JP2013134166A

JP2013134166A - 模擬ガス供給装置

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Publication number: JP2013134166A
Application number: JP2011284885A
Authority: JP
Inventors: Takahiro Shiota; 隆宏塩田
Original assignee: Horiba Ltd
Current assignee: Horiba Ltd
Priority date: 2011-12-27
Filing date: 2011-12-27
Publication date: 2013-07-08
Anticipated expiration: 2031-12-27
Also published as: JP5476364B2

Abstract

【課題】マスフローコントローラによる流量制御に頼ることなく、模擬ガスの成分濃度又は流量の切り替えにおいてその過渡期における成分濃度又は流量の制御を容易にし、模擬ガスの成分濃度又は流量に対する所望の変動を精度良く再現する。
【解決手段】流量調整機器７により一定流量とされた模擬ガス生成用の第１ガスを供給する第１ガス供給路２と、第１ガス供給路２が接続され、第１ガス供給路２により供給される第１ガスを加熱する第１ガス加熱部４と、第１ガス加熱部４により第１ガスが加熱されて生成される模擬ガスを試験対象に供給する模擬ガス供給路６とを備え、第１ガス供給路２が、第１ガスを第１ガス加熱部４に供給する供給分岐路２１と、第１ガスを外部に排出する排出分岐路２２と、第１ガスを供給分岐路２１及び排出分岐路２２の間で選択的に切り替える切り替え弁機構２３とを有し、切り替え弁機構２３により第１ガスを供給分岐路２１に間欠的に流すことにより、第１ガス加熱部４に供給される第１ガスの流量を調整する。
【選択図】図１

Description

本発明は、例えば触媒やガス分析計等の試験対象に模擬ガスを供給する模擬ガス供給装置に関するものである。

従来、自動車の排気管等に設けられる触媒を評価する場合には、エンジンからの排ガスと同様の成分を含む模擬ガスが用いられている。ここで、模擬ガスとは、例えば、ＮＯ_Ｘ、ＣＯ_２、ＨＣ、Ｈ_２、Ｏ_２などのエンジン排ガスに含まれる各種成分をエンジン排ガスにおける濃度と同様の濃度となるように窒素ガスと混合したものである。

そして、前記模擬ガスを用いて触媒の評価を行うものとして、特許文献１に示すように、模擬ガス供給路から供給される模擬ガスが流れるガスセルに沿って上流側から第１加熱部及び第２加熱部をこの順に設け、第１加熱部により模擬ガスを加熱し、第２加熱部によりガスセルに設けられた触媒を加熱するように構成された触媒評価試験装置がある。

この触媒評価試験装置は、模擬ガス供給路上に当該模擬ガスの流量を調整するマスフローコントローラを配置している。そしてこのマスフローコントローラの設定流量を調整することによって第１加熱部に供給される模擬ガス流量を制御している。

しかしながら、マスフローコントローラにより模擬ガスの流量を制御（例えばＰＩＤ制御）するものでは、マスフローコントローラの制御応答の遅れにより、流量切り替えにおける過渡期の流量を制御することが難しい。つまり、マスフローコントローラを、所望の流量変化となるように流量制御したとしても、マスフローコントローラの制御応答の遅れにより、実際に生成される模擬ガスの流量が所望の流量変化とはならないという問題がある。

また、マスフローコントローラにより模擬ガスの流量を制御（例えばＰＩＤ制御）して模擬ガス中の濃度を制御するものでは、マスフローコントローラの制御応答の遅れにより、濃度切り替えにおける過渡期の成分濃度を制御することが難しい。つまり、マスフローコントローラを、模擬ガス中の成分濃度が所望の濃度変化となるように流量制御したとしても、マスフローコントローラの制御応答の遅れにより、実際に生成される模擬ガス中の成分濃度が所望の濃度変化とはならないという問題がある。この問題は、図９に示すように、第１ガスを供給する第１ガス供給路及び第２ガスを供給する第２ガス供給路にそれぞれマスフローコントローラを設ける等、複数のマスフローコントローラを制御して模擬ガスの成分濃度を調整するものにおいて特に顕著となる。

