JP2013120907A - Substrate transfer device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、例えば、フラットパネルディスプレイ用のガラス基板や半導体基板やプリント基板等を搬送する基板搬送装置に関する。 The present invention relates to a substrate transfer device for transferring, for example, a glass substrate, a semiconductor substrate, or a printed board for a flat panel display.
近年、FPD(フラットパネルディスプレイ)や半導体やなどの製造において、基材となるガラス基板やウェハ基板(以下、基板という)を搬送しながら、基板上の表面にパターンを形成するための各種処理を行う製造装置や、欠陥の検査処理を行う検査装置、欠陥の修正処理を行う欠陥修正装置など、各種処理装置が用いられている。これらの処理装置には基板を搬送させるために基板搬送装置が一体に設けられている。基板搬送装置は、外部から検査などの処理を行う処理部へ基板を搬入、または処理部から外部へ基板を搬出する搬送部を有する。この基板の搬入と搬出を、基板の搬送と称する。 In recent years, in the manufacture of FPD (flat panel display), semiconductors, etc., various processes for forming a pattern on the surface of a substrate while conveying a glass substrate or wafer substrate (hereinafter referred to as a substrate) as a base material are performed. Various processing apparatuses such as a manufacturing apparatus to perform, an inspection apparatus to perform defect inspection processing, and a defect correction apparatus to perform defect correction processing are used. These processing apparatuses are integrally provided with a substrate transport device for transporting the substrate. The substrate transport apparatus includes a transport unit that carries the substrate into a processing unit that performs processing such as inspection from the outside, or carries the substrate out of the processing unit. This loading and unloading of the substrate is referred to as substrate conveyance.
搬送部は、基板を支持し、搬送方向に沿って複数の回転可能なローラで構成されるステージと、基板を吸着して搬送方向に移動可能な吸着パッドとを備える。搬送部は、ローラに支持された基板を吸着パッドによって吸着保持し、この吸着パッドを移動させることで基板の搬送を行う。また、基板の支持には、ローラを用いたステージに代えて、浮上プレートを用いて基板を浮上させるフローティングステージを用いる場合もある。この浮上プレートは、基板を搬送する搬送面に複数の空気穴を有し、この空気穴から空気を吹き出すことによって基板を浮上させる。浮上プレートは、ローラと比して基板の搬送によって生じる振動や、装置内の空気を浄化するためのFFU(Fan Filter Unit)によるダウンフローに起因して発生する振動を抑制することができる。 The transport unit includes a stage configured to support a substrate and includes a plurality of rotatable rollers along the transport direction, and a suction pad that sucks the substrate and can move in the transport direction. The transport unit sucks and holds the substrate supported by the roller by the suction pad, and transports the substrate by moving the suction pad. For supporting the substrate, a floating stage that floats the substrate using a floating plate may be used instead of the stage using a roller. The levitation plate has a plurality of air holes on the conveyance surface for conveying the substrate, and the substrate is levitated by blowing air from the air holes. The levitation plate can suppress vibration generated due to the conveyance of the substrate as compared with the roller and vibration generated due to a down flow caused by FFU (Fan Filter Unit) for purifying the air in the apparatus.
上述した基板搬送装置として、搬送部に設けられ、基板を浮上させる複数の基板浮上機構を有し、基板浮上機構が検査処理部において搬送方向に直交する方向に対して互い違いに配置された基板検査装置が開示されている(例えば、特許文献1を参照)。この基板検査装置では、基板を浮上させることによって搬送を安定化させるとともに、検査時に基板を撮像した際に、基板浮上機構の映り込みを防止することができる。 As the above-described substrate transfer device, the substrate inspection is provided in the transfer unit and has a plurality of substrate floating mechanisms for floating the substrate, and the substrate floating mechanisms are alternately arranged in the inspection processing unit with respect to the direction orthogonal to the transfer direction. An apparatus is disclosed (see, for example, Patent Document 1). In this substrate inspection apparatus, the substrate is floated to stabilize the conveyance, and when the substrate is imaged during the inspection, the reflection of the substrate floating mechanism can be prevented.
しかしながら、特許文献1が開示する基板検査装置は、搬送中に生じる振動の基板への伝達を防止することが可能であるものの、各基板浮上機構の設置には高価格であるうえに組立て精度が求められ、その調整に労力を要する。また、特許文献1では浮上プレートを用いているが、上述したローラを用いて基板を搬送する構成とすると低価格で基板の搬送を実現できるものの、搬送中における振動が浮上搬送より強く生じることととなり、安定した基板の保持という観点においては、浮上搬送と比して劣る。
However, although the substrate inspection apparatus disclosed in
本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、ローラ搬送においても基板への振動の伝達を防止し、基板の搬送を安定化させることが可能な基板搬送装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above, and an object of the present invention is to provide a substrate transport apparatus capable of preventing the transmission of vibration to the substrate even in roller transport and stabilizing the transport of the substrate. .
