JP2013033570A - Substrate for suspension, suspension, suspension with element, hard disk drive, and method for manufacturing substrate for suspension - Google Patents

Substrate for suspension, suspension, suspension with element, hard disk drive, and method for manufacturing substrate for suspension Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To mainly provide a substrate for a suspension for suppressing the occurrence of a short circuit of metal bump parts adjacent to each other.SOLUTION: The substrate for a suspension of the invention has a metal support substrate, an insulation layer formed on the metal support substrate, and a wiring layer formed on the insulation layer. In the substrate for a suspension, the wiring layer has a terminal part for performing connection to an external circuit board, and includes a metal bump part having a first side and a second side in a longitudinal direction in a planar view on the terminal part, and at least one of the first side and the second side has a non-projecting shape in which a center part does not project more than both end parts in a planar view.

Description

本発明は、隣り合う金属バンプ部のショートの発生を防止するサスペンション用基板に関する。   The present invention relates to a suspension substrate that prevents occurrence of a short circuit between adjacent metal bump portions.

近年、インターネットの普及等によりパーソナルコンピュータの情報処理量の増大や情報処理速度の高速化が要求されてきており、それに伴って、パーソナルコンピュータに組み込まれているハードディスクドライブ(HDD)も大容量化や情報伝達速度の高速化が必要となってきている。   In recent years, due to the spread of the Internet and the like, there has been a demand for an increase in the amount of information processing of personal computers and an increase in information processing speed, and along with this, the capacity of hard disk drives (HDD) incorporated in personal computers has increased. Increasing information transmission speed is required.

HDDに用いられるサスペンション用基板(フレキシャ)は、通常、一方の先端部分に形成され、磁気ヘッドスライダ等の素子を実装する素子実装領域と、他方の先端部分に形成され、外部回路基板との接続を行う外部回路基板接続領域と、素子実装領域および外部回路基板接続領域を接続する配線層とを有する。   A suspension substrate (flexure) used in an HDD is usually formed at one end portion, and is formed at an element mounting region for mounting an element such as a magnetic head slider, and at the other end portion, and is connected to an external circuit board. An external circuit board connection region for performing the above and a wiring layer for connecting the element mounting region and the external circuit board connection region.

また、配線層の端子部に、外部回路基板と電気的に接続するための金属バンプ部を設けることが知られている。さらに、隣り合う金属バンプ部の間でショートが生じることを防止するために、幾つかの工夫が知られている。例えば特許文献1には、隣り合う端子部の間に、導電性粒子の流れを防止するための溝を有する端子部間絶縁層を備えた配線回路基板が開示されている。   In addition, it is known that a metal bump portion for electrically connecting to an external circuit board is provided at the terminal portion of the wiring layer. Furthermore, some devices are known in order to prevent a short circuit between adjacent metal bump portions. For example, Patent Document 1 discloses a printed circuit board including an inter-terminal insulating layer having a groove for preventing the flow of conductive particles between adjacent terminal portions.

また、特許文献2には、端子部に、溶融金属を受ける凹部が導体パターンと一体的に形成された配線回路基板が開示されている。なお、特許文献3には、半田接合観察窓として、端子部に切欠を設けることが開示されている。   Patent Document 2 discloses a printed circuit board in which a recessed portion for receiving molten metal is formed integrally with a conductor pattern in a terminal portion. Note that Patent Document 3 discloses providing a notch in a terminal portion as a solder joint observation window.

特開2007−115321号公報JP 2007-115321 A 特開2006−86219号公報JP 2006-86219 A 特開2008−300594号公報JP 2008-300594 A

サスペンション用基板の高機能化に伴って端子部の数が増加している。また、サスペンション用基板の小型化に伴って端子部の配置場所に空間的な制約が生じている。そのため、隣り合う端子部の間のピッチが狭小化する傾向にあり、隣り合う金属バンプ部の間でショートが生じる可能性が高くなっている。   The number of terminal portions is increasing as the function of the suspension substrate increases. Further, with the downsizing of the suspension substrate, there is a spatial restriction on the location of the terminal portion. For this reason, the pitch between adjacent terminal portions tends to be narrowed, and the possibility that a short circuit will occur between adjacent metal bump portions is increased.

本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、隣り合う金属バンプ部のショートの発生を防止するサスペンション用基板を提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and a main object of the present invention is to provide a suspension substrate that prevents occurrence of a short circuit between adjacent metal bump portions.

上記課題を解決するために、本発明においては、金属支持基板と、上記金属支持基板上に形成された絶縁層と、上記絶縁層上に形成された配線層と、を有するサスペンション用基板であって、上記配線層は外部回路基板との接続を行う端子部を有し、上記端子部上に、平面視上、長手方向における第一辺および第二辺を有する金属バンプ部を備え、上記第一辺および上記第二辺の少なくとも一方が、平面視上、中央部が両端部よりも突出しない非突出形状を有することを特徴とするサスペンション用基板を提供する。   In order to solve the above problems, the present invention is a suspension substrate having a metal support substrate, an insulating layer formed on the metal support substrate, and a wiring layer formed on the insulating layer. The wiring layer has a terminal portion for connection to an external circuit board, and includes a metal bump portion having a first side and a second side in the longitudinal direction in plan view on the terminal portion. At least one of the one side and the second side has a non-protruding shape in which a central portion does not protrude from both end portions in a plan view.

本発明によれば、金属バンプ部が非突出形状を有することから、隣り合う金属バンプ部のショートの発生を防止したサスペンション用基板とすることができる。   According to the present invention, since the metal bump portion has a non-projecting shape, it is possible to provide a suspension substrate in which occurrence of a short circuit between adjacent metal bump portions is prevented.

上記発明においては、上記端子部が、平面視上、長手方向における第三辺および第四辺を有し、上記第三辺および上記第四辺の少なくとも一方が、平面視上、中央部が両端部よりも突出しない非突出形状を有し、上記金属バンプ部の非突出形状が、上記端子部の非突出形状に追従するように形成されていることが好ましい。端子部の形状を利用して、金属バンプ部に対して、所望の非突出形状を付与できるからである。   In the above invention, the terminal portion has a third side and a fourth side in the longitudinal direction in plan view, and at least one of the third side and the fourth side has both ends at the center in plan view. Preferably, the metal bump portion has a non-projecting shape that does not protrude from the portion, and the non-projecting shape of the metal bump portion follows the non-projecting shape of the terminal portion. This is because a desired non-projecting shape can be imparted to the metal bump portion by utilizing the shape of the terminal portion.

また、本発明においては、上述したサスペンション用基板と、上記サスペンション用基板の上記金属支持基板側の表面に設けられたロードビームと、を有することを特徴とするサスペンションを提供する。   The present invention also provides a suspension comprising the above-described suspension substrate and a load beam provided on the surface of the suspension substrate on the metal support substrate side.

本発明によれば、上述したサスペンション用基板を用いることで、隣り合う金属バンプ部のショートの発生を防止したサスペンションとすることができる。   According to the present invention, by using the above-described suspension substrate, it is possible to provide a suspension that prevents the occurrence of a short circuit between adjacent metal bump portions.

また、本発明においては、上述したサスペンションと、上記サスペンションに実装された素子と、を有することを特徴とする素子付サスペンションを提供する。   The present invention also provides an element-equipped suspension comprising the above-described suspension and an element mounted on the suspension.

