JP2013122956A - Processing device - Google Patents

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chuck table
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Toru Takazawa
徹 高澤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a processing device which allows a user to observe the state of a workpiece during processing.SOLUTION: A processing device includes: a chuck table rotatably holding a workpiece; processing means having a processing wheel which contacts with the workpiece so as to cover a part of the workpiece held by the chuck table and processes the workpiece while rotating with an exposed part formed in the workpiece; a processing chamber cover which covers at least the chuck table and the processing wheel and defines a processing chamber; a pipe member connecting with an opening formed at the processing chamber cover at one end and having a predetermined length; imaging means disposed at the other end side of the pipe member and capturing an image of the exposed part of the workpiece through the pipe member during processing; and an optical fiber where one end connects with a light source and the other end penetrates through the processing chamber cover and lights the exposed part disposed in the processing chamber.

Description

本発明は、被加工物を加工する加工ホイールを備えた加工装置に関する。   The present invention relates to a processing apparatus provided with a processing wheel for processing a workpiece.

光デバイスの製造プロセスでは、サファイア基板や炭化珪素基板等の結晶成長用基板の表面に格子状に形成された複数の分割予定ラインで区画される各領域に発光ダイオード(LED)やレーザダイオード(LD)等の発光素子を形成して、光デバイスウエーハを製造する。   In the manufacturing process of an optical device, a light emitting diode (LED) or laser diode (LD) is formed in each region partitioned by a plurality of division lines formed in a lattice pattern on the surface of a crystal growth substrate such as a sapphire substrate or a silicon carbide substrate. ) And the like to form an optical device wafer.

その後、光デバイスウエーハの結晶成長用基板側を研削装置で研削して所定の厚みまで薄化し、研磨装置により研磨して研削歪を除去する。更に電極を形成した後、分割予定ラインに沿って分割することで、個々の光デバイスチップを製造している。   Thereafter, the crystal growth substrate side of the optical device wafer is ground by a grinding device to be thinned to a predetermined thickness, and polished by a polishing device to remove grinding distortion. Furthermore, after forming an electrode, it divides | segments along a division | segmentation scheduled line, and each optical device chip | tip is manufactured.

研削装置や研磨装置でサファイア基板等の被加工物を加工している最中、被加工物に破損が生じるとその被加工物全体が不良品となり、大量のデバイスを失うことになる。そこで、被加工物が破損する前に、被加工物に発生する僅かな異常を検出するべく、加工中の被加工物の状態を観察しうる加工装置が要望されている。   While a workpiece such as a sapphire substrate is being processed by a grinding device or a polishing device, if the workpiece is damaged, the entire workpiece becomes defective and a large number of devices are lost. Therefore, there is a demand for a processing apparatus that can observe the state of the workpiece being processed in order to detect a slight abnormality occurring in the workpiece before the workpiece is damaged.

特開2004−74382号公報JP 2004-74382 A

通常これらの加工装置では、加工液を加工点に供給しつつ加工が遂行され、加工液が加工装置内に飛散することを防止するために加工点を覆い加工室を画成する加工室カバーを有している。   Usually, in these processing devices, processing is performed while supplying the processing fluid to the processing point, and a processing chamber cover that covers the processing point and defines the processing chamber is provided to prevent the processing fluid from splashing into the processing device. Have.

被加工物の状態を観察するための撮像手段を加工室内部に配設すると、撮像手段に加工液が付着し、撮像できないという問題がある。一方、加工室カバーを透明にし、カバーを介して撮像手段で撮像しようとしてもカバーに加工液が付着し、撮像できないという問題がある。特に、連続加工に伴い、これら加工液に起因する問題の発生頻度は高まることになる。   If an image pickup means for observing the state of the workpiece is disposed in the inside of the processing chamber, there is a problem that the processing liquid adheres to the image pickup means and the image cannot be taken. On the other hand, there is a problem that even if the processing chamber cover is made transparent and an image is taken by the imaging means through the cover, the processing liquid adheres to the cover and imaging cannot be performed. In particular, with continuous machining, the frequency of occurrence of problems due to these machining fluids increases.

本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、加工中の被加工物の状態を観察可能な加工装置を提供することである。   This invention is made | formed in view of such a point, The place made into the objective is providing the processing apparatus which can observe the state of the to-be-processed object in process.

