JP2013197655A - 高周波電力増幅器 - Google Patents
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Abstract
【課題】 平面構造のMMIC(Monolithic Microwave Integrated Circuit)では、高出力または高効率の電力増幅器を構成する上で、チップ面積が必要な電力分配合成回路、高調波処理回路、及びバイアス線路回路を配置する際に、回路面積が大型化してしまうという問題があった。
【解決手段】 複数のFETは、砒化ガリウム基板の平面上にFET(Field-Effect Transistor)及び当該FETの接続される導体パッドが形成された主基板と、上記主基板の導体パッドとバンプにより接合される導体パッドを有し、当該自基板の導体パッドに接続されるバイアス回路及び整合回路が形成され、上記主基板の上面にバンプにより接合される副基板と、を備えた高周波電力増幅器。
【選択図】 図1
【解決手段】 複数のFETは、砒化ガリウム基板の平面上にFET(Field-Effect Transistor)及び当該FETの接続される導体パッドが形成された主基板と、上記主基板の導体パッドとバンプにより接合される導体パッドを有し、当該自基板の導体パッドに接続されるバイアス回路及び整合回路が形成され、上記主基板の上面にバンプにより接合される副基板と、を備えた高周波電力増幅器。
【選択図】 図1
Description
本発明は、マイクロ波またはミリ波帯の高周波信号を電力増幅する高周波電力増幅器に関する。
従来のMMIC(Monolithic Microwave Integrated Circuit;モノリシックマイクロ波集積回路)は、砒化ガリウム基板の平面上にFET(Field-Effect Transistor;電界効果トランジスタ)及び整合回路等が形成されて、電力増幅器が構成されている(例えば特許文献1参照)。
一方、半導体基板上に接地金属膜と絶縁膜が交互に積層され、第1の絶縁膜層に第1のストリップ線路が構成され、第2の絶縁膜層に第2のストリップ線路が構成された多層構造のMMICが知られている(例えば特許文献2参照)。
しかしながら、従来の特許文献1に示されるような平面構造のMMICでは、高出力または高効率の電力増幅器を構成する上で、チップ面積が必要な電力分配合成回路、高調波処理回路、及びバイアス線路回路を配置する際に、回路面積が大型化してしまうという問題があった。
また、特許文献2に示されるような多層構造のMMICは、平面構造のMMICに比べて回路面積が小さくなる。しかし、接地金属膜と絶縁膜が交互に積層されるため、実効比誘電率が高くなることによりトリプレート線路幅が狭くなり、損失が増加するという問題があった。また、多層構造のMMICを製造するには、特許文献1で用いられるような従来の一般的なプロセスとは別の特殊なプロセスを用いる必要があり、プロセスコストが高く付くという問題があった。
本発明は係る課題を解決するためになされたものであり、平面配置の集積回路に比べて回路面積を小さくするとともに、安価なプロセスで形成される高周波電力増幅器を得ることを目的とする。
本発明による高周波電力増幅器は、複数の半導体増幅素子及び当該半導体増幅素子の接続される導体パッドが形成された主基板と、上記主基板の導体パッドとバンプにより接合される導体パッドを有し、当該自基板の導体パッドに接続されるバイアス回路及び整合回路が形成され、上記主基板の上面にバンプにより接合される副基板と、を備えたものである。
本発明によれば、平面配置の集積回路に比べて回路面積を小さくなるとともに、安価なプロセスで形成される高周波電力増幅器を得ることができる。
実施の形態1.
