JP2013086217A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2013086217A5
JP2013086217A5 JP2011229669A JP2011229669A JP2013086217A5 JP 2013086217 A5 JP2013086217 A5 JP 2013086217A5 JP 2011229669 A JP2011229669 A JP 2011229669A JP 2011229669 A JP2011229669 A JP 2011229669A JP 2013086217 A5 JP2013086217 A5 JP 2013086217A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin composition
urethane resin
polishing pad
isocyanate group
reactive compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2011229669A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2013086217A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2011229669A priority Critical patent/JP2013086217A/ja
Priority claimed from JP2011229669A external-priority patent/JP2013086217A/ja
Priority to KR1020120103093A priority patent/KR20130043060A/ko
Priority to TW101134971A priority patent/TW201323496A/zh
Priority to CN201210397917.0A priority patent/CN103059551B/zh
Publication of JP2013086217A publication Critical patent/JP2013086217A/ja
Publication of JP2013086217A5 publication Critical patent/JP2013086217A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2011229669A 2011-10-19 2011-10-19 研磨パッド用ウレタン樹脂組成物、ポリウレタン研磨パッド及びポリウレタン研磨パッドの製造方法 Pending JP2013086217A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011229669A JP2013086217A (ja) 2011-10-19 2011-10-19 研磨パッド用ウレタン樹脂組成物、ポリウレタン研磨パッド及びポリウレタン研磨パッドの製造方法
KR1020120103093A KR20130043060A (ko) 2011-10-19 2012-09-18 연마 패드용 우레탄 수지 조성물 및 폴리우레탄 연마 패드
TW101134971A TW201323496A (zh) 2011-10-19 2012-09-24 拋光墊用胺基甲酸酯樹脂組成物及聚胺基甲酸酯拋光墊
CN201210397917.0A CN103059551B (zh) 2011-10-19 2012-10-18 研磨垫用氨基甲酸酯树脂组合物以及聚氨酯研磨垫

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011229669A JP2013086217A (ja) 2011-10-19 2011-10-19 研磨パッド用ウレタン樹脂組成物、ポリウレタン研磨パッド及びポリウレタン研磨パッドの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2013086217A JP2013086217A (ja) 2013-05-13
JP2013086217A5 true JP2013086217A5 (pt) 2014-10-23

