JP2013197581A - リフロー検査システム及びその制御方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】リフロー検査過程の視認性が改善された信頼性のあるイメージ情報を用いて、対象のリフロー性能を容易に検査することができるリフロー検査システム及びその制御方法を提供する。
【解決手段】本発明のリフロー検査システム100は、オーブン110と、オーブン110の内部でリフロー検査対象200を載置し、一側にリフロー検査対象200の温度を検知するための温度検知センサ131を備えるステージ130と、オーブン110の一側からリフロー検査対象200に光を照射する光源部120と、リフロー検査対象200から発生する煙を吸気し、リフロー検査対象200のイメージ情報を獲得して外部に伝達する撮像部140と、撮像部140により獲得されたイメージ情報を処理する映像処理部140−2と、ステージ130、温度検知センサ131、及び映像処理部140−2に連結され、リフロー検査過程の制御を行う制御部160と、を含むものである。
【選択図】図1
【解決手段】本発明のリフロー検査システム100は、オーブン110と、オーブン110の内部でリフロー検査対象200を載置し、一側にリフロー検査対象200の温度を検知するための温度検知センサ131を備えるステージ130と、オーブン110の一側からリフロー検査対象200に光を照射する光源部120と、リフロー検査対象200から発生する煙を吸気し、リフロー検査対象200のイメージ情報を獲得して外部に伝達する撮像部140と、撮像部140により獲得されたイメージ情報を処理する映像処理部140−2と、ステージ130、温度検知センサ131、及び映像処理部140−2に連結され、リフロー検査過程の制御を行う制御部160と、を含むものである。
【選択図】図1
Description
本発明は、リフロー検査システム及びその制御方法に関する。
電子産業の発達により、速い処理速度及び高い集積度を有する半導体装置が求められており、これに伴い、サブミクロン単位の素子サイズを有する回路製品の生産が求められている。このような要求に応じて、リソグラフィ技術分野でも高い解像度を有する露光装置と光に敏感なフォトレジスト組成物に関する技術開発がなされている。特に、最小フィーチャサイズを有する構造に対するパターンの寸法精度を高める努力がなされている。
高集積半導体素子を製造するためには、エッチング及びイオン注入工程のマスクとして用いられるフォトレジストパターンをより精度よく、微細に形成する必要がある。このためには、光に敏感なフォトレジストが必要となるが、敏感なフォトレジストを用いる場合、複雑な工程が付加されるという欠点がある。
露光装置の光源の波長は、得られる最小解像度と直接的な関連がある。例えば、既存のG−ライン(λ=435nm)露光装置は、約0.5μmの解像限界を有し、I−ライン(λ=365nm)露光装置は、約0.3μmの解像限界を有する。また、0.15μm程度のCD(critical dimension)を実現するために、KrF(λ=248nm)の光源を用いたり、または0.13μm以下の素子を製造するために、ArF(λ=193nm)に関する研究が進められている。
しかし、最近の素子デザインルールは、前記解像限界より減少すると予想されるため、現在の露光装置の限界を克服できる技術の開発が要求されている。
特に、微細なCDを有するパターン、または素子のセルアレイ領域で高いアスペクト比を有する微細なコンタクトホールを含む高集積素子を製造する場合において、現在の露光装置の解像限界を克服するための様々な工程技術が開発されている。
このような工程技術の例として、特許文献1に記載されたフォトレジストリフロー(reflow)技術、及び特許文献2に記載された半田ペーストリフロー技術を含むリフロー技術が挙げられる。
まず、レジストリフロー技術は、微細パターンを形成するフォトレジストを加熱して流動されるようにして、即ち、リフローして、所望のCDを有するラインアンドスペース(line and space、L/S)または所望のサイズのコンタクトホールを形成する方法である。
前記レジストリフロー技術を、詳細に説明すると、次の通りである。
