JP2013084606A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013084606A5 JP2013084606A5 JP2012253728A JP2012253728A JP2013084606A5 JP 2013084606 A5 JP2013084606 A5 JP 2013084606A5 JP 2012253728 A JP2012253728 A JP 2012253728A JP 2012253728 A JP2012253728 A JP 2012253728A JP 2013084606 A5 JP2013084606 A5 JP 2013084606A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- frequency
- signal
- measurement system
- sensor
- signals
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Description
本発明は、回路内の複数の位置における高周波電力を監視する計測システムにおいて、
前記回路内の複数の位置の内の対応位置における高周波電力の電気的特性に基づいてアナログ信号をそれぞれ発生する複数の高周波センサと、
前記アナログ信号に基づいて出力信号を発生する多重化モジュールであって、周波数領域での多重化によって前記アナログ信号を出力信号に多重化する多重化モジュールと、
前記出力信号を受信し、該出力信号に基づいてメッセージを発生する分析モジュールとを含み、
前記メッセージは、前記複数の高周波センサによって検出される電気的特性に関する情報を包含していることを特徴とする計測システムである。
また本発明は、回路内の複数の位置における高周波電力を監視する計測システムにおいて、
前記回路内の複数の位置の内の1つにおける高周波電力の電気的特性に基づいて出力信号をそれぞれ発生する複数のセンサチャネルであって、各センサチャネルが、
高周波電力の電気的特性に基づいて第1の信号を発生する高周波センサと、
周期信号を発生する発振器と、
センサチャネルのための出力信号を発生するために、前記第1の信号と前記周期信号とを混合するミキサとを含む複数のセンサチャネルと、
センサチャネルからの複数の出力信号に基づいて第2の出力信号を発生する高周波結合器とを含むことを特徴とする計測システムである。
前記回路内の複数の位置の内の対応位置における高周波電力の電気的特性に基づいてアナログ信号をそれぞれ発生する複数の高周波センサと、
前記アナログ信号に基づいて出力信号を発生する多重化モジュールであって、周波数領域での多重化によって前記アナログ信号を出力信号に多重化する多重化モジュールと、
前記出力信号を受信し、該出力信号に基づいてメッセージを発生する分析モジュールとを含み、
前記メッセージは、前記複数の高周波センサによって検出される電気的特性に関する情報を包含していることを特徴とする計測システムである。
また本発明は、回路内の複数の位置における高周波電力を監視する計測システムにおいて、
前記回路内の複数の位置の内の1つにおける高周波電力の電気的特性に基づいて出力信号をそれぞれ発生する複数のセンサチャネルであって、各センサチャネルが、
高周波電力の電気的特性に基づいて第1の信号を発生する高周波センサと、
周期信号を発生する発振器と、
センサチャネルのための出力信号を発生するために、前記第1の信号と前記周期信号とを混合するミキサとを含む複数のセンサチャネルと、
センサチャネルからの複数の出力信号に基づいて第2の出力信号を発生する高周波結合器とを含むことを特徴とする計測システムである。
Claims (28)
- 回路内の複数の位置における高周波電力を監視する計測システムにおいて、
前記回路内の複数の位置の内の対応位置における高周波電力の電気的特性に基づいてアナログ信号をそれぞれ発生する複数の高周波センサと、
前記アナログ信号に基づいて出力信号を発生する多重化モジュールであって、周波数領域での多重化によって前記アナログ信号を出力信号に多重化する多重化モジュールと、
前記出力信号を受信し、該出力信号に基づいてメッセージを発生する分析モジュールとを含み、
前記メッセージは、前記複数の高周波センサによって検出される電気的特性に関する情報を包含していることを特徴とする計測システム。 - 回路内の複数の位置における高周波電力を監視する計測システムにおいて、
前記回路内の複数の位置の内の1つにおける高周波電力の電気的特性に基づいて出力信号をそれぞれ発生する複数のセンサチャネルであって、各センサチャネルが、
高周波電力の電気的特性に基づいて第1の信号を発生する高周波センサと、
周期信号を発生する発振器と、
センサチャネルのための出力信号を発生するために、前記第1の信号と前記周期信号とを混合するミキサとを含む複数のセンサチャネルと、
センサチャネルからの複数の出力信号に基づいて第2の出力信号を発生する高周波結合器とを含むことを特徴とする計測システム。 - 前記高周波結合器からの第2の出力信号に基づいてメッセージを発生する分析モジュールをさらに含み、
前記メッセージは、複数のセンサチャネルによって検出される電気的特性に関する情報を包含していることを特徴とする請求項2に記載の計測システム。 - 前記高周波センサが方向性結合器であることを特徴とする請求項2に記載の計測システム。
- 前記高周波センサが電圧/電流プローブであることを特徴とする請求項2に記載の計測システム。
- 前記高周波センサからの第1の信号のそれぞれをろ波する複数の低域通過フィルタをさらに含むことを特徴とする請求項2に記載の計測システム。
- 前記センサチャネルからの出力信号のそれぞれをろ波する複数の高域通過フィルタをさらに含むことを特徴とする請求項2に記載の計測システム。
- 前記高周波結合器からの第2の出力信号をろ波するフィルタをさらに含むことを特徴とする請求項2に記載の計測システム。
- 前記周期信号のそれぞれが他の周期信号とは異なる周波数を有することを特徴とする請求項2に記載の計測システム。
- 前記周波数が周波数領域において等間隔であることを特徴とする請求項9に記載の計測システム。
- 回路内の複数の位置における高周波電力を監視する計測システムにおいて、
前記回路内の複数の位置の1つにおける高周波電力の電気的特性に基づいて一対の出力信号をそれぞれ発生する複数のセンサチャネルであって、各センサチャネルが、
高周波電力に基づいて一対のアナログ信号を発生する高周波センサと、
位相の異なる第1の周期信号および第2の周期信号を発生する発振器と、
