JP2013122956A - Processing device - Google Patents
Processing device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013122956A JP2013122956A JP2011270113A JP2011270113A JP2013122956A JP 2013122956 A JP2013122956 A JP 2013122956A JP 2011270113 A JP2011270113 A JP 2011270113A JP 2011270113 A JP2011270113 A JP 2011270113A JP 2013122956 A JP2013122956 A JP 2013122956A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing
- workpiece
- processing chamber
- grinding
- chuck table
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims abstract description 73
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims abstract description 29
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims abstract description 15
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 claims description 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 4
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 42
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 31
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 8
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 7
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 5
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 5
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 3
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000013308 plastic optical fiber Substances 0.000 description 1
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Machine Tool Sensing Apparatuses (AREA)
- Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
Abstract
Description
本発明は、被加工物を加工する加工ホイールを備えた加工装置に関する。 The present invention relates to a processing apparatus provided with a processing wheel for processing a workpiece.
光デバイスの製造プロセスでは、サファイア基板や炭化珪素基板等の結晶成長用基板の表面に格子状に形成された複数の分割予定ラインで区画される各領域に発光ダイオード(LED)やレーザダイオード(LD)等の発光素子を形成して、光デバイスウエーハを製造する。 In the manufacturing process of an optical device, a light emitting diode (LED) or laser diode (LD) is formed in each region partitioned by a plurality of division lines formed in a lattice pattern on the surface of a crystal growth substrate such as a sapphire substrate or a silicon carbide substrate. ) And the like to form an optical device wafer.
その後、光デバイスウエーハの結晶成長用基板側を研削装置で研削して所定の厚みまで薄化し、研磨装置により研磨して研削歪を除去する。更に電極を形成した後、分割予定ラインに沿って分割することで、個々の光デバイスチップを製造している。 Thereafter, the crystal growth substrate side of the optical device wafer is ground by a grinding device to be thinned to a predetermined thickness, and polished by a polishing device to remove grinding distortion. Furthermore, after forming an electrode, it divides | segments along a division | segmentation scheduled line, and each optical device chip | tip is manufactured.
研削装置や研磨装置でサファイア基板等の被加工物を加工している最中、被加工物に破損が生じるとその被加工物全体が不良品となり、大量のデバイスを失うことになる。そこで、被加工物が破損する前に、被加工物に発生する僅かな異常を検出するべく、加工中の被加工物の状態を観察しうる加工装置が要望されている。 While a workpiece such as a sapphire substrate is being processed by a grinding device or a polishing device, if the workpiece is damaged, the entire workpiece becomes defective and a large number of devices are lost. Therefore, there is a demand for a processing apparatus that can observe the state of the workpiece being processed in order to detect a slight abnormality occurring in the workpiece before the workpiece is damaged.
通常これらの加工装置では、加工液を加工点に供給しつつ加工が遂行され、加工液が加工装置内に飛散することを防止するために加工点を覆い加工室を画成する加工室カバーを有している。 Usually, in these processing devices, processing is performed while supplying the processing fluid to the processing point, and a processing chamber cover that covers the processing point and defines the processing chamber is provided to prevent the processing fluid from splashing into the processing device. Have.
被加工物の状態を観察するための撮像手段を加工室内部に配設すると、撮像手段に加工液が付着し、撮像できないという問題がある。一方、加工室カバーを透明にし、カバーを介して撮像手段で撮像しようとしてもカバーに加工液が付着し、撮像できないという問題がある。特に、連続加工に伴い、これら加工液に起因する問題の発生頻度は高まることになる。 If an image pickup means for observing the state of the workpiece is disposed in the inside of the processing chamber, there is a problem that the processing liquid adheres to the image pickup means and the image cannot be taken. On the other hand, there is a problem that even if the processing chamber cover is made transparent and an image is taken by the imaging means through the cover, the processing liquid adheres to the cover and imaging cannot be performed. In particular, with continuous machining, the frequency of occurrence of problems due to these machining fluids increases.
