JP2013211132A - 発光デバイス、発光デバイスの製造方法及び電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本技術に係る発光デバイスは、駆動基板と、第1の電極と、抵抗層と、金属層と、発光層と、第2の電極とを具備する。前記第1の電極は、前記駆動基板上に設けられている。前記抵抗層は、前記第1の電極上に設けられ、前記第1の電極の比抵抗より大きい比抵抗を有する。前記金属層は、前記抵抗層上に設けられた領域を有する。前記発光層は、少なくとも前記金属層の前記抵抗層上に設けられた領域上に、設けられている。前記第2の電極は、前記発光層上に設けられ、透光性を有する。
【選択図】図3
Description
前記第1の電極は、前記駆動基板上に設けられている。
前記抵抗層は、前記第1の電極上に設けられ、前記第1の電極の比抵抗より大きい比抵抗を有する。
前記金属層は、前記抵抗層上に設けられた領域を有する。
前記発光層は、少なくとも前記金属層の前記抵抗層上に設けられた領域上に、設けられている。
前記第2の電極は、前記発光層上に設けられ、透光性を有する。
レーザリペアを行う場合に、照射されるレーザが、上記範囲の厚さの金属層に効率よく吸収されてカットすることができる。
レーザリペアの良好な効率を維持できる範囲で、レーザ照射によりカットされる金属層が薄く作られたことにより、リペアの処理時間を短くすることができる。
第1の電極またはその上の抵抗層等に異物が存在し、発光層のカバレッジが不十分となったような場合にも、その上からさらに別の抵抗層によって異物及び発光層を覆い、第2の電極を形成する場合に短絡が発生するリスクを抑制することができる。
その場合、前記金属層は、前記第1の電極上に設けられた領域をさらに有する。
そして、前記発光デバイスは、第2の絶縁層をさらに具備してもよい。前記第2の絶縁層は、前記金属層と前記発光層との間に設けられており、かつ、前記金属層の前記第1の電極上に設けられた領域に、設けられている。
前記第1の電極上に、前記第1の電極の比抵抗より大きい比抵抗を有する抵抗層が形成される。
少なくとも前記抵抗層上に、金属層が形成される。
前記金属層の、少なくとも前記抵抗層上に形成された領域上に、発光層が形成される。
前記発光層上に、透光性を有する第2の電極が形成される。
図1は、本技術の第1の実施形態に係る発光デバイスとして、有機ELを利用した表示装置の断面を模式的に示す図である。この表示装置100は、トップエミッション型の有機EL表示装置であり、駆動基板10上の所定の領域に、複数の画素が例えばマトリクス状に配置されたものである。この表示装置100がカラー表示方式を採用する場合、各画素は、例えば赤(R)、緑(G)、青(B)の3つのサブ画素のいずれかを構成し、これらの3つのサブ画素が1つの画素として機能するようになっている。図1は、表示装置100の表示面の平面方向における、1つのサブ画素の範囲内の層構造を示している。
<赤色発光層>:例えば4,4−ビス(2,2−ジフェニルビニン)ビフェニル(DPVBi)に2,6−ビス[(4'−メトキシジフェニルアミノ)スチリル]−1,5−ジシアノナフタレン(BSN)を混合した材料
<緑色発光層>:例えばADN やDPVBi にクマリン6を混合した材料
<青色発光層>:例えばDPVBi に4,4'−ビス[2−{4−(N,N−ジフェニルアミノ)フェニル}ビニル]ビフェニル(DPVBi)を混合した材料
以上のように構成された表示装置100の製造方法について説明する。
表示装置100では、各サブ画素に対し、映像信号に基づく駆動電流が第1の電極21及び第2の電極22を通じて供給されると、有機層25において、正孔と電子との再結合により発光が起こる。このようにして生じた白色光のうち、第1の電極21側(下方)へ向かった光は、第1の電極21等によって反射し、封止基板16の上方より出射する。一方、第2の電極22側(上方)へ向かった光は、そのまま第2の電極22を透過し、封止基板16の上方より出射する。封止基板16より出射する光は、カラーフィルタ層15を透過することにより、R、G、Bのサブ画素ごとの表示光として取り出される。このようにして、トップエミッション方式によるフルカラーの映像表示がなされる。
ところで、表示装置100の製造途中に、異物が混入するような場合が考えられる。図2、図3及び図4は、表示装置100に異物Pが混入した場合を模式的に示す図である。図3は、異物Pによる短絡が発生した場合を示している。なお、図2から図4では封止層17の図示を省略しているが、表示装置100は、例えば第2の電極22上の保護層14により凹凸の形状を被覆し平坦化させた状態として、異物がない場合と同様に封止層17を備えている。
