JP2013214445A - プラズマ処理装置 - Google Patents
プラズマ処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013214445A JP2013214445A JP2012084740A JP2012084740A JP2013214445A JP 2013214445 A JP2013214445 A JP 2013214445A JP 2012084740 A JP2012084740 A JP 2012084740A JP 2012084740 A JP2012084740 A JP 2012084740A JP 2013214445 A JP2013214445 A JP 2013214445A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing
- electrode rod
- processed
- chamber
- plasma
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
【解決手段】真空状態に減圧可能な処理室3内には、複数のアンテナ体Aが天井部2aに垂下支持されている。各アンテナ体Aは、高周波電源の給電側に接続される第1電極棒8と、高周波電源の接地側に接続される第2電極棒9と、を備えており、これら両電極棒8、9の周囲にプラズマが発生可能に構成されている。各電極棒8、9は、ワーク保持装置5によって保持されるワークWの被処理面に対して、一定の離間距離を維持するように、環状に配置されている。
【選択図】図1
Description
3 処理室
5 ワーク保持装置
8 第1電極棒
9 第2電極棒
10 接続部材
21 高周波電源
22 ガス供給源
A アンテナ体
C 仮想円
L 直線
W ワーク
W1 被処理面
Claims (1)
- 屈曲部もしくは湾曲部を有する被処理面を備えた処理対象にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置であって、
真空状態に減圧可能な処理室にガス供給源から反応ガスが供給される真空チャンバと、
前記処理室内に設けられ、交流電源の給電側に接続される給電側電極棒、および、前記交流電源の接地側に接続される接地側電極棒が対向配置されるとともに、前記交流電源からの電力供給によって両電極棒の周囲にプラズマを発生させる複数のアンテナ体と、
前記処理室内に処理対象を保持する処理対象保持手段と、を備え、
前記複数のアンテナ体の全部もしくは一部は、
当該アンテナ体における前記給電側電極棒の中心軸と前記接地側電極棒の中心軸とを結んで描かれる直線のうち、前記両中心軸に直交する同一平面上に描かれる直線が、隣接するアンテナ体において交差する関係を維持し、
前記給電側電極棒および接地側電極棒は、
当該各電極棒の長手方向に直交する方向に描かれる仮想線であって、前記処理対象保持手段によって保持される処理対象の被処理面に対して一定の離間距離を維持して描かれる仮想線上に配置されていることを特徴とするプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012084740A JP2013214445A (ja) | 2012-04-03 | 2012-04-03 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012084740A JP2013214445A (ja) | 2012-04-03 | 2012-04-03 | プラズマ処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013214445A true JP2013214445A (ja) | 2013-10-17 |
Family
ID=49587651
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012084740A Pending JP2013214445A (ja) | 2012-04-03 | 2012-04-03 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2013214445A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013214446A (ja) * | 2012-04-03 | 2013-10-17 | Ihi Corp | プラズマ処理装置 |
CN109701474A (zh) * | 2019-01-07 | 2019-05-03 | 福州大学 | 一种磁控直流放电装置及方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10330945A (ja) * | 1997-05-27 | 1998-12-15 | Leybold Syst Gmbh | 中空体を被覆するための方法、中空体を被覆するための装置、及び閉鎖可能な少なくとも1つの開口を備えた容器 |
JP2000345351A (ja) * | 1999-05-31 | 2000-12-12 | Anelva Corp | プラズマcvd装置 |
JP2001310960A (ja) * | 2000-02-24 | 2001-11-06 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | プラズマ処理装置及び炭素被覆形成プラスチック容器の製造方法 |
WO2001088221A1 (fr) * | 2000-05-17 | 2001-11-22 | Ishikawajima-Harima Heavy Industries Co., Ltd. | Appareil de depot chimique en phase vapeur (cvd) au plasma et procede associe |
JP2008106362A (ja) * | 2002-10-04 | 2008-05-08 | Ihi Corp | 薄膜形成方法及び装置並びに太陽電池の製造方法及び装置並びに太陽電池 |
JP2009046182A (ja) * | 2007-08-22 | 2009-03-05 | Toppan Printing Co Ltd | 成膜装置 |
JP2010225296A (ja) * | 2009-03-19 | 2010-10-07 | Emd:Kk | 誘導結合型アンテナユニット及びプラズマ処理装置 |
WO2011136603A2 (ko) * | 2010-04-30 | 2011-11-03 | 주식회사 테라세미콘 | 플라즈마 처리 장치 |