本発明によれば、上述したサスペンションを用いることで、隣り合う金属バンプ部のショートの発生を防止した素子付サスペンションとすることができる。   According to the present invention, by using the above-described suspension, it is possible to provide a suspension with an element that prevents occurrence of a short circuit between adjacent metal bump portions.

また、本発明においては、金属支持基板と、上記金属支持基板上に形成された絶縁層と、上記絶縁層上に形成された配線層と、を有するサスペンション用基板の製造方法であって、外部回路基板との接続を行う端子部を有する配線層を形成するサスペンション用基板の前駆部材を形成する前駆部材形成工程と、上記前駆部材の上記端子部上に、平面視上、長手方向における第一辺および第二辺を有する金属バンプ部を形成する金属バンプ部形成工程と、を有し、上記第一辺および上記第二辺の少なくとも一方が、平面視上、中央部が両端部よりも突出しない非突出形状となるように、上記金属バンプ部を形成することを特徴とするサスペンション用基板の製造方法を提供する。   Further, in the present invention, there is provided a method for manufacturing a suspension substrate comprising a metal support substrate, an insulating layer formed on the metal support substrate, and a wiring layer formed on the insulating layer, A precursor member forming step of forming a precursor member of a suspension substrate for forming a wiring layer having a terminal portion for connection to the circuit board; and a first member in the longitudinal direction in plan view on the terminal portion of the precursor member. A metal bump part forming step for forming a metal bump part having a side and a second side, and at least one of the first side and the second side protrudes from the both ends in a plan view. There is provided a method of manufacturing a suspension substrate, wherein the metal bump portion is formed so as to have a non-projecting shape.

本発明によれば、非突出形状を有する金属バンプ部を形成することから、隣り合う金属バンプ部のショートの発生を防止したサスペンション用基板を得ることができる。   According to the present invention, since the metal bump portion having a non-projecting shape is formed, it is possible to obtain a suspension substrate that prevents occurrence of a short circuit between adjacent metal bump portions.

上記発明においては、上記端子部が、平面視上、長手方向における第三辺および第四辺を有し、上記第三辺および上記第四辺の少なくとも一方が、平面視上、中央部が両端部よりも突出しない非突出形状を有し、上記端子部の非突出形状に追従するように、上記金属バンプ部の非突出形状を形成することが好ましい。端子部の形状を利用して、金属バンプ部に対して、所望の非突出形状を付与できるからである。   In the above invention, the terminal portion has a third side and a fourth side in the longitudinal direction in plan view, and at least one of the third side and the fourth side has both ends at the center in plan view. It is preferable to form the non-projecting shape of the metal bump portion so as to have a non-projecting shape that does not protrude from the portion and follow the non-projecting shape of the terminal portion. This is because a desired non-projecting shape can be imparted to the metal bump portion by utilizing the shape of the terminal portion.

本発明のサスペンション用基板は、隣り合う金属バンプ部のショートの発生を防止できるという効果を奏する。   The suspension substrate of the present invention has an effect of preventing the occurrence of a short circuit between adjacent metal bump portions.

一般的なサスペンション用基板の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram showing an example of a general suspension substrate. 図1(a)における外部回路基板接続領域の拡大図である。It is an enlarged view of the external circuit board connection area | region in Fig.1 (a). 従来の金属バンプ部の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the conventional metal bump part. 本発明における金属バンプ部の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the metal bump part in this invention. 本発明における金属バンプ部を説明する概略平面図である。It is a schematic plan view explaining the metal bump part in this invention. 本発明における金属バンプ部を説明する概略平面図である。It is a schematic plan view explaining the metal bump part in this invention. 本発明における金属バンプ部を説明する概略平面図である。It is a schematic plan view explaining the metal bump part in this invention. 本発明における金属バンプ部を説明する概略平面図である。It is a schematic plan view explaining the metal bump part in this invention. 本発明における端子部を説明する概略平面図である。It is a schematic plan view explaining the terminal part in this invention. 本発明における端子部を説明する概略平面図である。It is a schematic plan view explaining the terminal part in this invention. 本発明のサスペンションの一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the suspension of this invention. 本発明の素子付サスペンションの一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the suspension with an element of this invention. 本発明のサスペンション用基板の製造方法の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the manufacturing method of the board | substrate for suspensions of this invention. サブトラクティブ法による前駆部材の形成方法の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the formation method of the precursor member by a subtractive method. アディティブ法による前駆部材の形成方法の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the formation method of the precursor member by an additive method. 実施例における端子部を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the terminal part in an Example.

以下、本発明のサスペンション用基板、サスペンション、素子付サスペンション、ハードディスクドライブおよびサスペンション用基板の製造方法について詳細に説明する。   Hereinafter, the suspension substrate, suspension, suspension with element, hard disk drive, and suspension substrate manufacturing method of the present invention will be described in detail.

A.サスペンション用基板
本発明のサスペンション用基板は、金属支持基板と、上記金属支持基板上に形成された絶縁層と、上記絶縁層上に形成された配線層と、を有するサスペンション用基板であって、上記配線層は外部回路基板との接続を行う端子部を有し、上記端子部上に、平面視上、長手方向における第一辺および第二辺を有する金属バンプ部を備え、上記第一辺および上記第二辺の少なくとも一方が、平面視上、中央部が両端部よりも突出しない非突出形状を有することを特徴とするものである。
A. Suspension substrate The suspension substrate of the present invention is a suspension substrate having a metal support substrate, an insulating layer formed on the metal support substrate, and a wiring layer formed on the insulating layer, The wiring layer has a terminal portion for connection to an external circuit board, and includes a metal bump portion having a first side and a second side in the longitudinal direction in plan view on the terminal portion, and the first side In addition, at least one of the second sides has a non-projecting shape in which the central portion does not protrude from both end portions in plan view.

図1は、一般的なサスペンション用基板の一例を示す模式図である。図1(a)はサスペンション用基板の概略平面図であり、図1(b)は図1(a)のA−A断面図である。なお、図1(a)では、便宜上、絶縁層およびカバー層の記載は省略している。図1(a)に示されるサスペンション用基板100は、一方の先端部分に形成された素子実装領域101と、他方の先端部分に形成された外部回路基板接続領域102と、素子実装領域101および外部回路基板接続領域102を電気的に接続する複数の配線層103a〜103dとを有するものである。配線層103aおよび配線層103bは一対の配線層であり、同様に、配線層103cおよび配線層103dも一対の配線層である。これらの2つの配線層は、一方がライト用(記録用、書込み用)配線層であり、他方がリード用(再生用、読取り用)配線層である。一方、図1(b)に示すように、サスペンション用基板100は、金属支持基板1と、金属支持基板1上に形成された絶縁層2と、絶縁層2上に形成された配線層3と、配線層3上に形成されたカバー層4とを有する。   FIG. 1 is a schematic view showing an example of a general suspension substrate. FIG. 1A is a schematic plan view of a suspension substrate, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. In FIG. 1A, illustration of the insulating layer and the cover layer is omitted for convenience. A suspension substrate 100 shown in FIG. 1A includes an element mounting region 101 formed at one tip portion, an external circuit board connection region 102 formed at the other tip portion, an element mounting region 101 and an external portion. And a plurality of wiring layers 103a to 103d for electrically connecting the circuit board connection region 102. The wiring layer 103a and the wiring layer 103b are a pair of wiring layers. Similarly, the wiring layer 103c and the wiring layer 103d are also a pair of wiring layers. One of these two wiring layers is a wiring layer for writing (for recording and writing), and the other is a wiring layer for reading (for reproduction and reading). On the other hand, as shown in FIG. 1B, the suspension substrate 100 includes a metal support substrate 1, an insulating layer 2 formed on the metal support substrate 1, and a wiring layer 3 formed on the insulating layer 2. And a cover layer 4 formed on the wiring layer 3.