センサチャネルの出力信号の内の一方を発生するために、第1の周期信号とアナログ信号の一方とを混合する第1のミキサと、
センサチャネルの出力信号の内の他方を発生するために、第2の周期信号とアナログ信号の他方とを混合する第2のミキサとを含む複数のセンサチャネルと、
第1のミキサからの複数の出力信号に基づいて第1の広帯域信号を発生する第1の高周波結合器と、
第2のミキサからの複数の出力信号に基づいて第2の広帯域信号を発生する第2の高周
波結合器とを含むことを特徴とする計測システム。 - 前記第1の高周波結合器および前記第2の高周波結合器からの広帯域信号に基づいてメッセージを発生する分析モジュールをさらに含み、
前記メッセージは、複数のセンサチャネルによって検出される電気的特性に関する情報を包含していることを特徴とする請求項11に記載の計測システム。 - 前記高周波センサが方向性結合器であることを特徴とする請求項11に記載の計測システム。
- 前記高周波センサが電圧/電流プローブであることを特徴とする請求項11に記載の計測システム。
- 前記高周波センサからのアナログ信号のそれぞれをろ波する低域通過フィルタをさらに含むことを特徴とする請求項11に記載の計測システム。
- 前記センサチャネルからの出力信号のそれぞれをろ波する複数の高域通過フィルタをさらに含むことを特徴とする請求項11に記載の計測システム。
- 前記第1の広帯域信号および前記第2の広帯域信号のそれぞれをろ波する第1のフィルタおよび第2のフィルタをさらに含むことを特徴とする請求項11に記載の計測システム。
- 前記周期信号のそれぞれが他の周期信号とは異なる周波数を有することを特徴とする請求項11に記載の計測システム。
- 前記周期信号の周波数が周波数領域において等間隔であることを特徴とする請求項18に記載の計測システム。
- 回路内の複数の位置における高周波電力を監視するための方法において、
前記回路内の複数の位置の内の対応位置における高周波電力の電気的特性に基づいて出力信号を発生する発生工程であって、各発生工程が、
高周波電力に基づいて第1の信号を発生する工程と、
周期信号を発生する工程と、
前記出力信号を発生するために前記第1の信号と前記周期信号とを混合する工程とを含む発生工程と、
各出力信号の周波数成分を含む広帯域信号を発生するために前記出力信号を結合する工程とを含むことを特徴とする監視方法。 - 前記広帯域信号に基づいてメッセージを発生する工程をさらに含み、
前記メッセージは電気的特性に関する情報を包含していることを特徴とする請求項20に記載の監視方法。 - 前記電気的特性は、前進電力および反射電力のうち少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項20に記載の監視方法。
- 前記電気的特性は、電圧および電流のうち少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項20に記載の監視方法。
- 前記第1の信号をろ波する工程をさらに含むことを特徴とする請求項20に記載の監視方法。
- 前記出力信号をろ波する工程をさらに含むことを特徴とする請求項20に記載の監視方法。
- 高周波結合器からの広帯域信号をろ波する工程をさらに含むことを特徴とする請求項20に記載の監視方法。
- 前記周期信号のそれぞれが他の周期信号と異なる周波数を有することを特徴とする請求項20に記載の監視方法。
- 前記周波数が周波数領域において等間隔であることを特徴とする請求項27に記載の監視方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US89473807P | 2007-03-14 | 2007-03-14 | |
US60/894,738 | 2007-03-14 | ||
US11/763,298 US8055203B2 (en) | 2007-03-14 | 2007-06-14 | Multipoint voltage and current probe system |
US11/763,298 | 2007-06-14 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007317737A Division JP5378678B2 (ja) | 2007-03-14 | 2007-12-07 | 多点電圧電流プローブを用いた計測システム及び監視方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013084606A JP2013084606A (ja) | 2013-05-09 |
JP2013084606A5 true JP2013084606A5 (ja) | 2013-11-07 |
JP5635059B2 JP5635059B2 (ja) | 2014-12-03 |
Family
ID=64051265
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007317737A Active JP5378678B2 (ja) | 2007-03-14 | 2007-12-07 | 多点電圧電流プローブを用いた計測システム及び監視方法 |
JP2012253728A Active JP5635059B2 (ja) | 2007-03-14 | 2012-11-19 | 高周波電力を監視する計測システム及び方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007317737A Active JP5378678B2 (ja) | 2007-03-14 | 2007-12-07 | 多点電圧電流プローブを用いた計測システム及び監視方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8055203B2 (ja) |
EP (2) | EP3483917B1 (ja) |
JP (2) | JP5378678B2 (ja) |
CN (1) | CN101267707B (ja) |
TW (1) | TWI467941B (ja) |
Families Citing this family (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8055203B2 (en) * | 2007-03-14 | 2011-11-08 | Mks Instruments, Inc. | Multipoint voltage and current probe system |