本発明によると、加工装置であって、被加工物を回転可能に保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物の一部を覆うように被加工物に当接して被加工物に露出部を形成した状態で回転しつつ被加工物を加工する加工ホイールを有する加工手段と、少なくとも該チャックテーブルと該加工ホイールとを覆って加工室を画成する加工室カバーと、一端が該加工室カバーに形成された開口部に接続された所定の長さを有するパイプ部材と、該パイプ部材の他端側に配設され、加工中に該パイプ部材を通じて被加工物の該露出部を撮像する撮像手段と、一端が光源に接続され該加工室カバーを貫通して他端が該加工室内に配設された該露出部を照らす光ファイバと、を具備したことを特徴とする加工装置が提供される。   According to the present invention, there is provided a machining apparatus, a chuck table that rotatably holds a workpiece, and a workpiece that is in contact with the workpiece so as to cover a part of the workpiece held on the chuck table. A processing means having a processing wheel for processing a workpiece while rotating in a state where an exposed portion is formed on the object, a processing chamber cover for covering at least the chuck table and the processing wheel and defining a processing chamber, and one end A pipe member having a predetermined length connected to an opening formed in the processing chamber cover, and disposed on the other end side of the pipe member, and the workpiece is exposed through the pipe member during processing. And an optical fiber that illuminates the exposed portion that is connected to the light source and penetrates the processing chamber cover and has the other end disposed in the processing chamber. A processing apparatus is provided.

好ましくは、撮像手段は高速度カメラから構成される。好ましくは、撮像手段は被加工物の露出部を撮像して撮像画像を形成し、加工装置は撮像画像に基づいて被加工物に発生した異常を検出する検出部を有する制御手段を更に備えている。   Preferably, the imaging means is composed of a high speed camera. Preferably, the imaging unit images an exposed part of the workpiece to form a captured image, and the processing apparatus further includes a control unit having a detection unit that detects an abnormality occurring in the workpiece based on the captured image. Yes.

本発明によると、所定の長さを有するパイプ部材を介して照明された被加工物の露出部を撮像手段で撮像するため、連続加工時でも加工液によって撮像が阻害されることがなく、加工中の被加工物の状態を撮像手段で撮像することにより観察可能である。   According to the present invention, since the exposed portion of the workpiece illuminated through the pipe member having a predetermined length is imaged by the imaging means, the imaging is not hindered by the machining liquid even during continuous machining. It is possible to observe the state of the workpiece inside by taking an image with an imaging means.

加工室カバーを取り外した状態の研削装置の斜視図である。It is a perspective view of a grinding device in the state where a processing chamber cover was removed. 本発明実施形態に係る研削装置の斜視図である。1 is a perspective view of a grinding apparatus according to an embodiment of the present invention. 光デバイスウエーハの表面に保護テープを貼着する状態の分解斜視図である。It is a disassembled perspective view of the state which affixes a protective tape on the surface of an optical device wafer. 照明ユニットの斜視図である。It is a perspective view of an illumination unit. 光デバイスウエーハの裏面を研削中の一部断面側面図である。It is a partial cross section side view in grinding the back surface of an optical device wafer.

以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1を参照すると、本発明の実施形態に係る研削装置2の加工カバーを取り外した状態の斜視図が示されている。図2は加工カバーを装着した状態の斜視図である。4は研削装置2のベースであり、ベース4の後方にはコラム6が立設されている。コラム6には、上下方向に伸びる二対のガイドレール8,36が固定されている。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Referring to FIG. 1, a perspective view of the grinding apparatus 2 according to the embodiment of the present invention with a processing cover removed is shown. FIG. 2 is a perspective view of a state in which the processing cover is mounted. Reference numeral 4 denotes a base of the grinding apparatus 2, and a column 6 is erected on the rear side of the base 4. Two pairs of guide rails 8 and 36 extending in the vertical direction are fixed to the column 6.

一対のガイドレール8に沿って粗研削ユニット10が上下方向に移動可能に装着されている。粗研削ユニット10は、そのハウジング14が支持部材28を介して一対のガイドレール8に沿って上下方向に移動する移動基台12に取り付けられている。   A rough grinding unit 10 is mounted along a pair of guide rails 8 so as to be movable in the vertical direction. The rough grinding unit 10 is attached to a moving base 12 whose housing 14 moves in the vertical direction along a pair of guide rails 8 via a support member 28.