特開２００３−１２６６５８号公報

そこで本発明は、上記問題点を一挙に解決すべくなされたものであり、マスフローコントローラによる流量制御に頼ることなく、模擬ガスの成分濃度又は流量の切り替えにおいてその過渡期における流量又は成分濃度の制御を容易にし、模擬ガスの流量又は成分濃度に対する所望の変化を精度良く再現することをその主たる所期課題とするものである。

すなわち本発明に係る模擬ガス供給装置は、模擬ガスを生成して試験対象に供給する模擬ガス供給装置であって、流量調整機器により一定流量とされた模擬ガス生成用の第１ガスを供給する第１ガス供給路と、前記第１ガス供給路が接続され、当該第１ガス供給路により供給される第１ガスを加熱する第１ガス加熱部と、前記第１ガス加熱部により前記第１ガスが加熱されて生成される模擬ガスを前記試験対象に供給する模擬ガス供給路とを備え、前記第１ガス供給路が、前記第１ガスを前記第１ガス加熱部に供給する第１ガス供給分岐路及び前記第１ガスを外部に排出する第１ガス排出分岐路に分岐しており、前記第１ガスを前記第１ガス供給分岐路及び前記第１ガス排出分岐路の間で選択的に切り替える切り替え弁機構を有し、前記切り替え弁機構により前記第１ガスを前記第１ガス供給分岐路に間欠的に流すことにより、前記第１ガス加熱部に供給される第１ガスの流量を調整することを特徴とする。

このようなものであれば、流量調整機器により一定流量とされた第１ガスを第１ガス供給分岐路及び第１ガス排出分岐路に選択的に切り替えることで第１ガスを第１ガス供給分岐路に間欠的に流して第１ガスの流量を調整しているので、流量調整機器により第１ガスの流量を変化させる必要が無い。これにより、流量調整機器は第１ガスを一定流量とすれば良いので、流量調整機器の制御応答の遅れを考慮することなく、模擬ガスの流量を変化させる場合においてその過渡期における流量の制御を容易にし、模擬ガスの流量に対する所望の変化を精度良く再現することができる。また、このように過渡期における流量の制御を容易にできることから、模擬ガスの成分濃度の切り替えにおいてその過渡期における成分濃度の制御を容易にし、模擬ガスの成分濃度に対する所望の変化を精度良く再現することができる。

また本発明に係る模擬ガス供給装置は、模擬ガスを生成して試験対象に供給する模擬ガス供給装置であって、模擬ガス生成用の第１ガスを供給する第１ガス供給路と、流量調整機器により一定流量とされた模擬ガス生成用の第２ガスを供給する第２ガス供給路と、前記第１ガス供給路が接続され、当該第１ガス供給路により供給される第１ガスを加熱する第１ガス加熱部と、前記第２ガス供給路が接続され、当該第２ガス供給路により供給される第２ガス及び前記第１ガス加熱部により加熱された第１ガスを混合して模擬ガスを生成する模擬ガス生成部と、前記模擬ガス生成部により生成される模擬ガスを前記試験対象に供給する模擬ガス供給路とを備え、前記第２ガス供給路が、前記第２ガスを前記模擬ガス生成部に供給する第２ガス供給分岐路及び前記第２ガスを外部に排出する第２ガス排出分岐路に分岐しており、前記第２ガスを前記第２ガス供給分岐路及び前記第２ガス排出分岐路の間で選択的に切り替える切り替え弁機構を有し、前記切り替え弁機構により前記第２ガスを前記第２ガス供給分岐路に間欠的に流すことにより、前記模擬ガス生成部に供給される第２ガスの流量を調整することを特徴とする。

このようなものであれば、流量調整機器により一定流量とされた第２ガスを第２ガス供給分岐路及び第２ガス排出分岐路に切り替え、第２ガスを第２ガス供給分岐路に間欠的に流して模擬ガス生成部に供給される第２ガスの流量を調整しているので、流量調整機器により第２ガスの流量を変化させる必要が無い。これにより、流量調整機器は第２ガスを一定流量とすれば良いので、流量調整機器の制御応答の遅れを考慮することなく、模擬ガスの流量を変化させる場合においてその過渡期における流量の制御を容易にし、模擬ガスの流量に対する所望の変化を精度良く再現することができる。また、このように過渡期における流量の制御を容易にできることから、模擬ガスの成分濃度の切り替えにおいてその過渡期における成分濃度の制御を容易にし、模擬ガスの成分濃度に対する所望の変化を精度良く再現することができる。