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、加工中の被加工物の状態を観察可能な加工装置を提供することである。 This invention is made | formed in view of such a point, The place made into the objective is providing the processing apparatus which can observe the state of the to-be-processed object in process.
本発明によると、加工装置であって、被加工物を回転可能に保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物の一部を覆うように被加工物に当接して被加工物に露出部を形成した状態で回転しつつ被加工物を加工する加工ホイールを有する加工手段と、少なくとも該チャックテーブルと該加工ホイールとを覆って加工室を画成する加工室カバーと、一端が該加工室カバーに形成された開口部に接続された所定の長さを有するパイプ部材と、該パイプ部材の他端側に配設され、加工中に該パイプ部材を通じて被加工物の該露出部を撮像する撮像手段と、一端が光源に接続され該加工室カバーを貫通して他端が該加工室内に配設された該露出部を照らす光ファイバと、を具備したことを特徴とする加工装置が提供される。 According to the present invention, there is provided a machining apparatus, a chuck table that rotatably holds a workpiece, and a workpiece that is in contact with the workpiece so as to cover a part of the workpiece held on the chuck table. A processing means having a processing wheel for processing a workpiece while rotating in a state where an exposed portion is formed on the object, a processing chamber cover for covering at least the chuck table and the processing wheel and defining a processing chamber, and one end A pipe member having a predetermined length connected to an opening formed in the processing chamber cover, and disposed on the other end side of the pipe member, and the workpiece is exposed through the pipe member during processing. And an optical fiber that illuminates the exposed portion that is connected to the light source and penetrates the processing chamber cover and has the other end disposed in the processing chamber. A processing apparatus is provided.
好ましくは、撮像手段は高速度カメラから構成される。好ましくは、撮像手段は被加工物の露出部を撮像して撮像画像を形成し、加工装置は撮像画像に基づいて被加工物に発生した異常を検出する検出部を有する制御手段を更に備えている。 Preferably, the imaging means is composed of a high speed camera. Preferably, the imaging unit images an exposed part of the workpiece to form a captured image, and the processing apparatus further includes a control unit having a detection unit that detects an abnormality occurring in the workpiece based on the captured image. Yes.
本発明によると、所定の長さを有するパイプ部材を介して照明された被加工物の露出部を撮像手段で撮像するため、連続加工時でも加工液によって撮像が阻害されることがなく、加工中の被加工物の状態を撮像手段で撮像することにより観察可能である。 According to the present invention, since the exposed portion of the workpiece illuminated through the pipe member having a predetermined length is imaged by the imaging means, the imaging is not hindered by the machining liquid even during continuous machining. It is possible to observe the state of the workpiece inside by taking an image with an imaging means.
