JP2013147743A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013147743A5 JP2013147743A5 JP2012278030A JP2012278030A JP2013147743A5 JP 2013147743 A5 JP2013147743 A5 JP 2013147743A5 JP 2012278030 A JP2012278030 A JP 2012278030A JP 2012278030 A JP2012278030 A JP 2012278030A JP 2013147743 A5 JP2013147743 A5 JP 2013147743A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- deposition
- source
- target
- vapor
- moving
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 68
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims 64
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims 19
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims 6
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 4
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 claims 1
Claims (6)
- 蒸着方向に指向性を有する蒸着源と、
前記蒸着源を移動する蒸着源移動機構と、
三次元曲面を有する被蒸着体を保持する被蒸着体保持機構と、
前記蒸着源の蒸着方向を変える蒸着方向可変機構と、
前記被蒸着体の三次元曲面に蒸着膜が形成されるように、前記蒸着源移動機構および前記蒸着方向可変機構を制御する制御部と、を有する成膜装置。 - 蒸着方向に指向性を有する蒸着源と、
前記蒸着源を移動する蒸着源移動機構と、
三次元曲面を有する被蒸着体を保持する被蒸着体保持機構と、
前記蒸着方向に対する前記被蒸着体の蒸着面の角度が一定になるように前記被蒸着体の保持角度を変える被蒸着体保持角度可変機構と、
前記被蒸着体の三次元曲面に蒸着膜が形成されるように、前記蒸着源移動機構および前記被蒸着体保持角度可変機構を制御する制御部と、を有する成膜装置。 - 蒸着方向に指向性を有する蒸着源と、
前記蒸着源を移動する蒸着源移動機構と、
三次元曲面を有する被蒸着体を保持する被蒸着体保持機構と、
前記蒸着源の蒸着方向を変える蒸着方向可変機構と、
前記蒸着方向に対する前記被蒸着体の蒸着面の角度が一定になるように前記被蒸着体の保持角度を変える被蒸着体保持角度可変機構と、
前記被蒸着体の三次元曲面に蒸着膜が形成されるように、前記蒸着源移動機構と、前記蒸着方向可変機構および前記被蒸着体保持角度可変機構と、を制御する制御部と、を有する成膜装置。 - 指向性を有する蒸着源を移動しながら被蒸着体の蒸着面の一部に第１の帯状の蒸着層を形成し、前記第１の帯状の蒸着層からずらして第２の帯状の蒸着層を設ける成膜方法であって、
前記蒸着源の蒸着方向または／および前記被蒸着体の保持角度を変えて前記蒸着源の蒸着方向が前記被蒸着体の蒸着面に対して一定の角度を保ちながら蒸着する成膜方法。 - 指向性を有する蒸着源を移動しながら被蒸着体の蒸着面の一部に第１の帯状の蒸着層を形成し、前記第１の帯状の蒸着層からずらして第２の帯状の蒸着層を設ける成膜方法であって、
前記蒸着源の蒸着方向または／および前記被蒸着体の保持角度を変えて、前記蒸着源の蒸着方向の前記被蒸着体の蒸着面に対する角度と、前記蒸着源と前記蒸着面の距離とを、一定に保ちながら蒸着する成膜方法。 - 指向性を有する蒸着源を移動しながら被蒸着体の蒸着面の一部に第１の帯状の蒸着層を形成し、前記第１の帯状の蒸着層からずらして第２の帯状の蒸着層を設ける成膜方法であって、
第１の速度で前記蒸着源を移動しながら、前記蒸着方向に対して正対する前記被蒸着体の蒸着面を帯状に蒸着するステップと、
第２の速度で前記蒸着源を移動しながら、前記蒸着方向に対して傾斜する前記被蒸着体の蒸着面を帯状に蒸着するステップと、を有し、
前記第１の速度は前記第２の速度より速い成膜方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012278030A JP2013147743A (ja) | 2011-12-22 | 2012-12-20 | 成膜装置および成膜方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011280793 | 2011-12-22 | ||
| JP2011280793 | 2011-12-22 | ||
| JP2012278030A JP2013147743A (ja) | 2011-12-22 | 2012-12-20 | 成膜装置および成膜方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017011107A Division JP6339250B2 (ja) | 2011-12-22 | 2017-01-25 | 成膜方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013147743A JP2013147743A (ja) | 2013-08-01 |
| JP2013147743A5 true JP2013147743A5 (ja) | 2015-11-12 |
Family
ID=48654823
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012278030A Withdrawn JP2013147743A (ja) | 2011-12-22 | 2012-12-20 | 成膜装置および成膜方法 |
| JP2017011107A Expired - Fee Related JP6339250B2 (ja) | 2011-12-22 | 2017-01-25 | 成膜方法 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017011107A Expired - Fee Related JP6339250B2 (ja) | 2011-12-22 | 2017-01-25 | 成膜方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9055654B2 (ja) |
