JP2013060333A - 硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物の製造方法 - Google Patents
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- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 89
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 87
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 57
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 246
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 246
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract description 154
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 108
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 64
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims abstract description 56
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 64
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 claims description 35
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 27
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 10
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 10
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 9
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910001960 metal nitrate Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- -1 nitrate ions Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 43
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 description 21
- 239000000047 product Substances 0.000 description 21
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 20
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 19
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 15
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 11
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 11
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 11
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 8
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 8
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 8
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium oxide Inorganic materials O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RXPAJWPEYBDXOG-UHFFFAOYSA-N hydron;methyl 4-methoxypyridine-2-carboxylate;chloride Chemical compound Cl.COC(=O)C1=CC(OC)=CC=N1 RXPAJWPEYBDXOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 3
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000007578 melt-quenching technique Methods 0.000 description 3
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 3
- VSIIXMUUUJUKCM-UHFFFAOYSA-D pentacalcium;fluoride;triphosphate Chemical group [F-].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O VSIIXMUUUJUKCM-UHFFFAOYSA-D 0.000 description 3
- 239000007784 solid electrolyte Substances 0.000 description 3
- 238000010532 solid phase synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MOGRQVOVCATFGE-UHFFFAOYSA-N [Ge]=O.[Hf] Chemical compound [Ge]=O.[Hf] MOGRQVOVCATFGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052586 apatite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 description 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000975 co-precipitation Methods 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005251 gamma ray Effects 0.000 description 2
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYDKNKUEBJQCCN-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);trinitrate Chemical compound [La+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O FYDKNKUEBJQCCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N magnesium nitrate Chemical compound [Mg+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000802 nitrating effect Effects 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 2
- CPRMKOQKXYSDML-UHFFFAOYSA-M rubidium hydroxide Chemical compound [OH-].[Rb+] CPRMKOQKXYSDML-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 2
- LSGOVYNHVSXFFJ-UHFFFAOYSA-N vanadate(3-) Chemical compound [O-][V]([O-])([O-])=O LSGOVYNHVSXFFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C(CN1CC2=C(CC1)NN=N2)=O HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound C1CN(CC2=NNN=C21)CC(=O)N3CCN(CC3)C4=CN=C(N=C4)NCC5=CC(=CC=C5)OC(F)(F)F LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]propan-1-one Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CCC(=O)N1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002915 BiVO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N N-[2-oxo-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHUCWFHEHMIXDY-UHFFFAOYSA-N [Ge]=O.[La] Chemical compound [Ge]=O.[La] CHUCWFHEHMIXDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCSITLAZPLQTNM-UHFFFAOYSA-N [K+].[O-2].[V+5].[O-2].[O-2] Chemical compound [K+].[O-2].[V+5].[O-2].[O-2] SCSITLAZPLQTNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- APUPEJJSWDHEBO-UHFFFAOYSA-P ammonium molybdate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-][Mo]([O-])(=O)=O APUPEJJSWDHEBO-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 1
- 239000011609 ammonium molybdate Substances 0.000 description 1
- 229940010552 ammonium molybdate Drugs 0.000 description 1