以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1を参照すると、本発明の実施形態に係る研削装置2の加工カバーを取り外した状態の斜視図が示されている。図2は加工カバーを装着した状態の斜視図である。4は研削装置2のベースであり、ベース4の後方にはコラム6が立設されている。コラム6には、上下方向に伸びる二対のガイドレール8,36が固定されている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Referring to FIG. 1, a perspective view of the grinding apparatus 2 according to the embodiment of the present invention with a processing cover removed is shown. FIG. 2 is a perspective view of a state in which the processing cover is mounted. Reference numeral 4 denotes a base of the grinding apparatus 2, and a
一対のガイドレール8に沿って粗研削ユニット10が上下方向に移動可能に装着されている。粗研削ユニット10は、そのハウジング14が支持部材28を介して一対のガイドレール8に沿って上下方向に移動する移動基台12に取り付けられている。
A
粗研削ユニット10は、ハウジング14と、ハウジング14中に回転可能に収容されたスピンドル16と、スピンドル16の先端に固定されたホイールマウント18と、スピンドル16を回転駆動するサーボモータ20と、ホイールマウント18に着脱可能に装着された粗研削ホイール22とを含んでいる。粗研削ホイール22は、ホイール基台24と、ホイール基台24の自由端部に環状に固着された複数の粗研削用の研削砥石26とから構成される。
The
粗研削ユニット10は、粗研削ユニット10を一対の案内レール8に沿って上下方向に移動するボールねじ30とパルスモータ32とから構成される粗研削ユニット送り機構34を備えている。パルスモータ32をパルス駆動すると、ボールねじ30が回転し、移動基台12が上下方向に移動される。
The
コラム6に固定された他の一対のレール36に沿って仕上げ研削ユニット38が上下方向に移動可能に装着されている。仕上げ研削ユニット38は、そのハウジング42が支持部材43を介して一対のガイドレール36に沿って上下方向に移動する移動基台40に取り付けられている。
A
仕上げ研削ユニット38は、ハウジング42と、ハウジング42中に回転可能に収容されたスピンドル44と、スピンドル44の先端に固定されたホイールマウント46と、スピンドル44を回転駆動するサーボモータ48と、ホイールマウント46に着脱可能に装着された仕上げ研削ホイール50とを含んでいる。仕上げ研削ホイール50は、環状基台52と、環状基台52の自由端部に環状に固着された複数の仕上げ研削用の研削砥石54とから構成される。
The
仕上げ研削ユニット38は、仕上げ研削ユニット38を一対の案内レール36に沿って上下方向に移動するボールねじ56とパルスモータ58とから構成される仕上げ研削ユニット送り機構60を備えている。パルスモータ58を駆動すると、ボールねじ56が回転し、仕上げ研削ユニット38が上下方向に移動される。
The
研削装置2は、コラム6の前側においてベース4の上面と略面一となるように配設されたターンテーブル62を具備している。ターンテーブル62は比較的大径の円板状に形成されており、図示しない回転駆動機構によって矢印aで示す方向に回転される。
The grinding device 2 includes a
ターンテーブル62には、互いに円周方向に120度離間して3個のチャックテーブル64が水平面内で回転可能に配置されている。チャックテーブル64は、ポーラスセラミックス等から形成された吸引保持部を有しており、吸引保持部の保持面上に載置されたウエーハを負圧吸引手段を作動することにより吸引保持する。
On the
ターンテーブル62に配設された3個のチャックテーブル64は、ターンテーブル62を適宜回転することにより、ウエーハ搬入・搬出領域A、粗研削加工領域B、仕上げ研削加工領域C、及びウエーハ搬入・搬出領域Aに順次移動される。
The three chuck tables 64 arranged on the
ベース4の前側部分には、研削前のウエーハを収容したカセット66と、ハンド68及びリンク機構70を有するウエーハ搬送ロボット72と、複数の位置決めピン76を有する位置決めテーブル74と、ウエーハ搬入機構(ローディングアーム)78と、ウエーハ搬出機構(アンローディングアーム)80と、研削されたウエーハを洗浄及びスピン乾燥するスピンナ洗浄装置82と、スピンナ洗浄装置82で洗浄及びスピン乾燥された研削後のウエーハを収容するカセット86が配設されている。
In the front portion of the base 4, a
スピンナ洗浄装置82は、研削されたウエーハを吸引保持して回転するウエーハより小径のスピンナテーブル84を有している。ベース4の前端部近傍には研削条件等の装置に対する指示を入力するためのコントロールパネル88が配設されている。