最終L/SパターンのCDまたはコンタクトホールを、所望のサイズより大きく初期フォトレジストパターンを形成する。前記所望のサイズは、用いる露光装置の解像限界より小さいことが一般的である。次に、前記初期フォトレジストパターンをフォトレジストのガラス転移温度(glass transition temperature、Tg)以上の温度に加熱して、前記フォトレジストパターンのフォトレジストを流動、即ち、リフロー(reflow)されるようにする。即ち、前記加熱によって前記フォトレジストの粘度が減少することにより、フォトレジストがリフローするようになって、L/SパターンのCDまたはコンタクトホールの開口サイズが減少する。これにより、所望の微細パターンが得られる。
次に、半田ペーストリフロー技術は、半導体チップや抵抗チップなどの様々な形態の小型電子部品が基板に実装(surface mounting)されるように溶融状態の半田ペースト(solder phaste)が一定のパターンで塗布され、高温伝達によって小型電子部品を基板に接着する。
このような半田ペーストの塗布過程は、例えば、スクリーン印刷機(screen printer)という半田ペースト塗布装置によって行われる。前記スクリーン印刷機は、特定パターンの開口部が形成された金属マスク(metal mask)上に供給された半田ペーストをスキージ(squeegee)で圧着してプリント回路基板の部品装着部に塗布する。
即ち、従来の半田ペースト塗布構造は、表面実装型プリント回路基板に一定のパターン及び一定量の半田ペーストを塗布するために、スリットまたは孔が加工された半田マスクを用いて所定位置に半田ペーストを塗布する構造である。このため、前記半田マスク上に一定量の半田ペーストを供給した後、ゴム材質のスキージを用いて掻き取ることにより、前記半田マスクのスリットまたは孔に半田ペーストが浸透してプリント回路基板上の銅箔に半田ペーストパターンが形成される。
その後、前記回路基板からマスクを分離した後、窒素雰囲気下で温度を上昇させて半田ペーストリフローを行うと、前記半田ペーストが半球型の半田バンプに形成される。
次に、半導体チップや抵抗チップなどの様々な形態の小型電子部品が、半田バンプを介して基板に実装される。
このようなリフロー技術は、共融点(Eutectic point)及び共融点近傍での濡れ性などのフォトレジストまたは半田ペーストの特性を微細パターンまたはバンプの形成条件と状態に直結される最も重要な要素として有する。
しかし、フォトレジストまたは半田ペーストのリフロー過程で瞬間的に発生する溶融現象、フォトレジストまたは半田ペーストの表面及び界面での変化を測定できる装置は、殆どない。また、半田ペーストとともに有機溶媒、有機接着剤などが混合された場合、加熱時に発生する煙(Smoke)によって視認性を確保することが困難となるため、リアルタイムでフォトレジストまたは半田ペーストの性能を検査することは殆ど不可能である。
上記の問題点を解消するための本発明の課題は、リフロー過程で発生する煙を除去しながら、リフロー性能を検査するリフロー検査システムを提供することにある。
上記の問題点を解消するための本発明の他の課題は、リフロー過程で発生する煙を除去しながら、リフロー性能を検査するリフロー検査システムの制御方法を提供することにある。
本発明の一実施例によるリフロー検査システムは、オーブンと、前記オーブンの内部でリフロー検査対象を載置し、一側に前記リフロー検査対象の温度を検知するための温度検知センサを備えるステージと、前記オーブンの一側から前記リフロー検査対象に光を照射する光源部と、前記リフロー検査対象から発生する煙を吸気し、前記リフロー検査対象のイメージ情報を獲得して外部に伝達する撮像部と、前記撮像部により獲得されたイメージ情報を処理する映像処理部と、ステージ、温度検知センサ、及び映像処理部に連結され、リフロー検査過程の制御を行う制御部と、を含む。
本発明の一実施例によるリフロー検査システムにおいて、前記オーブンは、前記リフロー検査対象を加熱するリフローガスが引き込まれる引き込み口と、リフロー処理後のガスを排出する排出口と、を多数備える。
本発明の一実施例によるリフロー検査システムにおいて、前記撮像部は、レンズが備えられた開口部を介して入射された光を光ファイバを介して前記映像処理部に伝達するカメラ部と、前記開口部に隣接した領域に突出状に備えられ、外部で前記制御部と連結された吸気ポンプに連結された吸気チューブと、を含む。
本発明の一実施例によるリフロー検査システムにおいて、前記吸気チューブは、前記レンズが有する焦点距離より短い長さに突出され、前記吸気チューブの端部は突出方向に対して所定の鋭角を有する傾斜した切断面を有する。