- 235000018660 ammonium molybdate Nutrition 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 229940119177 germanium dioxide Drugs 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- LFLZOWIFJOBEPN-UHFFFAOYSA-N nitrate, nitrate Chemical compound O[N+]([O-])=O.O[N+]([O-])=O LFLZOWIFJOBEPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N oxogermanium Chemical compound [Ge]=O PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 238000003746 solid phase reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003681 vanadium Chemical class 0.000 description 1
Landscapes
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Abstract
【解決手段】硝酸塩形成不能金属及び硝酸塩形成可能金属の酸アンモニア水溶液を形成する工程S1と、前記硝酸塩形成不能金属及び硝酸塩形成可能金属の酸アンモニア水溶液に濃アンモニア水溶液を加えて、硝酸塩形成不能金属及び硝酸塩形成可能金属の酸化物からなる沈殿物を作成する工程S2と、を有し、前記硝酸塩形成不能金属がGeである硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物の製造方法を用いることによって前記課題を解決できる。
【選択図】図1
Description
しかし、これまで、La等の硝酸塩形成可能金属とGeの均質水溶液は得られていない。
なお、本明細書では「均質」を「溶質を完全に溶解させた」という意味で用いる。
しかし、BiとGeを完全に溶解した均質水溶液は得られていない。
しかし、HfとGeを完全に溶解した均質水溶液は得られていない。
Gel Glasses and Glass Ceramics Doped with Mn ions Prepared by Sol−gel Method」に関するものである。GeとMgを含む溶液を有機金属塩と有機溶媒を用いて製造している。
しかし、水溶液は用いていない。
Geはアルカリ性でのみ溶解すると記載されている一方、硝酸ビスマスは過剰な硝酸共存下でのみ水に溶解する塩である。そのため、Geと共存する均質水溶液の調整は不可能と考えられている。実際、BiとGeを完全に溶解した均質水溶液は得られていない。
なお、シリコン(以下、Si)、ガリウム(以下、Ga)もアルカリ性でのみ溶解すると記載されている。また、アルカリ源としてリチウム(以下、Li)、ナトリウム(以下、Na)、カリウム(以下、K)、セシウム(以下、Cs)が用いられており、これらが不純物として残留する。実際、Zr、Hf、Ru、LaのいずれかをGeと共に完全に溶解した均質水溶液は得られていない。
そこで、硝酸塩形成可能金属を含むGe酸化物のアモルファス体を簡単に低温で製造できる方法も求められている。
本発明は、アルカリ領域で溶解させたGeと、酸性領域で溶解させたLaとを混在させた均質水溶液はできないという従来の常識を打ち破り、アルカリ領域で溶解させたGeを有するアンモニア水溶液と、酸性領域で溶解させたLaを有する硝酸塩水溶液とを混在させた均質水溶液を調整した初めての成功例である。
この均質水溶液は、酸性からアルカリ性まで広いpH領域で析出物が生成しないが、濃アンモニアを滴下するだけで、硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物を容易に製造できる。従来のセラミックス合成法である固相法に比べ操作ははるかに容易である。また、処理加熱温度も低温とすることができる。また、均質水溶液から硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物を製造するため不純物の混入を少なくでき、硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物の純度を向上させることができる。
更に、硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物に低温の加熱処理を行うことにより、アモルファス体や多結晶体とすることができる。
本発明は、以下の構成を有する。
(3)前記濃アンモニア水溶液の濃度が前記硝酸塩形成不能金属及び硝酸塩形成可能金属の酸アンモニア水溶液中に含まれている硝酸イオンと同モル当量以上であることを特徴とする(1)又は(2)に記載の硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物の製造方法。
(4)硝酸塩形成不能金属のアンモニア水溶液と硝酸塩形成可能金属の酸水溶液とを混合して、前記硝酸塩形成不能金属及び硝酸塩形成可能金属の酸アンモニア水溶液を形成することを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載の硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物の製造方法。
(5)前記硝酸塩形成不能金属のアンモニア水溶液と前記硝酸塩形成可能金属の酸水溶液とを混合する時、希釈硝酸を加えることを特徴とする(4)に記載の硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物の製造方法。
