JP2013196744A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】磁気記録層のダメージ及びダストの残留を抑制して磁気記録層のパターン加工が可能な磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】剥離層の下にケイ素を主成分とする第2のマスク層、第2のマスク層の下にカーボンを主成分とする第1のマスク層を適用することで、第2のマスク層をパターン転写した後、剥離溶媒が記録層へ接触することなく剥離層のウエット剥離を行い、第1のマスク層のドライ剥離を行うことができる。
【選択図】図1
Description
前記磁気記録層上にカーボンを含有する第1のマスク層を形成する工程と、
前記第1のマスク層上に、ケイ素、及びケイ素の含有が50%以上であるケイ素化合物のうち1つ第2のマスク層を形成する工程と、
前記第2のマスク層上に剥離層を形成する工程と、
前記剥離層上に、第3のマスク層を形成する工程と、
前記第3のマスク層上にレジスト層を形成する工程と、
前記レジスト層をパターニングして凹凸パターンを設ける工程と、
前記凹凸パターンを前記第3のマスク層へ転写する工程と、
前記凹凸パターンを前記剥離層へ転写する工程と、
前記凹凸パターンを前記第2のマスク層へ転写する工程と、
前記剥離層をウェットエッチングにより除去し、前記磁気記録層上から第3のマスク層およびレジスト層を剥離する工程と、
前記凹凸パターンを前記第1のマスク層へ転写する工程と、
前記凹凸パターンを前記磁気記録層へ転写する工程と、
前記磁気記録層上に残存した前記第1のマスク層を剥離する工程とを具備することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法が提供される。
実施例1
本願のかかる実施形態を図1に沿って下記のように説明する。
まず、基板1上に磁気記録層をDCスパッタ法により形成した。成膜時のArガス圧力は0.7Paとし、投入電力は500Wに設定し、基板1側から10nm厚NiTa下地層/4nm厚Pd下地層/20nm厚Ru下地層/10nm厚CoPt磁気記録層を順次成膜することで、パターン加工前の磁気記録媒体を得た。
続いて、磁気記録層上に多層のマスク層を形成した。
加速電圧100kV、ビーム径2nmのビームを具備した電子線描画装置を用い、電子線レジストにパターン描画を行った。レジストパターンの現像には100%の酢酸ノルマルアミルを成分とした有機現像液を用い、20秒間浸漬することで電子線レジストの現像を行った。これにより凹凸形状を有するレジストパターンを得た。
レジストの凹凸パターンをエッチングにより下層へ転写する。
Moからなる剥離層をH2O2に浸漬することより剥離を行った。1重量%の濃度の過酸化水素水を調製した後、これにノニオン系フッ素含有界面活性剤を添加することで剥離液とし、試料を浸漬することで剥離を行った。以上により、剥離層上部に存在した第3のマスク層およびレジスト層は除去され、平坦な第1のマスク層上に、凹凸を有する第2のマスク層を得た。
剥離工程による磁気記録層へのダメージを評価するために、媒体の飽和磁化値(Ms)を試料振動型磁力計(VSM)により評価を行った。その結果、剥離前後のMsの変化率は0〜0.5%であり、磁気記録層へのダメージを与えずに、剥離できる媒体を得た。
凹凸を有する第2のSiマスクパターンを介して、ICP−RIE装置を用い、第1のマスク層へパターン転写を行った。プロセスガスには酸素を用い、チャンバー圧0.1Pa、コイルRFパワーおよびプラテンRFパワーをそれぞれ100Wおよび25Wとし、酸素によるRIEエッチング時間を100秒とした。
続いて、第1のマスク層を介して、イオンミリングにより磁気記録層へのパターン転写を行った。ここではArによるイオンミリング装置を用いた。加速電圧300V、ガス流量8sccm、ミリング圧力0.1Pa、ミリング時間100秒に設定することで磁気記録層へ凹凸パターンを転写した。
上記加工により得られたパターンの形状評価を走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて評価を行った。欠損率として、磁気記録層へ転写されたパターンの数を、電子線レジストに作製されたパターンの数で規格化し、百分率で表したものを用いた。欠損率は5%以下であることが好ましく、望ましくは1%以下であることがより好ましい。
上記加工により得た媒体におけるヘッドの浮上特性評価を行った。ヘッドの浮上量を5nmに調整し評価を行ったところ、エラーはなく、良好なヘッド浮上特性を得ることができた。
実施例1と同様にして、パターン加工前の磁気記録媒体を形成した。
実施例1と同様な方法で、パターン加工前の磁気記録基板を作製し、その上に多層のマスク層を形成した。第1のマスク層にカーボン30nmを用い、その上にSiを酸素流量を調整したチャンバーで成膜することにより第2のマスク層としてケイ素の含有が50%以上であるケイ素化合物であるSiO膜を5nm形成した。その後、剥離層、第3のマスク層、レジスト層を実施例1と同様に形成した。