図1は、この発明に係る実施の形態1による高周波電力増幅器の構成を示す側面図である。図2は、実施の形態1による高周波電力増幅器の構成を示す平面図であり、(a)は主基板1の上面図(図1の紙面上方から主基板1の上面を見た図)、(b)は副基板2の配線パターンを示した上面透視図(図1の紙面上方から副基板2の下面を透視した図)である。なお、副基板2の裏面から見た図は回路パターンが左右逆転し、図2(a)との接続関係の対比が視認し難くなるので、副基板2の上面から見て、裏面の回路パターンを透視した図を図2(b)に記述している。
図1は、この発明に係る実施の形態1による高周波電力増幅器の構成を示す側面図である。図2は、実施の形態1による高周波電力増幅器の構成を示す平面図であり、(a)は主基板1の上面図(図1の紙面上方から主基板1の上面を見た図)、(b)は副基板2の配線パターンを示した上面透視図(図1の紙面上方から副基板2の下面を透視した図)である。なお、副基板2の裏面から見た図は回路パターンが左右逆転し、図2(a)との接続関係の対比が視認し難くなるので、副基板2の上面から見て、裏面の回路パターンを透視した図を図2(b)に記述している。
図1、2において、実施の形態1による高周波電力増幅器500は、主基板1と、主基板1上に積層された副基板2とを備えて構成される。主基板1及び副基板2は、電子回路が形成されたMMIC(Monolithic Microwave Integrated Circuit;モノリシックマイクロ波集積回路)を構成している。副基板2は、導電性のバンプ3により主基板1に接合されて、主基板1の上にフリップチップ実装される。バンプ3は、例えばはんだボールや金バンプ、もしくは炭素材料やその他の導電性材料からなり、マイクロ波またはミリ波帯の高周波のRF(Radio Frequency)信号を伝送する導電性接続部材を構成する。
副基板2は、例えば図2(a)に示す長方形の点線Aに外形線が沿う位置で、主基板1の上に配置される。主基板1は、キャリアとして設けられた金属板100上に配置され、金属板100の上面にろう付けで接合される。また、主基板1に隣接して外部基板200が配置される。外部基板200は、セラミックスや砒化ガリウムまたは窒化ガリウム等の誘電体201からなる。誘電体201における上側の表面は、複数の導体パッド202が形成されている。外部基板200は、主基板1の周辺に1つもしくは複数個配置されても良い。また、外部基板200が図示しない蓋体とともにパッケージを構成して、当該パッケージ内に主基板1が収容されても良い。
主基板1は、砒化ガリウムまたは窒化ガリウムから成形される誘電体30からなる。誘電体30における上側の表面は、複数の導体パッド6,7,8,9,301が形成されている。また、誘電体30における下側の表面(裏面)は、接地導体層32が形成されているベタの接地導体面となる。導体パッド301と接地導体層32は、導体ビア33で接続されている。主基板1の複数の導体パッド6,7,8,9は、外部基板200の複数の導体パッド202に導体ワイヤ300を介在して接続されている。なお、金属板100は、誘電体30との線膨張係数差の小さい例えば鉄ニッケルコバルト合金からなる。
副基板2は、砒化ガリウムまたは窒化ガリウムから成形される誘電体20からなる。誘電体20における上側の表面は接地導体層22が形成されており、副基板2の上面はこの接地導体層22で覆われたベタの接地導体面となる。誘電体20における下側の表面(裏面)は、複数の導体パッド10,302が形成されている。導体パッド302と接地導体層22は、導体ビア23で接続されている。副基板2の複数の導体パッド10,302は、それぞれバンプ3を介在して複数の導体パッド9,301に接続される。この導体パッド10,302及び導体パッド9,301を小さくするには、バンプ3として、例えば直径50μm〜100μm程度の小径サイズのものを用いると良い。
主基板1は、上面にマイクロ波またはミリ波帯の高周波のRF信号を伝送する主線路5が形成されている。主線路5は、RF信号を伝送する他、分配回路や合成回路を構成している。また、主基板1上面の長辺側の端縁には、外部基板200との間で、マイクロ波またはミリ波帯の高周波のRF信号を入力もしくは出力するための、入力パッド6及び出力パッド7が配置される。この入力パッド6及び出力パッド7は何れも、グランド用端子(G)、信号用端子(S)、グランド用端子(G)の順に並置された3つの端子からなる。