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明にかかる基板搬送装置は、複数のローラを用いることによって搬送対象の基板を所定の搬送方向に沿って搬送する搬送ステージを有する基板搬送装置であって、前記複数のローラの一部に支持されて前記搬送ステージ上を前記搬送方向に沿って移動可能であり、前記基板と面接触して前記基板保持する略板状の保持部材を備えたことを特徴とする。 In order to solve the above-described problems and achieve the object, a substrate transport apparatus according to the present invention includes a transport stage that transports a substrate to be transported along a predetermined transport direction by using a plurality of rollers. A substantially plate-shaped holding member that is supported by a part of the plurality of rollers and is movable on the transfer stage along the transfer direction and that holds the substrate in surface contact with the substrate; It is characterized by having.
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記保持部材を保持し、前記搬送方向と平行に延びる搬送軸上を往復動可能な搬送部を備えたことを特徴とする。 The substrate transfer apparatus according to the present invention is characterized in that, in the above invention, the substrate transfer device includes a transfer unit that holds the holding member and can reciprocate on a transfer shaft extending in parallel with the transfer direction.
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記基板の撮像処理を行う撮像部と、前記撮像部が撮像する撮像領域に照明光を照射する照明部と、を備え、前記保持部材は、前記照明部が発する照明光を透過する材料からなることを特徴とする。 Further, the substrate transport apparatus according to the present invention includes, in the above invention, an imaging unit that performs imaging processing of the substrate, and an illumination unit that irradiates illumination light to an imaging region captured by the imaging unit, and the holding The member is made of a material that transmits illumination light emitted from the illumination unit.
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記保持部材は、板厚方向に貫通し、エアの吸排動作を行うエア供給部と接続した配管内の流路に連通する第1貫通孔を有し、前記第1貫通孔を介して前記基板を吸引することによって、該基板を保持することを特徴とする。 In the substrate transfer apparatus according to the present invention, in the above invention, the holding member penetrates in the plate thickness direction and communicates with a flow path in a pipe connected to an air supply unit that performs an air intake / exhaust operation. It has a through hole, and the substrate is held by sucking the substrate through the first through hole.
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記配管は、光を透過する材料からなることを特徴とする。 In the substrate transfer apparatus according to the present invention as set forth in the invention described above, the pipe is made of a material that transmits light.
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記複数のローラの上端を通過する平面と直交する方向に、該平面を通過する範囲で進退可能に設けられ、前記基板を先端でそれぞれ支持する複数のリフトピンを備え、前記保持部材は、板厚方向に貫通し、前記リフトピンを挿通する第2貫通孔を有することを特徴とする。 Further, in the above invention, the substrate transport apparatus according to the present invention is provided in a direction perpendicular to the plane passing through the upper ends of the plurality of rollers so as to be able to advance and retreat within a range passing through the plane, and the substrate at the tip. The holding member includes a plurality of lift pins for supporting each, and the holding member has a second through-hole penetrating in the plate thickness direction and inserting the lift pin.
本発明によれば、ローラ上に載置される板状の保持部材によって基板Wを保持するようにしたので、ローラ搬送においても基板への振動の伝達を防止し、基板の搬送を安定化させることができるという効果を奏する。 According to the present invention, since the substrate W is held by the plate-like holding member placed on the roller, the transmission of vibration to the substrate is prevented even in the roller conveyance, and the substrate conveyance is stabilized. There is an effect that can be.
以下、本発明を実施するための形態を図面と共に詳細に説明する。なお、以下の実施の形態により本発明が限定されるものではない。また、以下の説明において参照する各図は、本発明の内容を理解でき得る程度に形状、大きさ、および位置関係を概略的に示してあるに過ぎない。すなわち、本発明は各図で例示された形状、大きさ、および位置関係のみに限定されるものではない。 DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, this invention is not limited by the following embodiment. The drawings referred to in the following description only schematically show the shape, size, and positional relationship so that the contents of the present invention can be understood. That is, the present invention is not limited only to the shape, size, and positional relationship illustrated in each drawing.