前記第１ガス供給路が複数設けられているものにおいては、従来マスフローコントローラの台数が増えることから本発明の課題が一層顕著となる。このため、このようなものに本発明を適用することで、本発明の効果が一層顕著となる。なお、第１ガス供給路が複数設けられている場合には、各第１ガス供給路により供給される第１ガスの種類を異ならせることにより、複数種の模擬ガスを生成することができる。

前記第２ガス供給路が複数設けられているものにおいては、従来マスフローコントローラの台数が増えることから本発明の課題が一層顕著となる。このため、このようなものに本発明を適用することで、本発明の効果が一層顕著となる。なお、第２ガス供給路が複数設けられている場合には、各第２ガス供給路により供給される第２ガスの種類を異ならせることにより、複数種の模擬ガスを生成することができる。

本発明の模擬ガス供給装置を用いた触媒評価装置を構成するためには、前記試験対象となる触媒が設置されるとともに当該触媒を加熱する触媒加熱部を有し、前記触媒加熱部に前記模擬ガス供給路が接続されていることが望ましい。

このように構成した本発明によれば、マスフローコントローラによる流量制御に頼ることなく、模擬ガスの成分濃度又は流量の切り替えにおいてその過渡期における成分濃度又は流量の制御を容易にし、模擬ガスの成分濃度又は流量に対する所望の変動を精度良く再現することができる。

本実施形態の模擬ガス供給装置の構成を示す模式図。同実施形態の第１ガス及び第２ガスの供給方式及び供給量を示す図。変形実施形態の模擬ガス供給装置の構成を示す模式図。変形実施形態の模擬ガス供給装置の構成を示す模式図。変形実施形態の模擬ガス供給装置の構成を示す模式図。変形実施形態の模擬ガス供給装置の構成を示す模式図。変形実施形態の模擬ガス供給装置の構成を示す模式図。変形実施形態の模擬ガス供給装置の構成を示す模式図。従来の模擬ガス供給装置の構成を示す模式図。

以下に本発明に係る模擬ガス供給装置１００について図面を参照して説明する。

本実施形態の模擬ガス供給装置１００は、エンジン排ガスを模擬した模擬ガスを生成して試験対象である触媒２００に供給するものであり、触媒評価試験装置に組み込まれて用いられる。

具体的にこのものは、模擬ガス生成用の第１ガスを供給する第１ガス供給路２と、模擬ガス生成用の第２ガスを供給する第２ガス供給路３と、第１ガス供給路２が接続され、当該第１ガス供給路２により供給される第１ガスを加熱する第１ガス加熱部４と、第２ガス供給路３が接続され、当該第２ガス供給路３により供給される第２ガス及び前記第１ガス加熱部４により加熱された第１ガスを混合して模擬ガスを生成する模擬ガス生成部５と、模擬ガス生成部５により生成された模擬ガスを触媒２００に供給する模擬ガス供給路６とを備えている。

第１ガス供給路２は、図１においては１つしか図示していないが、第１ガスの成分に応じて複数設けられているものであっても良い。また、第１ガス供給路２には、第１ガスを発生させる第１ガス発生部（不図示）が接続されている。なお、第１ガスとは、複数成分のガスを混合してなる混合ガスであっても良いし、単一成分のガスであっても良い。

また、第１ガス供給路２には、第１ガス発生部から供給される第１ガスの流量を一定流量に調整するための流量調整機器７が設けられている。この流量調整機器７は、例えばマスフローコントローラにより構成することが考えられるが、本実施形態では、このマスフローコントローラの流量設定値を一定とすることにより、第１ガス供給路２を流れる第１ガスの流量を一定流量に調整している。なお、流量調整機器７としては、その他、流量調整バルブ等を用いても良い。

