JP2013065869A - 垂直に取り付けることのできるicパッケージを作る方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】垂直に搭載可能な集積回路(IC)パッケージを製作する方法を提供する。
【解決手段】集積回路は、印刷回路板(PCB36)上に搭載され、PCB36上のボンドパッドに電気的に連結されている。ボンドパッドは、PCB36に埋め込まれているビアに連結されている。IC、ボンドパッド、ビア及びPCB36の一部分は、垂直に搭載可能なICパッケージを作るために分断される。ビアは、分断の際に、ビアの一部分が露出するように横断して切断され、ICパッケージに搭載可能な領域を提供する。ICパッケージは、誘電性材料内に封入又は収納される。更に、ビアは、酸化を防ぎ、はんだ付け適性を促進する保存剤又は他の適した無電解金属めっき堆積物で処理される。
【選択図】図2

Description

本発明は、概括的には、集積回路パッケージの分野に、より具体的には、垂直又は直立方向に搭載される集積回路パッケージに関する。
今日、集積回路(IC)のための様々なパッケージング技法が提案されている。集積回路のパッケージングは、集積回路を回路板、より具体的には印刷回路板(PCB)に搭載できるようにする。更に、パッケージングは、ICを、PCB上の他のICパッケージから電気的に絶縁できるようにする。パッケージング自体は、製作及び作動の間に、ICとの直接の物理的接触に曝されることに対する保護手段にもなる。
パッケージングされたICは、一例を挙げると、二重インラインパッケージ(DIP)、小型アウトライン集積回路パッケージ(SOIC)、薄縮小型アウトラインパッケージ(TSSOP)又は縮小型アウトラインパッケージ(SSOP)を含む様々なパッケージング法に利用することができる。これらのパッケージは、ICと連結される相互接続を含んでいる。IC自体は、プラスチックやセラミックの様な誘電性材料に囲まれ、収納され、成形され、又は封入されている。プラスチック内に封入されているDIPは、プラスチック二重インラインパッケージ(RDIP)と呼ばれる。また、DIPがセラミック材料内に封入されている場合は、セラミック二重インラインパッケージと呼ばれる。
DIPの一例10を図1aに示している。DIP10は、IC12と誘電性ハウジング14とを含んでいる。IC12は、誘電性ハウジング14内に横向きに取り付けられている。IC12を取り付けると、誘電性ハウジング14は密封される。しかしながら、誘電性ハウジング14が密封される前に、アルミニウム又は銅の様な材料で作られた、相互接続部16の様な導電性相互接続部が、ワイヤ及びバンプボンド20を介してIC20にワイヤボンディングで取り付けられる。
DIP10のプロフィールを図1bに示している。DIP10は、PCB24からオフセット高26だけ離れている。DIP10の1つの欠点は、このオフセット高26が最新の電子機器に適していないことである。形態電話や携帯情報端末(PDA)の様な多くの最新の電子装置は、ICパッケージのオフセット高に対する要件が厳しい。このオフセット高の要件が厳しいのは、主に、最新の電子装置を更に小型化する動向のためである。ICパッケージのオフセット高を最小にすることによって、PCBと搭載されたICパッケージは更に小型になり、それによって、電子装置が更に小型になする。
更に小型化することのできるICパッケージの1つが、SOICパッケージである。SOICパッケージの一例28を図1cに示している。相互接続部30の様な相互接続部は、この構成では、SOICパッケージをPCB24により近付けて取り付け、オフセット高32を減らすことができる。この構成がなお本質的に抱えている1つの問題は、誘電性材料34の層が、なおオフセット高32の要因になっていることである。
