JP2013175402A - 極端紫外光生成装置及びターゲット物質供給方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】極端紫外光生成装置は、レーザ光を出力するように構成されたレーザ装置と共に用いられる極端紫外光生成装置であって、少なくともひとつの窓が設けられているチャンバと、少なくともひとつの窓を通してチャンバ内の所定領域にレーザ光を入射させるためにレーザ光の進行方向を制御するように構成されたレーザ光進行方向制御装置と、所定領域にターゲット物質を供給するように構成されたターゲット供給装置であって、導電性を有する一対のレールと、ターゲット物質を移送して一対のレールの間にターゲット物質を挟んで接触させるように構成されたターゲット移送機構と、一対のレールに接触したターゲット物質に一対のレールを介して電流を供給するように構成された電源と、を有するターゲット供給装置と、を含んでも良い。
【選択図】図2
Description
1.概要
2.EUV光生成装置の全体説明
2.1 構成
2.2 動作
3.ターゲット供給装置の概要
3.1 構成
3.2 動作原理
4.ターゲット供給装置の詳細
4.1 構成
4.2 動作
5.第2の実施形態
6.第3の実施形態
7.第4の実施形態
8.第5の実施形態
9.第6の実施形態
10.第7の実施形態
10.1 構成
10.2 動作
LPP式のEUV光生成装置においては、ターゲット供給装置がターゲットを出力し、このターゲットをプラズマ生成領域に到達させてもよい。ターゲットがプラズマ生成領域に到達した時点で、ターゲットにパルスレーザ光を照射することで、ターゲットがプラズマ化し、このプラズマからEUV光が放射され得る。
次世代のLPP式のEUV光生成装置においては、波長6nm程度のEUV光を生成することが求められ得る。波長6nm程度のEUV光を生成するためのターゲットの材料の候補として、テルビウムやガドリニウム等の高融点材料が挙げられ得る。このような高融点材料をその融点以上の温度に加熱して微小なドロップレット状のターゲットを生成するためには、その融点以上の高温に耐える構造材が必要となる。
2.1 構成
図1に、例示的なLPP方式のEUV光生成装置(極端紫外光生成装置)1の概略構成を示す。EUV光生成装置1は、少なくとも1つのレーザ装置3と共に用いてもよい(EUV光生成装置1及びレーザ装置3を含むシステムを、以下、EUV光生成システム(極端紫外光生成システム)11と称する)。図1に示し、かつ以下に詳細に説明するように、EUV光生成装置1は、チャンバ2を含んでもよい。チャンバ2は、密閉可能であってもよい。EUV光生成装置1は、ターゲット供給装置(例えばドロップレット生成器)26を更に含んでもよい。ターゲット供給装置は、例えばチャンバ2に取り付けられていてもよい。ターゲット供給装置が供給するターゲットの材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、又はそれらのうちのいずれか2つ以上の組合せを含んでもよいが、これらに限定されない。
図1を参照すると、レーザ装置3から出射されたパルスレーザ光31は、レーザ光進行方向制御装置34を経てパルスレーザ光32としてウィンドウ21を透過してチャンバ2内に入射してもよい。パルスレーザ光32は、少なくとも1つのレーザビーム経路に沿ってチャンバ2内に進み、レーザ光集光ミラー22で反射して、パルスレーザ光33として少なくとも1つのターゲット27に照射されてもよい。
3.1 構成
図2は、本開示の第1の実施形態に係るEUV光生成装置において用いられるターゲット供給装置を概略的に示す斜視図である。図2に示すように、ターゲット供給装置26は、一対のレール61及び62と、ターゲット移送機構65と、電源66と、を含んでもよい。
図3A〜図3Cは、第1の実施形態におけるターゲット供給装置の動作原理を説明するための平面図である。図3Aに示すように、一対のレール61及び62のそれぞれの上記他端61b及び62b付近に、ターゲットの材料となるワイヤー67bが移送されてもよい。ワイヤー67bの先端部が一対のレール61及び62に接触すると、電源66と、一対のレール61及び62と、ワイヤー67bの先端部とで電流経路が形成され得る。電源66は、この電流経路に電流を流してもよい。
4.1 構成
図4Aは、第1の実施形態に係るEUV光生成装置において用いられるターゲット供給装置の詳細を示す一部断面図である。図4Bは、図4Aに示す一対の電極のIVB−IVB線における断面図である。ターゲット供給装置26は、チャンバ2の壁2aに形成された貫通孔2bを介してチャンバ2の内部にターゲットを供給するように構成されてもよい。
支持プレート2cには、一対のレール61及び62と、ターゲット移送機構65とが支持されていてもよい。
複数のアクチュエータ42は、アクチュエータドライバ(後述)からの駆動信号に従ってそれぞれ伸縮することにより、壁2aに対する支持プレート2cの位置及び姿勢を調整してもよい。
また、1回のターゲット出力ごとに、出力する体積分のターゲットを加熱し溶融させるので、全ターゲット材を溶融させる場合に比べてターゲットの材料を溶融状態とするためのエネルギー消費及びコストを低減し得る。