図2は、図1(a)における外部回路基板接続領域の拡大図である。図2(a)に示すように、配線層3は、外部回路基板との接続を行う端子部3aを有している。また、図2(b)に示すように、端子部3a上には金属バンプ部5が形成されている。   FIG. 2 is an enlarged view of the external circuit board connection region in FIG. As shown in FIG. 2A, the wiring layer 3 has a terminal portion 3a for connection to an external circuit board. Further, as shown in FIG. 2B, a metal bump portion 5 is formed on the terminal portion 3a.

図3(a)は、従来の金属バンプ部の一例を示す概略平面図であり、図3(b)は図3(a)のA−A断面図である。なお、金属バンプ部の高さは、図面に限定されるものではなく、実際は図示した高さよりも高いことが多い。図3(a)に示すように、各々の金属バンプ部5は、平面視上、長手方向Lにおける第一辺Sおよび第二辺Sを有している。第一辺Sおよび第二辺Sは、表面張力の影響を受けて、平面視上、中央部が両端部よりも突出した突出形状になっている。そのため、図3(b)に示すように、中央部において、隣り合う金属バンプ部5の間の距離Xが短くなり、ショートが生じやすいという問題がある。なお、金属バンプ部の高さが高いほど、表面張力の影響を受けやすく、中央部はより突出する傾向にある。 FIG. 3A is a schematic plan view showing an example of a conventional metal bump portion, and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. It should be noted that the height of the metal bump portion is not limited to the drawing and is actually higher than the illustrated height. As shown in FIG. 3 (a), each of the metal bump 5, a plan view, and a longitudinal first side in the direction L S 1 and the second side S 2. The first side S 1 and the second side S 2 are affected by the surface tension and have a protruding shape in which the central portion protrudes from both ends in plan view. Therefore, as shown in FIG. 3B, there is a problem in that the distance X between the adjacent metal bump portions 5 becomes short in the center portion, and a short circuit is likely to occur. In addition, the higher the height of the metal bump portion, the more easily affected by the surface tension, and the central portion tends to protrude more.

図4(a)は、本発明における金属バンプ部の一例を示す概略平面図であり、図4(b)は図4(a)のA−A断面図である。なお、金属バンプ部の高さは、図面に限定されるものではなく、実際は図示した高さよりも高いことが多い。図4(a)に示すように、各々の金属バンプ部5は、平面視上、長手方向Lにおける第一辺Sおよび第二辺Sを有している。また、第一辺Sおよび第二辺Sは、平面視上、中央部が両端部よりも突出しない非突出形状になっている。そのため、図4(b)に示すように、中央部において、隣り合う金属バンプ部5の間の距離Xを長く維持でき、ショートが生じにくいという利点がある。 FIG. 4A is a schematic plan view showing an example of the metal bump portion in the present invention, and FIG. 4B is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. It should be noted that the height of the metal bump portion is not limited to the drawing and is actually higher than the illustrated height. As shown in FIG. 4 (a), each of the metal bump 5, a plan view, and a longitudinal first side in the direction L S 1 and the second side S 2. Further, the first side S 1 and the second side S 2 have a non-projecting shape in which the central portion does not protrude from both ends in plan view. Therefore, as shown in FIG. 4B, there is an advantage that the distance X between the adjacent metal bump portions 5 can be maintained long in the central portion, and short-circuiting hardly occurs.

このように、本発明によれば、金属バンプ部が非突出形状を有することから、隣り合う金属バンプ部のショートの発生を防止したサスペンション用基板とすることができる。また、本発明のサスペンション用基板は、表面張力による影響が無視できない程度にまで端子ピッチが狭小化した場合においても、ショートの発生を防止できるという利点を有する。また、本発明によれば、サスペンション用基板が金属バンプ部を有している(プリコートされている)ため、外部回路基板との接続信頼性が高いという利点を有する。   Thus, according to the present invention, since the metal bump portion has a non-projecting shape, it is possible to provide a suspension substrate in which occurrence of a short circuit between adjacent metal bump portions is prevented. Further, the suspension substrate of the present invention has an advantage that it is possible to prevent occurrence of a short circuit even when the terminal pitch is narrowed to such an extent that the influence of surface tension cannot be ignored. In addition, according to the present invention, since the suspension substrate has the metal bump portion (precoated), there is an advantage that the connection reliability with the external circuit substrate is high.

ここで、特許文献1には、隣り合う端子部の間に、所定の溝を有する端子部間絶縁層を備えた配線回路基板が開示されている。しかしながら、端子部間絶縁層を設けること自体が、サスペンション用基板の小型化を妨げるものである。また、特許文献1において、溝にトラップされた導電性粒子が半田である場合、金属バンプ部を形成するための熱処理を行うと、トラップされた導電性粒子同士が溶融連結し、ショートの発生を誘発する可能性もある。   Here, Patent Document 1 discloses a printed circuit board including an inter-terminal insulating layer having a predetermined groove between adjacent terminal portions. However, the provision of the inter-terminal insulating layer itself hinders the downsizing of the suspension substrate. Further, in Patent Document 1, when the conductive particles trapped in the groove are solder, when the heat treatment for forming the metal bump portion is performed, the trapped conductive particles are melt-connected to each other, thereby causing a short circuit. There is also the possibility of triggering.

また、特許文献2には、端子部に、溶融金属を受ける凹部が導体パターンと一体的に形成された配線回路基板が開示されている。特許文献2は、半田ボールを溶融させる際における半田ブリッジの発生を防止することには一定の効果を奏し得る可能性はあるものの、端子部の小型化が困難であるという問題がある。さらに、半田ボールよりも粒径の小さい半田微粒子を含有するペーストを溶融させて金属バンプ部を形成する場合に、半田ブリッジの発生を防止することが困難になるという問題がある。   Patent Document 2 discloses a printed circuit board in which a recessed portion for receiving molten metal is formed integrally with a conductor pattern in a terminal portion. Patent Document 2 has a problem that it is difficult to reduce the size of the terminal portion, although it may have a certain effect in preventing the occurrence of a solder bridge when melting the solder ball. Furthermore, when forming a metal bump part by melting a paste containing solder fine particles having a particle diameter smaller than that of the solder ball, it is difficult to prevent the occurrence of solder bridges.

また、特許文献3には、半田接合観察窓として、端子部に切欠を設けることが開示されている。一方、本発明における端子部は、後述するように、切欠を有していても良い。しかしながら、特許文献3における切欠は、適切な半田接合であるか否かを判断するための観察窓に過ぎない。さらに、特許文献3に図示された切欠の中には、例えば図14〜図16のように、端子部の中央部に形成された切欠が存在するものの、そのサイズは小さく、表面張力による中央部の膨らみを抑制し、非突出形状を形成することは困難である。また、特許文献3においては、図11に示すように、FPC基板(外部回路基板)側に半田バンプが形成されており、本発明のように、サスペンション用基板の端子部において、隣り合う金属バンプ部のショートの発生を防止するものではない。
以下、本発明のサスペンション用基板について、サスペンション用基板の部材と、サスペンション用基板の構成とに分けて説明する。
Patent Document 3 discloses providing a notch in a terminal portion as a solder joint observation window. On the other hand, the terminal part in this invention may have a notch so that it may mention later. However, the notch in Patent Document 3 is merely an observation window for determining whether or not the solder joint is appropriate. Further, among the notches illustrated in Patent Document 3, for example, as shown in FIGS. 14 to 16, there is a notch formed in the center portion of the terminal portion, but its size is small, and the center portion due to surface tension is small. It is difficult to form a non-projecting shape by suppressing the bulge. In Patent Document 3, as shown in FIG. 11, solder bumps are formed on the FPC board (external circuit board) side, and in the terminal portion of the suspension board as in the present invention, adjacent metal bumps are formed. It does not prevent the occurrence of short circuit.
Hereinafter, the suspension substrate of the present invention will be described separately for the suspension substrate member and the suspension substrate configuration.