更に、従来のICパッケージに付帯する別の問題は、簡単には垂直又は直立方向に搭載できないことである。最新の電子装置の1つの用途は、コンパス機能である。これらコンパス機能は、磁界を感知する軸センサーを使用する。X及びY軸(即ち2軸)の磁界センサーは、ICパッケージ(従ってPCB)内に横向きに配置され、適切に作動する。しかしながら、X、Y、Z軸(即ち3軸)センサーでは、センサーの1つを、他の2つのセンサーに対して直交するように配置しなければならない。
3軸センサーの従来の第3軸を搭載する場合、最新の電子装置が要求する厳しいオフセット高の要件を満たすのは難しい。ICとICパッケージは直立方向に搭載されるので、第3軸センサーのオフセット高は増し、相互接続部はPCBに容易には接着できず、誘電性ハウジングがオフセット高の一因となる。
従って、ICパッケージ内でICを直立方向に搭載し、ICパッケージのオフセット高を最小にすることのできるICパッケージを提示している。
垂直に搭載可能な集積回路(IC)パッケージを製作する方法を示している。
本方法は、銅被覆印刷回路板(PCB)を貫通してビアをエッチングする段階と堆積させる段階を含んでいる。PCBは、難燃剤、型式4(FR−4)の様な誘電性材料で作られている。ボンドパッドは、ビアと物理的に接触している銅被覆に作られる。集積回路(IC)は、ボンドパッドにワイヤ及びバンプボンディングで取り付けられ、PCBに搭載される。この時点で、IC、ボンドパッド及びワイヤボンドは、誘電性の包囲材又はハウジング内に封入されている。ICがワイヤ及びバンプボンディングで取り付けられ搭載された後、ビア、IC、ボンドパッド、及び誘電性層の一部が分断される。切断面がビアを通るように分断されるので、分断が完了すると、ビアの一部は、露出表面領域を有する。この表面領域は、その後、別のPCBに搭載することができる。
別の例では、3軸センサーの第3軸が、IC上に組み立てられている。ICは、FR−4の様な基板上に搭載され、基板上に配置されているボンドパッドに連結される。ボンドパッドは、基板に埋め込まれているビアに連結される。IC、ボンドパッド、ビア、及びFR−4基板は、分断される。ビアは、予め基板で囲まれている表面領域の一部が露出するように分断される。ビアの露出領域は、その後、PCBに搭載される。
上記及びこの他の態様及び利点は、以下の詳細な説明を、適宜、添付図面を参照しながら読めば、当業者には明らかになるであろう。更に、この課題を解決するための手段の内容は、一例に過ぎず、特許請求の範囲を制限するものではない旨理解されたい。
以下、幾つかの例を、添付図面と関連付けて説明するが、各図面を通して、同じ参照番号は同様な要素を示している。
垂直又は直立方向に搭載可能な集積回路(IC)パッケージを製作する方法が提示されている。製作されるICパッケージは、第1印刷回路板(PCB)に直立方向に搭載されたICを含んでいる。ICパッケージは、更に、オフセット高が最小である。本方法は、ICを(第2PCB上の)ボンドパッドに、ビア(第2PCB内に埋め込まれている)と接触して連結させる段階を含んでいる。ビアは、IC及びボンドパッドと共に、その後、個々に分断される。次に、ビアの露出した部分は、分断された装置を第1PCBに取り付けるのに用いられる。
次に図2は、PCBの一例36を示している。PCB36は、少なくとも1つの誘電性基板38(PCB36の底部に配置されている)と、少なくとも1つの導電性層40(PCB36の上部に配置されている)を含んでいる。誘電性基板38は、難燃剤、型式4(FR−4)の織込ガラス繊維強化エポキシ樹脂で作られている。導電性層は、通常FR−4基板上に視られる銅被覆層(即ち、ロール巻銅板)である。或いは、誘電性基板は、ビ
スマレイミドトリアジン(BT)ベースのエポキシ系であってもよい。BTラミネート基板は、高周波数の低損失製品に適している。