本発明の一実施例によるリフロー検査システムにおいて、前記制御部は、前記映像処理部から受信したイメージ情報の明度に応じて、前記吸気ポンプの動作を制御する。
本発明の一実施例によるリフロー検査システムにおいて、前記制御部は、温度検知センサ及び映像処理部に連結され、リアルタイムで前記リフロー検査対象のリフロー検査情報を受信する。
また、本発明の他の実施例によるリフロー検査システムの制御方法は、リフロー検査対象をオーブン内のステージに載置する段階と、リフロー性能検査のためのリフロー工程条件に応じて前記リフロー検査対象をリフローする段階と、制御部が前記リフロー検査対象の情報をリアルタイムで検出する段階と、検出された前記リフロー検査対象の情報がリフロー性能を検査することができる良好な情報であるか否かを、前記制御部により判断する段階と、前記判断段階の結果に応じて、前記リフロー検査対象から発生する煙を吸気しながら、前記リフロー検査対象の情報をさらにリアルタイムで最終検出する段階と、前記最終検出された前記リフロー検査対象の情報を用いて、前記リフロー検査対象のリフロー性能を検査する段階と、を含む。
本発明の他の実施例によるリフロー検査システムの制御方法において、前記リフロー検査対象の情報をリアルタイムで検出する段階は、レンズが備えられた開口部を介して入射された光を光ファイバを介して映像処理部に伝達するカメラ部と、前記開口部に隣接した領域に突出状に備えられ、外部で前記制御部と連結された吸気ポンプに連結された吸気チューブを含む撮像部と、前記ステージの一側に備えられた温度検知センサと、を用いて、前記リフロー検査対象のイメージ情報及び温度情報をリアルタイムで検出する。
本発明の他の実施例によるリフロー検査システムの制御方法において、前記リフロー性能を検査することができる良好な情報であるか否かを判断する段階は、前記制御部が、前記映像処理部によってリアルタイムで検出された前記リフロー検査対象のイメージの明度が前記リフロー検査対象の初期イメージの明度より低いか否かを判断する。
本発明の他の実施例によるリフロー検査システムの制御方法において、前記リフロー検査対象の情報をさらにリアルタイムで最終検出する段階は、前記吸気チューブの端部に形成された傾斜した切断面を介して、前記リフロー検査対象から発生する煙を吸気する段階を含む。
本発明の他の実施例によるリフロー検査システムの制御方法において、前記リフロー性能を検査する段階は、前記最終検出された前記リフロー検査対象の情報に含まれたイメージ情報から接触幅(D)と接触角(θ)を検出する段階を含む。
本発明によるリフロー検査システムは、対象のリフロー性能を検査する過程で発生する煙を除去して視認性を改善するため、リフロー性能を検査することができるイメージ情報を容易に獲得することができるという効果がある。
本発明によるリフロー検査システムの制御方法は、リフロー検査過程の視認性が改善された信頼性のあるイメージ情報を用いて、対象のリフロー性能を容易に検査することができるという効果がある。
本発明の目的、特定の長所及び新規の特徴は、添付図面に係る以下の詳細な説明及び好ましい実施例によってさらに明らかになるであろう。本明細書において、各図面の構成要素に参照番号を付け加えるに際し、同一の構成要素に限っては、たとえ異なる図面に示されても、できるだけ同一の番号を付けるようにしていることに留意しなければならない。また、「一面」、「他面」、「第1」、「第2」などの用語は、一つの構成要素を他の構成要素から区別するために用いられるものであり、構成要素が前記用語によって限定されるものではない。以下、本発明を説明するにあたり、本発明の要旨を不明瞭にする可能性がある係る公知技術についての詳細な説明は省略する。
以下、添付図面を参照して、本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。
図1は、本発明の一実施例によるリフロー検査システムの構成を概略的に図示した図面であり、図2は、図1の撮像部を拡大して図示した拡大図である。
図1に図示されたように、本発明の一実施例によるリフロー検査システム100は、オーブン110と、オーブン110の内部でリフロー検査対象200を載置し、一側にリフロー検査対象200の温度を検知するための温度検知センサ131を備えたステージ130と、オーブン110の一側からリフロー検査対象200に光を照射する光源部120と、前記光源部120に対応して備えられ、リフロー検査対象200のイメージ情報を獲得して外部に伝達する撮像部140と、撮像部140により獲得されたイメージ情報を処理する映像処理部140−2と、ステージ130、温度検知センサ131、映像処理部140−2及び吸気ポンプ150の調整弁などに連結され、全体的な制御を行う制御部160と、を含む。
