JP2013077508A - 面状ヒータ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】面状ヒータ1は、透明基板2の少なくとも1表面に透明導電膜3を形成し、前記透明基板3の両端に電圧印加用の金属電極4を配した面状ヒータにおいて、透明導電膜3が形成された透明導電膜3の形成面内に、前記透明導電膜が形成されていない非形成部3aが複数形成され、これにより透明導電膜の見かけ抵抗を上昇させ、電流の流れと発生するジュール熱とを制御することで面内温度分布を制御する。
【選択図】図1
Description
この面状ヒータは、透明導電膜の膜厚が均一(すなわち、透明導電膜各部の比抵抗が均一)であり、かつヒータの中心部と周辺部で放熱量が異なるため、面内の中心部の温度が高くなり、面内温度分布の均質化を図ることができなかった。
そのため、面内温度分布の均質化した面状ヒータや、あるいは特殊用途としての局所加熱ができる面状ヒータが社会から求められている。
この提案されたヒータについて、図8に基づいて説明する。尚、第8図(a)は、ヒータの平面図であり、(b)は、(a)に示すA−A断面図である。
図8において、符号111はガラス基板、符号112は二酸化スズ膜(SnO2膜)、符号113はITO膜、符号114はヒータ取出電極を示している。
この提案されたヒータ110は、まず、ガラス基板111上の全面にCVD法で透明なSnO2膜112を所定の厚さ成膜する。次に、前記SnO2膜112の表面の一部に、透明なITO膜113をスパッタ法にて所定の厚さ成膜する。
この透明導電膜の膜厚が厚い領域と薄い領域において、抵抗値は異なり、電流の流れと発生するジュール熱が異なる。即ち、透明導電膜の膜厚を一部変えることにより、透明導電膜の抵抗値を変化させ、電流の流れと発生するジュール熱を制御し、表面の温度分布を均質化させている。
しかしながら、前記したように透明導電膜の膜厚が厚い領域と薄い領域を形成するために、少なくとも二つの膜を形成する工程が必要となり、製造工程が煩雑となり、コストが嵩むという技術的課題があった。
このように非形成部の形状が円形である場合には、配置の仕方の自由度が大きいため好ましい。また、非形成部の直径が0.1mm未満の場合には、パターニングすることが困難であり、直径が1mmを超える場合には大きな温度むらが発生するため、非形成部の直径は0.1mmから1mmであることが望ましい。
このように非形成部が等間隔に形成されているため、透明導電膜が形成された形成面内全体の温度分布をより均質化することができる。
図1に示すように、本発明にかかる面状ヒータ1にあっては、従来のヒータと同様に、透明基板2の表面に透明電導膜3を形成し、両端に電圧印加用の金属電極4が配置されている。また、透明導電膜2の抵抗を部分的に制御するために、透明導電膜が形成されない非形成部3aが配置されている。
また、金属電極4は、Alの蒸着膜や、Agペーストの焼付け、金属体の物理的圧着等で形成することができる。前記金属電極4は、前記したいずれの方法に限定されるものではないが、透明導電膜3との接触抵抗が十分に小さく、異常発熱の原因とならないように注意して形成する必要がある。
好適には、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛の何れか一つを主成分とする半導体であることが望ましく、より好適にはITO膜が望ましい。
これらの半導体膜には導電性を向上するために様々な添加物が添加される場合があるが、特にそれらが問題とはならず、使用することができる。
また、前記非形成部3aの大きさは、前記透明導電膜3と非形成部3aの間に、大きな温度むらが生じない程度に小さい方が好ましく、一方、パターンが細かくなればなるほど不良の発生確率が高くなるため、パターニング(形成のしやすさ)を考慮すると大きい方が好ましい。実際には、前記非形成部3aとしては、直径1mm〜0.1mmの円形が好適に用いることができる。
具体的には、図2(a)に示すように、非形成部3aの大きさ(直径)を変化させる方法と、図2(b)に示すように、隣接する非形成部3aの中心の間隔(中心間距離)Lを変化させる(中心間距離LからL1に変更する)方法とがあるが、非形成部3aの大きさ(直径)の好適範囲を考慮しつつ、両者を使い分けて制御することが望ましい。
また、非形成部3aの単位面積当たりに占める割合を容易に計算するために、図2(b)に示すように、隣接する円形の非形成部3a中心の間隔が等間隔(中心間距離L1)に配列されていることが好ましい。