垂直に搭載可能なICは、最初、誘電性基板38にホールバレル42を形成することによって製作される。誘電性基板38の底部が、先ず、集束レーザーに曝される。レーザー44は、PCB36から誘電性材料を除去又は融除するのに用いられる。誘電性材料が除去された領域、即ちホールバレルは、次の金属めっき処理によって充填されビアになる。レーザーは、ソフトウェアプログラムからの指令を受け取るサーボと連結されている。ソフトウェアプログラムは、ホールバレルの位置を決めるようにプログラムされている。ホールバレルを形成するのに、化学エッチングの様な他の方法も考えられる。しかしながら、ホールバレルの縦横比を提供するには、COレーザーなどによるレーザー融除が適している。ホールバレルが形成された後、PCB36は、レーザー融除の間に加熱されホールバレル内へ溶融した誘電性材料を除去するため、汚れ落とし処理が施される。
ホールバレル42は、続いて、銅の様な導電性材料が「充填される」。ホールバレル42に充填するのに、様々な処理を使用することができる。その様な処理は、例えば電気めっきである。電気めっきは、直流電流(DC)又はDC逆電流パルスめっき式であってもよい。縦横比が小さいホールバレルに充填するには、後者のDC逆電流パルスめっき式の方が適している。ホールバレル42は、充填されると、ビアと呼ばれる。
図3は、ボンドパッドがビア50の上部と底部に形成された、ビア46の一例的な図である。ホールバレルの充填後、PCB36の底部の誘電性基板上に、過剰な材料が堆積していることもある。この過剰な材料は、底部のボンドパッド50を形成するため、湿式又は乾式化学エッチング処理でエッチングされる。過剰な材料をエッチングすると、PCB36を貫通する全てのビアが互いに電気的にショートするのを防ぐことができる。ボンドパッド48は、PCB36の上部の導電性層40をエッチングすることによって形成される。上部のボンドパッド48は、ボンディング可能な表面となる。このボンディング可能な表面は、ワイヤ又は金属化バンプによって取り付けることができる。上部ボンドパッド48を形成する処理は、ビアが形成される前に完了している。更に、上部ボンドパッドを形成すると、誘電性基板38上に、ICにより搭載可能な領域が作り出される。ICは、エポキシベースの接着剤の様な接着剤で、誘電性基板38の上部に物理的に搭載される。
図4の一例的線図では、4つのIC51−54がPCB36に搭載されている。IC51−54は、ワイヤ及びバンプボンディングで、PCB46の上面に位置する、ボンドパッド48の様な上部ボンドパッドに取り付けられている。ワイヤボンディングは、ICを上部ボンドパッドに電気的に連結させるのに、バンプボンディング技法、又は他のボンディング技法を使用してもよい。バンプボンディング56と58は、それぞれ、ボンドパッド48と、IC54上に配置されているボンドパッド60の上に示されている。IC51−54を上部ボンドパッドへボンディングすることによって、各ICを各ボンドパッドと電気的に連結できるようになるのみならず、各ICを、各ボンドパッドが物理的に接触しているビアと電気的に連結できるようになる。
IC51−54が搭載されボンディングされた後、IC51−54とそれらに付帯するボンドパッド及びワイヤボンドは、誘電性ハウジング又は封止層内に封入される。図5は、誘電性カプセル層62を示す一例的な図である。誘電性カプセル層62は、封入しているIC、ボンドパッド及びワイヤボンドを物理的に保護し、電気的に絶縁する手段を提供する。カプセル層62は、この製作段階で塗布又は堆積させる必要は無い。後の製作段階で、カプセル層62を堆積させてもよいし、誘電性ハウジングを加えてもよい。カプセル層62又は誘電性ハウジングに用いられる誘電性材料は、プラスチック、セラミック、又は、他の型式の適切な電気的絶縁性の材料でもよい。
IC51−54は、誘電性材料内に封入されているか否かに関係なく、図6の例示的な図に示しているように、切断又は分断され、独立したICパッケージを形成する。各IC51−54は、垂直に搭載可能な各ICパッケージ71−74の一部である。ICパッケージ71−74が垂直又は直立方向に搭載可能となるのは、ICパッケージが分断されたからである。