(7)硝酸塩形成可能金属の酸化物を希釈硝酸に溶解して前記硝酸塩形成可能金属の酸水溶液を作成することを特徴とする(4)又は(5)に記載の硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物の製造方法。
(9)前記硝酸塩形成可能金属がBe、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、La、Zr、Hf、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Cd、Al、In又はBiの群から選択されるいずれか1種の金属であることを特徴とする(1)〜(8)のいずれかに記載の硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物の製造方法。
(11)前記沈殿物を濾過・洗浄・乾燥することを特徴とする(1)〜(10)のいずれかに記載の硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物の製造方法。
(13)前記沈殿物を結晶化温度以上の加熱温度で加熱して、多結晶体とすることを特徴とする(1)〜(11)のいずれかに記載の硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物の製造方法。
<硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物の製造方法>
本発明の実施形態である硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物の製造方法について説明する。
図1は、本発明の実施形態である硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物の製造方法の一例を示すフローチャートである。
図1に示すように、本発明の実施形態である硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物の製造方法は、硝酸塩形成不能金属であるGe及び硝酸塩形成可能金属の酸アンモニア水溶液を形成する工程S1と、硝酸塩形成不能金属であるGe及び硝酸塩形成可能金属の酸化物からなる沈殿物を作成する工程S2とを有する。
また、前記硝酸塩形成可能金属が前記金属に加えて前記群から選択される別の金属を1種以上含んでもよい。
更に、硝酸塩形成可能金属の硝酸塩は、27℃で0.5mol/l以上2.5mol/l以下の濃度で水に溶解可能である。
なお、硝酸塩形成可能金属としても硝酸塩形成不能金属としてもアルカリ金属は好ましくない。アルカリ金属は、残留不純物となり得るためである。
例えば、以下の2液混合法又は1液法により、硝酸塩形成不能金属であるGe及び硝酸塩形成可能金属の酸アンモニア水溶液を形成する。
まず、Geを完全に溶解させた透明なGe含有均質水溶液を作成する。
例えば、GeO2粉末を蒸留水に分散させて、懸濁水溶液を作成してから、この懸濁水溶液に、蒸留水で希釈したアンモニア水(以下、希釈アンモニア)を滴下して、Geを溶解して、透明なGe含有均質水溶液を作成する。
また、GeO2粉末をアンモニア水溶液に混合して、懸濁水溶液を経由せずに、Ge含有均質水溶液を作成してもよい。
例えば、La(NO3)3等の硝酸塩形成可能金属の硝酸塩を水溶液に溶解して、La等の硝酸塩形成可能金属を含む均質酸水溶液を作成する。
また、Bi2O3等の硝酸塩形成可能金属の酸化物を硝酸に溶解してから、蒸留水を加えて、Bi等の硝酸塩形成可能金属を含む均質酸水溶液を作成する。
なお、硝酸塩形成可能金属含有均質酸水溶液に希釈硝酸を加えて酸性度を高めておくことにより、前記2液混合による白濁を生じさせないようにできる。
まず、先に記載した方法と同様にして、Geを完全に溶解させた透明なGe含有均質水溶液を作成する。
次に、Ge含有均質水溶液に硝酸塩形成可能金属の硝酸塩を混合する。これにより、沈殿物が生ずる。例えば、硝酸マグネシウムを加えると白色の沈殿物が生ずる。
次に、希釈硝酸を加えて沈殿物を溶解させて、硝酸塩形成不能金属であるGe及び硝酸塩形成可能金属が完全に溶解した透明な均質酸アンモニア水溶液を形成する。
硝酸塩形成不能金属であるGe及び硝酸塩形成可能金属の均質酸アンモニア水溶液に濃アンモニア水溶液を滴下して、硝酸塩形成不能金属であるGe及び硝酸塩形成可能金属の酸化物からなる沈殿物を作成する。
なお、沈殿物作成後、濾過・洗浄・乾燥することにより、不純物等を取り除くことができる。
なお、前記酸アンモニア水溶液のpHを8.7以上とすることがより好ましく、9以上とすることが更に好ましい。これにより、より短時間で前記沈殿物を作成できる。
濃アンモニア水溶液の濃度は20wt%とした場合には、硝酸塩形成不能金属であるGe及び硝酸塩形成可能金属の均質酸アンモニア水溶液100mlに同量滴下したときに、酸アンモニア水溶液のpHを9以上とする濃度とすることができ、沈殿物を生じさせることができる。
濃アンモニア水溶液の濃度は、大気圧中で扱えるアンモニア水濃度の最大値である約30wt%とした場合には、硝酸塩形成不能金属であるGe及び硝酸塩形成可能金属の均質酸アンモニア水溶液100mlに滴下する量を少なくしても、酸アンモニア水溶液のpHを9以上とする濃度とすることができ、沈殿物を生じさせることができる。
また、例えば、Bi4Ge3O12を作成する場合、Bi2O3溶解のために過剰の硝酸(HNO3水溶液)を加えた場合には、硝酸塩形成不能金属であるGe及び硝酸塩形成可能金属の均質酸アンモニア水溶液100mlに対して、同量超の濃アンモニア水溶液を滴下する必要がある。
その後、オーブン等で100℃以上の温度にすることにより、洗浄に用いた蒸留水を揮発させて、乾燥処理物を作成する。
乾燥処理物を結晶化温度以上の温度で加熱することにより、硝酸塩形成不能金属であるGe及び硝酸塩形成可能金属の酸化物からなる多結晶体を作成することができる。