まず、本発明の実施の形態にかかる基板搬送装置について、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明では、基板搬送装置として、被検査対象である基板の検査を行うフラットパネルディスプレイ(FPD)検査装置を例に挙げて説明する。FPD検査装置は、露光装置やコーター/ディベロッパー、エッチング装置などの製造装置等に直結して被検査対象となる基板の全数検査を行うようなインライン型であってもよいし、カセット等の基板ストッカーから直接搬入出して一部の基板のみを抜き取り検査するオフライン型(スタンドアローン型)であってもよい。 First, a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following description, a flat panel display (FPD) inspection apparatus that inspects a substrate to be inspected will be described as an example of the substrate transport apparatus. The FPD inspection apparatus may be an inline type that directly connects to a manufacturing apparatus such as an exposure apparatus, a coater / developer, an etching apparatus, etc., and inspects all the substrates to be inspected, or a substrate stocker such as a cassette An off-line type (stand-alone type) in which only a part of the substrate is sampled and inspected by direct loading / unloading from the board may be used.
図1は、本実施の形態にかかるフラットパネルディスプレイ(FPD)検査装置の構成を示す斜視図である。図2は、本実施の形態にかかるFPD検査装置の構成を示す正面図である。図3は、本実施の形態にかかるFPD検査装置の構成を模式的に示す上面図である。図4は、本実施の形態にかかるFPD検査装置の構成を模式的に示す側面図である。 FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of a flat panel display (FPD) inspection apparatus according to the present embodiment. FIG. 2 is a front view showing the configuration of the FPD inspection apparatus according to the present embodiment. FIG. 3 is a top view schematically showing the configuration of the FPD inspection apparatus according to the present embodiment. FIG. 4 is a side view schematically showing the configuration of the FPD inspection apparatus according to the present embodiment.
図1に示すように、FPD検査装置1は、搬送された矩形をなす基板Wの欠陥を検出する基板処理部2と、基板処理部2全体の制御を行う制御機構3と、を備える。また、基板処理部2は、移動する基板Wの欠陥を検出する光学ユニット100を保持するガントリー(Gantry)10と、基板Wを搬送する搬送ステージ13(ステージ13A〜13D)と、基板Wの搬送方向に略直交して延び、基板Wに対して照明光を照射する照明部14とを備える。なお、ガントリー10は、門型のフレーム構造で、搬送ステージ13上に跨ぐように設けられる。
As shown in FIG. 1, the
ガントリー10および搬送ステージ13(ステージ13A〜13D)は、例えば図2に示すような架台11,12に固定される。架台11,12は、搬送ステージ13の搬送方向Dに平行な端部側にそれぞれ設けられ、搬送方向Dに沿って延びている。架台11,12は、例えばブロック状の大理石やスチール材を組み合わせた鋼管フレームなど、耐震性の高い部材によって構成されることが望ましい。加えて、架台11,12と設置面(例えば床)との間には、例えばスプリングや空気圧ダンパー、油圧ダンパーなどで構成された振動吸収機構110が設けられる。これにより、ガントリー10および搬送ステージ13(ステージ13A〜13D)の振動がさらに防止される。また、架台12の上面には、搬送方向Dに駆動し、基板Wを吸着保持して搬送する基板搬送機構20が設けられる。なお、架台11、12の構成は、本実施の形態で開示する構成に限らず、ガントリー10を支持する、基板を支持する、基板を搬送するという機能を有したステージの構成であれば如何なる形状を採用しても構わない。
The
光学ユニット100は、搬送ステージ12が形成する搬送経路上に設定された、搬送ステージ13の幅方向に平行な検査ラインL1を通過する基板Wを、顕微鏡101を介して撮像する撮像部を有する。この光学ユニット100によって取得された画像(高倍率画像)を解析することで、基板Wに欠陥が存在するか否かを検出することができる。光学ユニット100は、検査ラインL1に沿って移動することが可能である。また、照明部14が基板Wに対して光を基板Wに照射して、顕微鏡101がこの反射光を取得し、取得した反射光から得られる画像データをもとに、検査部33が基板W上に形成された膜の膜厚測定を行う。
The
