JP2013187049A5 - - Google Patents

Claims (6)

1. アルミナ基焼結体で管状に作製された絶縁体と、前記絶縁体の軸孔内に配置された中心電極と、前記軸孔内に配置され、前記中心電極を前記絶縁体の前記軸孔内に固定するシール材とを備えたスパークプラグであって、
   前記絶縁体及び前記シール材は、下記条件（１）〜（３）を満たし、
   前記絶縁体は、前記シール材と接する表面に０．５〜２．０μｍの高低差で隣接する凹凸を１００μｍ当たり少なくとも８組有し、
   前記絶縁体及び前記シール材との界面を径方向にライン分析したときに前記絶縁体のＡｌ成分及び前記シール材のガラス相のＳｉ成分の合計含有率に対する前記Ａｌ成分及び前記Ｓｉ成分それぞれの含有割合が共に９０質量％未満となる中間相を２０〜５０μｍの厚さで有するスパークプラグ。
   （１）前記シール材の前記ガラス相に含有されるＳｉ成分の酸化物換算平均含有率［ＳｉＯ_２（シール材）］が５０〜７０質量％
   （２）前記絶縁体に含有されるＳｉ成分の酸化物換算平均含有率［ＳｉＯ_２（絶縁体）］に対する前記［ＳｉＯ_２（シール材）］の比率［［ＳｉＯ_２（シール材）］／［ＳｉＯ_２（絶縁体）］］が１５〜６６．７
   （３）前記シール材の前記ガラス相に含有されるＢ成分の酸化物換算平均含有率［Ｂ_２Ｏ_３］に対する前記［ＳｉＯ_２（シール材）］の比率［［ＳｉＯ_２（シール材）］／［Ｂ_２Ｏ_３］］が１．４５〜２．５０
2. 前記シール材に含まれている前記ガラス相の転移点が４５０℃以上７７０℃以下である請求項１に記載のスパークプラグ。
3. 前記シール材は、Ｎａ成分及びＫ成分の少なくとも一方をＮａ成分の酸化物換算平均含有率及びＫ成分の酸化物換算平均含有率の合計含有率が前記ガラス相に対して２．５〜６．５質量％の範囲内で含有し、かつ、前記ガラス相とフィラーとを前記シール材の任意の観察面における前記ガラス相の合計面積に対するフィラーの合計面積の面積比［フィラー合計面積／ガラス相合計面積］が０．６〜１．４となる割合で含有している請求項１又は２に記載のスパークプラグ。
4. 前記シール材は、その任意の観察面に存在する気孔の気孔率が５％以下である請求項１〜３のいずれか１項に記載のスパークプラグ。
5. 前記シール材が配置されている部位における前記軸孔の直径が２．９ｍｍ以下である請求項１〜４のいずれか１項に記載のスパークプラグ。
6. 前記アルミナ基焼結体は、第２族成分及び希土類成分を含有している請求項１〜５のいずれか１項に記載のスパークプラグ。