粗研削ユニット10は、ハウジング14と、ハウジング14中に回転可能に収容されたスピンドル16と、スピンドル16の先端に固定されたホイールマウント18と、スピンドル16を回転駆動するサーボモータ20と、ホイールマウント18に着脱可能に装着された粗研削ホイール22とを含んでいる。粗研削ホイール22は、ホイール基台24と、ホイール基台24の自由端部に環状に固着された複数の粗研削用の研削砥石26とから構成される。   The rough grinding unit 10 includes a housing 14, a spindle 16 rotatably accommodated in the housing 14, a wheel mount 18 fixed to the tip of the spindle 16, a servo motor 20 that rotationally drives the spindle 16, and a wheel mount. And a rough grinding wheel 22 which is detachably attached to 18. The rough grinding wheel 22 is composed of a wheel base 24 and a plurality of grinding wheels 26 for rough grinding fixed to the free end of the wheel base 24 in an annular shape.

粗研削ユニット10は、粗研削ユニット10を一対の案内レール8に沿って上下方向に移動するボールねじ30とパルスモータ32とから構成される粗研削ユニット送り機構34を備えている。パルスモータ32をパルス駆動すると、ボールねじ30が回転し、移動基台12が上下方向に移動される。   The rough grinding unit 10 includes a rough grinding unit feed mechanism 34 including a ball screw 30 and a pulse motor 32 that move the rough grinding unit 10 up and down along a pair of guide rails 8. When the pulse motor 32 is pulse-driven, the ball screw 30 rotates and the moving base 12 is moved in the vertical direction.

コラム6に固定された他の一対のレール36に沿って仕上げ研削ユニット38が上下方向に移動可能に装着されている。仕上げ研削ユニット38は、そのハウジング42が支持部材43を介して一対のガイドレール36に沿って上下方向に移動する移動基台40に取り付けられている。   A finish grinding unit 38 is mounted so as to be movable in the vertical direction along another pair of rails 36 fixed to the column 6. The finish grinding unit 38 is attached to a moving base 40 whose housing 42 moves in a vertical direction along a pair of guide rails 36 via a support member 43.

仕上げ研削ユニット38は、ハウジング42と、ハウジング42中に回転可能に収容されたスピンドル44と、スピンドル44の先端に固定されたホイールマウント46と、スピンドル44を回転駆動するサーボモータ48と、ホイールマウント46に着脱可能に装着された仕上げ研削ホイール50とを含んでいる。仕上げ研削ホイール50は、環状基台52と、環状基台52の自由端部に環状に固着された複数の仕上げ研削用の研削砥石54とから構成される。   The finish grinding unit 38 includes a housing 42, a spindle 44 rotatably accommodated in the housing 42, a wheel mount 46 fixed to the tip of the spindle 44, a servo motor 48 that rotationally drives the spindle 44, and a wheel mount 46 and a finish grinding wheel 50 detachably attached to 46. The finish grinding wheel 50 includes an annular base 52 and a plurality of grinding wheels 54 for finish grinding that are annularly fixed to the free ends of the annular base 52.

仕上げ研削ユニット38は、仕上げ研削ユニット38を一対の案内レール36に沿って上下方向に移動するボールねじ56とパルスモータ58とから構成される仕上げ研削ユニット送り機構60を備えている。パルスモータ58を駆動すると、ボールねじ56が回転し、仕上げ研削ユニット38が上下方向に移動される。   The finish grinding unit 38 includes a finish grinding unit feed mechanism 60 including a ball screw 56 and a pulse motor 58 that move the finish grinding unit 38 in the vertical direction along the pair of guide rails 36. When the pulse motor 58 is driven, the ball screw 56 rotates and the finish grinding unit 38 is moved in the vertical direction.

研削装置2は、コラム6の前側においてベース4の上面と略面一となるように配設されたターンテーブル62を具備している。ターンテーブル62は比較的大径の円板状に形成されており、図示しない回転駆動機構によって矢印aで示す方向に回転される。   The grinding device 2 includes a turntable 62 disposed so as to be substantially flush with the upper surface of the base 4 on the front side of the column 6. The turntable 62 is formed in a relatively large-diameter disk shape, and is rotated in a direction indicated by an arrow a by a rotation driving mechanism (not shown).