図3を参照して、例えば表示装置100の製造時、抵抗層24上に異物Pが付着した場合には、有機層25のカバレッジを十分に得られないことがある。その場合、例えば、下部電極層20の金属層23と第2の電極22とが接触した状態、すなわち短絡部分Sとして示すようなアノード及びカソード間の短絡状態が生じる。図3に示す状態の表示装置100は、短絡部分Sを含んでいるため、画素全体として滅点となっている。
ここで、比較として、仮に下部電極層が第1の電極のみ(または、第1の電極及び抵抗層のみ)によって構成されていたとすれば、レーザリペアを行う場合に、例えば、第1の電極がレーザを吸収してカットされるはずである。しかしながら、第1の電極は、例えば、電気的特性等を考慮すると、0.1μm以上の厚さを有する必要がある。そのような厚さでは、リペア処理の際のレーザの照射によってカットされにくいことが問題となる。
図4に示すように、例えば表示装置100の製造時、金属層23上に異物Pが付着した場合にも、有機層25のカバレッジを十分に得られないこととなりやすい。その場合も、例えば、金属層23と第2の電極22との間の短絡部分Sとして示されるように、アノード及びカソード間の短絡状態が生じる。図4に示す状態の表示装置100は、短絡部分Sを含むことにより画素全体として滅点となっているが、図4の矢印Lで示すように、金属層23をレーザによりカットして、容易にリペア処理を行うことができる。金属層23のカットにより、短絡部分Sを含む領域とその他の領域とを絶縁することができるので、金属層23及び第2の電極22の間のリークを減らすことが容易であり、滅点の抑制が容易となる。
本発明者は、表示装置100における金属層23の、レーザリペアに適した厚さの範囲を検討するため、有機ELを利用した表示装置のアノードの膜厚を変えて、リペアできるか否かを実験により確認した。レーザは、それぞれ、照射した位置の周辺にダメージを及ぼさないレーザエネルギーで照射した。ここでいう、リペアができた場合とは、表示装置の画素がカソード及びアノード間の短絡により滅点となっている状態から、レーザ照射によって発光状態となった場合である。
図6は、本技術の第2の実施形態に係る発光デバイスとして、有機ELを利用した表示装置の断面を模式的に示す図である。図7は、図6において異物が混入した場合を模式的に示す図である。これ以降の説明では、上記第1の実施形態に係る表示装置200が含む部材や機能等について同様のものは説明を簡略化または省略し、異なる点を中心に説明する。
図8は、本技術の第3の実施形態に係る発光デバイスとして、有機ELを利用した表示装置の断面を模式的に示す図である。図9は、図8において異物が混入した場合を模式的に示す図である。
以下、上述した各実施形態で説明した、発光デバイスとしての表示装置の適用例について説明する。上記実施形態に係る表示装置は、テレビジョン装置、デジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置、あるいはビデオカメラなどの電子機器に適用され得る。この電子機器は、画像(静止画及び動画を含む)を取得し、その画像信号(映像信号ともいう)に応じてその表示装置を駆動する、あらゆる分野の電子機器に適用することが可能である。電子機器は、画像を外部から受信すること、及び、その画像を生成することでのうち少なくとも一方を行うことにより、画像を取得可能である。
上記実施形態に係る表示装置は、例えば、図10に示したようなモジュールとして、後述する適用例1〜5などの種々の電子機器に組み込まれる。符号110は、上記表示装置100による構成される表示領域である。このモジュールは、例えば、駆動基板10の一辺に、封止基板16から露出した領域210を有する。この領域210に、駆動回路(信号線駆動回路120及び走査線駆動回路130)の配線が延長されることで外部接続端子(図示せず)が形成される。外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板(FPC;Flexible Printed Circuit)220が設けられていてもよい。
図11は、電子機器としてテレビジョン装置の外観を表す。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル320およびフィルターガラス330を含む映像表示画面部300を有しており、この映像表示画面部310は、上記実施の形態に係る表示装置により構成されている。