なお、上述した構成は、光学ユニット100と基板Wとを相対的に移動させる構成であれば他の構成であってもよい。例えば、基板Wを搬送ステージ12の上に固定し、光学ユニット100を基板Wの平面上を走査するように構成してもよい。また、光学ユニット100を移動させる構成に代えて、ガントリー10に光学ユニット100を複数並設する構成としてもよい。この場合、移動する基板の一部或いは全体を複数の光学ユニット100によって走査することによって画像を取得することができる。本説明では、光学ユニット100(ガントリー10)が設けられる領域を検査空間PR1という。また、検査空間PR1以外の領域を搬送空間TR1,TR2という。
Note that the above-described configuration may be another configuration as long as the
また、光学ユニット100は、たとえば基板Wの欠陥部分に対してレーザ照射や塗布修正等の欠陥修正を行う欠陥修正ユニット、顕微鏡101に代えて観察・画像保存する高解像カメラからなる撮像ユニット、配線等の寸法測定、膜厚測定、色測定などを行う測定ユニットなどの処理を所定の位置で施す他の処理ユニットに適宜置き替えることができる。さらに、これらの処理ユニットを一台の検査装置に複数搭載する構成としてもよい。すなわち、処理ユニットには、光学ユニット、欠陥修正ユニット、撮像ユニット、測定ユニット等が少なくとも一つ含まれる。また、本実施の形態にかかるFPD検査装置1は、基板Wを載置するステージ上で、上述した処理ユニットが基板Wに対して各処理を行う構成も含んでもよい。
The
搬送ステージ13(ステージ13A〜13D)は、例えば複数の板状部材が基板Wの搬送方向Dと垂直な方向に並設された、すのこ状に組み合わされた構造を有する。搬送ステージ13は、すのこ状に組み合わされた構造を有するステージ13A〜13Dを搬送方向Dに沿って並べることで、基板Wの搬送経路を形成する。各ステージ13A〜13Dの板状部材には、上面で保持部材22を保持し、搬送方向Dに直交する軸を中心軸として自転可能なフリーローラ131がそれぞれ設けられる。なお、フリーローラ131は、ラグランジュ点のように載置する部材の撓み振動が発生しにくい間隔で配置されることが好ましい。また、フリーローラはPEEK(ポリエーテル・エーテル・ケトン)材やフッ素系の樹脂等、耐摩擦性に優れるエンジニアリングプラスティックを採用することが好ましい。また、複数のフリーローラの配置は、等間隔でも不等間隔でも構わない。
The transport stage 13 (
なお、本実施の形態の搬送ステージ13では、複数の板状部材がすのこ状に並設され、この板状部材にフリーローラが複数設けられる構成としているが、この構成に代えて、例えば、基板の搬送方向に直交する方向に延出するシャフトを基板の搬送方向へ間隔を置いて複数設け、このシャフトにフリーローラを複数設けるような構成に置き換えてもよい。すなわち、搬送ステージ13は、回転可能な複数のローラ部材によって保持部材22を支持するとともに移動させる構成であり、その形態は如何なる構成を採用しても構わない。
In the
ここで、搬送ステージ13(ステージ13A)に搬送された基板Wは、所定の位置に載置されるように位置決めされる。基板Wの位置決め方法としては、搬送ステージ13上に搬入された基板Wを支持して搬送ステージ13に載置する複数のリフトピン133(図8,9参照)、および搬送ステージ13に載置された基板Wを整列させる整列機構132等を用いる方法が挙げられる。リフトピン133は、ステージ13Aに設けられ、ステージ13Aの各フリーローラ131の上端を通過する平面(保持部材22の上面)と直交する方向に、この平面を通過する範囲で進退可能に設けられる。なお、リフトピン133の先端は、PEEK材等のエンジニアリングプラスティックを用いて形成されることが好ましい。
Here, the substrate W transported to the transport stage 13 (
図5は、本実施の形態にかかるFPD検査装置1の照明部14近傍の構成を示す斜視図である。照明部14は、基板Wの光学ユニット100側と反対方向の面に向けて照明光を照射する透過照明光を照射する。照明部14は、搬送ステージ13が延びる方向に直交する方向に延び、例えば、ステージ13B,13C間であって、検査ラインL1に沿って照明光を照射可能な位置に設けられる。この照明部14は、検査ラインL1と平行に延びる照明部材14aによって構成されるものであってもよいし、光学ユニット100の移動に伴って光源を移動させるものであってもよい。また、照明部材14aは、例えばハロゲンランプとロッドレンズの組合せなどによって線状光源とする構成であってもよいし、点光源として複数のLED光源を有するものであってもよい。なお、光学ユニット100内に、基板Wに向けて照明光を照明する落射照明光を照射する照明ユニットを内設し、基板Wから反射される光を光学ユニット100によって受光するものであってもよい。
FIG. 5 is a perspective view showing a configuration in the vicinity of the
図6は、本実施の形態にかかるFPD検査装置1の基板搬送機構20の構成を示す斜視図である。基板搬送機構20は、架台12の上面側に設けられ、搬送方向Dに平行に延びる搬送軸12a上を移動する搬送部21と、搬送部21およびフリーローラ131に支持され、基板Wを保持する平板状をなす保持部材22と、制御部30の制御のもと、エアの吸排動作を行うエア供給部23と、を有する。搬送部21は、搬送軸12a上に載置され、搬送方向Dに沿って移動する板状の移動体21aと、移動体21aの板面から鉛直方向に延びる2つの支柱21bと、支柱21bの移動体21aと連結する側と異なる側の端部に設けられ、保持部材22を保持する保持板21cと、を有する。保持板21cと保持部材22とは、ネジ21dによって固定されている。
FIG. 6 is a perspective view showing a configuration of the