ターンテーブル62には、互いに円周方向に120度離間して3個のチャックテーブル64が水平面内で回転可能に配置されている。チャックテーブル64は、ポーラスセラミックス等から形成された吸引保持部を有しており、吸引保持部の保持面上に載置されたウエーハを負圧吸引手段を作動することにより吸引保持する。   On the turntable 62, three chuck tables 64 are arranged so as to be rotatable in a horizontal plane, spaced from each other by 120 degrees in the circumferential direction. The chuck table 64 has a suction holding unit made of porous ceramics or the like, and sucks and holds the wafer placed on the holding surface of the suction holding unit by operating a negative pressure suction unit.

ターンテーブル62に配設された3個のチャックテーブル64は、ターンテーブル62を適宜回転することにより、ウエーハ搬入・搬出領域A、粗研削加工領域B、仕上げ研削加工領域C、及びウエーハ搬入・搬出領域Aに順次移動される。   The three chuck tables 64 arranged on the turntable 62 rotate the turntable 62 appropriately so that the wafer loading / unloading area A, the rough grinding area B, the finish grinding area C, and the wafer loading / unloading are performed. The region A is sequentially moved.

ベース4の前側部分には、研削前のウエーハを収容したカセット66と、ハンド68及びリンク機構70を有するウエーハ搬送ロボット72と、複数の位置決めピン76を有する位置決めテーブル74と、ウエーハ搬入機構(ローディングアーム)78と、ウエーハ搬出機構(アンローディングアーム)80と、研削されたウエーハを洗浄及びスピン乾燥するスピンナ洗浄装置82と、スピンナ洗浄装置82で洗浄及びスピン乾燥された研削後のウエーハを収容するカセット86が配設されている。   In the front portion of the base 4, a cassette 66 containing a wafer before grinding, a wafer transfer robot 72 having a hand 68 and a link mechanism 70, a positioning table 74 having a plurality of positioning pins 76, and a wafer carry-in mechanism (loading) Arm) 78, a wafer unloading mechanism (unloading arm) 80, a spinner cleaning device 82 that cleans and spin-drys the ground wafer, and a ground wafer that has been cleaned and spin-dried by spinner cleaning device 82. A cassette 86 is provided.

スピンナ洗浄装置82は、研削されたウエーハを吸引保持して回転するウエーハより小径のスピンナテーブル84を有している。ベース4の前端部近傍には研削条件等の装置に対する指示を入力するためのコントロールパネル88が配設されている。   The spinner cleaning device 82 includes a spinner table 84 having a diameter smaller than that of a wafer that rotates while sucking and holding the ground wafer. A control panel 88 for inputting instructions to the apparatus such as grinding conditions is disposed near the front end of the base 4.

符号90は、粗研削ホイール22と、粗研削加工領域Bに位置付けられたチャックテーブル64と、仕上げ研削ホイール50と、仕上げ研削加工領域Cに位置付けられたチャックテーブル64とを覆って加工室91を画成する加工室カバーであり、図2に示すようにベース4上に搭載される。   Reference numeral 90 denotes a processing chamber 91 that covers the rough grinding wheel 22, the chuck table 64 positioned in the rough grinding region B, the finish grinding wheel 50, and the chuck table 64 positioned in the finish grinding region C. A processing chamber cover to be defined and mounted on the base 4 as shown in FIG.

加工室カバー90は、粗研削ユニット10のハウジング14が挿入される環状挿入部92と、仕上げ研削ユニット38のハウジング42が挿入される環状挿入部94を有している。加工室カバー90は更に、パイプの先端が装着されるパイプ装着穴96,98と、照明ユニット125,135が装着される照明ユニット装着穴100,102を有している。   The processing chamber cover 90 has an annular insertion portion 92 into which the housing 14 of the rough grinding unit 10 is inserted, and an annular insertion portion 94 into which the housing 42 of the finish grinding unit 38 is inserted. The processing chamber cover 90 further has pipe mounting holes 96 and 98 in which the ends of the pipes are mounted, and lighting unit mounting holes 100 and 102 in which the lighting units 125 and 135 are mounted.