分断の際、ビアは、ビアの一部が露出するように切断される。断面図76は、ビア46が、分断後は半円形となることを示している。ビア46の第1の部分は露出し、第2の部分は上部ボンドパッドと連結されており、ビア46の残りの部分は誘電性基板38に取り囲まれている。ビア46は、露出面領域を提供するために、様々な方法で分断される。ビアの露出面領域は、ICパッケージ71−74の搭載可能領域となる。広い表面積が必要な場合は、ビア46は、搭載可能表面積を最大にするように分断される。ビア46の露出部分は、分断されると、酸化を防ぎ、はんだ付け適性を促す溶液で処理される。例えば、ビアが銅で作られている場合は、有機はんだ付け適性保存剤又は他の適切な無電解金属めっき溶液を付着させることよって処理される。
図7は、ICパッケージ71と73がPCB78に搭載されている状態を示している一例的な図である。PCB78は、ボンドパッド(又はボンド捕捉パッド)79−83を含んでいる。ICパッケージ73は、ボンドパッド79−83上に直接搭載されている。従来式のボンディング技法を使って、ICパッケージ73のビアの露出面領域をボンドパッド79−83にボンディングすることができる。ICパッケージ73のビアは、IC53をPCB78へ電気的に連結するだけでなく、ICパッケージ73を物理的に搭載する。ICパッケージ73のPCB78への物理的な接着を強化するために、ICパッケージ73を、接着剤又はPCB78とのエポキシボンディングによって補強してもよい。しかしながら、この補強は、必要不可欠ではない。
垂直に搭載可能なICパッケージを製作する方法は、ICをPCBに垂直に搭載できるようにするだけでなく、ICパッケージのPCBからのオフセット高を低くすることができる。具体的には、誘電性カプセル層又は誘電性ハウジングの、オフセット高さへの寄与を減らし又は無くする。図8は、ICパッケージ73の一例的な図である。IC53は、誘電性層38と誘電性カプセル層62の間に垂直に搭載されている。IC53の底縁部86は、誘電性層38及び誘電性カプセル層62の底縁部と整列している。IC53の上縁部88は、誘電性層38及び誘電性カプセル層62の上縁部と整列している。従って、ICパッケージ73のオフセット高90は、IC53の寸法によって決まる。IC53が横方向に長く、垂直方向に短く設計されていれば、3軸磁気コンパスの第3軸センサーは、例えば、各PCBに搭載されるICパッケージに対するオフセット高さ要件が厳しい小型電子機器装置に合わせて製造してもよい。
3軸磁気センサーの第3軸センサーは、図9に示している方法100を使って製作される。ブロック102で示している本方法100の第1段階は、センサーを、回路板又はPCBに搭載する段階である。次に、センサーは、ブロック104で示しているように、PCB上に配置されているボンドパッドに連結される。ボンドパッドは、PCB内に設置又は埋め込まれたビアと連結される。ビアは、PCBを貫通する経路でもよいし、PCBの途中までの経路でもよい。次いで、センサーは、ブロック106に示しているように、センサーからボンドパッドまでのワイヤ及びバンプボンディングによって、ボンドパッドに連結される。ブロック108で、センサーは、センサーパッケージに分断される。ボンドパッドが連結されているビアは、ビアの表面領域が露出するように、分断の際にはビアを通ってスライスされる。センサーパッケージは、次に、ブロック110で示しているように、露出している表面領域の一部分を、第2PCB上に配置されているボンドパッドに取
り付けることによって、第2PCBに搭載される。
全体として、上記例は、垂直に搭載可能なICパッケージを製作する方法について述べている。本方法は、回路板に埋め込まれているビアを貫いて分断又は切断する段階を含んでいる。ビアの露出した部分は、垂直に搭載可能なICパッケージの、取り付け可能且つボンディング可能な表面として用いられる。図示の例は一例に過ぎず、本発明の範囲を限定するものではない旨理解されたい。特許請求の範囲は、その効果について述べていない限り、記載されている順序又は要素に限定されるものではない旨理解されたい。従って、特許請求の範囲に述べる範囲及び精神に含まれる全ての例とその等価物は、本発明として請求されるものとする。