The
符号90は、粗研削ホイール22と、粗研削加工領域Bに位置付けられたチャックテーブル64と、仕上げ研削ホイール50と、仕上げ研削加工領域Cに位置付けられたチャックテーブル64とを覆って加工室91を画成する加工室カバーであり、図2に示すようにベース4上に搭載される。
加工室カバー90は、粗研削ユニット10のハウジング14が挿入される環状挿入部92と、仕上げ研削ユニット38のハウジング42が挿入される環状挿入部94を有している。加工室カバー90は更に、パイプの先端が装着されるパイプ装着穴96,98と、照明ユニット125,135が装着される照明ユニット装着穴100,102を有している。
The
図2及び図5に示すように、パイプ装着穴96にはパイプ104の一端部が蛇腹106を介して装着される。パイプ104の他端部は高速度カメラ等から構成される撮像ユニット108に接続されている。撮像ユニット108はベース4に固定された支持部材110に装着されている。パイプ104は所定以上の長さ、例えば20cm以上の長さを有することが好ましい。この所定の長さは、加工点から研削水が飛散しない程度に離れた距離である。
As shown in FIGS. 2 and 5, one end of the
同様に、パイプ装着穴98にはパイプ112の一端部が蛇腹114を介して装着され、パイプ112の他端部は高速度カメラ等から構成される撮像ユニット116に接続されている。撮像ユニット116はベース4に固定された支持部材118に装着されている。
Similarly, one end of the
図4を参照すると、照明ユニット125の斜視図が示されている。照明ユニット125は、照明ユニット装着穴100に着脱可能に装着される装着プレート120と、装着プレート120に形成された挿入穴に挿入されたフレキシブルコード122と、フレキシブルコード122中に挿入された光ファイバ128と、光ファイバ128に接続された光源130とを含んでいる。
Referring to FIG. 4, a perspective view of the
好ましくは、光源130は発光ダイオード(LED)から構成され、光ファイバ128はプラスチック光ファイバから構成される。光ファイバ128の先端はフレキシブルコード122の先端122aまで伸長している。フレキシブルコード122はOリング等のコード固定部124により装着プレート120に移動可能に固定されている。装着プレート120は取っ手126を有している。
Preferably, the
照明ユニット135も照明ユニット125と同様に構成されており、装着プレート132と、装着プレート132中に挿入された一対のフレキシブルコード134を含んでいる。図2に示すように、フレキシブルコード134中には光ファイバ136が挿入されており、光ファイバ136の一端はLED等の光源138に接続されている。
The
図3を参照すると、光デバイスウエーハ11の表面11aに保護テープ21を貼着する様子を示す分解斜視図が示されている。光デバイスウエーハ11は、サファイア基板13上に窒化ガリウム(GaN)等のエピタキシャル層15が積層されて構成されている。光デバイスウエーハ11は、エピタキシャル層15が積層された表面11aと、サファイア基板13が露出した裏面11bとを有している。
Referring to FIG. 3, an exploded perspective view showing a state where the
サファイア基板13は例えば1.3mmの厚みを有しており、エピタキシャル層15は例えば5μmの厚みを有している。エピタキシャル層15にLED等の複数の光デバイス19が格子状に形成された分割予定ライン(ストリート)17によって区画されて形成されている。
The
光デバイスウエーハ11のサファイア基板13からなる裏面11bを研削するために、光デバイスウエーハ11の表面11aには保護テープ21が貼着され、この保護テープ21側がチャックテーブル64に吸引保持されて、光デバイスウエーハ11の裏面11bが露出される。
In order to grind the
次に、図5を参照して、本発明の研削装置2の作用について説明する。図5は粗研削ユニット10で粗研削の終了した光デバイスウエーハ11を、仕上げ研削ユニット38で仕上げ研削している状態を示している。
Next, the operation of the grinding apparatus 2 of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 5 shows a state in which the
粗研削の終了後、ターンテーブル62を反時計回りに120度回転することにより、光デバイスウエーハ11を保持したチャックテーブル64が粗研削加工領域Bに位置付けられる。
After the rough grinding is finished, the
このように位置付けられた光デバイスウエーハ11に対して、チャックテーブル64を矢印a方向に例えば300rpmで回転しつつ、仕上げ研削ホイール50を矢印b方向に例えば1000rpmで回転させるとともに、仕上げ研削ユニット送り機構60を作動して仕上げ研削用の研削砥石54を光デバイスウエーハ11の裏面11bに接触させる。
While rotating the chuck table 64 in the direction of arrow a, for example, at 300 rpm with respect to the