第２ガス供給路３は、図１においては１つしか図示していないが、第２ガスの成分に応じて複数設けられているものであっても良い。また、第２ガス供給路３には、第２ガスを発生させる第２ガス発生部（不図示）が接続されている。この第２ガスは、第１ガス加熱部４により加熱されると反応してしまうガスであり、例えばＣＯやＮＯ_Ｘ等である。また、第２ガスも、前記第１ガスと同様に、複数成分のガスを混合してなる混合ガスであっても良いし、単一成分のガスであっても良い。

また、第２ガス供給路３には、第２ガス発生部から供給される第２ガスの流量を一定流量に調整するための流量調整機器８が設けられている。この流量調整機器８は、例えばマスフローコントローラにより構成することが考えられるが、本実施形態では、このマスフローコントローラの流量設定値を一定とすることにより、第２ガス供給路３を流れる第１ガスの流量を一定流量に調整している。なお、流量調整機器８としては、その他、流量調整バルブ等を用いても良い。

第１ガス加熱部４は、第１ガス供給路２により第１ガスが供給されるセル４１と当該セル４１の外周部に設けられたヒータ等の加熱手段４２とを備えている。また、触媒加熱部１１は、試験対象である触媒を収容するとともに模擬ガス生成部５により生成された模擬ガスが供給されるセル１１１と当該セル１１１の外周部に設けられたヒータ等の加熱手段１１２とを備えている。さらに模擬ガス生成部５は、第１ガス及び第２ガスを撹拌して混合するものであり、例えばノズル部を有するものが考えられる。

なお、触媒加熱部１１において触媒２００を通過した模擬ガスは、外部に設けられたガス分析装置（不図示）に供給されて、その模擬ガス中の成分濃度が分析される。そして、触媒通過前の模擬ガスの成分濃度と比較することによって触媒２００の性能が評価される。なお、触媒２００の入口近傍には、触媒２００の温度を検出するための温度検出部（不図示）が設けられており、この温度検出部により検出温度に基づいて前記触媒加熱部１１が制御されて触媒２００の温度が制御される。

しかして本実施形態の模擬ガス供給装置１００は、第１ガス供給路２が、第１ガスを第１ガス加熱部４に供給する第１ガス供給分岐路２１及び第１ガスを外部に排出する第１ガス排出分岐路２２に分岐しており、第１ガスを第１ガス供給分岐路２１及び第１ガス排出分岐路２２の間で選択的に切り替える第１ガス切り替え弁機構２３を有している。

第１ガス供給分岐路２１及び第１ガス排出分岐路２２は、流量調整機器７の下流側で分岐している。そして、第１ガス供給分岐路２１が、第１ガス加熱部４に接続されている。また、第１ガス排出分岐路２２が、触媒加熱部１１に接続された排気路９に接続されている。

第１ガス切り替え弁機構２３は、第１ガス供給分岐路２１に設けられた供給側開閉弁２３１と、第１ガス排出分岐路２２に設けられた排出側開閉弁２３２とを有する。これらの開閉弁２３１、２３２は例えばミリ秒オーダーで開閉可能な電磁弁であり、制御装置によりその開閉時間が制御される。なお、制御装置（不図示）は、ＣＰＵ、メモリ、入出力インターフェイス、ＡＤ変換器等を有する専用乃至汎用のコンピュータである。

また、第２ガス供給路３が、第２ガスを模擬ガス生成部５に供給する第２ガス供給分岐路３１及び第２ガスを外部に排出する第２排出分岐路３２に分岐しており、第２ガスを第２ガス供給分岐路３１及び第２ガス排出分岐路３２の間で選択的に切り替える第２ガス切り替え弁機構３３を有している。

第２ガス供給分岐路３１及び第２ガス排出分岐路３２は、流量調整機器８の下流側で分岐している。そして、第２ガス供給分岐路３１が、模擬ガス生成部５に接続されている。また、第２ガス排出分岐路３２が、触媒加熱部１１に接続された排気路９に接続されている。