また、主基板1上面における1対の短辺の中点同士を結ぶ線上もしくはその周辺に、1段もしくは複数段に横に配置されて、段毎に縦に並べて配置された複数の能動素子(半導体増幅素子)である、FET(Field-Effect Transistor;電界効果トランジスタ)4が形成されている。FET4は電子回路を構成する。FET4は、入力パッド6と出力パッド7の間に、主線路5を介して並列に接続されている。図2の例では、入力パッド6は2つに分配された主線路5に接続されて、2つのFET4の前段(ゲート側)にそれぞれ接続されている。また、この2つのFET4の後段(ドレイン側)は更に2つの主線路5に分配されて、全部で4つのFET4の前段(ゲート側)にそれぞれ接続されている。この4つのFET4の後段(ドレイン側)は、4つの主線路5が1つに合成されて、出力パッド7に接続される。また、主基板1上の導体パッド8は、導体ワイヤ300がワイヤボンディングされて、外部基板200の導体パッド202に接続される。この導体パッド8は、主基板1上の導体パッド9に接続される。主基板1上において、FET4は基板の上下で対称形状になるように配置されている。
導体パッド9は、上記の通り、バンプ3を介して副基板2上の導体パッド10に接続される。副基板2上の複数の導体パッド10は、それぞれラジアルスタブ11やバイアス線路12、整合回路14等に接続される。ラジアルスタブ11は、基本波のλ/4(以下、λは入力パッド6に入力されるRF信号の基板内伝搬波長を示す)線路で開放端をなしたオープンスタブを構成しており、マイクロ波またはミリ波帯の高周波のRF信号を短絡する。バイアス線路12は、主基板1上のFET4のゲートもしくはドレインに、バイアス電源を供給するとともに、共振回路を構成してFET4からバイアス電源側への信号の漏出を抑制する。整合回路14はFET4及びバイアス線路12のインピーダンスの整合を取る。このように、副基板2は、高周波処理を行う受動素子を有した電子回路を構成している。
副基板2上の導体パッド10は、バイアス線路12を介して他の導体パッド10に接続され、他の導体パッド10はバンプ3を介して再び主基板1上の導体パッド9に接続される。このように、副基板2上の導体パッド10がバンプ3により主基板1上の導体パッド9に接続されているので、主基板1上に形成されたFET4及び主線路5と、副基板2上に形成されたラジアルスタブ11及びバイアス線路12、整合回路14とが、バンプ9を介して相互に接続されることとなる。なお、副基板2は、インピーダンス特性や回路定数等の偏りを防ぐため、ラジアルスタブ11及びバイアス線路12、整合回路14について、図2に示すように基板の上下(紙面上下)で線対称形状になるように配置されている。
図3は、主基板1上のFET4と副基板2上のバイアス線路12、整合回路14との接続形態について、更に詳しく説明するための高周波電力増幅器500の構成例を示す部分平面図である。図3において、図中の符号を除いて図2と同じ図を用いており、(a)は図2(a)上半分部における主基板1の部分上面図、(b)は図2(b)上半分部における副基板2の配線パターンを示した部分上面透視図である。また、図3(a)のFET4と、図3(b)のバイアス線路12の接続関係に限って説明を行うため、FET4、主線路5、導体パッド8,9,10及びバイアス線路12、整合回路14には、個々を識別するための符号41,42,51,52,53,54,81,82,83,84,90,91,92,93,94,95,96,97,98,99,101,102,103,104,105,106,107,108,109,110,120,121,122,123,131,132,133,134,135,136,141,142を記載している。ここで、符号41,42はFET4に対応し、符号51,52,53,54は主線路5に対応する。符号81,82,83,84は外部基板200に接続される導体パッド8に対応する。符号90,91,92,93,94,95,96,97,98,99はバンプ3の接続される導体パッド9に対応し、符号101,102,103,104,105,106,107,108,109,110はバンプ3の接続される導体パッド10に対応する。符号120,121,122,123はバイアス線路12に対応する。また、符合141,142は整合回路14を構成する線路を示す。符号131,132,133,134,135,136はチップ型のコンデンサを示している。コンデンサ131,132,133,134,135及び136は、図示しない導体ビアを介して接地導体層22に接続され、接地されている。
ここで主基板1において、前段のFET41へのゲート電源が印加される導体パッド81は導体パッド91に接続され、前段のFET41へのドレイン電源が印加される導体パッド82は導体パッド94に接続される。また、後段のFET42へのゲート電源が印加される導体パッド83は導体パッド95に接続され、後段のFET42へのドレイン電源が印加される導体パッド84は導体パッド98に接続される。