そして、仕上げ研削ホイール38を所定の研削送り速度で下方に所定量研削送りして、光デバイスウエーハ11の裏面11bの仕上げ研削を実施する。接触式又は非接触式の厚み測定ゲージによって光デバイスウエーハ11の厚みを測定しながら光デバイスウエーハ11を所望の厚みに仕上げる。仕上げ研削加工時には、純水等の研削液(加工液)を供給しながら光デバイスウエーハ11の裏面11bの研削が遂行される。
The
この仕上げ研削加工中には、フレキシブルコード122内に挿入された光ファイバ128により加工領域を照らしながら、パイプ104を介して撮像ユニット108で光デバイスウエーハ11の裏面11bの露出部を撮像して撮像画像を形成しながら仕上げ研削を実施する。
During this finish grinding, the exposed portion of the
撮像ユニット108は撮像画像に基づいて光デバイスウエーハ11に発生した異常を検出する検出部を有する図示しないコントローラに接続されており、この検出部が光デバイスウエーハ11のクラック等の異常を検出した際には、ブザー或いは赤色ランプ等を点灯して、被加工物の異常を研削装置2のオペレータに報知できるようになっている。
The
更に、撮像ユニット108を図示を省略した表示モニタに接続することにより、研削中の撮像画像をこの表示モニタ上に表示し、研削加工中の光デバイスウエーハ11の状態をオペレータが観察できるようにしてもよい。
Further, by connecting the
本実施形態では、加工室91の撮像領域を光ファイバ128で照らしながらパイプ104を介して撮像ユニット108で光デバイスウエーハ11の露出部を撮像するため、連続研削時でも研削液によって撮像が阻害されることがない。
In the present embodiment, the exposed portion of the
好ましくは、撮像ユニット108は高速度カメラから構成される。撮像ユニット108として高速度カメラを採用することにより、研削時に高速回転している光デバイスウエーハ11の静止画像を得ることが出来る。
Preferably, the
パイプ104の先端部に蛇腹106が装着されていることにより、パイプ104の加工室カバー90に対する柔軟な取り付けを確保することができる。パイプ104の撮像ユニット108側にも蛇腹を設けるようにしてもよい。
Since the
また、光ファイバ128はその先端がフレキシブルコード122の先端122aに届くようにフレキシブルコード122内に挿入されているため、フレキシブルコード122を手で折り曲げることにより最適な照明位置に光ファイバ128の先端を位置付けることができる。
Further, since the
フレキシブルコード122は固定部124で装着プレート120に移動可能に固定されているため、加工室91内に挿入されたフレキシブルコード122の長さの調整も自由である。
Since the
図5を参照した説明では、仕上げ研削ユニット38による仕上げ研削中の照明ユニット125による照明及びパイプ104を介した撮像ユニット108による撮像について説明したが、粗研削ユニット10による粗研削加工中にも、同様な照明及び撮像を行うことができる。
In the description with reference to FIG. 5, the illumination by the
この場合には、照明ユニット135で光デバイスウエーハ11の露出部を照らしながら、パイプ112を介して撮像ユニット116で光デバイスウエーハ11の露出部を撮像する。好ましくは、撮像ユニット116も高速度カメラから構成される。パイプ104と同様に、パイプ112も所定の長さ以上、例えば20cm以上の長さを有することが好ましい。
In this case, the exposed portion of the
上述した実施形態では、被加工物として光デバイスウエーハ11を採用した例について説明したが、被加工物は光デバイスウエーハ11に限定されるものではなく、本発明はシリコンウエーハ等の他のウエーハにも同様に適用することができる。
In the embodiment described above, an example in which the
また、上述した実施形態では、本発明を研削装置2に適用した例について説明したが、本発明は研削装置に限定されるものではなく、例えば研磨パッドにより被加工物の一部を覆うようにして被加工物を研磨するドライポリッシュ型の研磨装置にも適用することができる。この場合には、研磨ホイールが加工ホイールとなる。 In the above-described embodiment, the example in which the present invention is applied to the grinding apparatus 2 has been described. However, the present invention is not limited to the grinding apparatus. For example, a part of the workpiece is covered with a polishing pad. The present invention can also be applied to a dry polish type polishing apparatus for polishing a workpiece. In this case, the grinding wheel becomes the processing wheel.