実施例3との比較として、第2のマスク層をケイ素の含有が50%未満であるケイ素化合物SiO2に置き換え加工、剥離、評価を行った。SiO2の形成には、SiO2のターゲットを用い、酸素雰囲気中で成膜することによりSiO2層を形成した。その後、実施例3に倣い、パターンの転写および剥離を行い、パターン形状の評価を行った。転写前後のパターン欠損率をSEMにより測定評価したところ、欠損率が5.2%と転写性が悪化していることがわかった。
比較例2−1として、Mo剥離層をH2O2での剥離を行う前に、さらに、第1のマスク層へパターンを転写すること以外は実施例1と同様にして基板を作製し、第1のマスクの形状による磁気記録層へのダメージの評価を行った。
実施例1と同様の方法で基板を作製し、剥離層を酸で剥離する工程を経ずに第1のマスクを酸素によるエッチングで剥離した。その後、グライドテスタによりヘッド浮上特性を評価したところ、12nmの浮上においても、媒体表面の平坦性の悪さによるエラーが発生し、良好なヘッド浮上特性を得ることができなかった。
第1のマスク膜厚を変え、実施例1と同様の作製法により、媒体を得た。第1のマスクの膜厚は(1)10nm、(2)20nm、(3)30nm、(4)40nm、(5)50nmとし、第1のマスク加工工程で示したエッチング時間を膜厚に応じて適宜変更した。
第1のマスク層として、カーボンの代わりにRu、第2のマスク層にSiOを用い、実施例1に倣い加工を行った。Ruの膜厚は30nm、SiOの膜厚は5nmとした。第1のマスク層へのパターン転写には、エッチャントとして酸素を用いコイルRFパワーおよびプラテンRFパワーをそれぞれ100W、10Wで110秒エッチングすることで、パターンの転写を行った。磁気記録層へパターンを転写した後、パターンの欠損率を測定したところ、25%であった。RuO4の沸点は40℃と低く、酸素による化学的なエッチングが可能であるが、エッチングレートが遅く、加工時間がかかるため、エッチングの分布が強調される結果、欠損率が増加したと考えられる。
Claims (6)
- 基板上に磁気記録層を形成する工程と、
前記磁気記録層上にカーボンを含有する第1のマスク層を形成する工程と、
前記第1のマスク層上に、ケイ素、及びケイ素の含有が50%以上であるケイ素化合物のうち1つの第2のマスク層を形成する工程と、
前記第2のマスク層上に剥離層を形成する工程と、
前記剥離層上に、第3のマスク層を形成する工程と、
前記第3のマスク層上にレジスト層を形成する工程と、
前記レジスト層をパターニングして凹凸パターンを設ける工程と、
前記凹凸パターンを前記第3のマスク層へ転写する工程と、
前記凹凸パターンを前記剥離層へ転写する工程と、
前記凹凸パターンを前記第2のマスク層へ転写する工程と、
前記剥離層をウェットエッチングにより除去し、前記磁気記録層上から第3のマスク層およびレジスト層を剥離する工程と、
前記凹凸パターンを前記第1のマスク層へ転写する工程と、
前記凹凸パターンを前記磁気記録層へ転写する工程と、
前記磁気記録層上に残存した前記第1のマスク層を剥離する工程とを具備することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 前記剥離層は、マグネシウム、バナジウム、マンガン、鉄、コバルト、、ニッケル、亜鉛、ゲルマニウム、ヒ素、モリブデン、アンチモン、タングステン、レニウム、タリウム、及び鉛からなる群から選択される少なくとも1種を含有することを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 前記剥離層は、モリブデン及びタングステンのうち1つを含有する請求項2に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 前記第1のマスク層の膜厚が20nmから40nmであることを特徴とする、請求項1ないし3のいすれか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 前記レジスト層は、少なくとも2種類の異なるポリマー鎖を有する自己組織化膜であることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 前記第3のマスク層は、炭素、タンタル、ケイ素、タングステン、及びモリブデンからなる群から選択された少なくとも1種を含む請求項1ないし5のいずれか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
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---|---|---|---|---|
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Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US12002A (en) * | 1854-11-28 | Improved machine for boring the chambers in the cylinders of fire-arms | ||
US12005A (en) * | 1854-11-28 | Loom eob weaving bags | ||
JP2002359138A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-12-13 | Toshiba Corp | 磁性体のパターニング方法、磁気記録媒体、磁気ランダムアクセスメモリ |