保持部材22は、照明部14からの照明光を透過することができる透明部材を用いて形成された略板状をなす。透明部材は、例えばガラス、あるいは光透過性の樹脂からなり、一枚の板状部材、あるいは複数の板状部材を複数接合したものなど平板状のものであれば如何なる構成でも構わない。保持部材22は、板厚方向に貫通する複数の貫通孔22a(第1貫通孔)と、板厚方向に貫通し、貫通孔22aより大きい径の内部空間を形成し、リフトピン133を挿通可能な複数の貫通孔22b(第2貫通孔)と、一端で貫通孔22aに連通し、搬送方向Dに沿って延び、他端でエア供給部23と接続する配管22c(図7参照)と、を有する。また、保持部材22上に載置された基板Wは、エア供給部23の図示しないポンプの駆動による吸気動作によって、貫通孔22aおよび配管22cを介して、少なくとも一部が面接触して保持部材22に吸着保持される。基板搬送機構20は、例えば、搬送軸12aとしてリニアモータガイドを用いるとともに、移動体21aとしてリニアモータを用いることによって実現される。なお、基板搬送機構20は、リニアモータおよびリニアモータガイドのほか、ボールねじを用いた構成によっても実現可能である。
The holding
ここで、保持部材22の板厚は、基板Wの板厚より厚いことが好ましい。保持部材22は、フローローラ131から伝達される振動を防止するほか、光学ユニット100による撮像を行う際の基板の撓み等を防止することが好ましい。保持部材22の板厚が厚ければ厚いほど、フリーローラ131からの振動の伝達を防止することができるとともに、載置する基板Wの撓みを防止することが可能となる。なお、保持部材22の板厚は、基板Wの大きさ、すなわち検査対象の基板Wのサイズや、保持部材22に使用する素材などを勘案して適宜設定される。基板Wの撮像においては、図2に示すように、搬送方向Dに直交する方向の撓みを防止することが好ましく、保持部材22の剛性によって、実現することが可能である。
Here, the plate thickness of the holding
配管22cは、貫通孔22aに連通する側と異なる側の端部は、支柱21b等を介して、架台12の内部まで延びている。なお、基板搬送機構20による基板Wの支持高さは、支柱21bを調整することによって調節可能である。また、配管22cは、少なくとも保持部材22側に位置する部分が、照明部14からの照明光を透過する透明部材、例えばガラス、あるいは光透過性の樹脂からなることが好ましく、架台12側に位置する部分が屈曲性のある樹脂からなることが好ましい。
The end of the
整列機構132は、搬送ステージ13(ステージ13A)の外周側にそれぞれ設けられ、制御部30の制御のもと、基板Wに当接する当接部材が、基板Wの端面に対して少なくとも遠近方向に移動可能である。整列機構132は、基板Wの各辺に対応して1〜2個設けられ、各整列機構132の当接部材がそれぞれ基板Wの対応する端面に当接して、挟み込むことにより基板Wの位置決めを行なう。例えば、基板Wにおけるある一辺に2つの整列機構132が配設されている場合、対抗する辺側には1つの整列機構132が配置される。また、このとき、各整列機構132を結んで形成される図形が、三角形(正三角形または二等辺三角形)となることが好ましい。
The
なお、整列機構132は、FPD検査装置に基板Wが搬入される際、例えば搬入ロボットアームによって高精度に位置決めされるなど、所定の精度で位置決めがなされている状態で基板Wが保持部材22に載置されるのであれば必ずしも必要な構成ではない。
The
また、FPD検査装置1が、少なくとも基板処理部2を囲み、光学ユニット100の上方に設けられるクリーンな空気(以下、クリーンエアという)を送り込むFFUを有する外装を備えていれば、クリーンルームを形成することができるので好ましい。このクリーンルームは、基板の搬入口および搬出口ならびに下部のダクト以外、密閉された内部空間である。
Further, if the
FFUは、例えば、パーティクルなどのダストが除去されたクリーンエアを送出する。この結果、特に光学ユニット100の移動領域を、ダストの少ないクリーンな状態とする。また、光学ユニット100近傍に集中して送出されたクリーンな空気は、クリーンルーム内でダウンフローを形成したのち、排気口から排気される。
The FFU, for example, sends clean air from which dust such as particles have been removed. As a result, the moving region of the
制御機構3は、制御部30、入力部31、出力部32、検査部33および記憶部34を備える。制御機構3は、ROM、RAM、通信機能等を備えたコンピュータで実現される。
The
制御部30は、FPD検査装置1全体の制御を行う。入力部31は、キーボード、マウス、タッチパネル、ボタン等を用いて構成され、検体の分析に必要な諸情報や分析動作の指示情報等を外部から入力する。出力部32は、ディスプレイ等を用いて構成される。
The
検査部33は、光学ユニット100によって取得された画像またはそのスペクトルをもとに基板Wの測定および/または検査を行う。
The inspection unit 33 measures and / or inspects the substrate W based on the image acquired by the
記憶部34は、情報を磁気的に記憶するハードディスクと、FPD検査装置1が処理を実行する際にその処理にかかわる検査プログラムを含む各種プログラムをハードディスクからロードして電気的に記憶するメモリとを用いて構成される。
The storage unit 34 includes a hard disk that magnetically stores information and a memory that loads various programs including an inspection program related to the process when the
上述したFPD検査装置1では、制御部30の制御のもと、外部から搬送ステージ13に搬入された基板Wに対して、基板搬送機構20によって吸着保持して搬送方向Dに搬送し、光学ユニット100が基板Wの欠陥検査等の検査処理を行う。このとき、基板搬送機構20は、貫通孔22bを介して基板Wの表面を吸引して保持する保持部材22を、搬送方向Dに沿って移動させることによって基板Wの搬送を行う。