図2及び図5に示すように、パイプ装着穴96にはパイプ104の一端部が蛇腹106を介して装着される。パイプ104の他端部は高速度カメラ等から構成される撮像ユニット108に接続されている。撮像ユニット108はベース4に固定された支持部材110に装着されている。パイプ104は所定以上の長さ、例えば20cm以上の長さを有することが好ましい。この所定の長さは、加工点から研削水が飛散しない程度に離れた距離である。   As shown in FIGS. 2 and 5, one end of the pipe 104 is attached to the pipe attachment hole 96 via the bellows 106. The other end of the pipe 104 is connected to an image pickup unit 108 composed of a high speed camera or the like. The imaging unit 108 is attached to a support member 110 fixed to the base 4. The pipe 104 preferably has a predetermined length or more, for example, a length of 20 cm or more. This predetermined length is a distance away from the processing point to the extent that the grinding water does not scatter.

同様に、パイプ装着穴98にはパイプ112の一端部が蛇腹114を介して装着され、パイプ112の他端部は高速度カメラ等から構成される撮像ユニット116に接続されている。撮像ユニット116はベース4に固定された支持部材118に装着されている。   Similarly, one end of the pipe 112 is attached to the pipe attachment hole 98 via the bellows 114, and the other end of the pipe 112 is connected to the imaging unit 116 constituted by a high-speed camera or the like. The imaging unit 116 is attached to a support member 118 fixed to the base 4.

図4を参照すると、照明ユニット125の斜視図が示されている。照明ユニット125は、照明ユニット装着穴100に着脱可能に装着される装着プレート120と、装着プレート120に形成された挿入穴に挿入されたフレキシブルコード122と、フレキシブルコード122中に挿入された光ファイバ128と、光ファイバ128に接続された光源130とを含んでいる。   Referring to FIG. 4, a perspective view of the lighting unit 125 is shown. The lighting unit 125 includes a mounting plate 120 that is detachably mounted in the lighting unit mounting hole 100, a flexible cord 122 that is inserted into an insertion hole formed in the mounting plate 120, and an optical fiber that is inserted into the flexible cord 122. 128 and a light source 130 connected to an optical fiber 128.

好ましくは、光源130は発光ダイオード(LED)から構成され、光ファイバ128はプラスチック光ファイバから構成される。光ファイバ128の先端はフレキシブルコード122の先端122aまで伸長している。フレキシブルコード122はOリング等のコード固定部124により装着プレート120に移動可能に固定されている。装着プレート120は取っ手126を有している。   Preferably, the light source 130 comprises a light emitting diode (LED) and the optical fiber 128 comprises a plastic optical fiber. The tip of the optical fiber 128 extends to the tip 122 a of the flexible cord 122. The flexible cord 122 is movably fixed to the mounting plate 120 by a cord fixing portion 124 such as an O-ring. The mounting plate 120 has a handle 126.

照明ユニット135も照明ユニット125と同様に構成されており、装着プレート132と、装着プレート132中に挿入された一対のフレキシブルコード134を含んでいる。図2に示すように、フレキシブルコード134中には光ファイバ136が挿入されており、光ファイバ136の一端はLED等の光源138に接続されている。   The illumination unit 135 is configured similarly to the illumination unit 125, and includes a mounting plate 132 and a pair of flexible cords 134 inserted into the mounting plate 132. As shown in FIG. 2, an optical fiber 136 is inserted in the flexible cord 134, and one end of the optical fiber 136 is connected to a light source 138 such as an LED.

図3を参照すると、光デバイスウエーハ11の表面11aに保護テープ21を貼着する様子を示す分解斜視図が示されている。光デバイスウエーハ11は、サファイア基板13上に窒化ガリウム(GaN)等のエピタキシャル層15が積層されて構成されている。光デバイスウエーハ11は、エピタキシャル層15が積層された表面11aと、サファイア基板13が露出した裏面11bとを有している。   Referring to FIG. 3, an exploded perspective view showing a state where the protective tape 21 is stuck on the surface 11 a of the optical device wafer 11 is shown. The optical device wafer 11 is configured by laminating an epitaxial layer 15 such as gallium nitride (GaN) on a sapphire substrate 13. The optical device wafer 11 has a front surface 11a on which an epitaxial layer 15 is stacked and a back surface 11b on which the sapphire substrate 13 is exposed.