乾燥処理物を結晶化温度未満の温度で加熱することにより、硝酸塩形成不能金属であるGe及び硝酸塩形成可能金属の酸化物からなるアモルファス体を作成することができる。なお、不純物分解温度以上の温度で加熱することが好ましい。これにより、不純物を分解除去することができる。
まず、硝酸塩形成不能金属であるGe及び硝酸塩形成可能金属の均質酸アンモニア水溶液を基板上に塗布する。塗布法としてはスピンコート法、ディッピング法等を用いることができる。
次に、濃アンモニア水溶液を滴下してから、乾燥して、基板上に硝酸塩形成不能金属であるGe及び硝酸塩形成可能金属の酸化物からなる乾燥処理膜を形成する。
前記乾燥処理膜を結晶化温度以上の温度で加熱することにより、硝酸塩形成不能金属であるGe及び硝酸塩形成可能金属の酸化物からなる多結晶体の膜を作成することができる。
前記乾燥処理膜を結晶化温度未満の温度で加熱することにより、硝酸塩形成不能金属であるGe及び硝酸塩形成可能金属の酸化物からなるアモルファスの膜を作成することができる。なお、不純物分解温度以上の温度で加熱することが好ましい。これにより、不純物を分解除去することができる。
まず、二酸化ゲルマニウム(以下、GeO2)0.5gを蒸留水に分散させて、懸濁液を作成した。
次に、この懸濁液に、蒸留水で希釈したアンモニア水(以下、希釈アンモニア)を滴下して、GeO2を溶解して、透明なGe含有均質アンモニア水溶液を得た。このGe含有均質アンモニア水溶液のpHは約8.6であった。
次に、前記Ge含有均質アンモニア水溶液に前記La含有均質酸水溶液を加え、白濁した酸アンモニア水溶液を得た。なお、この白濁した酸アンモニア水溶液中のLaとGeの比率を9.7:6とした。
図2は、白濁した酸アンモニア水溶液の写真である。
図3は、La及びGe含有均質酸アンモニア水溶液の写真である。ビーカーの底に沈んでいるのはスターラー(攪拌子)である。
次に、この沈殿物を濾過し、蒸留水で洗浄した後、約100℃で10時間、乾燥することにより、La及びGeの酸化物の乾燥処理物を得た。
前記乾燥処理物を3時間400℃で加熱して、400℃加熱処理物を得た。
図4は、400℃加熱処理物の粉末X線回折プロファイルである。
図4に示すように、400℃加熱処理物はアモルファス体であった。
400℃加熱処理物をアルミナボートに充填してから、オーブン内に配置し、大気中、1000℃で加熱して、1000℃加熱処理物を得た。
図5は、1000℃加熱処理物の粉末X線回折プロファイルである。
図5に示すように、アパタイト型結晶によるピークが観測され、1000℃加熱処理物は多結晶体であった。
なお、La及びGeの酸化物のアパタイト型結晶体は酸素イオン伝導性固体電解質としての利用可能性がある。
まず、GeO2を0.8gビーカーに量り取り、希釈アンモニアでGeO2を溶解して、透明なGe含有均質アンモニア水溶液を作成した。
次に、酸化ビスマス(Bi2O3)を別のビーカーに2.3g量り取り、10mlの硝酸で溶解してから、蒸留水を加えて50mlの透明なBi含有均質酸水溶液を作成した。
次に、Ge含有均質アンモニア水溶液とBi含有均質酸水溶液を混合して、透明なBi及びGe含有均質酸アンモニア水溶液を作成した。
図6は、Bi及びGe含有均質酸アンモニア水溶液の写真である。この写真は、Bi及びGe含有均質酸アンモニア水溶液に関するはじめて報告である。ビーカーの底に沈んでいるのはスターラー(攪拌子)である。
次に、この沈殿物を濾過し、蒸留水で洗浄した後、約120℃で10時間、乾燥することにより、乾燥処理物を得た。
図7に示す結晶ピークから、乾燥処理物は、Bi及びGeの酸化物(Bi4Ge3O12)の多結晶体とアモルファス体の混合物であった。
図8は、2日間攪拌後の乾燥処理物の粉末X線回折プロファイルである。
図8において、黒丸はBi4Ge3O12結晶ピークであり、白四角は不純物結晶ピークである。
これまで、Bi4Ge3O12結晶を120℃で生成する報告は無かったが、本発明では、濃アンモニア水を滴下後、2日間攪拌することにより、120℃乾燥でBi4Ge3O12の結晶を生成できた。
また、溶融急冷法によるBi4Ge3O12のアモルファス体の製造には1055℃以上に加熱する必要ある。しかし、本発明では、それ以下の低温の120℃で多結晶体との混合物ではあるが、アモルファス体を製造することができた。
まず、GeO2を2gビーカーに量り取り、50mlの蒸留水に分散させた後、希釈アンモニアでGeO2を溶解して、透明なGe含有均質アンモニア水溶液を作成した。
次に、このGe含有均質アンモニア水溶液にゲルマニウムと等モル量の硝酸マグネシウムを加え、白色の沈殿物を生成した。
次に、この白色の沈殿物を含むアンモニア水溶液に希釈硝酸を加えて沈殿物を溶解させ、透明なMg及びGe含有均質酸アンモニア水溶液を作成した。
次に、このMg及びGe含有均質酸アンモニア水溶液に濃アンモニア水に滴下することにより、微小結晶集合体からなる沈殿物を生成させた。
次に、この沈殿物を濾過し、蒸留水で洗浄した後、100℃で10時間、乾燥することにより、乾燥処理物を得た。
次に、乾燥処理物をアルミナボートに充填してから、オーブン内に配置し、大気中、800℃で3時間、加熱して、800℃加熱処理物を得た。
800℃加熱処理物は、Mg及びGeの酸化物(MgGeO3)の多結晶体であった。
(比較例1−1)
GeO2を0.2g量り取り、濃硝酸に加えて攪拌した。
しかし、GeO2は濃硝酸に溶解しなかった。
(比較例1−2)
GeO2を0.2g量り取り、蒸留水で希釈した硝酸に加えて攪拌した。
しかし、GeO2は蒸留水で希釈した硝酸に溶解しなかった。
(比較例2−1)
まず、GeO2を0.5g量り取り、蒸留水に分散させて、懸濁液を作成した。