US7970562B2 (en) | 2008-05-07 | 2011-06-28 | Advanced Energy Industries, Inc. | System, method, and apparatus for monitoring power |
GB0823565D0 (en) * | 2008-12-24 | 2009-01-28 | Oxford Instr Plasma Technology | Signal generating system |
US8040068B2 (en) * | 2009-02-05 | 2011-10-18 | Mks Instruments, Inc. | Radio frequency power control system |
WO2011002803A2 (en) * | 2009-06-30 | 2011-01-06 | Lam Research Corporation | Methods and apparatus for predictive preventive maintenance of processing chambers |
US8314561B2 (en) * | 2010-04-02 | 2012-11-20 | Mks Instruments, Inc. | Multi-channel radio frequency generator |
US8570103B2 (en) * | 2011-06-16 | 2013-10-29 | Donald C. D. Chang | Flexible multi-channel amplifiers via wavefront muxing techniques |
US8491759B2 (en) * | 2010-10-20 | 2013-07-23 | COMET Technologies USA, Inc. | RF impedance matching network with secondary frequency and sub-harmonic variant |
US9043525B2 (en) * | 2012-12-14 | 2015-05-26 | Lam Research Corporation | Optimizing a rate of transfer of data between an RF generator and a host system within a plasma tool |
US10821542B2 (en) | 2013-03-15 | 2020-11-03 | Mks Instruments, Inc. | Pulse synchronization by monitoring power in another frequency band |
US9041480B2 (en) * | 2013-03-15 | 2015-05-26 | Mks Instruments, Inc. | Virtual RF sensor |
DE102015212242A1 (de) * | 2015-06-30 | 2017-01-05 | TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG | Verfahren zum Abtasten eines mit einem Plasmaprozess in Beziehung stehenden Signalgemischs |
CN110291408B (zh) * | 2017-02-16 | 2022-12-13 | 应用材料公司 | 用于测量高温环境中的射频电功率的电压-电流探针及其校准方法 |
KR102527384B1 (ko) | 2018-03-09 | 2023-04-28 | 삼성전자주식회사 | 발광 소자 패키지 및 그 제조 방법 |
US10555412B2 (en) | 2018-05-10 | 2020-02-04 | Applied Materials, Inc. | Method of controlling ion energy distribution using a pulse generator with a current-return output stage |
US10304663B1 (en) * | 2018-07-19 | 2019-05-28 | Lam Research Corporation | RF generator for generating a modulated frequency or an inter-modulated frequency |
US11476145B2 (en) | 2018-11-20 | 2022-10-18 | Applied Materials, Inc. | Automatic ESC bias compensation when using pulsed DC bias |
JP7451540B2 (ja) | 2019-01-22 | 2024-03-18 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | パルス状電圧波形を制御するためのフィードバックループ |
US11508554B2 (en) | 2019-01-24 | 2022-11-22 | Applied Materials, Inc. | High voltage filter assembly |
EP3792955B1 (en) * | 2019-09-10 | 2021-10-27 | Comet AG | Rf power generator with analogue and digital detectors |
CN114762079A (zh) | 2019-12-02 | 2022-07-15 | 朗姆研究公司 | 射频辅助等离子体生成中的阻抗变换 |
US11994542B2 (en) | 2020-03-27 | 2024-05-28 | Lam Research Corporation | RF signal parameter measurement in an integrated circuit fabrication chamber |
US11462388B2 (en) | 2020-07-31 | 2022-10-04 | Applied Materials, Inc. | Plasma processing assembly using pulsed-voltage and radio-frequency power |