2 研削装置
10 粗研削ユニット
11 光デバイスウエーハ
13 サファイア基板
22 粗研削ホイール
38 仕上げ研削ユニット
50 仕上げ研削ホイール
90 加工室カバー
91 加工室
104,112 パイプ
108,116 撮像ユニット(高速度カメラ)
122,134 フレキシブルコード
128,136 光ファイバ
2 Grinding
122,134 Flexible cord 128,136 Optical fiber
Claims (3)
被加工物を回転可能に保持するチャックテーブルと、
該チャックテーブルに保持された被加工物の一部を覆うように被加工物に当接して被加工物に露出部を形成した状態で回転しつつ被加工物を加工する加工ホイールを有する加工手段と、
少なくとも該チャックテーブルと該加工ホイールとを覆って加工室を画成する加工室カバーと、
一端が該加工室カバーに形成された開口部に接続された所定の長さを有するパイプ部材と、
該パイプ部材の他端側に配設され、加工中に該パイプ部材を通じて被加工物の該露出部を撮像する撮像手段と、
一端が光源に接続され該加工室カバーを貫通して他端が該加工室内に配設された該露出部を照らす光ファイバと、
を具備したことを特徴とする加工装置。 A processing device,
A chuck table that rotatably holds the workpiece;
Processing means having a processing wheel for processing a workpiece while rotating in a state where an exposed portion is formed on the workpiece by contacting the workpiece so as to cover a part of the workpiece held on the chuck table When,
A processing chamber cover that at least covers the chuck table and the processing wheel to define a processing chamber;
A pipe member having a predetermined length, one end of which is connected to an opening formed in the processing chamber cover;
An imaging means disposed on the other end side of the pipe member and imaging the exposed portion of the workpiece through the pipe member during processing;
An optical fiber having one end connected to a light source and penetrating the processing chamber cover and the other end illuminating the exposed portion disposed in the processing chamber;
A processing apparatus comprising:
該撮像画像に基づいて被加工物に発生した異常を検出する検出部を有する制御手段を更に具備したことを特徴とする請求項1又は2の何れかに記載の加工装置。 The imaging means images the exposed portion of the workpiece to form a captured image;
The processing apparatus according to claim 1, further comprising a control unit having a detection unit that detects an abnormality that has occurred in the workpiece based on the captured image.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011270113A JP2013122956A (en) | 2011-12-09 | 2011-12-09 | Processing device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011270113A JP2013122956A (en) | 2011-12-09 | 2011-12-09 | Processing device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013122956A true JP2013122956A (en) | 2013-06-20 |
Family
ID=48774772
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011270113A Pending JP2013122956A (en) | 2011-12-09 | 2011-12-09 | Processing device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2013122956A (en) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017019067A (en) * | 2015-07-14 | 2017-01-26 | 株式会社ディスコ | Idling method of grinder |
JP2017140663A (en) * | 2016-02-09 | 2017-08-17 | 株式会社ディスコ | Grinding device |
CN110293480A (en) * | 2018-03-23 | 2019-10-01 | 株式会社迪思科 | Grinding attachment |
JP2020116713A (en) * | 2019-01-25 | 2020-08-06 | ファナック株式会社 | Precision machine tool |
JP2020142317A (en) * | 2019-03-05 | 2020-09-10 | Dmg森精機株式会社 | Photographing device |
CN113070762A (en) * | 2021-04-28 | 2021-07-06 | 常州机电职业技术学院 | Steel pipe mouth of pipe grinding device for machining |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11295046A (en) * | 1998-04-09 | 1999-10-29 | Mitsutoyo Corp | Machining tool, optical measuring apparatus using the same and machining equipment provided therewith |
JP2001162513A (en) * | 1999-12-09 | 2001-06-19 | Daido Steel Co Ltd | Lapping surface truing device for single-side lapping machine |
JP2004507900A (en) * | 2000-08-31 | 2004-03-11 | モトローラ・インコーポレイテッド | Method and apparatus for measuring polishing condition |
JP2009187251A (en) * | 2008-02-06 | 2009-08-20 | Disco Abrasive Syst Ltd | Working device |