-
2012
- 2012-04-03 JP JP2012084740A patent/JP2013214445A/ja active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10330945A (ja) * | 1997-05-27 | 1998-12-15 | Leybold Syst Gmbh | 中空体を被覆するための方法、中空体を被覆するための装置、及び閉鎖可能な少なくとも1つの開口を備えた容器 |
JP2000345351A (ja) * | 1999-05-31 | 2000-12-12 | Anelva Corp | プラズマcvd装置 |
JP2001310960A (ja) * | 2000-02-24 | 2001-11-06 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | プラズマ処理装置及び炭素被覆形成プラスチック容器の製造方法 |
WO2001088221A1 (fr) * | 2000-05-17 | 2001-11-22 | Ishikawajima-Harima Heavy Industries Co., Ltd. | Appareil de depot chimique en phase vapeur (cvd) au plasma et procede associe |
JP2008106362A (ja) * | 2002-10-04 | 2008-05-08 | Ihi Corp | 薄膜形成方法及び装置並びに太陽電池の製造方法及び装置並びに太陽電池 |
JP2009046182A (ja) * | 2007-08-22 | 2009-03-05 | Toppan Printing Co Ltd | 成膜装置 |
JP2010225296A (ja) * | 2009-03-19 | 2010-10-07 | Emd:Kk | 誘導結合型アンテナユニット及びプラズマ処理装置 |
WO2011136603A2 (ko) * | 2010-04-30 | 2011-11-03 | 주식회사 테라세미콘 | 플라즈마 처리 장치 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013214446A (ja) * | 2012-04-03 | 2013-10-17 | Ihi Corp | プラズマ処理装置 |
CN109701474A (zh) * | 2019-01-07 | 2019-05-03 | 福州大学 | 一种磁控直流放电装置及方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN109216148B (zh) | 等离子体处理装置 | |
KR102242988B1 (ko) | 플라즈마 처리장치 | |
CN101720500B (zh) | 具有单一平面天线的电感耦合双区域处理室 | |
KR100736218B1 (ko) | 횡 방향의 다중 전극 구조를 가지는 평행 평판형 플라즈마소스 | |
KR102015697B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
TWI802551B (zh) | 電容耦合射頻真空蝕刻設備、工作或基板處理廠及蝕刻或者製造經蝕刻工件或基板之方法 | |
TWI811253B (zh) | 電漿處理裝置 | |
KR102353796B1 (ko) | 정전척, 배치대, 플라즈마 처리 장치, 및 정전척의 제조방법 | |
CN107546171A (zh) | 基板升降机构、基板载置台和基板处理装置 | |
KR101542270B1 (ko) | 플라즈마 처리장치 | |
CN103985624A (zh) | 电感耦合等离子体处理装置 | |
JP2006344998A (ja) | 誘導結合プラズマ処理装置 | |
KR101463984B1 (ko) | 플라즈마 처리 시스템 | |
CN103037612A (zh) | 电感耦合等离子体用天线单元和电感耦合等离子体处理装置 | |
KR20180014656A (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
JP2013214445A (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP2016122491A (ja) | プラズマ処理装置 | |
US20090169341A1 (en) | Method and system for handling objects in chambers | |
JP2007220926A (ja) | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | |
JP6069874B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
TWI600048B (zh) | Inductively coupled plasma processing device | |
JP5935461B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
KR101695380B1 (ko) | 유도 결합 플라즈마 처리 장치 | |
JP4838552B2 (ja) | 基板処理装置および半導体集積回路の製造方法 | |
JP6010981B2 (ja) | プラズマ処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150224 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20151216 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151222 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160215 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20160802 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160916 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20161028 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20161222 |