US11901157B2 (en) | 2020-11-16 | 2024-02-13 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and methods for controlling ion energy distribution |
US11798790B2 (en) | 2020-11-16 | 2023-10-24 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and methods for controlling ion energy distribution |
US11495470B1 (en) | 2021-04-16 | 2022-11-08 | Applied Materials, Inc. | Method of enhancing etching selectivity using a pulsed plasma |
US11948780B2 (en) | 2021-05-12 | 2024-04-02 | Applied Materials, Inc. | Automatic electrostatic chuck bias compensation during plasma processing |
US11967483B2 (en) | 2021-06-02 | 2024-04-23 | Applied Materials, Inc. | Plasma excitation with ion energy control |
US11984306B2 (en) | 2021-06-09 | 2024-05-14 | Applied Materials, Inc. | Plasma chamber and chamber component cleaning methods |
US11810760B2 (en) | 2021-06-16 | 2023-11-07 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method of ion current compensation |
US11569066B2 (en) | 2021-06-23 | 2023-01-31 | Applied Materials, Inc. | Pulsed voltage source for plasma processing applications |
US11476090B1 (en) | 2021-08-24 | 2022-10-18 | Applied Materials, Inc. | Voltage pulse time-domain multiplexing |
US12106938B2 (en) | 2021-09-14 | 2024-10-01 | Applied Materials, Inc. | Distortion current mitigation in a radio frequency plasma processing chamber |
US11694876B2 (en) | 2021-12-08 | 2023-07-04 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for delivering a plurality of waveform signals during plasma processing |
US11972924B2 (en) | 2022-06-08 | 2024-04-30 | Applied Materials, Inc. | Pulsed voltage source for plasma processing applications |
US12111341B2 (en) | 2022-10-05 | 2024-10-08 | Applied Materials, Inc. | In-situ electric field detection method and apparatus |
Family Cites Families (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4951009A (en) | 1989-08-11 | 1990-08-21 | Applied Materials, Inc. | Tuning method and control system for automatic matching network |
US7421321B2 (en) * | 1995-06-07 | 2008-09-02 | Automotive Technologies International, Inc. | System for obtaining vehicular information |
US5486832A (en) * | 1994-07-01 | 1996-01-23 | Hughes Missile Systems Company | RF sensor and radar for automotive speed and collision avoidance applications |
US5576629A (en) * | 1994-10-24 | 1996-11-19 | Fourth State Technology, Inc. | Plasma monitoring and control method and system |
US5940780A (en) * | 1995-09-29 | 1999-08-17 | Advanced Thermal Solutions, Inc. | Universal transceiver |
US5981961A (en) | 1996-03-15 | 1999-11-09 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for improved scanning efficiency in an ion implanter |
US5770922A (en) * | 1996-07-22 | 1998-06-23 | Eni Technologies, Inc. | Baseband V-I probe |
CN1072939C (zh) * | 1997-04-18 | 2001-10-17 | 王春儒 | 治疗原发性肾小球疾病的药物 |
US6449568B1 (en) * | 1998-02-27 | 2002-09-10 | Eni Technology, Inc. | Voltage-current sensor with high matching directivity |
