JP2013191784A - 面発光型半導体レーザ、面発光型半導体レーザ装置、光伝送装置および情報処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】長共振器の面発光型半導体レーザ10は、半絶縁性のi型のGaAs基板100と、半絶縁性のi型のAlGaAsから成る下部DBR102と、半絶縁性のi型のAlGaAs層110と、n型のGaInPからなるコンタクト層112と、活性領域114と、p型のAlAsからなる電流狭窄層120と、p型のAlGaAsからなる上部DBR106と、メサMの頂部に形成されたp側電極130と、メサMの底部で露出されたコンタクト層112に電気的に接続されたn側電極140とを有する。
【選択図】図1
Description
請求項2は、前記半導体層は、n型のGaInPから構成される、請求項1に記載の面発光型半導体レーザ。
請求項3は、前記第1の半導体多層膜反射鏡は、半絶縁性のi型である、請求項1または2に記載の面発光型半導体レーザ。
請求項4は、前記第1の半導体多層膜反射鏡、前記AlGaAs層、前記半導体層、前記活性領域および前記第2の半導体多層膜反射鏡によって規定される共振器の長さが発振波長よりも大きく、かつ前記共振器の反射帯域内に少なくとも2つの共振波長を含み、選択された共振波長が発振される、請求項1ないし3いずれか1つに記載の面発光型半導体レーザ。
請求項5は、前記第2の半導体多層膜反射鏡から前記半導体層に至る柱状構造が形成され、前記柱状構造の頂部には、前記第2の半導体多層膜反射鏡に電気的に接続される前記第2の電極が形成され、前記柱状構造の底部で露出された前記半導体層上には、前記第2の半導体層と電気的に接続される前記第1の電極が形成される、請求項1ないし4いずれか1つに記載の面発光型半導体レーザ。
請求項6は、前記第2の半導体多層膜反射鏡内には電流狭窄層が形成される、請求項1ないし5いずれか1つに記載の面発光型半導体レーザ。
請求項7は、前記第1の半導体多層膜反射鏡は、相対的にAl組成が高いAlGaAs層と、相対的にAl組成が低いAlGaAsの対を含んで構成され、前記第2の半導体多層膜反射鏡は、相対的にAl組成が高いAlGaAs層と、相対的にAl組成が低いAlGaAsの対を含んで構成される、請求項1ないし6いずれか1つに記載の面発光型半導体レーザ。
請求項8は、前記半導体層は、n型のAlGaInPである、請求項1ないし7いずれか1つに記載の面発光型半導体レーザ。
請求項9は、前記半導体層は、n型のAlGaAsPである、請求項1ないし7いずれか1つに記載の面発光型半導体レーザ。
請求項10は、p型の半導体基板と、前記半導体基板上に形成され、相対的に屈折率が高い高屈折率層と屈折率が低い低屈折率層の対を積層したp型の第1の半導体多層膜反射鏡と、前記第1の半導体多層膜反射鏡上に形成された活性領域と、前記活性領域上に形成され、不純物による深い準位を持たない、または深い準位はΓ準位よりも高い、前記基板に格子整合可能なn型の半導体層と、前記半導体層上に形成された半絶縁性のi型のAlGaAs層と、前記AlGaAs層上に形成され、相対的に屈折率が高い高屈折率層と屈折率が低い低屈折率層の対を積層した第2の半導体多層膜反射鏡と、前記半導体層と電気的に接続されるn側の第1の電極と、前記第1の半導体多層膜反射鏡と電気的に接続されるp側の第2の電極と、を有する面発光型半導体レーザ。
請求項11は、前記半導体層は、n型のGaInPから構成される、請求項10に記載の面発光型半導体レーザ。
請求項12は、前記第1の半導体多層膜反射鏡、前記活性領域、前記半導体層、前記AlGaAs層、および前記第2の半導体多層膜反射鏡によって規定される共振器の長さが発振波長よりも大きく、かつ前記共振器の反射帯域内に少なくとも2つの共振波長を含み、選択された共振波長が発振される、請求項10または11に記載の面発光型半導体レーザ。