| JP (2) | JP2013147743A (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102013109140B4 (de) * | 2013-08-23 | 2017-04-27 | Osram Oled Gmbh | Verfahren zum Herstellen von organischen Leuchtdioden und organische Leuchtdiode |
| DE102013111591A1 (de) * | 2013-10-21 | 2015-04-23 | Osram Oled Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Ausbilden einer organischen funktionellen Schichtenstruktur und optoelektronisches Bauelement |
| KR102315659B1 (ko) | 2013-11-27 | 2021-10-20 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 표시 장치 |
| CN103938161A (zh) * | 2014-04-29 | 2014-07-23 | 京东方科技集团股份有限公司 | 基板蒸镀装置和蒸镀方法 |
| KR101821926B1 (ko) * | 2017-06-02 | 2018-01-24 | 캐논 톡키 가부시키가이샤 | 진공 증착 장치 및 이를 사용한 디바이스 제조방법 |
| JP7323251B2 (ja) * | 2019-07-24 | 2023-08-08 | スタンレー電気株式会社 | 発光装置の製造方法、及び、発光装置 |
| KR20210149266A (ko) * | 2020-06-01 | 2021-12-09 | 삼성디스플레이 주식회사 | 기판 고정 장치, 이를 포함하는 성막 처리 설비 및 이를 이용한 성막 처리 방법 |
| JP7239724B2 (ja) * | 2020-11-06 | 2023-03-14 | 貴嗣 飯塚 | 成膜装置、成膜ユニット及び成膜方法 |
Family Cites Families (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2617775B2 (ja) * | 1988-08-11 | 1997-06-04 | ファナック株式会社 | 水平腕を備えた産業用ロボット |
| JPH05339712A (ja) * | 1992-06-09 | 1993-12-21 | Mitsubishi Electric Corp | 成膜装置 |
| JPH11335847A (ja) * | 1998-05-27 | 1999-12-07 | Nippon Steel Corp | 光起電力装置の製造方法及び製造装置、並びに光起電力装置を有する移動体 |
| TW490714B (en) | 1999-12-27 | 2002-06-11 | Semiconductor Energy Lab | Film formation apparatus and method for forming a film |
| US6739931B2 (en) | 2000-09-18 | 2004-05-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and method of fabricating the display device |
| SG113448A1 (en) | 2002-02-25 | 2005-08-29 | Semiconductor Energy Lab | Fabrication system and a fabrication method of a light emitting device |
| US7309269B2 (en) | 2002-04-15 | 2007-12-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method of fabricating light-emitting device and apparatus for manufacturing light-emitting device |
| JP4634698B2 (ja) | 2002-05-17 | 2011-02-16 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 蒸着装置 |
| TWI336905B (en) | 2002-05-17 | 2011-02-01 | Semiconductor Energy Lab | Evaporation method, evaporation device and method of fabricating light emitting device |
| US20030221620A1 (en) | 2002-06-03 | 2003-12-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Vapor deposition device |
| JP4286496B2 (ja) * | 2002-07-04 | 2009-07-01 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 蒸着装置及び薄膜作製方法 |
| US6692094B1 (en) * | 2002-07-23 | 2004-02-17 | Eastman Kodak Company | Apparatus and method of material deposition using compressed fluids |
| US20040123804A1 (en) | 2002-09-20 | 2004-07-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Fabrication system and manufacturing method of light emitting device |
| US20040135160A1 (en) * | 2003-01-10 | 2004-07-15 | Eastman Kodak Company | OLED device |