サファイア基板13は例えば1.3mmの厚みを有しており、エピタキシャル層15は例えば5μmの厚みを有している。エピタキシャル層15にLED等の複数の光デバイス19が格子状に形成された分割予定ライン(ストリート)17によって区画されて形成されている。   The sapphire substrate 13 has a thickness of 1.3 mm, for example, and the epitaxial layer 15 has a thickness of 5 μm, for example. A plurality of optical devices 19 such as LEDs are formed in the epitaxial layer 15 by being partitioned by division lines (streets) 17 formed in a lattice pattern.

光デバイスウエーハ11のサファイア基板13からなる裏面11bを研削するために、光デバイスウエーハ11の表面11aには保護テープ21が貼着され、この保護テープ21側がチャックテーブル64に吸引保持されて、光デバイスウエーハ11の裏面11bが露出される。   In order to grind the back surface 11b made of the sapphire substrate 13 of the optical device wafer 11, a protective tape 21 is attached to the front surface 11a of the optical device wafer 11, and the protective tape 21 side is sucked and held by the chuck table 64, The back surface 11b of the device wafer 11 is exposed.

次に、図5を参照して、本発明の研削装置2の作用について説明する。図5は粗研削ユニット10で粗研削の終了した光デバイスウエーハ11を、仕上げ研削ユニット38で仕上げ研削している状態を示している。   Next, the operation of the grinding apparatus 2 of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 5 shows a state in which the optical device wafer 11 whose rough grinding has been finished by the rough grinding unit 10 is finish ground by the finish grinding unit 38.

粗研削の終了後、ターンテーブル62を反時計回りに120度回転することにより、光デバイスウエーハ11を保持したチャックテーブル64が粗研削加工領域Bに位置付けられる。   After the rough grinding is finished, the turntable 62 is rotated 120 degrees counterclockwise, whereby the chuck table 64 holding the optical device wafer 11 is positioned in the rough grinding region B.

このように位置付けられた光デバイスウエーハ11に対して、チャックテーブル64を矢印a方向に例えば300rpmで回転しつつ、仕上げ研削ホイール50を矢印b方向に例えば1000rpmで回転させるとともに、仕上げ研削ユニット送り機構60を作動して仕上げ研削用の研削砥石54を光デバイスウエーハ11の裏面11bに接触させる。   While rotating the chuck table 64 in the direction of arrow a, for example, at 300 rpm with respect to the optical device wafer 11 thus positioned, the finish grinding wheel 50 is rotated in the direction of arrow b, for example, at 1000 rpm, and a finish grinding unit feed mechanism. 60 is operated to bring the grinding wheel 54 for finish grinding into contact with the back surface 11 b of the optical device wafer 11.

そして、仕上げ研削ホイール38を所定の研削送り速度で下方に所定量研削送りして、光デバイスウエーハ11の裏面11bの仕上げ研削を実施する。接触式又は非接触式の厚み測定ゲージによって光デバイスウエーハ11の厚みを測定しながら光デバイスウエーハ11を所望の厚みに仕上げる。仕上げ研削加工時には、純水等の研削液(加工液)を供給しながら光デバイスウエーハ11の裏面11bの研削が遂行される。   The finish grinding wheel 38 is then ground and fed by a predetermined amount at a predetermined grinding feed speed, and finish grinding of the back surface 11b of the optical device wafer 11 is performed. The optical device wafer 11 is finished to a desired thickness while measuring the thickness of the optical device wafer 11 with a contact-type or non-contact-type thickness measurement gauge. At the time of finish grinding, grinding of the back surface 11b of the optical device wafer 11 is performed while supplying a grinding fluid (processing fluid) such as pure water.

この仕上げ研削加工中には、フレキシブルコード122内に挿入された光ファイバ128により加工領域を照らしながら、パイプ104を介して撮像ユニット108で光デバイスウエーハ11の裏面11bの露出部を撮像して撮像画像を形成しながら仕上げ研削を実施する。   During this finish grinding, the exposed portion of the back surface 11b of the optical device wafer 11 is imaged by the imaging unit 108 via the pipe 104 while illuminating the processing area by the optical fiber 128 inserted into the flexible cord 122. Finish grinding while forming an image.

