JP2013058621A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】窒化ガリウム系半導体が積層されて形成された半導体素子と、半導体素子に対して積層方向に形成され、外部からのエネルギーの入力なしで半導体素子に光を照射する自己発光体とを備える半導体装置を提供する。
【選択図】図1
Description
特許文献1 特開2008−47767号公報
Claims (15)
- 窒化ガリウム系半導体が積層されて形成された半導体素子と、
前記半導体素子に対して積層方向に形成され、外部からのエネルギーの入力なしで前記半導体素子に光を照射する自己発光体とを備える
半導体装置。 - 前記自己発光体は、
放射性同位元素と、
前記放射性同位元素の核崩壊に伴う放射線によって発光する発光物質とを有する
請求項1に記載の半導体装置。 - 前記放射性同位元素は、3H、14C、147Pm、及び、63Niのいずれかを含む請求項2に記載の半導体装置。
- 前記発光物質は、ZnS、ZnTe、ZnSe、GaN、及び、Siのいずれかを含む請求項2または3に記載の半導体装置。
- 前記半導体素子が上側に形成される基板をさらに備え、
前記自己発光体は、前記半導体素子に対して、前記基板とは反対側に形成された請求項1から4のいずれか一項に記載の半導体装置。 - 前記基板は、前記自己発光体が発する光を透過させない請求項5に記載の半導体装置。
- 前記半導体素子が上側に形成される基板をさらに備え、
前記自己発光体は、前記基板に対して、前記半導体素子と反対側に形成された請求項1から4のいずれか一項に記載の半導体装置。 - 前記基板は、前記自己発光体が発する光を透過させる請求項7に記載の半導体装置。
- 前記自己発光体が発する光の波長が300nm以上、450nmである請求項1から8のいずれか一項に記載の半導体装置。
- 前記自己発光体に対して、前記半導体素子と反対側に、前記自己発光体が照射する光を反射する反射層をさらに備える請求項1から9のいずれか一項に記載の半導体装置。
- 前記半導体素子は、
半導体で形成された半導体層と、
前記半導体層に電気的に接続された第1電極と、
前記半導体層に電気的に接続された第2電極とを有する
請求項1から10のいずれか一項に記載の半導体装置。 - 前記第1電極と前記第2電極との間の前記半導体層に、前記自己発光体が発する光が照射される請求項11に記載の半導体装置。
- 前記第1電極は前記半導体層にショットキー接続され、
前記第2電極は前記半導体層にオーミック接続される請求項11または12に記載の半導体装置。 - 前記第1電極はゲート電極であり、
前記第2電極はドレイン電極であり、
前記半導体層に電気的に接続されたソース電極をさらに有する請求項11または12に記載の半導体装置。 - 前記半導体層は、
窒化ガリウム系半導体で形成された第1半導体層と、
前記第1半導体層よりバンドギャップが大きい窒化ガリウム系半導体で形成された第2半導体層とを含む請求項11から14のいずれか一項に記載の半導体装置。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017168624A (ja) * | 2016-03-16 | 2017-09-21 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
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2011
- 2011-09-08 JP JP2011196261A patent/JP2013058621A/ja active Pending
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