1.サスペンション用基板の部材
まず、本発明のサスペンション用基板の部材について説明する。本発明のサスペンション用基板は、金属支持基板、絶縁層、配線層、金属バンプ部を少なくとも有するものである。
1. First, members of the suspension substrate of the present invention will be described. The suspension substrate of the present invention has at least a metal support substrate, an insulating layer, a wiring layer, and a metal bump portion.

本発明における金属支持基板は、サスペンション用基板の支持体として機能するものである。金属支持基板の材料は、ばね性を有する金属であることが好ましく、具体的にはステンレス鋼等を挙げることができる。また、金属支持基板の厚さは、その材料の種類により異なるものであるが、例えば5μm〜40μmの範囲内であることが好ましく、10μm〜20μmの範囲内であることがより好ましい。   The metal support substrate in the present invention functions as a support for the suspension substrate. The material of the metal support substrate is preferably a metal having a spring property, and specific examples include stainless steel. Moreover, although the thickness of a metal support substrate changes with kinds of the material, it is preferable to exist in the range of 5 micrometers-40 micrometers, for example, and it is more preferable that it is in the range of 10 micrometers-20 micrometers.

本発明における絶縁層は、金属支持基板上に形成されるものである。絶縁層の材料は、絶縁性を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば樹脂を挙げることができる。上記樹脂としては、例えばポリイミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリベンゾイミダゾール樹脂、アクリル樹脂、ポリエーテルニトリル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂およびポリ塩化ビニル樹脂を挙げることができ、中でもポリイミド樹脂が好ましい。絶縁性、耐熱性および耐薬品性に優れているからである。また、絶縁層の材料は、感光性材料であっても良く、非感光性材料であっても良い。絶縁層の厚さは、例えば5μm〜30μmの範囲内であることが好ましく、5μm〜18μmの範囲内であることがより好ましく、5μm〜12μmの範囲内であることがさらに好ましい。   The insulating layer in the present invention is formed on a metal support substrate. The material of the insulating layer is not particularly limited as long as it has insulating properties, and examples thereof include a resin. Examples of the resin include polyimide resin, polybenzoxazole resin, polybenzimidazole resin, acrylic resin, polyether nitrile resin, polyether sulfone resin, polyethylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin, and polyvinyl chloride resin. Of these, polyimide resin is preferred. It is because it is excellent in insulation, heat resistance and chemical resistance. In addition, the material of the insulating layer may be a photosensitive material or a non-photosensitive material. The thickness of the insulating layer is, for example, preferably in the range of 5 μm to 30 μm, more preferably in the range of 5 μm to 18 μm, and still more preferably in the range of 5 μm to 12 μm.

本発明における配線層は、絶縁層上に形成されるものである。配線層の材料は、導電性を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば、銅(Cu)およびニッケル(Ni)等の金属を挙げることができ、中でも銅が好ましい。また、配線層の材料は、圧延銅であっても良く、電解銅であっても良い。配線層の厚さは、例えば5μm〜18μmの範囲内であることが好ましく、9μm〜12μmの範囲内であることがより好ましい。   The wiring layer in the present invention is formed on the insulating layer. The material of the wiring layer is not particularly limited as long as it has conductivity, and examples thereof include metals such as copper (Cu) and nickel (Ni), and copper is preferable. Moreover, the material of the wiring layer may be rolled copper or electrolytic copper. The thickness of the wiring layer is preferably in the range of 5 μm to 18 μm, for example, and more preferably in the range of 9 μm to 12 μm.

本発明における配線層は、通常、素子(例えば磁気ヘッドスライダ)と接続する、ライト用配線層およびリード用配線層を有する。さらに、上記配線層は、必要に応じて、熱アシスト用配線層、ノイズシールド用配線層、クロストーク防止用配線層、電源用配線層、グランド用配線層、フライトハイトコントロール用配線層、センサー用配線層等を有していても良い。   The wiring layer in the present invention usually has a write wiring layer and a read wiring layer connected to an element (for example, a magnetic head slider). In addition, the above wiring layers are, as necessary, heat assist wiring layers, noise shield wiring layers, crosstalk prevention wiring layers, power supply wiring layers, ground wiring layers, flight height control wiring layers, and sensors. A wiring layer or the like may be provided.

また、配線層の一部の表面には、保護めっき部が形成されていることが好ましい。保護めっき部を設けることにより、配線層の劣化(腐食等)を防止できるからである。特に、本発明においては、素子や外部回路基板との接続を行う端子部に、保護めっき部が形成されていることが好ましい。保護めっき部の種類は特に限定されるものではないが、例えば、Auめっき、Niめっき、Agめっき、Cuめっき等を挙げることができる。中でも、本発明においては、配線層の表面側から、NiめっきおよびAuめっきが形成されていることが好ましい。保護めっき部の厚さは、例えば0.1μm〜4μmの範囲内である。   Moreover, it is preferable that the protective plating part is formed in the one part surface of a wiring layer. This is because by providing the protective plating portion, the deterioration (corrosion and the like) of the wiring layer can be prevented. In particular, in the present invention, it is preferable that a protective plating portion is formed in a terminal portion that is connected to an element or an external circuit board. Although the kind of protective plating part is not specifically limited, For example, Au plating, Ni plating, Ag plating, Cu plating etc. can be mentioned. Especially, in this invention, it is preferable that Ni plating and Au plating are formed from the surface side of the wiring layer. The thickness of the protective plating portion is, for example, in the range of 0.1 μm to 4 μm.

本発明における金属バンプ部は、配線層の端子部上に形成されるものである。金属バンプ部の材料としては、特に限定されるものではないが、合金を挙げることができ、中でも半田が好ましい。また、半田は、一般的に鉛含有半田と鉛フリー半田とに大別することができる。鉛含有半田は、通常、鉛(Pb)およびスズ(Sn)を主成分とする半田である。鉛フリー半田は、通常、鉛(Pb)を含まずスズ(Sn)を主成分とする半田である。中でも、本発明においては、鉛フリー半田を用いることが好ましい。環境への負荷を低減できるからである。鉛フリー半田としては、具体的には、Sn−Sb系、Sn−Cu系、Sn−Cu−Ni系、Sn−Ag系、Sn−Ag−Cu系、Sn−Ag−Cu−Bi系、Sn−Zn系、Sn−Ag−In−Bi系、Sn−Zn系、Sn−Bi系、およびSn−In系、Sn−Sb系の半田等を挙げることができる。鉛含有半田としては、具体的には、Sn−Pb系、Sn−Ag−Pb系、Sn−Pb−Bi系、Sn−Sb−Pb系、Sn−Ag−Sb−Pb系の半田等を挙げることができる。   The metal bump part in this invention is formed on the terminal part of a wiring layer. The material of the metal bump portion is not particularly limited, but an alloy can be mentioned, and among them, solder is preferable. In general, solder can be roughly classified into lead-containing solder and lead-free solder. The lead-containing solder is usually solder containing lead (Pb) and tin (Sn) as main components. The lead-free solder is usually solder that does not contain lead (Pb) and contains tin (Sn) as a main component. Among these, in the present invention, it is preferable to use lead-free solder. This is because the load on the environment can be reduced. Specific examples of lead-free solder include Sn—Sb, Sn—Cu, Sn—Cu—Ni, Sn—Ag, Sn—Ag—Cu, Sn—Ag—Cu—Bi, Sn -Zn-based, Sn-Ag-In-Bi-based, Sn-Zn-based, Sn-Bi-based, Sn-In-based, Sn-Sb-based solder, and the like. Specific examples of the lead-containing solder include Sn—Pb, Sn—Ag—Pb, Sn—Pb—Bi, Sn—Sb—Pb, Sn—Ag—Sb—Pb, and the like. be able to.