撮像ユニット108は撮像画像に基づいて光デバイスウエーハ11に発生した異常を検出する検出部を有する図示しないコントローラに接続されており、この検出部が光デバイスウエーハ11のクラック等の異常を検出した際には、ブザー或いは赤色ランプ等を点灯して、被加工物の異常を研削装置2のオペレータに報知できるようになっている。   The imaging unit 108 is connected to a controller (not shown) having a detection unit that detects an abnormality that has occurred in the optical device wafer 11 based on the captured image, and when this detection unit detects an abnormality such as a crack in the optical device wafer 11. In this case, a buzzer or a red lamp or the like is lit to notify the operator of the grinding apparatus 2 of the abnormality of the workpiece.

更に、撮像ユニット108を図示を省略した表示モニタに接続することにより、研削中の撮像画像をこの表示モニタ上に表示し、研削加工中の光デバイスウエーハ11の状態をオペレータが観察できるようにしてもよい。   Further, by connecting the imaging unit 108 to a display monitor (not shown), a captured image during grinding is displayed on the display monitor so that the operator can observe the state of the optical device wafer 11 during grinding. Also good.

本実施形態では、加工室91の撮像領域を光ファイバ128で照らしながらパイプ104を介して撮像ユニット108で光デバイスウエーハ11の露出部を撮像するため、連続研削時でも研削液によって撮像が阻害されることがない。   In the present embodiment, the exposed portion of the optical device wafer 11 is imaged by the imaging unit 108 via the pipe 104 while illuminating the imaging area of the processing chamber 91 with the optical fiber 128. There is nothing to do.

好ましくは、撮像ユニット108は高速度カメラから構成される。撮像ユニット108として高速度カメラを採用することにより、研削時に高速回転している光デバイスウエーハ11の静止画像を得ることが出来る。   Preferably, the imaging unit 108 is composed of a high speed camera. By adopting a high-speed camera as the imaging unit 108, a still image of the optical device wafer 11 rotating at high speed during grinding can be obtained.

パイプ104の先端部に蛇腹106が装着されていることにより、パイプ104の加工室カバー90に対する柔軟な取り付けを確保することができる。パイプ104の撮像ユニット108側にも蛇腹を設けるようにしてもよい。   Since the bellows 106 is attached to the tip of the pipe 104, it is possible to ensure flexible attachment of the pipe 104 to the processing chamber cover 90. A bellows may be provided also on the imaging unit 108 side of the pipe 104.

また、光ファイバ128はその先端がフレキシブルコード122の先端122aに届くようにフレキシブルコード122内に挿入されているため、フレキシブルコード122を手で折り曲げることにより最適な照明位置に光ファイバ128の先端を位置付けることができる。   Further, since the optical fiber 128 is inserted into the flexible cord 122 so that the tip of the optical fiber 128 reaches the tip 122a of the flexible cord 122, the tip of the optical fiber 128 is placed at an optimal illumination position by bending the flexible cord 122 by hand. Can be positioned.

フレキシブルコード122は固定部124で装着プレート120に移動可能に固定されているため、加工室91内に挿入されたフレキシブルコード122の長さの調整も自由である。   Since the flexible cord 122 is movably fixed to the mounting plate 120 by the fixing portion 124, the length of the flexible cord 122 inserted into the processing chamber 91 can be freely adjusted.

図5を参照した説明では、仕上げ研削ユニット38による仕上げ研削中の照明ユニット125による照明及びパイプ104を介した撮像ユニット108による撮像について説明したが、粗研削ユニット10による粗研削加工中にも、同様な照明及び撮像を行うことができる。   In the description with reference to FIG. 5, the illumination by the illumination unit 125 during finish grinding by the finish grinding unit 38 and the imaging by the imaging unit 108 through the pipe 104 have been described, but also during the rough grinding by the coarse grinding unit 10, Similar illumination and imaging can be performed.

この場合には、照明ユニット135で光デバイスウエーハ11の露出部を照らしながら、パイプ112を介して撮像ユニット116で光デバイスウエーハ11の露出部を撮像する。好ましくは、撮像ユニット116も高速度カメラから構成される。パイプ104と同様に、パイプ112も所定の長さ以上、例えば20cm以上の長さを有することが好ましい。   In this case, the exposed portion of the optical device wafer 11 is imaged by the imaging unit 116 via the pipe 112 while illuminating the exposed portion of the optical device wafer 11 by the illumination unit 135. Preferably, the imaging unit 116 is also composed of a high speed camera. Like the pipe 104, the pipe 112 preferably has a predetermined length or more, for example, 20 cm or more.