ここで、リフロー検査対象200は、リフロー工程が適用される電子部品の試料をその対象とし、例えば、リフロー工程前に基板上にフォトレジストまたは半田ペーストなどを形成した状態の試料を対象とすることができる。
オーブン110は、検査条件に応じてリフロー検査対象200を加熱するリフローガスが引き込まれる引き込み口と、リフロー処理後のガスを排出する排出口と、を多数備える。ここで、オーブン110に引き込まれるリフローガスは、検査条件に応じてリフロー検査対象200を加熱するために所定温度に予熱されて引き込まれる非活性ガス、例えば、窒素ガス、アルゴンガスなどを用いることができる。
勿論、オーブン110は、リフローガスを用いず、その内部にヒータなどの熱源を備えてリフロー検査対象200を加熱することもできる。
ステージ130は、オーブン110内でリフロー検査対象200を上部面に載置するための金属板132と、一側にリフロー検査対象200の温度を検知するために備えられる温度検知センサ131と、を含む。このようなステージ130は、制御部160の制御により、例えば電動モータなどを用いてX−Y−Z軸に沿って移動することができるため、リフロー検査対象200を容易に撮像できる位置に移動することができる。
また、温度検知センサ131は、ステージ130の一側で金属板132に接触して、金属板132に沿って熱伝導されたリフロー検査対象200の温度をリアルタイムで検知することができる。リフロー検査対象200の温度をより正確に検知するために、温度検知センサ131は、リフロー検査対象200の基板に接触して、熱伝導現象によってフォトレジストまたは半田ペーストの溶融温度を検知することができる。
撮像部140は、オーブン110の内部でリフロー検査対象200が載置されたステージ130を中心に一側に備えられた光源部120に対応して装着され、外部の映像処理部140−2と吸気ポンプ150に連結される。
具体的には、撮像部140は、図2に図示されたように、超小型カメラ構造を有しており、レンズが備えられた開口部141−1を有する超小型カメラ部141と、開口部141−1に隣接した領域に突出状に備えられ、吸気ポンプ150に連結された吸気チューブ142と、を含む。
このような撮像部140は、開口部141−1のレンズを介して入射された光を光ファイバを介して映像処理部140−2に伝達し、選択的に、開口部141−1に隣接した他の領域に別の光源を備えてリフロー検査対象200に光を照射することもできる。
また、撮像部140は、開口部141−1に隣接して外部に所定長さに突出された吸気チューブ142を備え、制御部160の制御により、リフロー検査対象200に対するリフロー検査過程で発生する煙を、吸気チューブ142を介して吸気する。
これにより、撮像部140は、吸気チューブ142を介して煙を除去することによって、リフロー検査対象200のリフロー過程での視認性を改善することができ、開口部141−1のレンズを介してリフロー検査対象200のイメージ情報(図4A参照)を獲得して外部の映像処理部140−2に伝達する。
特に、吸気チューブ142は、開口部141−1のレンズが有する焦点距離より短い長さで突出されており、その端部の形態は、煙の除去を容易に行うために突出方向に所定の鋭角を有する傾斜した切断面142−2に形成される。このような吸気チューブ142の切断面142−2は、開口部141−1を基準として上、下、左、右に位置してリフロー検査対象200に近接して、リフロー検査過程で発生するリフロー検査対象200の煙を吸気する。
制御部160は、リフロー検査システム100の全体的な制御を行うものであり、特に、ステージ130、温度検知センサ131、映像処理部140−2及び吸気ポンプ150の調整弁などに連結されてリフロー検査過程の制御を行う。
特に、制御部160は、映像処理部140−2から伝達されたイメージ情報が、煙などに隠れてリフロー検査を行うことができないエラーイメージ情報(図4B参照)であると判断されると、吸気ポンプ150を駆動して吸気チューブ142を介して煙を吸気除去する。
このように構成された本発明の一実施例によるリフロー検査システム100は、吸気チューブ142を用いて、リフロー検査対象200で発生する煙が、リフロー検査対象200に対するイメージ撮像を妨害することを防止する。