第２ガス切り替え弁機構３３は、第２ガス供給分岐路３１に設けられた供給側開閉弁３３１と、第２ガス排出分岐路３２に設けられた排出側開閉弁３３２とを有する。これらの開閉弁３３１、３３２は例えばミリ秒オーダーで開閉可能な電磁弁であり、前記制御装置によりその開閉時間が制御される。

次にこのように構成した模擬ガス供給装置１００の動作について図２を参照して説明する。

制御装置は、第１ガス切り替え弁機構２３を制御することにより、流量調整機器７により一定流量とされた第１ガスを第１ガス供給分岐路２１及び第１ガス排出分岐路２２の間で選択的に切り替え、第１ガスを第１ガス供給分岐路２１に間欠的に流すことにより、第１ガス加熱部４に供給される第１ガスの流量を調整する。具体的に制御装置は、第１ガス切り替え弁機構２３の供給側開閉弁２３１及び排出側開閉弁２３２をオンオフ制御する。例えば図２の上段に示すように、第１ガス切り替え弁機構２３の供給側開閉弁２３１の開閉時間比率（デューティ―比）を５０％とすることにより、流量調整機器７の流量設定値Ｑ１の５０％の流量を第１ガス加熱部４に供給することができる。このように、供給側開閉弁２３１の開閉時間比率を制御することにより第１ガス加熱部４に供給する流量を調整する。なお、供給側開閉弁２３１を閉じる場合には、第１ガスを排出するために排出路開閉弁２３２を開ける。

また、制御装置は、第２ガス切り替え弁機構３３を制御することにより、流量調整機器８により一定流量とされた第２ガスを第２ガス供給分岐路３１及び第２ガス排出分岐路３２の間で選択的に切り替え、第２ガスを第２ガス供給分岐路３１に間欠的に流すことにより、模擬ガス生成部５に供給される第２ガスの流量を調整する。具体的に制御装置は、第２ガス切り替え弁機構３３の供給側開閉弁３３１及び排出側開閉弁３３２をオンオフ制御する。例えば図２の下段に示すように、第２ガス切り替え弁機構３３の供給側開閉弁３３１の開閉時間比率（デューティ―比）を７５％とすることにより、流量調整機器８の流量設定値Ｑ２の７５％の流量を模擬ガス生成部５に供給することができる。このように、供給側開閉弁３３１の開閉時間比率を制御することにより模擬ガス生成部５に供給する流量を調整する。なお、供給側開閉弁３３１を閉じる場合には、第２ガスを排出するために排出側開閉弁３３２を開ける。

このように構成した本実施形態に係る模擬ガス供給装置１００によれば、流量調整機器７により一定流量とされた第１ガスを第１ガス供給分岐路２１及び第１ガス排出分岐路２２に選択的に切り替えることで第１ガスを第１ガス供給分岐路２１に間欠的に流して第１ガス加熱部４に供給される第１ガスの流量を調整しているので、流量調整機器７により第１ガスの流量を変化させる必要が無い。また、流量調整機器８により一定流量とされた第２ガスを第２ガス供給分岐路３１及び第２ガス排出分岐路３２に切り替え、第２ガスを第２ガス供給分岐路３１に間欠的に流して模擬ガス生成部５に供給される第２ガスの流量を調整しているので、流量調整機器８により第２ガスの流量を変化させる必要が無い。これにより、流量調整機器７、８は第１ガス及び第２ガスを一定流量とすれば良いので、流量調整機器７、８の制御応答の遅れを考慮することなく、模擬ガスの流量を変化させる場合においてその過渡期における流量の制御を容易にし、模擬ガスの流量に対する所望の変化を精度良く再現することができる。また、このように過渡期における流量の制御を容易にできることから、模擬ガスの成分濃度の切り替えにおいてその過渡期における成分濃度の制御を容易にし、模擬ガスの成分濃度に対する所望の変化を精度良く再現することができる。

なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。

例えば、図３に示すように、模擬ガス生成部５に第２ガスを供給する第２ガス供給路３を複数（図３では２つ）設けたものであっても良い。この場合、各第２ガス供給路３により模擬ガス生成部５に供給される各第２ガスの種類を異ならせることが考えられる。ここで各第２ガスの種類を異ならせるとは、各第２ガスが単一成分からなる場合にはその成分を異ならせることであり、各第２ガスが複数成分のガスを混合してなる混合ガスの場合には、各第２ガスを構成する複数成分の一部又は全部を異ならせることである。なお、図３においては、第１ガス供給路３が、従来通り、流量調整機器７により第１ガスの流量が調整される場合を示している。

また、図４に示すように、第１ガス加熱部４に第１ガスを供給する第１ガス供給路２を複数（図３では２つ）設けた場合であっても良く、模擬ガス生成部５に第２ガスを供給する第２ガス供給路３を複数（図３では２つ）設けたものであっても良い。この場合、各第１ガス供給路２により第１ガス加熱部４に供給される各第１ガスの種類を異ならせることが考えられる。ここで各第１ガスの種類を異ならせるとは、各第１ガスが単一成分からなる場合にはその成分を異ならせることであり、各第１ガスが複数成分のガスを混合してなる混合ガスの場合には、各第１ガスを構成する複数成分の一部又は全部を異ならせることである。

さらに、図３及び図４に示すように、第１ガス供給路２又は第２ガス供給路３を複数設けた場合には、それらガス供給路２、３に設けられた流量調整機器７、８の流量設定値を異ならせるように構成しても良い。例えば第１ガス供給路２を２つ設け、それら第１ガス供給路２により同一の第１ガスを供給する場合には、図４に示すように、一方の第１ガス供給路２ａに設けられた流量調整機器７ａの流量設定値をＱｘ、他方の第１ガス供給路２ｂに設けられた流量調整機器７ｂの流量設定値をＱｙとした場合に、例えばＱｘ＞Ｑｙとすることが考えられる。このように複数の第１ガス供給路２を用いてそれらの流量調整機構７の設定流量値を異ならせているものであれば、１つの第１ガス供給路２を用いて当該第１ガス供給路２の切り替え弁機構２３の開閉動作により流量制御を行う場合に比べて第１ガスの流量制御をより広範囲に亘って行うことが可能となる。

さらに前記実施形態では、模擬ガスは、第１ガス及び第２ガスを混合することで生成されるものであったが、図５に示すように、第２ガスを用いることなく、第１ガスを第１ガス加熱部で加熱することによって生成されるものであっても良い。この場合、模擬ガスの流量の切り替えにおいてその過渡期における流量の制御を容易にし、模擬ガスの流量に対する所望の変化を精度良く再現することができる。

その上、切り替え弁機構２３、３３としては、供給側開閉弁２３１、３３１及び排出側開閉弁２３２、３３２により構成されるものの他、図６に示すように、三方弁を用いて構成したものであっても良い。これならば、配管構成を簡略化することができる。

また前記実施形態では、第１ガス加熱部４、模擬ガス生成部５、模擬ガス供給路６及び触媒加熱部１１を別々に構成したものであったが、図７に示すように、第１ガス加熱部４、模擬ガス生成部５、模擬ガス供給路６及び触媒加熱部１１を単一のチャンバ（模擬ガス生成セル）１０により形成しても良い。つまり、この模擬ガス生成セル１０において上流側に第１ガス加熱部４が設けられ、下流側に模擬ガス生成セル１０内に配置された触媒２００を加熱するため触媒加熱部１１が設けられ、第１ガス加熱部４及び触媒加熱部１１の間に模擬ガス生成部５が設けられている。そして、この模擬ガス生成部５に第２ガス供給路３が接続されている。