上述した実施形態では、被加工物として光デバイスウエーハ11を採用した例について説明したが、被加工物は光デバイスウエーハ11に限定されるものではなく、本発明はシリコンウエーハ等の他のウエーハにも同様に適用することができる。   In the embodiment described above, an example in which the optical device wafer 11 is employed as a workpiece has been described. However, the workpiece is not limited to the optical device wafer 11, and the present invention is applied to other wafers such as a silicon wafer. Can be applied similarly.

また、上述した実施形態では、本発明を研削装置2に適用した例について説明したが、本発明は研削装置に限定されるものではなく、例えば研磨パッドにより被加工物の一部を覆うようにして被加工物を研磨するドライポリッシュ型の研磨装置にも適用することができる。この場合には、研磨ホイールが加工ホイールとなる。   In the above-described embodiment, the example in which the present invention is applied to the grinding apparatus 2 has been described. However, the present invention is not limited to the grinding apparatus. For example, a part of the workpiece is covered with a polishing pad. The present invention can also be applied to a dry polish type polishing apparatus for polishing a workpiece. In this case, the grinding wheel becomes the processing wheel.

2 研削装置
10 粗研削ユニット
11 光デバイスウエーハ
13 サファイア基板
22 粗研削ホイール
38 仕上げ研削ユニット
50 仕上げ研削ホイール
90 加工室カバー
91 加工室
104,112 パイプ
108,116 撮像ユニット(高速度カメラ)
122,134 フレキシブルコード
128,136 光ファイバ
2 Grinding device 10 Rough grinding unit 11 Optical device wafer 13 Sapphire substrate 22 Rough grinding wheel 38 Finish grinding unit 50 Finish grinding wheel 90 Processing chamber cover 91 Processing chamber 104, 112 Pipe 108, 116 Imaging unit (high speed camera)
122,134 Flexible cord 128,136 Optical fiber

Claims (3)

加工装置であって、
被加工物を回転可能に保持するチャックテーブルと、
該チャックテーブルに保持された被加工物の一部を覆うように被加工物に当接して被加工物に露出部を形成した状態で回転しつつ被加工物を加工する加工ホイールを有する加工手段と、
少なくとも該チャックテーブルと該加工ホイールとを覆って加工室を画成する加工室カバーと、
一端が該加工室カバーに形成された開口部に接続された所定の長さを有するパイプ部材と、
該パイプ部材の他端側に配設され、加工中に該パイプ部材を通じて被加工物の該露出部を撮像する撮像手段と、
一端が光源に接続され該加工室カバーを貫通して他端が該加工室内に配設された該露出部を照らす光ファイバと、
を具備したことを特徴とする加工装置。
A processing device,
A chuck table that rotatably holds the workpiece;
Processing means having a processing wheel for processing a workpiece while rotating in a state where an exposed portion is formed on the workpiece by contacting the workpiece so as to cover a part of the workpiece held on the chuck table When,
A processing chamber cover that at least covers the chuck table and the processing wheel to define a processing chamber;
A pipe member having a predetermined length, one end of which is connected to an opening formed in the processing chamber cover;
An imaging means disposed on the other end side of the pipe member and imaging the exposed portion of the workpiece through the pipe member during processing;
An optical fiber having one end connected to a light source and penetrating the processing chamber cover and the other end illuminating the exposed portion disposed in the processing chamber;
A processing apparatus comprising:
前記撮像手段は高速度カメラから構成される請求項1記載の加工装置。   The processing apparatus according to claim 1, wherein the imaging means is constituted by a high-speed camera. 前記撮像手段は被加工物の前記露出部を撮像して撮像画像を形成し、
該撮像画像に基づいて被加工物に発生した異常を検出する検出部を有する制御手段を更に具備したことを特徴とする請求項1又は2の何れかに記載の加工装置。
The imaging means images the exposed portion of the workpiece to form a captured image;
The processing apparatus according to claim 1, further comprising a control unit having a detection unit that detects an abnormality that has occurred in the workpiece based on the captured image.
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