In the
図8は、本実施の形態にかかるFPD検査装置1の構成を示す斜視図であって、外部機構から基板Wを搬入する場合を示す図である。図9は、本実施の形態にかかるFPD検査装置1の要部の構成を示す斜視図であって、外部機構から基板Wを搬入する場合を示す図である。外部から基板Wを受け入れる際は、図8,9に示すように、搬送ロボット200が、櫛状をなすアーム201に保持された基板Wを搬送ステージ13(ステージ13A)に搬入する。搬送ロボット200は、基板Wを保持しているアーム201がステージ13A上まで進んだ後、下降する。このとき、ステージ13Aにおいてリフトピン133が上昇して貫通孔22bから突出した状態となっており、アーム201は、このリフトピン133間に入り込む。その後アーム201が下降することで、基板Wがリフトピン133に保持される。基板Wがリフトピン133に支持された後、搬送ロボット200は、アーム201を搬送方向Dに沿って搬送ステージ13(FPD検査装置1)から離脱させる。
FIG. 8 is a perspective view showing the configuration of the
その後、基板Wを支持したリフトピン133は、制御部30の制御のもと、下降してステージ13A下方に退避する。このとき、エア供給部23の排気動作によって貫通孔22aからエアが吹き出されており、基板Wは、リフトピン133の退避動作によってエアにより支持されることとなる。基板Wが、保持部材22上で保持されると、上述した整列機構132によって位置決めがなされ、エア供給部23による吸引によって、位置決めされた位置で固定される。
Thereafter, the lift pins 133 supporting the substrate W are lowered and retracted below the
なお、基板Wの位置決めについては、検査装置の種類、検査対象の基板Wの大きさ、保持部材22の素材などの各種条件に基づいて、保持部材22の貫通孔22bおよびリフトピン133の構成を省略し、基板Wを保持部材22に直接載置した状態で整列機構132により位置決めするようにしてもよい。この場合、装置構成を簡略化することができ、コストを低減させることが可能となる。
Regarding the positioning of the substrate W, the configuration of the through
上述した実施の形態では、フリーローラ131上に載置される板状の保持部材22によって基板Wを保持するようにしたので、ローラ搬送においても基板への振動の伝達を防止し、基板の搬送を安定化させることができる。特に、近年の基板の大型化に伴い、基板上における振動が生じやすくなっているため、フリーローラ131等から発生した振動が基板Wに伝達することを防止することによって、安定した基板の搬送に有効な効果を奏する。
In the above-described embodiment, since the substrate W is held by the plate-like holding
また、従来のエアによって基板を浮上させて搬送する方法では、搬送中に生じる振動の発生を防止して安定した状態で基板を搬送することが可能であるものの、各基板浮上機構の設置には高価格であるうえに組立て精度が求められ、その調整に労力を要する。また、安定した搬送処理や撮像処理を行うため、基板を浮上させるために供給されるエアの吹き出し量(エア圧)が一定となるよう制御する必要が生じ、構成(制御系の構成)を複雑にするおそれがあった。一方、本実施の形態では、フリーローラを用いたローラ搬送のため、安価かつ簡易に搬送系を構築することができるうえ、保持部材の基板保持のためのエアにおいても、上述したエア圧ほどの精度を要さず、構成を複雑化させることなく構築できる。 In addition, in the conventional method of transporting the substrate by floating it with air, it is possible to transport the substrate in a stable state by preventing the occurrence of vibrations during transport, but for the installation of each substrate floating mechanism In addition to being expensive, assembly accuracy is required, and adjustment is required. In addition, in order to perform stable transport processing and imaging processing, it is necessary to control the air blowout amount (air pressure) supplied to float the substrate, and the configuration (control system configuration) is complicated. There was a risk. On the other hand, in the present embodiment, because of the roller conveyance using the free roller, a conveyance system can be constructed easily and inexpensively, and also in the air for holding the substrate of the holding member, the air pressure is as high as that described above. It can be constructed without the need for accuracy and without complicating the configuration.
