の半導体素子等の実装方法により実装される半導体素子Sと配線基板10とを準備する。
半導体素子Sは、例えば主としてシリコンから成り、その下面に電極端子Tが複数配設された接続面Cを有している。電極端子Tは、接続面Cに例えば格子状の並びに配列ピッチP1で配列されている。配列ピッチP1は、常温において50〜300μm程度である。そして、半導体素子Sは、接続面Cに沿った方向に対して3〜4ppm/℃程度の熱膨張係数を有している。
配線基板10は、主として例えばガラスクロスにエポキシ樹脂やビスマレイミドトリアジン樹脂等の熱硬化性樹脂を含浸させた電気絶縁材料から成り、その上面中央部に搭載部1aを有している。配線基板10の搭載面1aに沿った方向に対する熱膨張係数は、10〜20ppm/℃程度である。搭載部1aには、半導体素子Sの電極端子Tに接続される複数の接続パッド2が、電極端子Tに対応した並びに配列ピッチP2で配列されている。配列ピッチP2は、常温において配列ピッチP1よりも0.2〜1μm程度小さいものとし、後述する半田バンプ4が溶融する温度において、電極端子Tの配列パッチP1と実質的に一致するように設定しておく。なお、接続パッド2は、その上面中央部がソルダーレジスト層3に形成された開口部3aから露出している。
開口部3aから露出した接続パッド2およびその周辺のソルダーレジスト層3上には、半導体素子Sの電極端子Tと接続パッド2とを接続するための半田バンプ4が形成されている。半田バンプ4の配列ピッチP3は、常温において、電極端子Tの配列ピッチP1と同一となるようにしておく。なお、このような半田バンプ4を形成するには、ソルダーレジスト層3の上面に、開口部3a内の接続パッド2およびその周辺のソルダーレジスト層3を露出させる開口部を電極端子Tの配列ピッチP1と同じ配列ピッチで有するめっきレジストを被着させた後、めっきレジストの開口部から露出する接続パッド2およびソルダーレジスト層3上に半田めっきを選択的に被着させて、最後に、めっきレジストを剥離除去すればよい。
次に、図1(b)に示すように、接続パッド2上に形成された半田バンプ4の上に、それぞれが対応する電極端子Tを重ね合わせた状態で半導体素子Sを配線基板10に載置する。このとき、電極端子Tの配列ピッチP1と半田バンプ4の配列ピッチP3とは、互いに一致することから、電極端子Tを半田バンプ4からはみ出すことなく載置することができる。
次に、図1(c)に示すように、半導体素子Sが載置された配線基板10を半田バンプ4が溶融する温度以上の温度でリフロー処理する。このとき、電極端子Tは、半田バンプ4からはみ出すことなく載置されており、一部の電極端子Tが隣接する半田バンプ4同士の間にずれて載置された状態でリフロー処理されることはない。したがって、溶融した半田バンプ4が隣接する接続パッド2に接触して短絡不良が生じることを防ぐことができる。さらに、半田バンプ4が溶融する温度においては、配線基板10の方が半導体素子Sよりも大きく熱膨張して電極端子Tの配列ピッチP1と接続パッド2の配列ピッチP2とが実質的に一致するとともに、溶融した半田バンプ4が接続パッド2の直上に集まり、電極端子Tと接続パッド2とが精度よく接合される。次にこれを常温まで冷却すると、電極端子Tの配列ピッチP1と接続パッド2の配列ピッチP2とが実質的に一致した状態で電極端子Tと接続パッド2とが半田バンプ4を介して精度よく接合されることとなる。これにより、配線基板10と半導体素子Sとの信頼性の高い電気的に良好な実装方法を提供することができる。
1a 搭載面
2 接続パッド
4 半田バンプ
10 配線基板
C 接続面
P1 電極端子の配列ピッチ
P2 接続パッドの配列ピッチ
P3 半田バンプの配列ピッチ
S 半導体素子
T 電極端子
2 接続パッド
4 半田バンプ
10 配線基板
C 接続面
P1 電極端子の配列ピッチ
P2 接続パッドの配列ピッチ
P3 半田バンプの配列ピッチ
S 半導体素子
T 電極端子
Claims (1)
- 複数の電極端子が配設された接続面を有し、該接続面に沿った方向に対して第1の熱膨張係数を有する半導体素子を、前記電極端子に接続される複数の接続パッドが配設された搭載面を有し、該搭載面に沿った方向に対して前記第1の熱膨張係数よりも大きな第2の熱膨張係数を有するとともに前記接続パッド上に半田バンプが形成された配線基板上に、前記電極端子が前記接続パッドに前記半田バンプを介して接合されるようにリフロー処理して搭載する半導体素子の実装方法であって、前記リフロー処理前の常温における前記電極端子の配列ピッチと前記接続パッドの配列ピッチと前記半田バンプの配列ピッチとを、前記接続パッドの配列ピッチの方が前記電極端子の配列ピッチよりも小さくなるように設定するとともに、前記電極端子の配列ピッチと前記半田バンプの配列ピッチとが一致するように設定することを特徴とする半導体素子の実装方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012097596A JP2013225611A (ja) | 2012-04-23 | 2012-04-23 | 半導体素子等の実装方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2012097596A JP2013225611A (ja) | 2012-04-23 | 2012-04-23 | 半導体素子等の実装方法 |
Publications (1)
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JP2013225611A true JP2013225611A (ja) | 2013-10-31 |
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Family Applications (1)
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JP2012097596A Pending JP2013225611A (ja) | 2012-04-23 | 2012-04-23 | 半導体素子等の実装方法 |
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JP (1) | JP2013225611A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015103778A (ja) * | 2013-11-28 | 2015-06-04 | 京セラサーキットソリューションズ株式会社 | 配線基板および配線基板への半導体素子の実装方法 |
-
2012
- 2012-04-23 JP JP2012097596A patent/JP2013225611A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2015103778A (ja) * | 2013-11-28 | 2015-06-04 | 京セラサーキットソリューションズ株式会社 | 配線基板および配線基板への半導体素子の実装方法 |
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