本発明におけるカバー層は、配線層上に形成されるものである。カバー層を設けることにより、配線層の劣化(腐食等)を防止できる。カバー層の材料としては、例えば、上述した絶縁層の材料として記載したものを挙げることができ、中でもポリイミド樹脂が好ましい。また、カバー層の材料は、感光性材料であっても良く、非感光性材料であっても良い。カバー層の厚さは、例えば2μm〜30μmの範囲内であることが好ましく、2μm〜10μmの範囲内であることがより好ましい。   The cover layer in the present invention is formed on the wiring layer. By providing the cover layer, deterioration (corrosion etc.) of the wiring layer can be prevented. Examples of the material for the cover layer include those described above as the material for the insulating layer, and among them, a polyimide resin is preferable. The material of the cover layer may be a photosensitive material or a non-photosensitive material. The thickness of the cover layer is preferably in the range of 2 μm to 30 μm, for example, and more preferably in the range of 2 μm to 10 μm.

2.サスペンション用基板の構成
次に、本発明のサスペンション用基板の構成について説明する。本発明のサスペンション用基板は、端子部上に、平面視上、長手方向における第一辺および第二辺を有する金属バンプ部を備え、上記第一辺および上記第二辺の少なくとも一方が、平面視上、中央部が両端部よりも突出しない非突出形状を有することを大きな特徴とする。
2. Next, the configuration of the suspension substrate of the present invention will be described. The suspension substrate of the present invention includes a metal bump portion having a first side and a second side in the longitudinal direction in plan view on a terminal portion, and at least one of the first side and the second side is a plane. From the viewpoint of visual characteristics, the central portion has a non-projecting shape that does not protrude from both end portions.

本発明において、第一辺または第二辺の「両端部」とは、長手方向における両端を含む領域をいい、具体的には、図5に示すように、長手方向に沿って金属バンプ部5の両端からそれぞれ全長の30%となる位置までの領域Rをいう。一方、第一辺または第二辺の「中央部」とは、領域Rよりも内側の領域Rをいう。また、「平面視上、中央部が両端部よりも突出しない」とは、平面視上、両端部を結ぶ直線に対して中央部が外側に突出しないことをいう。具体的には、図6(a)に示すように、一方の端部におけるPと、他方の端部におけるPとを結ぶ直線を想定する。この際、PおよびPは、両端部の接線となるように設定する。この直線に対して、平面視上、中央部が外側に突出していなければ、金属バンプ部の形状は、非突出形状であるといえる。また、図6(a)では、両端部を結ぶ直線が金属バンプ部5の長手方向と平行であるが、図6(b)に示すように、両端部を結ぶ直線が金属バンプ部5の長手方向と平行でなくても良い。また、図6(c)に示すように、両端部を結ぶ直線と、金属バンプ部5の第一辺または第二辺とが、一致していても良い。特に、本発明においては、図6(a)、(b)に示すように、平面視上、両端部を結ぶ直線に対して中央部が内側に凹んだ形状を有していることが好ましい。金属バンプ部の形状制御が容易だからである。 In the present invention, the “both end portions” of the first side or the second side refer to regions including both ends in the longitudinal direction, and specifically, as shown in FIG. 5, the metal bump portion 5 along the longitudinal direction. refers to a region R 2 from both ends to the position where the 30% of the total length, respectively. On the other hand, the “central portion” of the first side or the second side refers to a region R 1 inside the region R 2 . Further, “the central portion does not protrude from both ends in plan view” means that the central portion does not protrude outward with respect to a straight line connecting both ends in plan view. Specifically, as shown in FIG. 6 (a), assume that P 1 in one end portion, a straight line connecting the P 2 at the other end. At this time, P 1 and P 2 are set so as to be tangent to both ends. If the central portion does not protrude outward in plan view with respect to this straight line, the shape of the metal bump portion can be said to be a non-protruding shape. 6A, the straight line connecting both ends is parallel to the longitudinal direction of the metal bump portion 5. However, as shown in FIG. 6B, the straight line connecting both ends is the longitudinal length of the metal bump portion 5. It does not have to be parallel to the direction. Moreover, as shown in FIG.6 (c), the straight line which connects both ends, and the 1st edge | side or 2nd edge | side of the metal bump part 5 may correspond. In particular, in the present invention, as shown in FIGS. 6 (a) and 6 (b), it is preferable to have a shape in which the central portion is recessed inward with respect to a straight line connecting both ends in plan view. This is because the shape control of the metal bump portion is easy.

図7は、本発明における金属バンプ部を説明する概略平面図である。図7に示すように、通常、本発明における金属バンプ部5は、各々の金属バンプ部5が長手方向において対向するように配置されている。ここで、金属バンプ部5の長手方向の長さをL、金属バンプ部5の短手方向の長さをL、隣り合う金属バンプ部5の短手方向における最短距離をL、隣り合う金属バンプ部5の短手方向における最長距離をLとする。 FIG. 7 is a schematic plan view for explaining a metal bump portion in the present invention. As shown in FIG. 7, the metal bump portions 5 in the present invention are usually arranged so that the metal bump portions 5 face each other in the longitudinal direction. Here, the length in the longitudinal direction of the metal bump portion 5 is L 1 , the length in the short direction of the metal bump portion 5 is L 2 , the shortest distance in the short direction of the adjacent metal bump portions 5 is L 3 , and adjacent. the longest distance to L 4 in the widthwise direction of the metal bump 5 fit.