また前記実施形態の模擬ガス供給装置１００において、図８に示すように、第２ガス排出分岐路３２において排出側開閉弁３３２の下流側に圧力調整弁等の圧力調整機構３３３を設けることが望ましい。この圧力調整機構３３３は、排出側開閉弁３３２の出口の圧力を調整するものであり、具体的には、排出側開閉弁３３２の出口の圧力を第２ガス供給分岐路３１の供給側開閉弁３３１の出口の圧力と同一圧力に調節するものである。より詳細には、供給側開閉弁３３１の出口側に圧力センサを設け、この圧力センサの圧力信号を取得した制御装置が圧力調整機構３３３を制御することで、排出側開閉弁３３２の出口の圧力が第２ガス供給分岐路３１の供給側開閉弁３３１の出口の圧力と同一圧力に調節される。これにより、第２ガス供給分岐路３１から模擬ガス生成部５及び加熱触媒部１１に安定してガスを供給することができる。なお、同様に、第１ガス排出分岐路２２において排出側開閉弁２３２の下流側に圧力調整弁等の圧力調整機構を設けることも考えられる。

その上、本発明は、触媒評価試験装置に用いるものの他、ガス分析計に模擬ガスを供給することにより、当該ガス分析計の性能試験を行うものにも適用可能である。

その他、本発明は前記実施形態に限られず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能であるのは言うまでもない。

１００・・・模擬ガス供給装置
２００・・・触媒
２・・・第１ガス供給路
２１・・・第１ガス供給分岐路
２２・・・第１ガス排出分岐路
２３・・・切り替え弁機構
３・・・第２ガス供給路
３１・・・第２ガス供給分岐路
３２・・・第２ガス排出分岐路
３３・・・切り替え弁機構
４・・・第１ガス加熱部
５・・・模擬ガス生成部
６・・・模擬ガス供給路
７・・・流量調整機器
８・・・流量調整機器

Claims

模擬ガスを生成して試験対象に供給する模擬ガス供給装置であって、
流量調整機器により一定流量とされた模擬ガス生成用の第１ガスを供給する第１ガス供給路と、
前記第１ガス供給路が接続され、当該第１ガス供給路により供給される第１ガスを加熱する第１ガス加熱部と、
前記第１ガス加熱部により前記第１ガスが加熱されて生成される模擬ガスを前記試験対象に供給する模擬ガス供給路とを備え、
前記第１ガス供給路が、前記第１ガスを前記第１ガス加熱部に供給する第１ガス供給分岐路及び前記第１ガスを外部に排出する第１ガス排出分岐路に分岐しており、前記第１ガスを前記第１ガス供給分岐路及び前記第１ガス排出分岐路の間で選択的に切り替える切り替え弁機構を有し、
前記切り替え弁機構により前記第１ガスを前記第１ガス供給分岐路に間欠的に流すことにより、前記第１ガス加熱部に供給される第１ガスの流量を調整する模擬ガス供給装置。
模擬ガスを生成して試験対象に供給する模擬ガス供給装置であって、
模擬ガス生成用の第１ガスを供給する第１ガス供給路と、
流量調整機器により一定流量とされた模擬ガス生成用の第２ガスを供給する第２ガス供給路と、
前記第１ガス供給路が接続され、当該第１ガス供給路により供給される第１ガスを加熱する第１ガス加熱部と、
前記第２ガス供給路が接続され、当該第２ガス供給路により供給される第２ガス及び前記第１ガス加熱部により加熱された第１ガスを混合して模擬ガスを生成する模擬ガス生成部と、
前記模擬ガス生成部により生成される模擬ガスを前記試験対象に供給する模擬ガス供給路とを備え、
前記第２ガス供給路が、前記第２ガスを前記模擬ガス生成部に供給する第２ガス供給分岐路及び前記第２ガスを外部に排出する第２ガス排出分岐路に分岐しており、前記第２ガスを前記第２ガス供給分岐路及び前記第２ガス排出分岐路の間で選択的に切り替える切り替え弁機構を有し、
前記切り替え弁機構により前記第２ガスを前記第２ガス供給分岐路に間欠的に流すことにより、前記模擬ガス生成部に供給される第２ガスの流量を調整する模擬ガス供給装置。
前記第１ガス供給路が複数設けられている請求項１記載の模擬ガス供給装置。
前記第２ガス供給路が複数設けられている請求項２記載の模擬ガス供給装置。
前記試験対象となる触媒が設置されるとともに当該触媒を加熱する触媒加熱部を有し、
前記触媒加熱部に前記模擬ガス供給路が接続されている請求項１乃至４の何れかに記載の模擬ガス供給装置。