Family

ID=48102466

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011229669A Pending JP2013086217A (ja) 2011-10-19 2011-10-19 研磨パッド用ウレタン樹脂組成物、ポリウレタン研磨パッド及びポリウレタン研磨パッドの製造方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2013086217A (pt)
KR (1) KR20130043060A (pt)
CN (1) CN103059551B (pt)
TW (1) TW201323496A (pt)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5821133B2 (ja) * 2012-03-29 2015-11-24 富士紡ホールディングス株式会社 研磨パッド及び研磨パッドの製造方法
JP2015059199A (ja) * 2013-09-20 2015-03-30 Dic株式会社 ウレタン組成物及び研磨材
US20150306731A1 (en) 2014-04-25 2015-10-29 Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holdings, Inc. Chemical mechanical polishing pad
CN104261726B (zh) * 2014-09-18 2016-02-03 蓝思科技股份有限公司 一种光学玻璃双面精加工专用研磨垫及其制备方法
JP6504385B2 (ja) * 2014-12-15 2019-04-24 Dic株式会社 研磨パッド
CN104742031B (zh) * 2015-04-07 2017-11-17 蓝思科技（长沙）有限公司 一种调节研磨垫磨削切削力的组合物、方法及模具
CN104772693B (zh) * 2015-04-20 2017-10-17 蓝思科技（长沙）有限公司 一种用于加工超硬陶瓷的金刚石研磨垫及其制备方法
CN107646138B (zh) * 2016-04-06 2020-11-06 Kpx化工有限公司 研磨垫制造方法
WO2017217278A1 (ja) * 2016-06-16 2017-12-21 Dic株式会社 研磨パッド、研磨パッドの製造方法及び研磨方法
CN106985061A (zh) * 2017-03-21 2017-07-28 安徽禾臣新材料有限公司 一种适用于精打磨的吸附垫
KR101949905B1 (ko) * 2017-08-23 2019-02-19 에스케이씨 주식회사 다공성 폴리우레탄 연마패드 및 이의 제조방법
WO2019050365A1 (ko) * 2017-09-11 2019-03-14 에스케이씨 주식회사 다공성 폴리우레탄 연마패드 및 이의 제조방법
KR101949911B1 (ko) * 2017-09-11 2019-02-19 에스케이씨 주식회사 다공성 폴리우레탄 연마패드 및 이의 제조방법
JP7104174B2 (ja) * 2018-11-09 2022-07-20 株式会社クラレ 研磨層用ポリウレタン、研磨層、研磨パッド及び研磨層の改質方法
JP7331453B2 (ja) * 2019-05-17 2023-08-23 Dic株式会社 多孔体の製造方法
KR20220034826A (ko) * 2019-07-12 2022-03-18 씨엠씨 머티리얼즈, 인코포레이티드 폴리아민 및 시클로헥산디메탄올 경화제를 사용한 폴리싱 패드
CN111534079A (zh) * 2020-05-27 2020-08-14 安徽禾臣新材料有限公司 聚氨脂高抛研磨材料及其制备方法
CN112094493A (zh) * 2020-08-14 2020-12-18 沈阳化工大学 一种纳米改性热塑性聚氨酯弹性体抛光材料及其制备方法
CN114806483A (zh) * 2020-09-30 2022-07-29 九天起宏(江苏)检测有限公司 一种单组分热塑性聚氨酯胶粘剂及其制备方法
CN114874409A (zh) * 2022-04-26 2022-08-09 江苏利宏科技发展有限公司 一种基于聚醚多元醇的聚氨酯树脂及其制备方法
CN114957965A (zh) * 2022-07-07 2022-08-30 福建长泰万泰矿物制品有限公司 一种高耐热聚氨酯组合物、聚氨酯盘及其制备方法
CN115319649B (zh) * 2022-09-03 2023-08-04 深圳市永霖科技有限公司 一种用于玻璃抛光pu抛光砂纸及其制备方法
CN116444977B (zh) * 2023-06-16 2023-09-05 山东一诺威聚氨酯股份有限公司 聚氨酯弹性体及利用其制备抛光磨块的方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002113662A (ja) * 2000-10-04 2002-04-16 Sinto Brator Co Ltd 回転テーブル及び噴射ノズルの制御方法
JP3826702B2 (ja) * 2000-10-24 2006-09-27 Ｊｓｒ株式会社 研磨パッド用組成物及びこれを用いた研磨パッド
US20040224622A1 (en) * 2003-04-15 2004-11-11 Jsr Corporation Polishing pad and production method thereof
JP2005068168A (ja) * 2003-08-21 2005-03-17 Kanebo Ltd ガラス研磨ポリウレタンパッド用２液型組成物、該組成物を用いたガラス研磨ポリウレタンパッド、及びその製造方法
US7598315B2 (en) * 2005-01-24 2009-10-06 Lubrizol Advanced Materials, Inc. Aqueous dispersions of nanoparticle/polyurethane composites
US9951054B2 (en) * 2009-04-23 2018-04-24 Cabot Microelectronics Corporation CMP porous pad with particles in a polymeric matrix
CN102448669B (zh) * 2009-05-27 2014-12-10 罗杰斯公司 抛光垫、其聚氨酯层及抛光硅晶片的方法
CN102159609B (zh) * 2009-06-29 2013-11-13 Dic株式会社 研磨垫用双组分型尿烷树脂组合物、聚氨酯研磨垫、和聚氨酯研磨垫的制造方法
CN101812229B (zh) * 2010-04-02 2012-06-20 宜兴市新光科技有限公司 隔热减震防护膜及其制造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2013086217A5 (pt)
JP2010534253A5 (pt)
JP2015529264A5 (pt)
JP2004516369A (ja) ポリウレタンフォームとその製造方法
JP2011505471A5 (pt)
FR3024955B1 (fr) Feutre de polissage de polyurethane
JP2012137516A5 (pt)
MX2013000273A (es) Espuma de poliuretano rigida.
TW200712083A (en) Composition for polyurethane foam, polyol, polyurethane foam obtained from the composition and its manufacturing method, and use of the foam
MY153842A (en) Polishing pad and method for producing the same
JP6762016B2 (ja) ポリロタキサンを含有するポリウレタンフォーム用組成物、該組成物由来のポリウレタンフォーム及びポリウレタンフォームの製造方法
ATE546485T1 (de) Katalysatorzusammensetzung für wassergeblasenen, steifen polyurethanschaum mit geringer dichte
JP2009525363A5 (pt)
FR2981657B1 (fr) Composition adhesive de polyurethanne pour la fabrication d'agglomeres
MY149939A (en) Polishing pad
JP2015525828A5 (pt)
MY144784A (en) Method for manufacturing a polishing pad
BRPI0905701A2 (pt) Processo para preparar uma espuma rígida baseada em isocianato e espuma rígida baseada em isocianato
MX351693B (es) Resina de ácido poliláctico, método para la preparación de la misma, y película para empaque que comprende la misma.
PL405729A1 (pl) Nanokompozytowa pianka poliuretanowa i sposób jej otrzymywania
JP2015051498A5 (pt)
JP2005120253A5 (pt)
CN104448196A (zh) 耐高温的浇注型聚氨酯弹性体组合物及其制备方法
JP2011522957A5 (pt)
JP2012528743A5 (pt)