次に、この懸濁液に、蒸留水で希釈したアンモニア水(以下、希釈アンモニア)を滴下することによりGeO2を溶解させて、透明なGe含有均質アンモニア水溶液を得た。Ge含有均質アンモニア水溶液のpHは約8.6であった。
次に、Ge含有均質アンモニア水溶液に濃硝酸を加えて酸性(pH=1.2)としたが、沈殿は生じなかった。
濃硝酸の代わりに蒸留水で希釈した硝酸を用いたが、沈殿は生じなかった。
(比較例2−3)
濃硝酸の代わりに希釈アンモニアを用いてアルカリ性(pH=10)としたが、沈殿は生じなかった。
(比較例2−4)
濃硝酸の代わりに濃アンモニアを用いたが、沈殿は生じなかった。
しかし、比較例2−1〜2−4に示したように、いったん希釈アンモニアを用いてGeO2を水に溶解させると、酸性、アルカリ性どちらの状態にしても沈殿は生じなかった。つまり、Ge含有均質アンモニア水溶液は広いpH範囲で安定であった。
(比較例3−1)
GeO2を0.5g量り取り、濃アンモニア(21%溶液)に加えて攪拌した。
これに蒸留水を加えて溶解させ、Ge含有均質アンモニア水溶液を作成した。
次に、Ge含有均質アンモニア水溶液にアンモニアを添加したが、沈殿は生じなかった。
(比較例3−2)
アンモニアの代わりに硝酸を用いたが、沈殿は生じなかった。
まず、GeO2を0.5g量り取り、エタノールに分散させ、エタノールで希釈したアンモニア水を加えたが、GeO2は溶解しなかった。
GeO2の溶解にはアンモニアに加えて十分量の水が必要であった。
Claims (13)
- 硝酸塩形成不能金属及び硝酸塩形成可能金属の酸アンモニア水溶液を形成する工程と、
前記硝酸塩形成不能金属及び硝酸塩形成可能金属の酸アンモニア水溶液に濃アンモニア水溶液を加えて、硝酸塩形成不能金属及び硝酸塩形成可能金属の酸化物からなる沈殿物を作成する工程と、を有し、
前記硝酸塩形成不能金属がGeであることを特徴とする硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物の製造方法。 - 前記硝酸塩形成不能金属及び硝酸塩形成可能金属の酸アンモニア水溶液のpHを8.5以上とするように、前記濃アンモニア水溶液を加えることを特徴とする請求項1に記載の硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物の製造方法。
- 前記濃アンモニア水溶液の濃度が前記硝酸塩形成不能金属及び硝酸塩形成可能金属の酸アンモニア水溶液中に含まれている硝酸イオンと同モル当量以上であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物の製造方法。
- 硝酸塩形成不能金属のアンモニア水溶液と硝酸塩形成可能金属の酸水溶液とを混合して、前記硝酸塩形成不能金属及び硝酸塩形成可能金属の酸アンモニア水溶液を形成することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物の製造方法。
- 前記硝酸塩形成不能金属のアンモニア水溶液と前記硝酸塩形成可能金属の酸水溶液とを混合する時、希釈硝酸を加えることを特徴とする請求項4に記載の硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物の製造方法。
- 硝酸塩形成不能金属の酸化物をアンモニア水溶液に溶解して前記硝酸塩形成不能金属のアンモニア水溶液を作成することを特徴とする請求項4又は請求項5に記載の硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物の製造方法。
- 硝酸塩形成可能金属の酸化物を希釈硝酸に溶解して前記硝酸塩形成可能金属の酸水溶液を作成することを特徴とする請求項4又は請求項5に記載の硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物の製造方法。
- 硝酸塩形成可能金属の硝酸塩を水溶液に溶解して前記硝酸塩形成可能金属の酸水溶液を作成することを特徴とする請求項4又は請求項5に記載の硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物の製造方法。
- 前記硝酸塩形成可能金属がBe、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、La、Zr、Hf、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Cd、Al、In又はBiの群から選択されるいずれか1種の金属であることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物の製造方法。
- 前記硝酸塩形成可能金属が前記金属に加えて前記群から選択される別の金属を1種以上含むことを特徴とする請求項9に記載の硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物の製造方法。
- 前記沈殿物を濾過・洗浄・乾燥することを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物の製造方法。
- 前記沈殿物を結晶化温度未満の加熱温度で加熱して、アモルファス体とすることを特徴とする請求項1〜11のいずれか1項に記載の硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物の製造方法。
- 前記沈殿物を結晶化温度以上の加熱温度で加熱して、多結晶体とすることを特徴とする請求項1〜11のいずれか1項に記載の硝酸塩形成可能金属及びGeの酸化物の製造方法。
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|
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