従って、本発明の一実施例によるリフロー検査システム100は、リフロー過程で発生する煙を除去しながら、リフロー検査対象200のリフロー性能を容易に検査することができる。
以下、本発明の他の実施例によるリフロー検査システム100の制御方法について、図3から図5を参照して説明する。
図3は、本発明の他の実施例によるリフロー検査システムの制御方法を説明するためのフローチャートであり、図4A及び図4Bは、本発明の他の実施例によるリフロー検査システムの制御方法を説明するための写真であり、図5は、本発明の他の実施例による制御方法に従って行うリフロー検査を説明するための写真である。
本発明の他の実施例によるリフロー検査システム100の制御方法は、リフロー検査対象200のリフロー性能を検査する過程に関する制御方法であって、まず、リフロー検査対象200をステージ130に載置する(S310)。
ここで、リフロー検査対象200は、リフロー工程が適用される電子部品の試料をその対象とし、例えば、リフロー工程前に基板上にフォトレジストまたは半田ペーストなどを形成した状態の試料を対象とする。
この際、リフロー検査対象200は、ステージ130の一側に装着された温度検知センサ131に接触するように載置され、温度検知センサ131によってリアルタイムで検知されたリフロー検査対象200の温度情報が制御部160に伝達される。
また、撮像部140が、リフロー検査対象200に近接して装着され、特に、吸気チューブ142の傾斜した切断面がリフロー検査対象200に近接して装着される。
リフロー検査対象200をステージ130に載置した後、リフロー検査対象200は、リフロー性能検査のために、リフロー工程条件に応じて、リフローされる(S320)。
リフロー工程条件は、多様な工程条件を含むことができ、例えば、リフローがなされる加熱温度に関する条件を含む。即ち、リフロー検査対象200を加熱するために、所定温度に予熱されてオーブン110に引き込まれる窒素ガス、アルゴンガスなどの非活性ガス、またはオーブン110の内部に備えられたヒータなどの加熱装置を用いて、オーブン110の雰囲気温度を設定されたリフロー加熱温度条件に応じて上昇させることができる。
リフロー工程条件は、多様な工程条件を含むことができ、例えば、リフローがなされる加熱温度に関する条件を含む。即ち、リフロー検査対象200を加熱するために、所定温度に予熱されてオーブン110に引き込まれる窒素ガス、アルゴンガスなどの非活性ガス、またはオーブン110の内部に備えられたヒータなどの加熱装置を用いて、オーブン110の雰囲気温度を設定されたリフロー加熱温度条件に応じて上昇させることができる。
このようにリフロー工程条件に応じてリフロー検査対象200のリフローが行われると、制御部160は、撮像部140と映像処理部140−2を用いてリフロー検査対象200のイメージ情報をリアルタイムで検出する(S330)。
勿論、制御部160は、図4Aに図示されたイメージのように、撮像部140と映像処理部140−2を用いて、リフロー検査対象200に対してリフローを行う前からリフロー検査対象200のイメージを検出することができる。
リアルタイムでリフロー検査対象200のイメージ情報が検出されると、制御部160は、検出されたイメージ情報が、リフロー検査対象200のリフロー性能を検査することができる良好なイメージ情報であるか否かを判断する(S340)。
即ち、リフロー検査対象200に対してリフローを行う過程で、リフロー検査対象200から発生する煙が撮像部140の開口部141−1に入射する光を遮断して、撮像部140が良好なイメージ情報を検出することができない(図4B参照)ということを判断することができる。
これにより、制御部160は、撮像部140と映像処理部140−2によって検出されたイメージの明度が、リフローを行う前の初期イメージの明度より低い明度、例えば初期イメージの明度の90%以下の低い明度である場合、良好なイメージ情報ではないと判断して、吸気ポンプ150を駆動して吸気チューブ142が煙を吸気するようにする(S345)。
その後、吸気チューブ142が煙を吸気すると、制御部160は、撮像部140と映像処理部140−2を用いて、さらにリフロー検査対象200のイメージ情報をリアルタイムで検出する。