は、例えば400μm〜800μmの範囲内であることが好ましく、500μm〜700μmの範囲内であることがより好ましい。Lが小さすぎると、外部回路基板の端子部との接触面積が不十分になる可能性があり、Lが大きすぎると、金属バンプ部の小型化が困難になる可能性があるからである。Lは、例えば100μm〜400μmの範囲内であることが好ましく、200μm〜300μmの範囲内であることがより好ましい。Lが小さすぎると、表面張力の影響を受けやすくなり、非突出形状を得ることが難しくなる可能性があり、Lが大きすぎると、金属バンプ部の小型化が困難になる可能性があるからである。Lは、例えば100μm〜400μmの範囲内であることが好ましく、200μm〜300μmの範囲内であることがより好ましい。Lが小さすぎると、隣り合う金属バンプ部の間にショートが発生する可能性があり、Lが大きすぎると、隣り合う端子部の間の狭ピッチ化が困難になる可能性があるからである。また、図示しないが、端子部の表面上に形成された金属バンプ部の高さは、120μm以上であることが好ましく、140μm〜240μmの範囲内であることがより好ましく、170μm〜210μmの範囲内であることがさらに好ましい。なお、金属バンプ部の高さが高くなる程、隣り合う金属バンプ部のショートが発生しやすくなるため、非突出形状の効果がより発揮される。 L 1 is preferably in the range of 400 μm to 800 μm, for example, and more preferably in the range of 500 μm to 700 μm. In the L 1 is too small, there is a possibility that the contact area between the terminal portions of the external circuit board becomes insufficient, when L 1 is too large, since size reduction of the metal bumps may become difficult is there. L 2 is preferably in the range of 100 μm to 400 μm, for example, and more preferably in the range of 200 μm to 300 μm. If L 2 is too small, it is likely to be affected by surface tension, and it may be difficult to obtain a non-projecting shape. If L 2 is too large, it may be difficult to reduce the size of the metal bump portion. Because there is. L 3 is preferably in the range of 100 μm to 400 μm, for example, and more preferably in the range of 200 μm to 300 μm. When L 3 is too small, there is a possibility that short circuit between the metal bump portion adjacent occurs when L 3 is too large, because a narrow pitch between the terminal portions adjacent may become difficult It is. Although not shown, the height of the metal bump portion formed on the surface of the terminal portion is preferably 120 μm or more, more preferably in the range of 140 μm to 240 μm, and in the range of 170 μm to 210 μm. More preferably. In addition, since the short of an adjacent metal bump part becomes easy to generate | occur | produce as the height of a metal bump part becomes high, the effect of a non-protruding shape is exhibited more.

また、本発明においては、金属バンプ部の長手方向に位置する第一辺および第二辺の少なくとも一方が、非突出形状を有していれば良い。そのため、図4(a)に示したように、第一辺Sおよび第二辺Sの両方が非突出形状を有していても良く、図8(a)に示すように、第一辺Sおよび第二辺Sの一方のみが非突出形状を有していても良い。なお、図8(b)に示すように、第一辺Sおよび第二辺Sの一方のみが非突出形状を有していても、表面張力の影響を受けて突出した中央部と、非突出形状で凹んだ中央部とが対向するため、隣り合う金属バンプ部のショートの発生を防止できる。 In the present invention, it is only necessary that at least one of the first side and the second side located in the longitudinal direction of the metal bump portion has a non-projecting shape. Therefore, as shown in FIG. 4 (a), both the first side S 1 and the second side S 2 is may have a non-protruding shape, as shown in FIG. 8 (a), first only one of the sides S 1 and the second side S 2 may have a non-protruding shape. Incidentally, as shown in FIG. 8 (b), a central portion only one of the first side S 1 and the second side S 2 even have a non-protruding shape, which protrudes under the influence of surface tension, Since the center part which is dented in the non-projecting shape is opposed, it is possible to prevent occurrence of a short circuit between adjacent metal bump parts.

また、本発明においては、端子部が、平面視上、長手方向における第三辺および第四辺を有し、第三辺および第四辺の少なくとも一方が、平面視上、中央部が両端部よりも突出しない非突出形状を有し、金属バンプ部の非突出形状が、端子部の非突出形状に追従するように形成されていることが好ましい。端子部の形状を利用して、金属バンプ部に対して、所望の非突出形状を付与できるからである。   Further, in the present invention, the terminal portion has a third side and a fourth side in the longitudinal direction in plan view, and at least one of the third side and the fourth side has both ends at the center portion in plan view. It is preferable that the metal bump portion has a non-protruding shape that does not protrude further, and that the non-protruding shape of the metal bump portion follows the non-protruding shape of the terminal portion. This is because a desired non-projecting shape can be imparted to the metal bump portion by utilizing the shape of the terminal portion.

本発明において、第三辺または第四辺の「両端部」とは、長手方向における両端を含む領域をいい、具体的には、図9(a)に示すように、長手方向に沿って端子部3aの両端からそれぞれ全長の30%となる位置までの領域Rをいう。一方、第三面または第四面の「中央部」とは、領域Rよりも内側の領域Rをいう。また、「平面視上、中央部が両端部よりも突出しない」とは、平面視上、両端部を結ぶ直線に対して中央部が外側に突出しないことをいう。この定義については、上述した金属バンプ部における場合と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、「金属バンプ部の非突出形状が、端子部の非突出形状に追従するように形成されている」とは、金属バンプ部の平面視形状が、端子部の平面視形状に対して、略相似形であることをいう。 In the present invention, the “both ends” of the third side or the fourth side refers to a region including both ends in the longitudinal direction, and specifically, as shown in FIG. The region R 4 from the both ends of the part 3a to a position that is 30% of the total length. On the other hand, the “central portion” of the third surface or the fourth surface refers to a region R 3 inside the region R 4 . Further, “the central portion does not protrude from both ends in plan view” means that the central portion does not protrude outward with respect to a straight line connecting both ends in plan view. Since this definition is the same as in the case of the metal bump portion described above, description thereof is omitted here. In addition, “the non-projecting shape of the metal bump portion is formed so as to follow the non-projecting shape of the terminal portion” means that the planar view shape of the metal bump portion is relative to the planar view shape of the terminal portion. Say that it is almost similar.

図9(a)〜(d)では、いずれも、両端部を結ぶ直線に対して中央部が内側に凹んだ形状を有している。中央部が内側に凹むことによって形成される部分を切欠部とした場合、図9(a)では切欠部が長方形であり、図9(b)では切欠部が台形であり、図9(c)では切欠部が三角形である。また、図9(a)〜(c)では、切欠部から構成されているが、本発明においては、図9(d)に示すように、切欠部が曲線を有していても良い。   9A to 9D, each has a shape in which the central portion is recessed inward with respect to a straight line connecting both end portions. When the portion formed by the central portion being recessed inward is a cutout portion, the cutout portion is rectangular in FIG. 9A, the cutout portion is trapezoidal in FIG. 9B, and FIG. Then, the notch is a triangle. Moreover, in FIG. 9 (a)-(c), although comprised from the notch part, as shown in FIG.9 (d), the notch part may have a curve in this invention.

また、本発明においては、端子部の表面に、親液部および疎液部から構成されるパターンが形成され、金属バンプ部の非突出形状が、上記パターンに追従するように形成されていることが好ましい。濡れ性の違いを利用して、金属バンプ部に対して、所望の非突出形状を付与できるからである。図10(a)〜(d)では、いずれも、親液部6aおよび疎液部6bから構成されるパターンが形成されている。なお、図10(a)〜(d)における親液部6aの形状は、図9(a)〜(d)における端子部3aの形状と同様である。また、上記パターンは、めっきにより形成されていることが好ましい。所望のパターンを形成しつつ、端子部の劣化(腐食等)を防止できるからである。   In the present invention, a pattern composed of a lyophilic portion and a lyophobic portion is formed on the surface of the terminal portion, and the non-projecting shape of the metal bump portion is formed so as to follow the pattern. Is preferred. This is because a desired non-projecting shape can be imparted to the metal bump portion by utilizing the difference in wettability. In each of FIGS. 10A to 10D, a pattern including the lyophilic portion 6a and the lyophobic portion 6b is formed. In addition, the shape of the lyophilic portion 6a in FIGS. 10A to 10D is the same as the shape of the terminal portion 3a in FIGS. 9A to 9D. The pattern is preferably formed by plating. This is because deterioration (corrosion or the like) of the terminal portion can be prevented while forming a desired pattern.