半導体製造技術を利用した非形成部3aの形成方法の場合は、例えば導電性透明膜を形成後に感光性レジストを塗布し、写真現像技術によってパターニングしたのち、ウエットエッチング或いはドライエッチングによってレジストの無い部分の膜を除去し、非形成部3aの形成する。
また、印刷技術を利用した非形成部3aの形成方法の場合、例えばスクリーン印刷法では、導電性透明膜を形成後にレジスト用のスクリーン印刷インクを印刷し、硬化後にエッチング液中に浸漬して露出している膜を除去し、非形成部3aの形成する場合と、塗布後の熱処理で導電性透明膜となるスクリーン印刷インクによって直接パターン通りに印刷して、非形成部3aの形成する場合がある。インクジェットプリントでも、レジストを印刷してエッチングによって除去加工し、非形成部3aの形成する場合と、直接、膜部分を印刷し、非形成部3aの形成する場合がある。
ただし、前記非形成部3a(透明導電膜3)の所望の特性や形状が確保できるのであれば、その製造方法は、特に限定されるものでない。
このように、透明導電膜3が一部残存した、不完全な除去状態の非形成部3aであっても、工程的には同じであり、コスト的にも安価であり、見かけ抵抗の制御効果も同様に得られるため、本発明の非形成部3aに含まれるものである。
縦100mm、幅75mm、厚さ0.5mmの石英ガラス基板、ITO膜を500nmの厚さにスパッタリング装置で堆積させ、両端に縦0.5mm、幅75mm、厚さ0.5mmのAgペーストを焼き付けて面状ヒータを作成した。
この際、図3に示すように、そのヒータの中心部の縦80mm、幅35mmの範囲に、φ0.4mmの円径の非形成部を、中心間距離L1(図2参照)が0.71mmの間隔で配置した領域3A(左側1/3の領域)と、φ0.5mmの円径の非形成部を中心間距離L1(図2参照)が0.71mmの間隔で配置した領域3B(中央1/3の領域)と、φ0.6mmの円径の非形成部を、中心間距離L1(図2参照)が0.71mmの間隔で配置した領域3C(右側1/3の領域)の3つの部分に分けて形成した。
それぞれの非形成部の単位面積当たりに占める割合は、領域3Aが25%、領域3Bが39%、領域3Cが57%である。
このヒータに、電圧6.3(V)、電流0.248(A)で、通電した際の温度分布をサーモビューアで測定した結果を図4に示す。尚、図4の左側の目盛りは温度(℃)を示している。
図4からわかるように、各領域A、B,Cの上下の部分(透明導電膜の見かけ抵抗が低く、電流の流れやすい部分)の温度が高くなった。特に領域Cの上下が最も温度が高くなった。
縦100mm、幅75mm、厚さ0.5mmの石英ガラス基板、ITO膜を500nmの厚さにスパッタリング装置で堆積させ、両端に縦0.5mm、幅75mm、厚さ0.01mmのAgペーストを焼き付けて面状ヒータを作成した。
この際、図5に示すように、そして両端の電圧印加用のAg電極より10mmの部分に、φ0.3mmの円形の非形成部を、中心間距離L1(図2参照)が0.71mmの間隔で配置し、非形成部の単位面積当たりに占める割合を14%とした領域3Dを形成した。
このヒータに、電圧3.0(V)、電流0.256(A)で、通電した際の温度分布をサーモビューアで測定した結果を図6に示す。尚、図6の左側の目盛りは温度(℃)を示している。
その結果、非形成部が配置された領域3Dの部分で抵抗が高くなり、その部分のジュール熱が上昇し、発熱して温度が高くなった。
縦100mm、幅75mm、厚さ0.5mmの石英ガラス基板に、ITO膜を500nmの厚さにスパッタリング装置で堆積させ、両端に縦0.5mm、幅75mm、厚さ0.01mmのAgペーストを焼き付けて面状ヒータを作成した。
このヒータに、電圧3.0(V)、電流0.233(A)で、通電した際の温度分布をサーモビューアで測定した結果を図7に示す。尚、図7の左側の目盛りは温度(℃)を示している。
その結果、このヒータの外周部から熱が逃げ、中心部の温度が高い分布となった。
2 透明基板
3 透明導電膜
3a 非形成部
3A φ0.4mmの円径の非形成部を0.71mmの間隔で配置した領域
3B φ0.5mmの円径の非形成部を0.71mmの間隔で配置した領域
3C φ0.6mmの円径の非形成部を0.71mmの間隔で配置した領域
3D φ0.3mmの円形の非形成部を0.71mmの間隔で配置した領域
4 金属電極
Claims (6)