US6222718B1 (en) | 1998-11-12 | 2001-04-24 | Lam Research Corporation | Integrated power modules for plasma processing systems |
US6720866B1 (en) * | 1999-03-30 | 2004-04-13 | Microchip Technology Incorporated | Radio frequency identification tag device with sensor input |
US6265831B1 (en) * | 1999-03-31 | 2001-07-24 | Lam Research Corporation | Plasma processing method and apparatus with control of rf bias |
US6447636B1 (en) * | 2000-02-16 | 2002-09-10 | Applied Materials, Inc. | Plasma reactor with dynamic RF inductive and capacitive coupling control |
US6522121B2 (en) * | 2001-03-20 | 2003-02-18 | Eni Technology, Inc. | Broadband design of a probe analysis system |
US7960670B2 (en) * | 2005-05-03 | 2011-06-14 | Kla-Tencor Corporation | Methods of and apparatuses for measuring electrical parameters of a plasma process |
US6677711B2 (en) * | 2001-06-07 | 2004-01-13 | Lam Research Corporation | Plasma processor method and apparatus |
US6608446B1 (en) * | 2002-02-25 | 2003-08-19 | Eni Technology, Inc. | Method and apparatus for radio frequency (RF) metrology |
US6707255B2 (en) * | 2002-07-10 | 2004-03-16 | Eni Technology, Inc. | Multirate processing for metrology of plasma RF source |
US6830650B2 (en) * | 2002-07-12 | 2004-12-14 | Advanced Energy Industries, Inc. | Wafer probe for measuring plasma and surface characteristics in plasma processing environments |
JP3806734B2 (ja) * | 2002-07-26 | 2006-08-09 | 独立行政法人農業・食品産業技術総合研究機構 | プログラマブル計測汎用モジュール並びにそれらを用いた計測システム |
US7084369B2 (en) * | 2002-08-20 | 2006-08-01 | Tokyo Electron Limited | Harmonic multiplexer |
US20040049428A1 (en) * | 2002-09-05 | 2004-03-11 | Soehnlen John Pius | Wireless environmental sensing in packaging applications |
JP2004205328A (ja) | 2002-12-25 | 2004-07-22 | Daihen Corp | 高周波電源装置 |
US6902646B2 (en) * | 2003-08-14 | 2005-06-07 | Advanced Energy Industries, Inc. | Sensor array for measuring plasma characteristics in plasma processing environments |
US7015414B2 (en) * | 2003-09-30 | 2006-03-21 | Tokyo Electron Limited | Method and apparatus for determining plasma impedance |
US20050080576A1 (en) | 2003-10-10 | 2005-04-14 | Dickerson Robert T. | Method and system for frequency domain time correlation |
US7460837B2 (en) * | 2004-03-25 | 2008-12-02 | Cisco Technology, Inc. | User interface and time-shifted presentation of data in a system that monitors activity in a shared radio frequency band |
US7292045B2 (en) | 2004-09-04 | 2007-11-06 | Applied Materials, Inc. | Detection and suppression of electrical arcing |
DE102004052518A1 (de) * | 2004-10-29 | 2006-05-04 | Robert Bosch Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur winkelaufgelösten Entfernungs- und Geschwindigkeitsbetimmung eines Objekts |
US20060128311A1 (en) * | 2004-12-13 | 2006-06-15 | Yohannes Tesfai | Matching receive signal strenth data associated with radio emission sources for positioning applications |