B.サスペンション
次に、本発明のサスペンションについて説明する。本発明のサスペンションは、上述したサスペンション用基板と、上記サスペンション用基板の上記金属支持基板側の表面に設けられたロードビームと、を有することを特徴とするものである。
B. Suspension Next, the suspension of the present invention will be described. The suspension according to the present invention includes the suspension substrate described above and a load beam provided on the surface of the suspension substrate on the metal support substrate side.

図11は、本発明のサスペンションの一例を示す概略平面図である。図11に示されるサスペンション400は、上述したサスペンション用基板100と、サスペンション用基板100の金属支持基板側の表面に設けられたロードビーム300とを有するものである。   FIG. 11 is a schematic plan view showing an example of the suspension of the present invention. A suspension 400 shown in FIG. 11 includes the above-described suspension substrate 100 and a load beam 300 provided on the surface of the suspension substrate 100 on the metal support substrate side.

本発明によれば、上述したサスペンション用基板を用いることで、隣り合う金属バンプ部のショートの発生を防止したサスペンションとすることができる。   According to the present invention, by using the above-described suspension substrate, it is possible to provide a suspension that prevents the occurrence of a short circuit between adjacent metal bump portions.

本発明のサスペンションは、少なくともサスペンション用基板およびロードビームを有する。本発明におけるサスペンション用基板については、上記「A.サスペンション用基板」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。一方、本発明におけるロードビームは、サスペンション用基板の金属支持基板側の表面に設けられるものである。ロードビームの材料は、特に限定されるものではないが、例えば金属を挙げることができ、ステンレス鋼であることが好ましい。   The suspension of the present invention has at least a suspension substrate and a load beam. The suspension substrate in the present invention is the same as the content described in the above “A. Suspension substrate”, and therefore description thereof is omitted here. On the other hand, the load beam in the present invention is provided on the surface of the suspension substrate on the metal support substrate side. Although the material of the load beam is not particularly limited, for example, a metal can be used, and stainless steel is preferable.

C.素子付サスペンション
次に、本発明の素子付サスペンションについて説明する。本発明の素子付サスペンションは、上述したサスペンションと、上記サスペンションに実装された素子と、を有することを特徴とするものである。
C. Next, the suspension with an element of the present invention will be described. The suspension with an element of the present invention includes the above-described suspension and an element mounted on the suspension.

図12は、本発明の素子付サスペンションの一例を示す概略平面図である。図12に示される素子付サスペンション500は、上述したサスペンション400と、サスペンション400に実装された素子210とを有するものである。   FIG. 12 is a schematic plan view showing an example of the suspension with an element of the present invention. A suspension 500 with an element shown in FIG. 12 includes the above-described suspension 400 and an element 210 mounted on the suspension 400.

本発明によれば、上述したサスペンションを用いることで、隣り合う金属バンプ部のショートの発生を防止した素子付サスペンションとすることができる。   According to the present invention, by using the above-described suspension, it is possible to provide a suspension with an element that prevents occurrence of a short circuit between adjacent metal bump portions.

本発明の素子付サスペンションは、少なくともサスペンションおよび素子を有する。本発明におけるサスペンションについては、上記「B.サスペンション」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。本発明における素子としては、例えば、磁気ヘッドスライダ、アクチュエータ、半導体等を挙げることができる。また、上記アクチュエータは、磁気ヘッドを有するものであっても良く、磁気ヘッドを有しないものであっても良い。また、本発明における素子は、磁気ヘッドスライダのように、ディスクに対して記録再生を行う素子(記録再生用素子)であることが好ましい。   The suspension with an element of the present invention includes at least a suspension and an element. The suspension according to the present invention is the same as the content described in “B. Suspension” above, and thus the description thereof is omitted here. Examples of the element in the present invention include a magnetic head slider, an actuator, and a semiconductor. The actuator may have a magnetic head or may not have a magnetic head. Further, the element in the present invention is preferably an element (recording / reproducing element) that performs recording / reproducing with respect to a disk, such as a magnetic head slider.

D.サスペンション用基板の製造方法
次に、本発明のサスペンション用基板の製造方法について説明する。本発明のサスペンション用基板の製造方法は、金属支持基板と、上記金属支持基板上に形成された絶縁層と、上記絶縁層上に形成された配線層と、を有するサスペンション用基板の製造方法であって、外部回路基板との接続を行う端子部を有する配線層を形成するサスペンション用基板の前駆部材を形成する前駆部材形成工程と、上記前駆部材の上記端子部上に、平面視上、長手方向における第一辺および第二辺を有する金属バンプ部を形成する金属バンプ部形成工程と、を有し、上記第一辺および上記第二辺の少なくとも一方が、平面視上、中央部が両端部よりも突出しない非突出形状となるように、上記金属バンプ部を形成することを特徴とするものである。
D. Next, a method for manufacturing a suspension substrate according to the present invention will be described. A method for manufacturing a suspension substrate according to the present invention is a method for manufacturing a suspension substrate having a metal support substrate, an insulating layer formed on the metal support substrate, and a wiring layer formed on the insulating layer. A precursor member forming step of forming a precursor member of a suspension substrate for forming a wiring layer having a terminal portion for connection to an external circuit board; and a plan view of the precursor member on the terminal portion of the precursor member. A metal bump part forming step of forming a metal bump part having a first side and a second side in the direction, and at least one of the first side and the second side is opposite in the center in plan view The metal bump portion is formed so as to have a non-projecting shape that does not protrude from the portion.

図13は、本発明のサスペンション用基板の製造方法の一例を示す概略断面図である。なお、図13は、図3(b)と同様に、図3(a)のA−A断面図に相当する断面図である。図13においては、サスペンション用基板の前駆部材を準備し、その端子部3a上に、金属バンプ部形成用層5aを形成する(図13(a))。次に、金属バンプ部形成用層5aを溶融固化させることにより、非突出形状を有する金属バンプ部5を形成する(図13(b))。   FIG. 13 is a schematic cross-sectional view showing an example of a method for manufacturing a suspension substrate according to the present invention. FIG. 13 is a cross-sectional view corresponding to the AA cross-sectional view of FIG. 3A, similar to FIG. In FIG. 13, a precursor member for a suspension substrate is prepared, and a metal bump portion forming layer 5a is formed on the terminal portion 3a (FIG. 13A). Next, the metal bump part forming layer 5a is melted and solidified to form the metal bump part 5 having a non-projecting shape (FIG. 13B).

本発明によれば、非突出形状を有する金属バンプ部を形成することから、隣り合う金属バンプ部のショートの発生を防止したサスペンション用基板を得ることができる。
以下、本発明のサスペンション用基板の製造方法について、工程ごとに説明する。
According to the present invention, since the metal bump portion having a non-projecting shape is formed, it is possible to obtain a suspension substrate that prevents occurrence of a short circuit between adjacent metal bump portions.
Hereinafter, the manufacturing method of the suspension substrate according to the present invention will be described step by step.

1.前駆部材形成工程
本発明における前駆部材形成工程は、外部回路基板との接続を行う端子部を有する配線層を形成するサスペンション用基板の前駆部材を形成する工程である。
1. Precursor member forming step The precursor member forming step in the present invention is a step of forming a precursor member of a suspension substrate for forming a wiring layer having a terminal portion for connection to an external circuit board.