- 透明基板の少なくとも1表面に透明導電膜を形成し、前記透明基板の両端に電圧印加用の金属電極を配した面状ヒータにおいて、
透明導電膜が形成された透明導電膜の形成面内に、前記透明導電膜が形成されていない非形成部が複数形成されていることを特徴とする面状ヒータ。 - 透明基板が石英ガラスであることを特徴とする請求項1に記載の面状ヒータ。
- 透明導電膜に形成された非形成部の形状が円形で、かつ直径が0.1mmから1mmであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の面状ヒータ。
- 透明導電膜に形成された、互いに隣接する非形成部の中心の間隔が、等間隔に配列されていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の面状ヒータ。
- 透明導電膜が半導体であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の面状ヒータ。
- 透明導電膜が酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛の少なくとも何れか一つを主成分とする半導体であることを特徴とする請求項5に記載の面状ヒータ。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114635108A (zh) * | 2022-03-10 | 2022-06-17 | 西安应用光学研究所 | 一种实现均匀加热除冰除霜的圆形光学窗口镀膜方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03107123A (ja) * | 1989-09-21 | 1991-05-07 | Canon Inc | パネルヒーター |
JP2002083669A (ja) * | 2000-09-06 | 2002-03-22 | Kawai Musical Instr Mfg Co Ltd | 抵抗発熱体の抵抗調節方法 |
JP2003059629A (ja) * | 2001-08-15 | 2003-02-28 | Minato Giken:Kk | 面状発熱体 |
JP2008021545A (ja) * | 2006-07-13 | 2008-01-31 | Sankei Giken:Kk | 面状発熱体 |
JP2008094642A (ja) * | 2006-10-06 | 2008-04-24 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 二酸化バナジウム系薄膜の製法及び製品 |
-
2011
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03107123A (ja) * | 1989-09-21 | 1991-05-07 | Canon Inc | パネルヒーター |
JP2002083669A (ja) * | 2000-09-06 | 2002-03-22 | Kawai Musical Instr Mfg Co Ltd | 抵抗発熱体の抵抗調節方法 |
JP2003059629A (ja) * | 2001-08-15 | 2003-02-28 | Minato Giken:Kk | 面状発熱体 |
JP2008021545A (ja) * | 2006-07-13 | 2008-01-31 | Sankei Giken:Kk | 面状発熱体 |
JP2008094642A (ja) * | 2006-10-06 | 2008-04-24 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 二酸化バナジウム系薄膜の製法及び製品 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114635108A (zh) * | 2022-03-10 | 2022-06-17 | 西安应用光学研究所 | 一种实现均匀加热除冰除霜的圆形光学窗口镀膜方法 |
CN114635108B (zh) * | 2022-03-10 | 2024-03-15 | 西安应用光学研究所 | 一种实现均匀加热除冰除霜的圆形光学窗口镀膜方法 |
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