図1aは、二重インラインパッケージ(DIP)の描写図である。
図1bは、DIPの別の描写図である。
図1cは、小型アウトライン集積回路(SOIC)パッケージの描写図である。
ホールバレルを備えた印刷回路板(PCB)の描写図である。 ビアとボンドパッドを備えたPCBの描写図である。 集積回路(IC)がPCBに搭載され、ボンドパッドに電気的に連結されているPCBの描写図である。 ICが誘電性ハウジング内に封入されているPCBの描写図である。 分断された、垂直に搭載可能なICパッケージの描写図である。 PCBに搭載された、垂直に搭載可能なICパッケージの描写図である。 垂直に搭載可能なICパッケージの別の描写図である。 垂直に搭載可能なICパッケージを製作する方法のブロック図である。

Claims (3)

  1. 垂直に搭載可能な集積回路(IC)パッケージを製作する方法において、
    前記垂直に搭載可能なICパッケージが、上部および底部および、誘電性基板の上部に配置され導電性層を画定する第1の印刷回路板(PCB)を有し、該方法が、
    前記第1のPCBの誘電性基板を貫通するビアを作る段階であって、前記ビアは、前記導電性層と物理的に接触し、前記誘電性基板の底部から前記誘電性基板の上部まで前記誘電性基板を通って延び、前記ビアは、電気的導電性材料からなることを特徴とするビアを作る段階と、
    前記ビアと電気的に連結し及び、物理的に接触しているボンドパッドを形成し、前記導電性層の一部を除去するように前記導電性層をエッチングする段階であって、前記ボンドパッドはボンディング可能な表面を有していることを特徴とするエッチングする段階と、
    ICを前記誘電性基板の搭載可能な部分の上に搭載する段階と、
    前記ICのICボンドパッドをワイヤボンドによって前記ボンドパッドのボンディング可能な表面に電気的に接続する段階と、
    前記垂直に搭載可能なICパッケージを作るようにICを分断する段階であって、前記分断する段階が、前記ボンドパッド、及び前記誘電性基板を貫いて切断し、前記ビアの断面を貫いて切断し、前記ボンドパッド、前記誘電性基板およびビアを貫いて切断することは、ビアの表面を露出させ、前記ビアの表面が、ワイヤボンド及びボンドパッドによって前記ICと電気的に連結し、前記ビアの表面が第2のPCBのPCBボンドパッドと電気的にボンディング可能であることを特徴とする、分断する段階と、
    から成る方法。
  2. 前記ICをワイヤボンドによって前記ボンドパッドのボンディング可能な表面に電気的に接続する段階の後、前記垂直に搭載可能なICパッケージを作るようにICを分断する段階の前に、前記IC、前記ボンドパッド、前記ワイヤボンド、及び前記誘電性基板を誘電性封入層内に封入して、前記IC、前記ボンドパッド、及び前記ワイヤボンドを保護し、電気的に絶縁する段階を更に有し、
    前記ICを分断する段階が、ボンドパッド、誘電性基板および誘電性封入層を貫いて切断し、前記ビアを貫いて切断することにより露出した表面領域の露出したビアを提供するように、断面を貫いてビアを切断することをむことを特徴とする、請求項1に記載の方法。
  3. 前記ICを分断する段階が、誘電性基板を貫いて切断することによって露出した前記誘電性基板の底縁部及び前記誘電性封入層を貫いて切断することによって露出した前記誘電性封入層の底縁部と、前記ICの整列した底縁部と、誘電性基板と、前記ICパッケージの外側縁部を一緒に画定する誘電性封入層と整列して、前記ICを分断することにより露出した前記ICの底縁部を生じさせることを特徴とする請求項1に記載の方法。
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