また、入力パッド6から2つに分配される主線路51は、導体パッド92に接続され、前段のFET41のゲート端子に接続される。導体パッド93は主線路52に接続され、前段のFET41のドレイン端子に接続される。主線路52は2つの主線路53に分配される。導体パッド96は一方の主線路53に接続され、後段の一方のFET42のゲート端子に接続される。また、導体パッド99は他方の主線路53に接続され、後段の他方のFET42のゲート端子に接続される。
2つの主線路54は主線路55に結合されて、出力パッド7に接続される。導体パッド97は一方の主線路54に接続され、主線路54は後段の一方のFET42のドレイン端子に接続される。導体パッド90は他方の主線路54に接続され、主線路54は後段の他方のFET42のドレイン端子に接続される。
主基板1の導体パッド90,91,92,93,94,95,96,97,98,99は、バンプ3を介して、副基板2の導体パッド110,101,102,108,103,104,105,106,107,109にそれぞれ接続される。
副基板2において、導体パッド101はバイアス線路120に接続されて、導体パッド102に接続される。導体パッド103はバイアス線路121に接続されて、導体パッド108に接続される。導体パッド108はラジアルスタブ11に接続される。導体パッド104はバイアス線路122に接続されて、導体パッド105に接続される。また、バイアス線路122は並列に、接地されたコンデンサ131に接続される。導体パッド109は線路142に接続されて、コンデンサ134に接続される。導体パッド106はバイアス線路123に接続されて、導体パッド107に接続される。また、バイアス線路123は並列に、接地されたコンデンサ132とフィルタ135に接続される。導体パッド110はバイアス線路141に接続されて、並列配置される接地されたコンデンサ133及びフィルタ136にそれぞれ接続される。
このとき、バイアス線路120は、前段のFET41のゲート電源に対するバイアス回路として作用する。バイアス線路121及びラジアルスタブ11は、前段のFET41のドレイン電源に対するバイアス回路として作用するとともに、インピーダンス整合回路として作用する。またラジアルスタブ11は、FET41のバイアス用オープンスタブとして作用する。バイアス線路122及びコンデンサ131は、後段のFET42のゲート電源に対するバイアス回路として作用するとともに、インピーダンス整合回路として作用する。
また、バイアス線路123及びコンデンサ132、135は、後段のFET42のドレイン電源に対するバイアス回路、及びインピーダンス整合回路として作用するとともに、例えば入力パッド6に入力されるRF信号の2倍波(高調波)の漏洩を抑制するフィルタ回路として作用する。また、線路142及びコンデンサ134は、後段のFET42における前段(ゲート側)のインピーダンス整合回路として作用する。線路141及びコンデンサ133、136は、後段のFET42における後段(ドレイン側)のインピーダンス整合回路として作用するとともに、例えば入力パッド6に入力されるRF信号の2倍波(高調波)の漏洩を抑制するフィルタ回路として作用する。また、バイアス線路123、線路141は、バイアス用λ/4ショートスタブ線路として作用する。
なお、図2、図3に示す副基板2において、並列に配置された4つのFET4にそれぞれ対応して、2つのバイアス線路12及び2つの整合回路14が設けられている。このバイアス線路12及び整合回路14は、FET4の配列方向に、副基板2上で所定の回路実装面積を占有する。
実施の形態1による高周波電力増幅器500は以上のように構成され、次のように動作する。
主基板1上の入力パッド6から入力された高周波のRF信号は、導体パッド8から印加されるバイアス電源により、FET41及びFET42でそれぞれ増幅されて、出力パッド7から増幅された高周波のRF信号が出力される。
また、主基板1上を伝送される高周波のRF信号の一部は、バンプ3を介して導体パッド9から導体パッド10に伝送され、副基板2上に構成されるバイアス回路及びフィルタ回路によって高周波信号処理がなされる。
主基板1上の入力パッド6から入力された高周波のRF信号は、導体パッド8から印加されるバイアス電源により、FET41及びFET42でそれぞれ増幅されて、出力パッド7から増幅された高周波のRF信号が出力される。