US7602127B2 (en) * | 2005-04-18 | 2009-10-13 | Mks Instruments, Inc. | Phase and frequency control of a radio frequency generator from an external source |
US8102954B2 (en) * | 2005-04-26 | 2012-01-24 | Mks Instruments, Inc. | Frequency interference detection and correction |
US7477711B2 (en) * | 2005-05-19 | 2009-01-13 | Mks Instruments, Inc. | Synchronous undersampling for high-frequency voltage and current measurements |
US9214909B2 (en) * | 2005-07-29 | 2015-12-15 | Mks Instruments, Inc. | High reliability RF generator architecture |
US7831406B2 (en) * | 2006-04-13 | 2010-11-09 | Radatec, Inc. | Method of sensor multiplexing for rotating machinery |
CN101188047A (zh) * | 2006-11-17 | 2008-05-28 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 多通道差动信号监测电路 |
US8055203B2 (en) * | 2007-03-14 | 2011-11-08 | Mks Instruments, Inc. | Multipoint voltage and current probe system |
-
2007
- 2007-06-14 US US11/763,298 patent/US8055203B2/en active Active
- 2007-09-19 TW TW96134945A patent/TWI467941B/zh active
- 2007-09-30 CN CN2007101638024A patent/CN101267707B/zh active Active
- 2007-10-04 EP EP18199675.2A patent/EP3483917B1/en not_active Ceased
- 2007-10-04 EP EP07253937.2A patent/EP1995759B8/en not_active Ceased
- 2007-12-07 JP JP2007317737A patent/JP5378678B2/ja active Active
-
2011
- 2011-09-23 US US13/241,633 patent/US8190380B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-11-19 JP JP2012253728A patent/JP5635059B2/ja active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2013084606A5 (ja) | ||
WO2017058617A3 (en) | Circuit topologies for combined generator | |
JP5378678B2 (ja) | 多点電圧電流プローブを用いた計測システム及び監視方法 | |
ATE485782T1 (de) | Elektrochirurgisches system und elektrodenanordnung für ein elektrochirurgisches system | |
EP2551753A3 (en) | Control circuit and method for sensing an electrode array and touch control sensing system using the same | |
CN104823061B (zh) | 压电或驻极体感测设备 | |
JP2012042466A5 (ja) | ||
JP7154958B2 (ja) | インピーダンス測定装置 | |
EP2868264A3 (en) | System and method for acquisition of biopotential signals with electrode-tissue impedance measurement. | |
US20110236014A1 (en) | Optical-transmission-line inspection apparatus, optical transmission system, and optical-transmission-line inspection method | |
JP2008289153A (ja) | 変換器装置 | |
JP6739160B2 (ja) | インピーダンス測定装置およびインピーダンス測定方法 | |
JP2012042385A (ja) | 分散測定装置 | |
US9357322B2 (en) | Loudspeaker polarity detector | |
JP2016194483A (ja) | 電流検知装置 | |
JP6411540B2 (ja) | 駆動制御装置およびそれを有する駆動制御システム | |
JP5649759B2 (ja) | 光子検出装置および方法 | |
CA2755382A1 (en) | Instrumentation circuit for shunt-based metrology measurement | |
JP2018523901A5 (ja) | ||
JP2007040819A (ja) | 標準信号を用いた較正装置 | |
WO2014080358A3 (en) | Optical sensor arrangement for measuring an observable | |
JP6355458B2 (ja) | 光子検出装置 | |
Sajjad et al. | Simplified THD measurement and analysis for electronic power inverters | |
MX341891B (es) | Prueba de selectividad mejorada. | |
JP5070787B2 (ja) | 表面弾性波計測装置および方法 |