-
2011
- 2011-12-09 JP JP2011270113A patent/JP2013122956A/en active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11295046A (en) * | 1998-04-09 | 1999-10-29 | Mitsutoyo Corp | Machining tool, optical measuring apparatus using the same and machining equipment provided therewith |
JP2001162513A (en) * | 1999-12-09 | 2001-06-19 | Daido Steel Co Ltd | Lapping surface truing device for single-side lapping machine |
JP2004507900A (en) * | 2000-08-31 | 2004-03-11 | モトローラ・インコーポレイテッド | Method and apparatus for measuring polishing condition |
JP2009187251A (en) * | 2008-02-06 | 2009-08-20 | Disco Abrasive Syst Ltd | Working device |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017019067A (en) * | 2015-07-14 | 2017-01-26 | 株式会社ディスコ | Idling method of grinder |
JP2017140663A (en) * | 2016-02-09 | 2017-08-17 | 株式会社ディスコ | Grinding device |
KR20170094497A (en) * | 2016-02-09 | 2017-08-18 | 가부시기가이샤 디스코 | Grinding apparatus |
KR102513203B1 (en) * | 2016-02-09 | 2023-03-23 | 가부시기가이샤 디스코 | Grinding apparatus |
CN110293480A (en) * | 2018-03-23 | 2019-10-01 | 株式会社迪思科 | Grinding attachment |
JP2019169608A (en) * | 2018-03-23 | 2019-10-03 | 株式会社ディスコ | Grinding device |
JP2020116713A (en) * | 2019-01-25 | 2020-08-06 | ファナック株式会社 | Precision machine tool |
JP7078560B2 (en) | 2019-01-25 | 2022-05-31 | ファナック株式会社 | Precision machine tools |
US11654491B2 (en) | 2019-01-25 | 2023-05-23 | Fanuc Corporation | Precision machine tool |
JP2020142317A (en) * | 2019-03-05 | 2020-09-10 | Dmg森精機株式会社 | Photographing device |
JP6990669B2 (en) | 2019-03-05 | 2022-01-12 | Dmg森精機株式会社 | Imaging device |
CN113070762A (en) * | 2021-04-28 | 2021-07-06 | 常州机电职业技术学院 | Steel pipe mouth of pipe grinding device for machining |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2013122956A (en) | Processing device | |
KR101214507B1 (en) | Substrate processing apparatus substrate polishing method and substrate processing method | |
TWI695424B (en) | Grinding device | |
KR20190111764A (en) | Grinding apparatus | |
KR20150030611A (en) | Method for processing device wafer | |
KR20120040104A (en) | Wafer transfer mechanism | |
TW201834051A (en) | Workpiece inspection method, workpiece inspection device and processing device more appropriately and easily detecting a grinding trace of a workpiece | |
JP5184242B2 (en) | Semiconductor wafer processing equipment | |
JP6905357B2 (en) | Wafer swell detection method and grinding equipment | |
US11491669B2 (en) | Cutting apparatus, cutting blade replacement method, and board replacement method | |
US11673229B2 (en) | Processing apparatus | |
JP2009130315A (en) | Cutting method of wafer | |
JP2014154708A (en) | Method and device for detecting crack of wafer | |
JP2011143516A (en) | Machining device | |
JP2009190127A (en) | Semiconductor manufacturing apparatus | |
JP2021005633A (en) | Cutting device | |
US11654520B2 (en) | Cutting apparatus | |
JP2023083014A (en) | Wafer manufacturing method and grinding apparatus | |
JP6137796B2 (en) | Processing equipment | |
JP2013091120A (en) | Blade cover device | |
JP2010005717A (en) | Machining apparatus | |
JP2012174987A (en) | Method for grinding single crystal substrate | |
KR20210104558A (en) | Machining apparatus | |
JP5313022B2 (en) | Workpiece cutting method | |
JP5362479B2 (en) | Wafer grinding equipment |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20141114 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151013 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20151015 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20160322 |