また、従来のフリーローラによって基板を支持して搬送する方法では、低価格で搬送系を構築することができるものの、エアによる搬送に比して生じる振動が大きい。加えて、フリーローラの配設間隔によっては、各フリーローラと基板との支持点と、これら支持点間の中央部とに高低差が生じて基板表面が凹凸形状をなし(撓み)、撮像処理に影響を及ぼすおそれがあった。一方、本実施の形態では、フリーローラ上に載置される板状の保持部材を用いて基板を搬送するため、基板の撓みを防止し、安定した撮像処理を行うことができる。 In addition, in the conventional method of supporting and transporting a substrate by a free roller, although a transport system can be constructed at a low price, vibration generated is larger than that of transport by air. In addition, depending on the arrangement interval of the free rollers, there is a difference in height between the support points of each free roller and the substrate and the central part between these support points, and the substrate surface becomes uneven (flexed), and imaging processing There was a risk of affecting the On the other hand, in the present embodiment, since the substrate is transported using a plate-like holding member placed on the free roller, the substrate can be prevented from being bent and stable imaging processing can be performed.
また、従来のエアまたはフリーローラによって基板を搬送する方法では、透過照明系を用いる場合、検査ラインに応じて、搬送系を変更する必要があった。例えば、フリーローラの映り込みを防止するために、検査ライン上にフリーローラを設けないようにしたり、基板の撓みを防止するために、検査ライン近傍のフリーローラの数を増大させたり、検査領域とそれ以外の搬送領域とのエア圧を変える制御を行うなどしていた。一方、本実施の形態では、透過照明光を透過する保持部材を用いて基板を搬送するため、保持部材によって基板の剛性を高めて基板の撓みを防止して搬送するため、検査ラインにおいてフリーローラを設けない場合であっても基板を撓ませることなく安定した撮像処理を行うことができる。 Further, in the conventional method of transporting a substrate by air or free rollers, when a transmission illumination system is used, it is necessary to change the transport system according to the inspection line. For example, in order to prevent the free roller from appearing, no free roller is provided on the inspection line, in order to prevent the substrate from being bent, the number of free rollers near the inspection line is increased, or the inspection area And control to change the air pressure between and other areas. On the other hand, in this embodiment, since the substrate is transported using the holding member that transmits the transmitted illumination light, the holding member increases the rigidity of the substrate and prevents the substrate from being bent, so that the free roller in the inspection line. Even in the case of not providing the sensor, stable imaging processing can be performed without bending the substrate.
また、従来のエアまたはフリーローラによって基板を搬送する方法では、搬送部の移動による加減速時に基板が搬送部からのずれ、または離脱することを防止するため、搬送部の搬送軸を搬送ステージの幅方向(搬送方向に直交する方向)の中央に配置していた。しかしながら、上述した構成では、加減速時の基板のずれ、または離脱を防止することができるものの、透過照明光を発する照明部の配置が困難となるという問題があった。一方、本実施の形態では、透過照明光を発する照明部を配置し、搬送部の搬送軸を搬送ステージの幅方向の側部に設けた場合であっても、保持部材によって基板を保持しているため、加減速時の基板のずれ、または離脱を防止するとともに、透過照明光を発する照明部を配置して撮像処理を行うことができる。 In addition, in the conventional method of transporting a substrate by air or free rollers, the transport axis of the transport unit is connected to the transport stage in order to prevent the substrate from being displaced from or separated from the transport unit during acceleration / deceleration due to movement of the transport unit. It was arranged at the center in the width direction (direction perpendicular to the transport direction). However, although the above-described configuration can prevent displacement or separation of the substrate during acceleration / deceleration, there is a problem that it is difficult to dispose the illumination unit that emits transmitted illumination light. On the other hand, in this embodiment, even when an illumination unit that emits transmitted illumination light is arranged and the conveyance axis of the conveyance unit is provided on the side in the width direction of the conveyance stage, the substrate is held by the holding member. Therefore, it is possible to prevent the substrate from being displaced or detached during acceleration / deceleration and to perform an imaging process by arranging an illumination unit that emits transmitted illumination light.