JP2010146668A (ja) * | 2008-12-19 | 2010-07-01 | Hitachi Ltd | パターンドメディアの作製方法 |
JP2010250872A (ja) * | 2009-04-10 | 2010-11-04 | Fujitsu Ltd | 磁気記録媒体製造方法 |
JP2012033223A (ja) * | 2010-07-29 | 2012-02-16 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
JP2012053954A (ja) * | 2010-09-01 | 2012-03-15 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
Family Cites Families (13)
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---|---|---|---|---|
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JP2006012332A (ja) * | 2004-06-28 | 2006-01-12 | Tdk Corp | ドライエッチング方法、磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体 |
US7411264B2 (en) * | 2004-11-18 | 2008-08-12 | Seagate Technology Llc | Etch-stop layers for patterning block structures for reducing thermal protrusion |
US7160477B2 (en) * | 2005-01-26 | 2007-01-09 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method for making a contact magnetic transfer template |
JP4732203B2 (ja) | 2006-03-17 | 2011-07-27 | キヤノン株式会社 | 画像符号化装置及び復号装置及びそれらの制御方法、並びに、コンピュータプログラム及びコンピュータ可読記憶媒体 |
WO2007148619A1 (ja) | 2006-06-21 | 2007-12-27 | Nec Corporation | 動画像復号装置、復号画像記録装置、それらの方法及びプログラム |
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JP2011090724A (ja) | 2009-10-20 | 2011-05-06 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録再生装置 |
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US8722543B2 (en) * | 2010-07-30 | 2014-05-13 | Headway Technologies, Inc. | Composite hard mask with upper sacrificial dielectric layer for the patterning and etching of nanometer size MRAM devices |
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US12002A (en) * | 1854-11-28 | Improved machine for boring the chambers in the cylinders of fire-arms | ||
US12005A (en) * | 1854-11-28 | Loom eob weaving bags | ||
JP2002359138A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-12-13 | Toshiba Corp | 磁性体のパターニング方法、磁気記録媒体、磁気ランダムアクセスメモリ |
JP2010146668A (ja) * | 2008-12-19 | 2010-07-01 | Hitachi Ltd | パターンドメディアの作製方法 |
JP2010250872A (ja) * | 2009-04-10 | 2010-11-04 | Fujitsu Ltd | 磁気記録媒体製造方法 |
JP2012033223A (ja) * | 2010-07-29 | 2012-02-16 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
JP2012053954A (ja) * | 2010-09-01 | 2012-03-15 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
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