JP2013093327A - リボンビームの均一性向上のための方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リボンビームの均一性向上装置は第一の補正器―バーアセンブリ302と、その下流に距離Dだけ離れた位置に配置された第二の補正器―バーアセンブリ304とから構成される。各補正器は磁心部とその周りに配された複数のコイルを含み、コイルは個々に励起される。リボンビーム30の各ビームレット31〜37は第一の補正器で個々に偏向される。例えば、ビームレット32は小さな角度θで偏向される。各ビームレットは第二の補正器の位置で空間的に再配置され、ドーズ量均一性を向上できる。さらに、各ビームレットは第二の補正器で偏向されて平行にされる。すなわち角度均一性を向上できる。
【選択図】図3
Description
MeritFunction1=x×AngleSpread+(1−w)×ProfileSigma
ここで、AngleSpreadはイオンビーム中のビーム角度範囲を示し、ProfileSigmaはビーム電流(あるいはドーズ量)分布の標準偏差を示し、wは角度均一性およびドーズ量均一性の相対的重みを定義する。別のメリット関数は以下のように定義される。
Claims (20)
- 複数のビームレットを有するリボンビームの均一性を向上する装置であって、
第一群の磁心部と、前記第一群の磁心部の周りに配された第一の複数のコイルとを含む第一の補正器―バーアセンブリと、
第二群の磁心部と、前記第二群の磁心部の周りに配された第二の複数のコイルとを含み、前記第一の補正器―バーアセンブリから所定の距離に位置する、第二の補正器―バーアセンブリと、を含み、
前記第一の複数のコイルの各々は個々に励起されて前記リボンビームの少なくとも一つのビームレットを偏向して、前記複数のビームレットを望ましい空間的拡散で前記第二の補正器―バーアセンブリに到達させ、
前記第二の複数のコイルの各々は個々に励起されて前記リボンビームの一以上のビームレットを更に偏向して、前記複数のビームレットを望ましい角度で前記第二の補正器―バーアセンブリから放出させる、装置。 - 前記第二の補正器―バーアセンブリにおける前記複数のビームレットの前記望ましい空間的拡散が達成されることで、前記第二の補正器―バーアセンブリから放出される前記リボンビームについて均一なイオンドーズ量が生成される、請求項1に記載の装置。
- 前記複数のビームレットの前記望ましい角度が達成されることで、前記第二の補正器―バーアセンブリから放出される前記リボンビームについて角度均一性が達成される、請求項1に記載の装置。
- 前記第二の補正器―バーアセンブリにおける前記複数のビームレットの前記望ましい空間的拡散が達成されることで、前記第二の補正器―バーアセンブリから放出される前記リボンビームについて不均一なイオンドーズ量が生成される、請求項1に記載の装置。
- 前記複数のビームレットの前記望ましい角度が達成されることで、前記第二の補正器―バーアセンブリから放出される前記リボンビームについて、空間的に変化する角度分布が生成される、請求項1に記載の装置。
- 前記第一の補正器―バーアセンブリおよび前記第二の補正器―バーアセンブリの各々が起こす偏向は直線状である、請求項1に記載の装置。
- 前記第一の複数のコイルおよび前記第二の複数のコイルの前記個々の励起を制御するコントローラを更に含む、請求項1に記載の装置。
- 前記リボンビームを計測する一以上の計測機器を更に含む、請求項7に記載の装置。
- 前記コントローラは、前記第一の複数のコイルおよび前記第二の複数のコイルのうちの一以上を別々に駆動し、前記リボンビーム内の対応する変化を総計することで、前記第一の補正器―バーアセンブリと前記第二の補正器―バーアセンブリとを較正する、請求項8に記載の装置。
- 前記コントローラは、少なくとも一つのコイルを十分高い周波数で励起することで、前記複数のビームレットの少なくとも一つに対してディザリングモーション(dithering motion)を生じさせる、請求項7に記載の装置。
- リボンビームの均一性を向上する方法であって、
第一群の磁心部と、前記第一群の磁心部の周りに配された第一の複数のコイルとを含む第一の補正器―バーアセンブリを供給する工程と、
第二群の磁心部と、前記第二群の磁心部の周りに配された第二の複数のコイルとを含み、前記第一の補正器―バーアセンブリから所定の距離に位置する、第二の補正器―バーアセンブリを供給する工程と、
前記リボンビームを前記第一の補正器―バーアセンブリに通す工程と、
前記第一の複数のコイルの一以上を個々に励起して前記リボンビームの少なくとも一つのビームレットを偏向することで、前記複数のビームレットを望ましい空間的拡散で前記第二の補正器―バーアセンブリに到達させる工程と、
前記第二の複数のコイルの一以上を個々に励起して前記リボンビームの一以上のビームレットを更に偏向することで、前記複数のビームレットを望ましい角度で前記第二の補正器―バーアセンブリから放出する工程と、を含む方法。 - 少なくとも一つのコイルを十分高い周波数で励起することで、少なくとも一つのビームレットに対してディザリングモーション(dithering motion)を生じさせる工程を更に含む、請求項11に記載の方法。
- 前記第一の複数のコイルおよび前記第二の複数のコイルのうちの少なくとも一つの電流周波数を調節することで局所的ビームレット角度分布を制御する、請求項11に記載の方法。
- 一以上のコイルに複数の駆動を起こす工程と、
各変化が一つの駆動に対応する、前記複数の駆動に呼応する前記リボンビームの複数の変化を計測する工程と、
前記計測された複数の変化を総計することで計算モデルを構築する工程と、
前記計算モデルに基づき計算された一以上のメリット関数の値を求めることで、前記第一の複数のコイルおよび前記第二の複数のコイルの設定を選択する工程と、を更に含む、請求項11に記載の方法。 - 少なくとも一つの搬送波に具象化され、少なくとも一つのプロセッサにより読み取り可能であり前記少なくとも一つのプロセッサに請求項11に記載の方法を行うコンピュータプロセスの実行を指示する複数の命令を含むコンピュータプログラムを送信する、少なくとも一つの信号。
- 少なくとも一つのプロセッサにより読み取り可能であり前記少なくとも一つのプロセッサに請求項11に記載の方法を行うコンピュータプロセスの実行を指示する複数の命令を含むコンピュータプログラムを記憶する、少なくとも一つのプロセッサ読み取り可能な担体。
- リボンビームの均一性を向上する方法であって、
リボンビームの経路付近に一以上の調節要素を供給する工程と、
前記一以上の調節要素に複数の駆動を起こす工程と、
各変化が一つの駆動に対応する、前記複数の駆動に呼応する前記リボンビームの複数の変化を計測する工程と、
前記計測された複数の変化を総計することで計算モデルを構築する工程と、
前記計算モデルに基づき計算された一以上のメリット関数の値を求めることで、前記一以上の調節要素の設定を選択する工程と、を含む方法。 - 前記一以上の調節要素の前記設定が選択されることで、望ましいイオンドーズ量分布あるいは望ましい角度分布が生成される、請求項17に記載の方法。
- 前記望ましいイオンドーズ量分布あるいは前記望ましい角度分布は、均一分布パターン、不均一分布パターン、および設定可能な分布パターンからなる群から選択される、請求項18に記載の方法。
- 前記一以上の調節要素は、補正器―バーアセンブリ、多極子、双極子、コイル、および磁性ロッドからなる群から選択される、請求項17に記載の方法。
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