請求項13は、前記第2の半導体多層膜反射鏡から前記半導体層に至る柱状構造が形成され、前記柱状構造の底部で露出された前記半導体層上には、前記第2の半導体層と電気的に接続される前記第1の電極が形成され、前記半導体基板の裏面には、前記第1の半導体多層膜反射鏡に電気的に接続される前記第2の電極が形成される、請求項10ないし12いずれか1つに記載の面発光型半導体レーザ。
請求項14は、前記半導体層は、n型のAlGaInPである、請求項10ないし13いずれか1つに記載の面発光型半導体レーザ。
請求項15は、前記半導体層は、n型のAlGaAsPである、請求項10ないし13いずれか1つに記載の面発光型半導体レーザ。
請求項16は、請求項1ないし15いずれか1つに記載の面発光型半導体レーザと、前記面発光型半導体レーザからの光を入射する光学部材と、を備えた面発光型半導体レーザ装置。
請求項17は、請求項16に記載された面発光型半導体レーザ装置と、前記面発光型半導体レーザ装置から発せられたレーザ光を光媒体を介して伝送する伝送手段と、を備えた光伝送装置。
請求項18は、請求項1ないし15いずれか1つに記載の面発光型半導体レーザと、前記面発光型半導体レーザから出射されるレーザ光を記録媒体に集光する集光手段と、前記集光手段により集光されたレーザ光を前記記録媒体上で走査する機構と、を有する情報処理装置。
請求項2、3、8、9、11、14、15によれば、n型のAlGaAsと比べて結晶欠陥の発生を抑制することができる。
請求項4、12によれば、信頼性の高い長共振器構造の面発光型半導体レーザを提供することができる。
請求項5、13によれば、表面電極構造の面発光型半導体レーザを提供することができる。
請求項6によれば、光の高出力化を図ることができる。
請求項16ないし18によれば、信頼性の高い長共振器構造の面発光型半導体レーザ装置、光伝送装置および情報処理装置を提供することができる。
100:基板
102:下部DBR
104:共振器
106:上部DBR
110:AlGaAs層
112:コンタクト層
114:活性領域
114A:下部スペーサ層
114B:活性層
114C:上部スペーサ層
120:電流狭窄層
130:p側電極
130A:光出射口
140:n側電極
200:基板
202:下部DBR
204:共振器
206:上部DBR
210:活性領域
212:コンタクト層
214:AlGaAs層
220:電流狭窄層
230:p側電極
240:n側電極
Claims (18)
- 基板と、
前記基板上に形成され、相対的に屈折率が高い高屈折率層と屈折率が低い低屈折率層の対を積層した第1の半導体多層膜反射鏡と、
第1の半導体多層膜反射鏡上に形成され、発振波長よりも光学的膜厚が大きい半絶縁性のi型のAlGaAs層と、
前記AlGaAs層上に形成され、不純物による深い準位を持たない、または深い準位はΓ準位よりも高い、前記基板に格子整合可能なn型の半導体層と、
前記半導体層上に形成された活性領域と、
前記活性領域上に形成され、相対的に屈折率が高い高屈折率層と屈折率が低い低屈折率層の対を積層したp型の第2の半導体多層膜反射鏡と、
前記半導体層と電気的に接続されるn側の第1の電極と、
前記第2の半導体多層膜反射鏡と電気的に接続されるp側の第2の電極と、
を有する面発光型半導体レーザ。 - 前記半導体層は、n型のGaInPから構成される、請求項1に記載の面発光型半導体レーザ。
- 前記第1の半導体多層膜反射鏡は、半絶縁性のi型である、請求項1または2に記載の面発光型半導体レーザ。
- 前記第1の半導体多層膜反射鏡、前記AlGaAs層、前記半導体層、前記活性領域および前記第2の半導体多層膜反射鏡によって規定される共振器の長さが発振波長よりも大きく、かつ前記共振器の反射帯域内に少なくとも2つの共振波長を含み、選択された共振波長が発振される、請求項1ないし3いずれか1つに記載の面発光型半導体レーザ。