また、上述した本実施の形態では、基板以上の板厚の保持部材を用いて基板を搬送することが可能であり、保持部材によって基板の剛性を高めて基板の撓みを防止して搬送するため、搬送系全体としてフリーローラの数を従来のローラ搬送のフリーローラの数と比して削減することができる。 Moreover, in this Embodiment mentioned above, it is possible to convey a board | substrate using the holding member of board thickness more than a board | substrate, and raises the rigidity of a board | substrate with a holding member, and prevents the board | substrate from bending, and conveys it. As a whole, the number of free rollers in the entire transport system can be reduced compared to the number of free rollers in conventional roller transport.
なお、本実施の形態では、オフライン型のFPD検査装置に適用されるものとして説明したが、インライン型のFPD検査装置にも適用可能である。また、上述した実施の形態にかかる基板の搬送において、エアによる吸着保持に置き換え、シール材等によって基板を保持して搬送させる構成であってもよいし、基板を挟持して基板を搬送させる構成であっても適用可能である。 Note that although this embodiment has been described as being applied to an off-line type FPD inspection apparatus, it is also applicable to an inline type FPD inspection apparatus. Moreover, in the conveyance of the board | substrate concerning embodiment mentioned above, it may replace with the adsorption holding | maintenance by air, and the structure which hold | maintains and conveys a board | substrate with a sealing material etc. may be sufficient, and the structure which clamps a board | substrate and conveys a board | substrate Even so, it is applicable.
なお、本実施の形態では、基板搬送機構20の搬送部21が、搬送ステージ13の一方の側部に設けられて保持部材22を保持するものとして説明したが、搬送ステージ13の両方に設けられて保持部材22を保持するものであっても適用可能である。
In the present embodiment, the
以上のように、本発明にかかる基板搬送装置は、ローラ搬送においても基板への振動の伝達を防止し、基板の搬送を安定化させることに有用である。 As described above, the substrate transport apparatus according to the present invention is useful for preventing the transmission of vibration to the substrate even in roller transport and stabilizing the transport of the substrate.
1 FPD検査装置
2 基板処理部
3 制御機構
10 ガントリー
11,12 架台
13 搬送ステージ
13A〜13D ステージ
14 照明部
14a 照明部材
20 基板搬送機構
21 搬送部
21a 移動体
21b 支柱
21c 保持板
21d ネジ
22 保持部材
22a,22b 貫通孔
22c 配管
23 エア供給部
30 制御部
31 入力部
32 出力部
33 検査部
34 記憶部
100 光学ユニット
101 顕微鏡
110 振動吸収機構
131 フリーローラ
132 整列機構
133 リフトピン
200 搬送ロボット
201 アーム
L1 検査ライン
PR1 検査空間
TR1,TR2 搬送空間
W 基板
DESCRIPTION OF
Claims (6)
前記複数のローラの一部に支持されて前記搬送ステージ上を前記搬送方向に沿って移動可能であり、前記基板と面接触して前記基板保持する略板状の保持部材を備えたことを特徴とする基板搬送装置。 A substrate transport apparatus having a transport stage for transporting a substrate to be transported along a predetermined transport direction by using a plurality of rollers,
A substantially plate-like holding member that is supported by a part of the plurality of rollers and is movable along the carrying direction on the carrying stage and holds the substrate in surface contact with the substrate. A substrate transfer device.
前記撮像部が撮像する撮像領域に照明光を照射する照明部と、
を備え、
前記保持部材は、前記照明部が発する照明光を透過する材料からなることを特徴とする請求項1または2に記載の基板搬送装置。 An imaging unit that performs imaging processing of the substrate;
An illumination unit that irradiates illumination light to an imaging region imaged by the imaging unit;
With
The substrate transport apparatus according to claim 1, wherein the holding member is made of a material that transmits illumination light emitted from the illumination unit.
板厚方向に貫通し、エアの吸排動作を行うエア供給部と接続した配管内の流路に連通する第1貫通孔を有し、
前記第1貫通孔を介して前記基板を吸引することによって、該基板を保持することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の基板搬送装置。 The holding member is
Having a first through hole that communicates with a flow path in a pipe that is connected to an air supply unit that penetrates in the plate thickness direction and performs an air suction and discharge operation
The substrate transfer apparatus according to claim 1, wherein the substrate is held by sucking the substrate through the first through hole.
前記保持部材は、板厚方向に貫通し、前記リフトピンを挿通する第2貫通孔を有することを特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記載の基板搬送装置。 A plurality of lift pins provided in a direction perpendicular to the plane passing through the upper ends of the plurality of rollers so as to advance and retreat within a range passing through the plane, each supporting the substrate at the tip;
The substrate transport apparatus according to claim 1, wherein the holding member has a second through hole that penetrates in the plate thickness direction and passes through the lift pin.
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