図12は、電子機器としてデジタルカメラの外観を表す。このデジタルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部410、表示部420、メニュースイッチ430およびシャッターボタン440を有しており、その表示部420は、上記実施の形態に係る表示装置により構成されている。
図13は、電子機器としてノート型パーソナルコンピュータの外観を表す。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体510、文字等の入力操作のためのキーボード520および画像を表示する表示部530を有しており、その表示部530は、上記実施の形態に係る表示装置により構成されている。
図14は、電子機器としてビデオカメラの外観を表す。このビデオカメラは、例えば、本体部610、この本体部610の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ620,撮影時のスタート/ストップスイッチ630および表示部640を有しており、その表示部640は、上記実施の形態に係る表示装置により構成されている。
図15は、電子機器として携帯電話機の外観を表す。この携帯電話機は、例えば、上側筐体710と下側筐体720とを連結部(ヒンジ部)730で連結したものであり、ディスプレイ740、サブディスプレイ750、ピクチャーライト760およびカメラ770を有している。そのディスプレイ740またはサブディスプレイ750は、上記実施の形態に係る表示装置により構成されている。
本技術は、以上説明した実施形態に限定されず、他の種々の実施形態を実現することができる。
一方、図16に、金属層230を真空蒸着法により形成した点においてのみ図3と異なる、本技術の他の実施形態に係る発光デバイスとしての表示装置400に異物が混入した場合を示す。図16に示すように、例えば、抵抗層24上に異物があり、金属層230及び有機層25がいずれも真空蒸着法により形成された場合には、互いに同等または同等に近いカバレッジで成膜されるため、金属層230を有機層25によって被覆することができる。したがって、金属層230を真空蒸着法により形成すると、金属層230と第2の電極22との間を有機層25により絶縁してリークを減らすことができ、滅点を抑制することができる。さらに、たとえリーク電流が生じて滅点となったとしても、図16の矢印Lの箇所で金属層230にレーザリペア処理を行うことができ、図3等に示した実施形態と同様の効果が得られる。
も可能である。
(1)駆動基板と、
前記駆動基板上に設けられた第1の電極と、
前記第1の電極上に設けられ、前記第1の電極の比抵抗より大きい比抵抗を有する抵抗層と、
前記抵抗層上に設けられた領域を有する金属層と、
前記金属層の前記抵抗層上に設けられた領域上に少なくとも設けられた発光層と、
前記発光層上に設けられ、透光性を有する第2の電極と
を具備する発光デバイス。
(2)前記(1)に記載の発光デバイスであって、
前記金属層は、3nm以上50nm以下の厚さを有する
発光デバイス。
(3)前記(2)に記載の発光デバイスであって、
前記金属層は、3nm以上10nm以下の厚さを有する
発光デバイス。
(4)前記(1)から(3)のうちいずれか1つに記載の発光デバイスであって、
前記金属層は、マグネシウムと銀との合金、アルミニウム、カルシウムマグネシウムと銀との合金、またはカルシウムアルミニウムにより形成されている
発光デバイス。
(5)前記(1)から(4)のうちいずれか1つに記載の発光デバイスであって、
前記第2の電極は、ITO、IZO、またはZnOにより形成されている
発光デバイス。
(6)前記(1)から(5)のうちいずれか1つに記載の発光デバイスであって、
前記発光層と前記第2の電極との間に設けられ、前記第1の電極の比抵抗より大きい比抵抗を有する抵抗層をさらに具備する
発光デバイス。
(7)前記(1)から(6)のうちいずれか1つに記載の発光デバイスであって、
前記抵抗層は、0.1μm以上2μm以下の厚さを有する
発光デバイス。
(8)前記(1)から(7)のうちいずれか1つに記載の発光デバイスであって、
前記抵抗層の比抵抗は、1Ω・m以上1×105Ω・m以下である
発光デバイス。
(9)前記(1)から(8)のうちいずれか1つに記載の発光デバイスであって、
前記抵抗層は、酸化ニオブ、酸化チタン、酸化モリブデン、酸化タンタル、酸化ニオブと酸化チタンとの混合物、酸化チタンと酸化亜鉛との混合物、または酸化ケイ素と酸化錫の混合物により形成されている
発光デバイス。
(10)前記(1)から(5)のうちいずれか1つに記載の発光デバイスであって、
前記抵抗層は、絶縁材料により形成された第1の絶縁層であり、