一方、上記の判断段階(S340)で検出されたイメージ情報が、リフロー検査対象200のリフロー性能を検査することができる良好なイメージ情報であると、制御部160は、検出されたイメージ情報を用いてリフロー検査対象200のリフロー性能を検査する(S350)。
例えば、制御部160は、リフロー性能を検査するための項目として、溶融開始温度、リフロー時間、濡れ性(wettability)などを検査することができる。
具体的には、制御部160は、リフロー過程でリフロー検査対象200のフォトレジストまたは半田ペーストなどが溶融される時点の温度情報を、温度検知センサ131から受信して、溶融開始温度を検出することができる。
また、制御部160は、リフロー検査対象200をステージ130に載置して、リフローを行う前の時点からリフローを行った後の時点までのリアルタイムで検出された時間情報を用いて、リフロー時間情報を検出することができる。
特に、制御部160は、図5に図示されたリフロー後に検出された半田ペーストのイメージ情報から半田ペーストの接触幅(D)と接触角(θ)などを検出して濡れ性を検査することができる。
その後、制御部160は、このようなリフロー性能の検査結果を、モニターなどのディスプレイ部に、リフロー検査対象200のリフロー性能情報として、ディスプレイすることができる。
これにより、本発明の他の実施例によるリフロー検査システム100の制御方法は、対象200のリフロー性能を検査する過程で発生する煙を除去して視認性を改善するため、リフロー性能を検査することができるイメージ情報を容易に獲得することができる。
従って、本発明の他の実施例によるリフロー検査システム100の制御方法は、リフロー検査過程の視認性が改善された信頼性のあるイメージ情報を用いて、リフロー検査対象200のリフロー性能を容易に検査することができる。
以上、本発明を具体的な実施例に基づいて詳細に説明したが、これは本発明を具体的に説明するためのものであり、本発明はこれに限定されず、該当分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想内にての変形や改良が可能であることは明白であろう。
本発明の単純な変形乃至変更はいずれも本発明の領域に属するものであり、本発明の具体的な保護範囲は添付の特許請求の範囲により明確になるであろう。
本発明は、リフロー検査過程の視認性が改善された信頼性のあるイメージ情報を用いて、対象のリフロー性能を容易に検査することができるリフロー検査システム及びその制御方法に適用可能である。
100 リフロー検査システム
110 オーブン
120 光源部
130 ステージ
131 温度検知センサ
132 金属板
140 撮像部
140−2 映像処理部
141 超小型カメラ部
141−1 開口部
142 吸気チューブ
142−2 切断面
150 吸気ポンプ
160 制御部
200 リフロー検査対象
110 オーブン
120 光源部
130 ステージ
131 温度検知センサ
132 金属板
140 撮像部
140−2 映像処理部
141 超小型カメラ部
141−1 開口部
142 吸気チューブ
142−2 切断面
150 吸気ポンプ
160 制御部
200 リフロー検査対象
Claims (12)
- オーブンと、
前記オーブンの内部でリフロー検査対象を載置し、一側に前記リフロー検査対象の温度を検知するための温度検知センサを備えるステージと、
前記オーブンの一側から前記リフロー検査対象に光を照射する光源部と、
前記リフロー検査対象から発生する煙を吸気し、前記リフロー検査対象のイメージ情報を獲得して外部に伝達する撮像部と、
前記撮像部により獲得されたイメージ情報を処理する映像処理部と、
ステージ、温度検知センサ、及び映像処理部に連結され、リフロー検査過程の制御を行う制御部と、
を含むリフロー検査システム。 - 前記オーブンは、前記リフロー検査対象を加熱するリフローガスが引き込まれる引き込み口と、リフロー処理後のガスを排出する排出口と、を多数備える請求項1に記載のリフロー検査システム。
- 前記撮像部は、
レンズが備えられた開口部を介して入射された光を光ファイバを介して前記映像処理部に伝達するカメラ部と、
前記開口部に隣接した領域に突出状に備えられ、外部で前記制御部と連結された吸気ポンプに連結された吸気チューブと、
を含む請求項1に記載のリフロー検査システム。 - 前記吸気チューブは、前記レンズが有する焦点距離より短い長さに突出され、前記吸気チューブの端部は突出方向に対して所定の鋭角を有する傾斜した切断面を有する請求項3に記載のリフロー検査システム。
