JP2013145021A5 - - Google Patents
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- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 2
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Description
本発明のある態様は、回転機器に関する。この回転機器は、ベースと、コアの突極に巻回されるコイルと、を含む固定体と、ベースの上側の面に設けられ記録ディスクが載置されるべきハブと、コアの突極と半径方向に対向する円筒状マグネットと、を含む回転体と、回転体を潤滑剤を介して回転自在に支持する流体動圧軸受と、を備え、潤滑剤が充填される隙間を形成する回転体の円筒面および固定体の円筒面のうちのいずれか一方には、回転体の回転軸を環囲すると共に回転体が回転するとき潤滑剤にラジアル動圧を生成する帯状のラジアル動圧生成領域が形成され、帯状のラジアル動圧生成領域には、帯状のラジアル動圧生成領域の上端から下側に近いほど浅く且つ狭くなる上側浅狭動圧溝と、帯状のラジアル動圧生成領域の下端から上側に近いほど浅く且つ狭くなる下側浅狭動圧溝と、を含む浅狭ラジアル動圧溝が形成され、浅狭ラジアル動圧溝は、ハブのベース側の端面のうちコイルと軸方向に対向する対向面より上側に位置する部分を含む。
以上、実施の形態に係る回転機器の構成と動作ついて説明した。この実施の形態は例示であり、それらの各構成要素の組み合わせにいろいろな変形例が可能なこと、またそうした変形例も本発明の範囲にあることは当業者に理解されるところである。
なお、実施の形態に係る回転機器は、以下の項目によっても特徴づけられている。
(1)第1ラジアル動圧溝形成領域54はハブ28のベース4側の端面のうちコイル42と軸方向に対向する面より上側に位置する部分を含んでいる。
(2)第1ラジアル動圧溝形成領域54は第2スラスト動圧溝形成領域60より上側に位置する部分を含んでいる。
これらの特徴によれば、そうでない場合に比べて、第1ラジアル動圧溝形成領域54は上側に長くなる。
なお、実施の形態に係る回転機器は、以下の項目によっても特徴づけられている。
(1)第1ラジアル動圧溝形成領域54はハブ28のベース4側の端面のうちコイル42と軸方向に対向する面より上側に位置する部分を含んでいる。
(2)第1ラジアル動圧溝形成領域54は第2スラスト動圧溝形成領域60より上側に位置する部分を含んでいる。
これらの特徴によれば、そうでない場合に比べて、第1ラジアル動圧溝形成領域54は上側に長くなる。
Claims (6)
- ベースと、コアの突極に巻回されるコイルと、を含む固定体と、
前記ベースの上側の面に設けられ記録ディスクが載置されるべきハブと、前記コアの前記突極と半径方向に対向する円筒状マグネットと、を含む回転体と、
前記回転体を潤滑剤を介して回転自在に支持する流体動圧軸受と、を備え、
前記潤滑剤が充填される隙間を形成する前記回転体の円筒面および前記固定体の円筒面のうちのいずれか一方には、前記回転体の回転軸を環囲すると共に前記回転体が回転するとき前記潤滑剤にラジアル動圧を生成する帯状のラジアル動圧生成領域が形成され、
前記帯状のラジアル動圧生成領域には、前記帯状のラジアル動圧生成領域の上端から下側に近いほど浅く且つ狭くなる上側浅狭動圧溝と、前記帯状のラジアル動圧生成領域の下端から上側に近いほど浅く且つ狭くなる下側浅狭動圧溝と、を含む浅狭ラジアル動圧溝が形成され、
前記浅狭ラジアル動圧溝は、前記ハブの前記ベース側の端面のうち前記コイルと軸方向に対向する対向面より上側に位置する部分を含むことを特徴とする回転機器。 - 前記回転体は、回転軸を環囲する円環形状を有し前記ハブの内周面に固定される部材であって、その下面と上面の両面にスラスト動圧溝形成領域が設けられる両面スラスト部材を含み、
前記上側浅狭動圧溝は、前記上面に設けられる前記スラスト動圧溝形成領域より上側に位置する部分を含むことを特徴とする請求項1に記載の回転機器。 - 前記スラスト動圧溝形成領域には、半径方向で外側から内側に向かって浅く且つ狭くされるスパイラル形状の浅狭スラスト動圧溝が形成されることを特徴とする請求項2に記載の回転機器。
- 前記帯状のラジアル動圧生成領域は回転軸を中心とした円筒状の領域であってその直径は1.5mmから4.5mmの範囲内にあり、
前記浅狭ラジアル動圧溝の数は8本から12本の範囲内にあり、
前記上側浅狭動圧溝は、上側の端部における溝の深さが4μmから8μmの範囲内となるよう、且つ、下側の端部における溝の深さが2μmから3.5μmの範囲内となるよう形成されることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の回転機器。 - 前記帯状のラジアル動圧生成領域には、複数の前記浅狭ラジアル動圧溝が周方向に規則的に配列され、
前記上側浅狭動圧溝は、上側の端部における溝のピッチに対する溝の幅の比が0.50から0.80の範囲内となるよう、且つ、下側の端部における溝のピッチに対する溝の幅の比が0.10から0.30の範囲内となるよう形成されることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の回転機器。 - 前記上側浅狭動圧溝は、その溝の深さが段階的または曲線的に変化することを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の回転機器。
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JP2012006024A JP2013145021A (ja) | 2012-01-16 | 2012-01-16 | 回転機器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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Family Applications (1)
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