前記金属層は、前記第1の電極上に設けられた領域をさらに有し、
前記発光デバイスは、前記金属層と前記発光層との間に設けられ、かつ、前記金属層の前記第1の電極上に設けられた領域に設けられた第2の絶縁層をさらに具備する
発光デバイス。
(11)
駆動基板上に第1の電極を形成し、
前記第1の電極上に、前記第1の電極の比抵抗より大きい比抵抗を有する抵抗層を形成し、
少なくとも前記抵抗層上に金属層を形成し、
前記金属層の、少なくとも前記抵抗層上に形成された領域上に発光層を形成し、
前記発光層上に、透光性を有する第2の電極を形成する
発光デバイスの製造方法。
(12)
駆動基板と、
前記駆動基板上に設けられた第1の電極と、
前記第1の電極上に設けられ、前記第1の電極の比抵抗より大きい比抵抗を有する抵抗層と、
前記抵抗層上に設けられた領域を有する金属層と、
前記金属層の前記抵抗層上に設けられた領域上に少なくとも設けられた発光層と、
前記発光層上に設けられ、透光性を有する第2の電極と、を含む発光デバイスと、
画像を取得し、取得した画像の画像信号に応じて前記発光デバイスを駆動する駆動回路と
を具備する電子機器。
11…基板
12…TFT層
13…平坦化層
21…第1の電極
22…第2の電極
23、230…金属層
24、26…抵抗層
25…有機層(発光層)
100、200、300、400…表示装置(発光デバイス)
120…信号線駆動回路
130…走査線駆動回路
240…第1の絶縁層
260…第2の絶縁層
Claims (12)
- 駆動基板と、
前記駆動基板上に設けられた第1の電極と、
前記第1の電極上に設けられ、前記第1の電極の比抵抗より大きい比抵抗を有する抵抗層と、
前記抵抗層上に設けられた領域を有する金属層と、
前記金属層の前記抵抗層上に設けられた領域上に少なくとも設けられた発光層と、
前記発光層上に設けられ、透光性を有する第2の電極と
を具備する発光デバイス。 - 請求項1に記載の発光デバイスであって、
前記金属層は、3nm以上50nm以下の厚さを有する
発光デバイス。 - 請求項2に記載の発光デバイスであって、
前記金属層は、3nm以上10nm以下の厚さを有する
発光デバイス。 - 請求項1に記載の発光デバイスであって、
前記金属層は、マグネシウムと銀との合金、アルミニウム、カルシウムマグネシウムと銀との合金、またはカルシウムアルミニウムにより形成されている
発光デバイス。 - 請求項1に記載の発光デバイスであって、
前記第2の電極は、ITO、IZO、またはZnOにより形成されている
発光デバイス。 - 請求項1に記載の発光デバイスであって、
前記発光層と前記第2の電極との間に設けられ、前記第1の電極の比抵抗より大きい比抵抗を有する抵抗層をさらに具備する
発光デバイス。 - 請求項1に記載の発光デバイスであって、
前記抵抗層は、0.1μm以上2μm以下の厚さを有する
発光デバイス。 - 請求項1に記載の発光デバイスであって、
前記抵抗層の比抵抗は、1Ω・m以上1×105Ω・m以下である
発光デバイス。 - 請求項1に記載の発光デバイスであって、
前記抵抗層は、酸化ニオブ、酸化チタン、酸化モリブデン、酸化タンタル、酸化ニオブと酸化チタンとの混合物、酸化チタンと酸化亜鉛との混合物、または酸化ケイ素と酸化錫の混合物により形成されている
発光デバイス。 - 請求項1に記載の発光デバイスであって、
前記抵抗層は、絶縁材料により形成された第1の絶縁層であり、
前記金属層は、前記第1の電極上に設けられた領域をさらに有し、
前記発光デバイスは、前記金属層と前記発光層との間に設けられ、かつ、前記金属層の前記第1の電極上に設けられた領域に設けられた第2の絶縁層をさらに具備する
発光デバイス。 - 駆動基板上に第1の電極を形成し、
前記第1の電極上に、前記第1の電極の比抵抗より大きい比抵抗を有する抵抗層を形成し、
少なくとも前記抵抗層上に金属層を形成し、
前記金属層の、少なくとも前記抵抗層上に形成された領域上に発光層を形成し、
前記発光層上に、透光性を有する第2の電極を形成する
発光デバイスの製造方法。 - 駆動基板と、
前記駆動基板上に設けられた第1の電極と、
前記第1の電極上に設けられ、前記第1の電極の比抵抗より大きい比抵抗を有する抵抗層と、
前記抵抗層上に設けられた領域を有する金属層と、
前記金属層の前記抵抗層上に設けられた領域上に少なくとも設けられた発光層と、
前記発光層上に設けられ、透光性を有する第2の電極と、を含む発光デバイスと、
画像を取得し、取得した画像の画像信号に応じて前記発光デバイスを駆動する駆動回路と
を具備する電子機器。
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