| US7211461B2 (en) | 2003-02-14 | 2007-05-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Manufacturing apparatus |
| JP4493926B2 (ja) | 2003-04-25 | 2010-06-30 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 製造装置 |
| US7948171B2 (en) | 2005-02-18 | 2011-05-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device |
| US7368307B2 (en) | 2005-06-07 | 2008-05-06 | Eastman Kodak Company | Method of manufacturing an OLED device with a curved light emitting surface |
| JP4754296B2 (ja) * | 2005-08-11 | 2011-08-24 | 東芝機械株式会社 | 産業用ロボット |
| JP2007088110A (ja) * | 2005-09-21 | 2007-04-05 | Daihen Corp | 基板搬送ロボットの基準位置教示方法 |
| JP2008031501A (ja) * | 2006-07-26 | 2008-02-14 | Canon Inc | 成膜装置および蒸着薄膜の製造方法 |
| JP2008108611A (ja) * | 2006-10-26 | 2008-05-08 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 蒸着層の製造方法および製造装置 |
-
2012
- 2012-12-15 US US13/716,113 patent/US9055654B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2012-12-20 JP JP2012278030A patent/JP2013147743A/ja not_active Withdrawn
-
2017
- 2017-01-25 JP JP2017011107A patent/JP6339250B2/ja not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2013147743A5 (ja) | ||
| WO2015116297A3 (en) | Sequential processing with vapor treatment of thin films of organic-inorganic perovskite materials | |
| BR112018000181A2 (pt) | dispositivo fotovoltaico compreendendo material de perovskita | |
| WO2018085554A3 (en) | Deposition and treatment of films for patterning | |
| EP2525391A3 (en) | Method for producing ferroelectric thin film | |
| WO2016014813A3 (en) | Process for preparing multi-layer electrochromic stacks | |
| EP2525393A3 (en) | Method for producing ferroelectric thin film | |
| JP2017125837A5 (ja) | ||
| WO2016020066A3 (de) | Optisch variables sicherheitselement | |
| GB2519888A (en) | Film deposition assisted by angular selective etch | |
| JP2015143396A5 (ja) | 酸化物半導体膜の成膜方法 | |
| FR2981346B1 (fr) | Procede de traitement thermique de couches d'argent | |
| JP2010248629A5 (ja) | ||
| FR2959244B1 (fr) | Procede de preparation d'un revetement multicouche sur une surface d'un substrat par projection thermique. | |
| WO2013082094A3 (en) | Method for depositing materials on a substrate | |
| JP2015112576A5 (ja) | ||
| WO2013082090A3 (en) | Material deposition system for depositing materials on a substrate | |
| JP2014241409A5 (ja) | 酸化物半導体膜の作製方法 | |
| EP2645441A3 (en) | Method of manufacturing PZT-based ferroelectric thin film | |
| WO2012097268A3 (en) | Nanoparticle deposition systems | |
| JP2014220031A5 (ja) | ||
| JP2015517170A5 (ja) | ||
| PT2586888T (pt) | Fonte de evaporação por arco tendo uma velocidade de formação de película elevada, dispositivo de formação de película e processo de fabrico de película de revestimento usando a fonte de evaporação por arco | |
| WO2010093679A3 (en) | Nanoparticle thin-film coatings for enhancement of boiling heat transfer | |
| WO2016055166A3 (de) | Verfahren zum beschichten eines substrats |