- 前記制御部は、前記映像処理部から受信したイメージ情報の明度に応じて、前記吸気ポンプの動作を制御する請求項3に記載のリフロー検査システム。
- 前記制御部は、温度検知センサ及び映像処理部に連結され、リアルタイムで前記リフロー検査対象のリフロー検査情報を受信する請求項1に記載のリフロー検査システム。
- リフロー検査対象をオーブン内のステージに載置する段階と、
リフロー性能検査のためのリフロー工程条件に応じて前記リフロー検査対象をリフローする段階と、
制御部が前記リフロー検査対象の情報をリアルタイムで検出する段階と、
検出された前記リフロー検査対象の情報がリフロー性能を検査することができる良好な情報であるか否かを、前記制御部により判断する段階と、
前記判断段階の結果に応じて、前記リフロー検査対象から発生する煙を吸気しながら、前記リフロー検査対象の情報をさらにリアルタイムで最終検出する段階と、
前記最終検出された前記リフロー検査対象の情報を用いて、前記リフロー検査対象のリフロー性能を検査する段階と、
を含むリフロー検査システムの制御方法。 - 前記リフロー検査対象の情報をリアルタイムで検出する段階は、
レンズが備えられた開口部を介して入射された光を光ファイバを介して映像処理部に伝達するカメラ部と、前記開口部に隣接した領域に突出状に備えられ、外部で前記制御部と連結された吸気ポンプに連結された吸気チューブを含む撮像部と、
前記ステージの一側に備えられた温度検知センサと、を用いて、
前記リフロー検査対象のイメージ情報及び温度情報をリアルタイムで検出する請求項7に記載のリフロー検査システムの制御方法。 - 前記リフロー性能を検査することができる良好な情報であるか否かを判断する段階は、
前記制御部が、前記映像処理部によってリアルタイムで検出された前記リフロー検査対象のイメージの明度が前記リフロー検査対象の初期イメージの明度より低いか否かを判断する請求項8に記載のリフロー検査システムの制御方法。 - 前記リフロー性能を検査することができる良好な情報であるか否かを判断する段階は、
前記リフロー検査対象の初期イメージの明度の90%を基準として行われる請求項9に記載のリフロー検査システムの制御方法。 - 前記リフロー検査対象の情報をさらにリアルタイムで最終検出する段階は、
前記吸気チューブの端部に形成された傾斜した切断面を介して、前記リフロー検査対象から発生する煙を吸気する段階を含む請求項8に記載のリフロー検査システムの制御方法。 - 前記リフロー性能を検査する段階は、
前記最終検出された前記リフロー検査対象の情報に含まれたイメージ情報から接触幅(D)と接触角(θ)を検出する段階を含む請求項8に記載のリフロー検査システムの制御方法。
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KR10-2012-0028274 | 2012-03-20 | ||
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013197581A true JP2013197581A (ja) | 2013-09-30 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012119355A Pending JP2013197581A (ja) | 2012-03-20 | 2012-05-25 | リフロー検査システム及びその制御方法 |
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JP (1) | JP2013197581A (ja) |
KR (1) | KR20130106608A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013044229A1 (en) * | 2011-09-23 | 2013-03-28 | Lucas Milhaupt, Inc. | Luminescent braze preforms |
KR102362654B1 (ko) | 2015-07-03 | 2022-02-15 | 삼성전자주식회사 | 오븐 |
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2012
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