JP2013119525A - 容器内の溶液に水素イオンを含有させる装置及びその方法 - Google Patents
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Abstract
栄養剤等の溶液の容器に非物理的浸透方式により水素イオンを浸透させることにより、機材に必要なコストを下げると共に、操作の利便性を高めることが可能な容器内の溶液に水素イオンを含有させる装置及びその方法を提供する。
【解決手段】
容器C内の溶液Nに水素イオンHを含ませる装置は、密閉空間S1、容器C及び液体Lを含む。容器C内には、溶液Nが収容される。液体Lには、水素化シリカパウダーが混合されると水素イオンHが発生する。密閉空間S1には、容器C及び液体Lが収容され、容器Cが液体Lに浸液され、密閉空間S1にガス貯蔵空間S2が形成される。溶液Nは、人体により吸収される栄養剤である。容器Cは液体Lに少なくとも24時間浸液され、液体Lの水素イオンHが容器C内の溶液Nに浸透する。水素化シリカパウダーは、液体L100cc当り1gが好ましい。
【選択図】図1
Description
前記液体に、水素化シリカパウダーが混合されると水素イオンが発生し、
前記密閉空間には、ガス貯蔵空間が形成されることを特徴とする容器内の溶液に水素イオンを含有させる装置が提供される。
密閉空間を準備し、前記密閉空間に液体を収容するステップと、
前記液体に、水素化シリカパウダーを、前記液体100cc当り1gまたは1g以上混合するステップと、
前記容器内に人体により吸収される溶液を収容するステップと、
前記液体に容器を浸液させ、前記液体内の水素イオンが前記容器内の溶液に浸透させるステップと、
前記密閉空間に前記容器及び前記液体を収容することにより、ガス貯蔵空間が形成されるステップと、を含むことを特徴とする容器内の溶液に水素イオンを含有させる方法が提供される。
本発明において用いられる液体は、水素化シリカパウダーから水素イオンを発生させ得るものであればよい。また、容器としては水素イオンが浸透可能な合成樹脂材料でもよい。
H 水素イオン
L 液体
N 溶液
P 粉末
S1 密閉空間
S2 ガス貯蔵空間
Claims (8)
- 密閉空間と、該密閉空間内に収容された液体と、該液体内に浸液された容器からなり、前記容器内に溶液が収容され、前記容器内の前記溶液に水素イオンを含有させる装置であって、
前記液体に、水素化シリカパウダーが混合されることにより水素イオンが発生し、
前記密閉空間には、ガス貯蔵空間が形成されることを特徴とする容器内の溶液に水素イオンを含有させる装置。 - 前記溶液は、人体により吸収される栄養剤であることを特徴とする請求項1に記載の容器内の溶液に水素イオンを含有させる装置。
- 前記容器は、前記液体に少なくとも24時間浸液され、前記液体の前記水素イオンが、前記容器内の前記溶液に浸透することを特徴とする請求項1に記載の容器内の溶液に水素イオンを含有させる装置。
- 前記水素化シリカパウダーの添加量は、前記液体100cc当り1gまたは1g以上であることを特徴とする請求項1に記載の容器内の溶液に水素イオンを含ませる装置。
- 前記密閉空間に収容される前記容器の容積と前記液体の容積とは1:1であることを特徴とする請求項1に記載の容器内の溶液に水素イオンを含ませる装置。
- 前記密閉空間内に前記容器及び前記液体を収容して形成する前記ガス貯蔵空間の容積は、前記密閉空間の空間容積の10%より小さいことを特徴とする請求項1に記載の容器内の溶液に水素イオンを含ませる装置。
- 密閉空間を準備し、該密閉空間に液体を収容するステップと、
前記液体に、水素化シリカパウダーを、前記液体100cc当り1gまたは1g以上混合するステップと、
容器内に人体により吸収される溶液を収容するステップと、
前記液体に前記容器を浸液させ、前記液体内の水素イオンが前記容器内の溶液に浸透させるステップと、
前記密閉空間に前記容器及び前記液体を収容することにより、ガス貯蔵空間が形成されるステップと、
を含むことを特徴とする容器内の溶液に水素イオンを含有させる方法。 - 前記液体に前記容器を浸液させる時間は、少なくとも24時間であることを特徴とする請求項7に記載の容器内の溶液に水素イオンを含ませる方法。
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---|---|---|---|---|
JP2010241787A (ja) * | 2009-03-13 | 2010-10-28 | Mizu Kk | 水素含有生体適用液の製造方法及び製造装置 |
JP2011177242A (ja) * | 2010-02-26 | 2011-09-15 | Mizu Kk | 水素含有生体適用液の製造方法及び製造装置 |
JP3171483U (ja) * | 2011-08-22 | 2011-11-04 | 新一點靈企業股▲ふん▼有限公司 | 気体供給構造 |
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2011
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