- 前記第2の半導体多層膜反射鏡から前記半導体層に至る柱状構造が形成され、前記柱状構造の頂部には、前記第2の半導体多層膜反射鏡に電気的に接続される前記第2の電極が形成され、前記柱状構造の底部で露出された前記半導体層上には、前記第2の半導体層と電気的に接続される前記第1の電極が形成される、請求項1ないし4いずれか1つに記載の面発光型半導体レーザ。
- 前記第2の半導体多層膜反射鏡内には電流狭窄層が形成される、請求項1ないし5いずれか1つに記載の面発光型半導体レーザ。
- 前記第1の半導体多層膜反射鏡は、相対的にAl組成が高いAlGaAs層と、相対的にAl組成が低いAlGaAsの対を含んで構成され、前記第2の半導体多層膜反射鏡は、相対的にAl組成が高いAlGaAs層と、相対的にAl組成が低いAlGaAsの対を含んで構成される、請求項1ないし6いずれか1つに記載の面発光型半導体レーザ。
- 前記半導体層は、n型のAlGaInPである、請求項1ないし7いずれか1つに記載の面発光型半導体レーザ。
- 前記半導体層は、n型のAlGaAsPである、請求項1ないし7いずれか1つに記載の面発光型半導体レーザ。
- p型の半導体基板と、
前記半導体基板上に形成され、相対的に屈折率が高い高屈折率層と屈折率が低い低屈折率層の対を積層したp型の第1の半導体多層膜反射鏡と、
前記第1の半導体多層膜反射鏡上に形成された活性領域と、
前記活性領域上に形成され、不純物による深い準位を持たない、または深い準位はΓ準位よりも高い、前記基板に格子整合可能なn型の半導体層と、
前記半導体層上に形成された半絶縁性のi型のAlGaAs層と、
前記AlGaAs層上に形成され、相対的に屈折率が高い高屈折率層と屈折率が低い低屈折率層の対を積層した第2の半導体多層膜反射鏡と、
前記半導体層と電気的に接続されるn側の第1の電極と、
前記第1の半導体多層膜反射鏡と電気的に接続されるp側の第2の電極と、
を有する面発光型半導体レーザ。 - 前記半導体層は、n型のGaInPから構成される、請求項10に記載の面発光型半導体レーザ。
- 前記第1の半導体多層膜反射鏡、前記活性領域、前記半導体層、前記AlGaAs層、および前記第2の半導体多層膜反射鏡によって規定される共振器の長さが発振波長よりも大きく、かつ前記共振器の反射帯域内に少なくとも2つの共振波長を含み、選択された共振波長が発振される、請求項10または11に記載の面発光型半導体レーザ。
- 前記第2の半導体多層膜反射鏡から前記半導体層に至る柱状構造が形成され、前記柱状構造の底部で露出された前記半導体層上には、前記第2の半導体層と電気的に接続される前記第1の電極が形成され、前記半導体基板の裏面には、前記第1の半導体多層膜反射鏡に電気的に接続される前記第2の電極が形成される、請求項10ないし12いずれか1つに記載の面発光型半導体レーザ。
- 前記半導体層は、n型のAlGaInPである、請求項10ないし13いずれか1つに記載の面発光型半導体レーザ。
- 前記半導体層は、n型のAlGaAsPである、請求項10ないし13いずれか1つに記載の面発光型半導体レーザ。
- 請求項1ないし15いずれか1つに記載の面発光型半導体レーザと、
前記面発光型半導体レーザからの光を入射する光学部材と、
を備えた面発光型半導体レーザ装置。 - 請求項16に記載された面発光型半導体レーザ装置と、
前記面発光型半導体レーザ装置から発せられたレーザ光を光媒体を介して伝送する伝送手段と、
を備えた光伝送装置。 - 請求項1ないし15いずれか1つに記載の面発光型半導体レーザと、
前記面発光型半導体レーザから出射されるレーザ光を記録媒体に集光する集光手段と、
前記集光手段により集光されたレーザ光を前記記録媒体上で走査する機構と、
を有する情報処理装置。
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