また、主基板1上を伝送される高周波のRF信号の一部は、バンプ3を介して導体パッド9から導体パッド10に伝送され、副基板2上に構成されるバイアス回路及びフィルタ回路によって高周波信号処理がなされる。
導体パッド8には、導体ワイヤ300を介して外部基板200からバイアス電源が供給される。また、入力パッド6は、他の導体ワイヤ300を介して外部基板200から高周波のRF信号が供給される。出力パッド7は、高周波のRF信号を別の導体ワイヤ300を介して外部基板200に伝送する。
ここで、実施の形態1の高周波電力増幅器500は、主基板1と同じ面積のMMICにおいて、約2倍の電子回路を実装することができる。また、主基板1に副基板2をフリップ実装し多層化することによって、FET4の直近にバイアス回路やフィルタ回路を構成する多くの素子を装荷することができる。これによって、高出力または高効率の高周波電力増幅器を構成することが可能となる。
また、主基板1を窒化ガリウムで形成し、副基板2を砒化ガリウムで形成して、主基板1と副基板2を別材料からなる基板で構成しても良い。これにより、例えば材料価格の高い窒化ガリウムの主基板1上に耐電圧の高いFETを形成した場合であっても、副基板2を材料価格のより安い砒化ガリウムで構成することができるので、基板全体を窒化ガリウムで構成する場合に比べて、より安価に高周波電力増幅器を構成することができる。
以上説明した通り、実施の形態1による高周波電力増幅器500は、複数の半導体増幅素子(FET4)及び当該半導体増幅素子(FET4)の接続される導体パッド9が形成された主基板1と、上記主基板1の導体パッド9とバンプ3により接合される導体パッド10を有し、当該自基板の導体パッド10に接続されるバイアス回路(バイアス線路12)及び整合回路14が形成され、上記主基板1の上面に複数のバンプ3により接合される副基板2と、を備えて構成される。また、上記半導体増幅素子(FET4)は主基板1上で複数並列に配置され、上記バイアス回路(バイアス線路12)及び整合回路14は、上記副基板2上で、上記半導体増幅素子(FET4)の配列方向に複数配列される。また、上記副基板2はスタブ(ラジアルスタブ11)または高調波のフィルタ回路(バイアス線路122,123、線路142,141、フィルタ135,136)が形成されても良い。また、上記主基板1は窒化ガリウムから成り、上記副基板2は上記主基板1と異なる材料として、例えば砒化ガリウムからなるようにしても良い。
このように実施の形態1の高周波電力増幅器500は、受動素子で回路が形成されたMMICをなす副基板を、複数の増幅器の形成されたMMICをなす主基板にフリップチップ実装することで、回路の多層化により高周波電力増幅器全体を小型化することができる。また、フリップチップ実装する副基板の枚数及び材料に制約がないので、砒化ガリウムのような安価な基板を副基板に採用することで、高周波電力増幅器全体を低価格化することができる。
1 主基板、2 副基板、3 バンプ、4 FET、6 入力パッド、7 出力パッド、8 導体パッド、9 導体パッド、10 導体パッド、11 ラジアルスタブ、12 バイアス線路、14 整合回路、100 キャリア、200 外部基板、500 高周波電力増幅器。
Claims (4)
- 複数の半導体増幅素子及び当該半導体増幅素子の接続される導体パッドが形成された主基板と、
上記主基板の導体パッドとバンプにより接合される導体パッドを有し、当該自基板の導体パッドに接続されるバイアス回路及び整合回路が形成され、上記主基板の上面にバンプにより接合される副基板と、
を備えた高周波電力増幅器。 - 上記半導体増幅素子は主基板上で複数並列に配置され、
上記バイアス回路及び整合回路は、上記副基板上で、上記半導体増幅素子の配列方向に複数配列されることを特徴とした請求項1記載の高周波電力増幅器。 - 上記副基板はスタブまたは高調波のフィルタ回路が形成されたことを特徴とする請求項1記載の高周波電力増幅器。
- 上記主基板は窒化ガリウムから成り、上記副基板は上記主基板と異なる材料からなることを特徴とする請求項1記載の高周波電力増幅器。
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US11881464B2 (en) | 2020-04-03 | 2024-01-23 | Wolfspeed, Inc. | Stacked RF circuit topology using transistor die with through silicon carbide vias on gate and/or drain |
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