JP2013086217A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5821133B2 (ja) * 2012-03-29 2015-11-24 富士紡ホールディングス株式会社 研磨パッド及び研磨パッドの製造方法
JP2015059199A (ja) * 2013-09-20 2015-03-30 Dic株式会社 ウレタン組成物及び研磨材
US20150306731A1 (en) * 2014-04-25 2015-10-29 Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holdings, Inc. Chemical mechanical polishing pad
CN104261726B (zh) * 2014-09-18 2016-02-03 蓝思科技股份有限公司 一种光学玻璃双面精加工专用研磨垫及其制备方法
JP6504385B2 (ja) * 2014-12-15 2019-04-24 Dic株式会社 研磨パッド
CN104742031B (zh) * 2015-04-07 2017-11-17 蓝思科技(长沙)有限公司 一种调节研磨垫磨削切削力的组合物、方法及模具
CN104772693B (zh) * 2015-04-20 2017-10-17 蓝思科技(长沙)有限公司 一种用于加工超硬陶瓷的金刚石研磨垫及其制备方法
WO2017175894A1 (ko) * 2016-04-06 2017-10-12 케이피엑스케미칼 주식회사 연마패드 제조 방법
CN109311138B (zh) * 2016-06-16 2021-06-22 Dic株式会社 研磨垫、研磨垫的制造方法和研磨方法
CN106985061A (zh) * 2017-03-21 2017-07-28 安徽禾臣新材料有限公司 一种适用于精打磨的吸附垫
KR101949905B1 (ko) * 2017-08-23 2019-02-19 에스케이씨 주식회사 다공성 폴리우레탄 연마패드 및 이의 제조방법
KR101949911B1 (ko) * 2017-09-11 2019-02-19 에스케이씨 주식회사 다공성 폴리우레탄 연마패드 및 이의 제조방법
US11642752B2 (en) 2017-09-11 2023-05-09 Sk Enpulse Co., Ltd. Porous polyurethane polishing pad and process for preparing the same
SG11202103983YA (en) * 2018-11-09 2021-05-28 Kuraray Co Polyurethane for use in polishing layer, polishing layer, polishing pad, and method for modifying polishing layer
JP7331453B2 (ja) * 2019-05-17 2023-08-23 Dic株式会社 多孔体の製造方法
TWI791157B (zh) * 2019-07-12 2023-02-01 美商Cmc材料股份有限公司 採用聚胺及環己烷二甲醇固化劑之研磨墊
CN111534079A (zh) * 2020-05-27 2020-08-14 安徽禾臣新材料有限公司 聚氨脂高抛研磨材料及其制备方法
CN112094493A (zh) * 2020-08-14 2020-12-18 沈阳化工大学 一种纳米改性热塑性聚氨酯弹性体抛光材料及其制备方法
CN114806483A (zh) * 2020-09-30 2022-07-29 九天起宏(江苏)检测有限公司 一种单组分热塑性聚氨酯胶粘剂及其制备方法
CN114874409A (zh) * 2022-04-26 2022-08-09 江苏利宏科技发展有限公司 一种基于聚醚多元醇的聚氨酯树脂及其制备方法
CN114957965A (zh) * 2022-07-07 2022-08-30 福建长泰万泰矿物制品有限公司 一种高耐热聚氨酯组合物、聚氨酯盘及其制备方法
CN115319649B (zh) * 2022-09-03 2023-08-04 深圳市永霖科技有限公司 一种用于玻璃抛光pu抛光砂纸及其制备方法
CN116444977B (zh) * 2023-06-16 2023-09-05 山东一诺威聚氨酯股份有限公司 聚氨酯弹性体及利用其制备抛光磨块的方法
CN119426743B (zh) * 2025-01-10 2025-04-18 合肥真萍电子科技有限公司 一种晶圆级回流焊设备

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002113662A (ja) * 2000-10-04 2002-04-16 Sinto Brator Co Ltd 回転テーブル及び噴射ノズルの制御方法
JP3826702B2 (ja) * 2000-10-24 2006-09-27 Jsr株式会社 研磨パッド用組成物及びこれを用いた研磨パッド
US20040224622A1 (en) * 2003-04-15 2004-11-11 Jsr Corporation Polishing pad and production method thereof
JP2005068168A (ja) * 2003-08-21 2005-03-17 Kanebo Ltd ガラス研磨ポリウレタンパッド用2液型組成物、該組成物を用いたガラス研磨ポリウレタンパッド、及びその製造方法
JP4635054B2 (ja) * 2005-01-24 2011-02-16 ルブリゾル アドバンスド マテリアルズ, インコーポレイテッド ナノ粒子/ポリウレタンコンボジットの水性分散物
US9951054B2 (en) * 2009-04-23 2018-04-24 Cabot Microelectronics Corporation CMP porous pad with particles in a polymeric matrix
KR101352235B1 (ko) * 2009-05-27 2014-01-15 로저스코포레이션 연마 패드, 이를 위한 폴리우레탄층, 및 규소 웨이퍼의 연마 방법
JP4636347B1 (ja) * 2009-06-29 2011-02-23 Dic株式会社 研磨パッド用2液型ウレタン樹脂組成物、ポリウレタン研磨パッド、及びポリウレタン研磨パッドの製造方法
CN101812229B (zh) * 2010-04-02 2012-06-20 宜兴市新光科技有限公司 隔热减震防护膜及其制造方法

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