図5Aは、本開示の第2の実施形態に係るEUV光生成装置において用いられるターゲット供給装置を概略的に示す一部断面図である。図5Bは、図5Aに示すターゲット供給装置のVB−VB線における断面図である。図5Cは、図5Bに示す一対のレールのVC−VC線における断面図である。
他の点については、第1の実施形態と同様でよい。
図6Aは、本開示の第3の実施形態に係るEUV光生成装置において用いられるターゲット供給装置の一対のレールをターゲット出力側から見た図である。図6Bは、図6Aに示す一対の電極のVIB−VIB線における断面図である。
他の点については、第1の実施形態と同様でよい。
図7Aは、本開示の第4の実施形態に係るEUV光生成装置において用いられるターゲット供給装置の一対のレールをターゲット出力側から見た図である。図7Bは、図7Aに示す一対の電極のVIIB−VIIB線における断面図である。
他の点については、第3の実施形態と同様でよい。
図8Aは、本開示の第5の実施形態に係るEUV光生成装置において用いられるターゲット供給装置の一対のレールをターゲット出力側から見た図である。図8Bは、図8Aに示す一対の電極のVIIIB−VIIIB線における断面図である。
他の点については、第1の実施形態と同様でよい。
図9Aは、本開示の第6の実施形態に係るEUV光生成装置において用いられるターゲット供給装置の一対のレールをターゲット出力側から見た図である。図9Bは、図9Aに示す一対の電極のIXB−IXB線における断面図である。
他の点については、第1の実施形態と同様でよい。
10.1 構成
図10は、本開示の第7の実施形態に係るEUV光生成装置を概略的に示す一部断面図である。EUV光生成装置は、チャンバ2の内部に、レーザ光集光光学系22aと、EUV集光ミラー23と、ターゲット回収部28と、ビームダンプ44とが設けられてもよい。
EUV光生成制御装置5は、露光装置6(図1)等の外部装置からEUV光出力信号を受信してもよい。EUV光出力信号には、EUV光の出力繰り返し周波数の情報が含まれていてもよい。EUV光生成制御装置5は、EUV光出力信号に基づいて、ターゲット制御部78にターゲット出力信号を送信してもよい。ターゲット制御部78は、ターゲット出力信号に基づいて、ターゲット供給装置26にターゲットを出力させてもよい。
Claims (5)
- レーザ光を出力するように構成されたレーザ装置と共に用いられる極端紫外光生成装置であって、
少なくともひとつの窓が設けられているチャンバと、
前記少なくともひとつの窓を通して前記チャンバ内の所定領域に前記レーザ光を入射させるために前記レーザ光の進行方向を制御するように構成されたレーザ光進行方向制御装置と、
前記所定領域にターゲット物質を供給するように構成されたターゲット供給装置であって、導電性を有する一対のレールと、ターゲット物質を移送して前記一対のレールの間にターゲット物質を挟んで接触させるように構成されたターゲット移送機構と、前記一対のレールに接触したターゲット物質に前記一対のレールを介して電流を供給するように構成された電源と、を有する前記ターゲット供給装置と、
を含む極端紫外光生成装置。 - 前記ターゲット供給装置から前記所定領域へ向かって移動するターゲット物質を検出するように構成されたセンサと、
前記センサの出力に基づいて前記レーザ装置を制御するように構成された制御装置と、
を更に含む、請求項1に記載の極端紫外光生成装置。 - 前記一対のレールは、前記一対のレールのそれぞれの一端が前記所定領域を向くように配置され、
前記ターゲット移送機構は、前記一対のレールのそれぞれの第1の位置の間にターゲット物質を挟んで接触させ、
前記電源は、前記一対のレールの前記それぞれの第1の位置よりも前記それぞれの一端から離れた前記一対のレールのそれぞれの第2の位置を介してターゲット物質に直流電流を供給する、
請求項1に記載の極端紫外光生成装置。 - 前記ターゲット供給装置は、
前記ターゲット移送機構によって前記一対のレールの間に固体のターゲット物質を挟んで接触させるように構成され、
前記電源によって前記一対のレールの間に挟まれた固体のターゲット物質に直流電流を供給し、固体のターゲット物質を溶融させて前記所定領域にターゲット物質を供給するように構成された、
請求項1に記載の極端紫外光生成装置。 - 導電性を有する一対のレールと、ターゲット物質を移送して前記一対のレールの間にターゲット物質を挟んで接触させるターゲット移送機構と、前記一対のレールに接触したターゲット物質に前記一対のレールを介して直流電流を供給するよう構成された電源と、を有するターゲット供給装置を用いたターゲット物質供給方法であって、
前記ターゲット移送機構によって前記一対のレールの間に固体のターゲット物質を挟んで接触させ、
前記電源によって前記一対のレールの間に挟まれた固体のターゲット物質に直流電流を供給し、固体のターゲット物質を溶融させて所定領域にターゲット物質を供給する、
ターゲット供給方法。
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