なお、前駆部材とは、金属バンプ部を形成する前の部材全般をいう。そのため、前駆部材は、端子部を有する配線層を備えるものであれば特に限定されるものではない。また、前駆部材は、金属バンプ部を形成する前のサスペンション用基板であることが好ましい。金属バンプ部を形成する前のサスペンション用基板は、例えばサブトラクティブ法またはアディティブ法により得ることができる。   In addition, a precursor member means the whole member before forming a metal bump part. Therefore, the precursor member is not particularly limited as long as it includes a wiring layer having a terminal portion. In addition, the precursor member is preferably a suspension substrate before forming the metal bump portion. The suspension substrate before forming the metal bump portion can be obtained by, for example, a subtractive method or an additive method.

(1)サブトラクティブ法
サブトラクティブ法による前駆部材の形成方法の具体例としては、金属支持部材と、上記金属支持部材上に形成された絶縁部材と、上記絶縁部材上に形成された導体部材とを有する積層部材を準備する積層部材準備工程と、上記積層部材の上記導体部材をエッチングし、外部回路基板との接続を行う端子部を有する配線層を形成する配線層形成工程と、上記絶縁部材をエッチングし、絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、上記金属支持部材をエッチングし、金属支持基板を形成する金属支持基板形成工程とを有する形成方法を挙げることができる。
(1) Subtractive method As a specific example of the method of forming the precursor member by the subtractive method, a metal support member, an insulating member formed on the metal support member, and a conductor member formed on the insulating member; A laminated member preparing step of preparing a laminated member having a wiring layer; a wiring layer forming step of forming a wiring layer having a terminal portion for etching the conductive member of the laminated member and connecting to an external circuit substrate; and the insulating member And forming a metal support substrate by etching the metal support member and forming a metal support substrate.

図14は、サブトラクティブ法による前駆部材の形成方法の一例を示す概略断面図である。なお、図14は、図1(b)と同様に、図1(a)のA−A断面図に相当する断面図である。図14においては、まず、金属支持部材1X、絶縁部材2Xおよび導体部材3Xがこの順に積層された積層部材を準備する(図14(a))。次に、導体部材3Xに対して、ウェットエッチングによるパターニングを行い、配線層3を形成する(図14(b))。この際、金属支持部材1Xに対するウェットエッチングを行い、治具孔を形成しても良い。次に、配線層3を覆うようにカバー層4を形成する(図14(c))。次に、絶縁部材2Xに対して、ウェットエッチングによるパターニングを行い、絶縁層2を形成する(図14(d))。次に、図示しないが、配線層の端子部に保護めっき部を形成する。最後に、金属支持部材1Xの外形加工を行い、金属支持基板1を形成する(図14(e))。これにより、金属バンプ部を形成する前のサスペンション用基板(前駆部材)を得る。   FIG. 14 is a schematic cross-sectional view showing an example of a method for forming a precursor member by a subtractive method. 14 is a cross-sectional view corresponding to the AA cross-sectional view of FIG. 1A, similarly to FIG. In FIG. 14, first, a laminated member in which the metal supporting member 1X, the insulating member 2X, and the conductor member 3X are laminated in this order is prepared (FIG. 14A). Next, the conductive member 3X is patterned by wet etching to form the wiring layer 3 (FIG. 14B). At this time, wet etching may be performed on the metal support member 1X to form a jig hole. Next, the cover layer 4 is formed so as to cover the wiring layer 3 (FIG. 14C). Next, the insulating member 2X is patterned by wet etching to form the insulating layer 2 (FIG. 14D). Next, although not shown, a protective plating portion is formed on the terminal portion of the wiring layer. Finally, the outer shape of the metal support member 1X is processed to form the metal support substrate 1 (FIG. 14 (e)). Thereby, a suspension substrate (precursor member) before forming the metal bump portion is obtained.

(i)積層部材準備工程
積層部材準備工程は、金属支持部材と、上記金属支持部材上に形成された絶縁部材と、上記絶縁部材上に形成された導体部材とを有する積層部材を準備する工程である。
(I) Laminated member preparation step The laminated member preparation step is a step of preparing a laminated member having a metal supporting member, an insulating member formed on the metal supporting member, and a conductor member formed on the insulating member. It is.

サブトラクティブ法においては、積層部材の金属支持部材をエッチングすることにより金属支持基板が得られ、積層部材の絶縁部材をエッチングすることにより絶縁層が得られ、積層体の導体部材をエッチングすることにより配線層が得られる。積層部材は、市販の三層材であっても良く、金属支持部材に対して絶縁部材および導体部材を順次形成して得られたものであっても良い。   In the subtractive method, a metal supporting board is obtained by etching the metal supporting member of the laminated member, an insulating layer is obtained by etching the insulating member of the laminated member, and the conductive member of the laminated body is etched. A wiring layer is obtained. The laminated member may be a commercially available three-layer material, or may be obtained by sequentially forming an insulating member and a conductor member on a metal support member.

(ii)配線層形成工程
配線層形成工程は、上記積層部材の上記導体部材をエッチングし、外部回路基板との接続を行う端子部を有する配線層を形成する工程である。
(Ii) Wiring layer forming step The wiring layer forming step is a step of etching the conductor member of the laminated member to form a wiring layer having a terminal portion for connection to an external circuit board.

配線層の形成方法としては、例えば、積層部材の導体部材上に、ドライフィルムレジスト(DFR)等を用いてレジストパターンを形成し、そのレジストパターンから露出する導体部材をウェットエッチングする方法を挙げることができる。ウェットエッチングに用いられるエッチング液の種類は、導体部材の種類に応じて適宜選択することが好ましく、例えば導体部材の材料がCuである場合には、塩化鉄系エッチング液等を用いることができる。   Examples of the method for forming the wiring layer include a method in which a resist pattern is formed on a conductive member of a laminated member using a dry film resist (DFR) or the like, and the conductive member exposed from the resist pattern is wet-etched. Can do. The type of etching solution used for wet etching is preferably selected as appropriate according to the type of conductor member. For example, when the material of the conductor member is Cu, an iron chloride-based etching solution or the like can be used.

また、導体部材のエッチングと同時に、金属支持部材のエッチングを行っても良い。金属支持部材のエッチングとしては、例えば、開口部や治具孔の形成のためのエッチングを挙げることができる。また、必要であれば、後述する金属支持基板形成工程で行う加工の少なくとも一部を、導体部材のエッチングと同時に行っても良い。   Moreover, you may etch a metal supporting member simultaneously with the etching of a conductor member. Examples of the etching of the metal support member include etching for forming openings and jig holes. Further, if necessary, at least a part of the processing performed in the metal support substrate forming step described later may be performed simultaneously with the etching of the conductor member.

(iii)カバー層形成工程
カバー層形成工程は、上記配線層上にカバー層を形成する工程である。
(Iii) Cover layer forming step The cover layer forming step is a step of forming a cover layer on the wiring layer.

カバー層の形成方法は、特に限定されるものではなく、カバー層の材料に応じて適宜選択することが好ましい。例えば、カバー層の材料が感光性材料である場合には、全面形成したカバー層に露光現像を行うことによりパターン状のカバー層を得ることができる。また、カバー層の材料が非感光性材料である場合は、全面形成したカバー層の表面に所定のレジストパターンを形成し、そのレジストパターンから露出した部分を、ウェットエッチングにより除去することによりパターン状のカバー層を得ることができる。   The method for forming the cover layer is not particularly limited, and is preferably selected as appropriate according to the material of the cover layer. For example, when the material of the cover layer is a photosensitive material, a patterned cover layer can be obtained by exposing and developing the cover layer formed on the entire surface. In addition, when the cover layer material is a non-photosensitive material, a predetermined resist pattern is formed on the entire surface of the cover layer, and a portion exposed from the resist pattern is removed by wet etching. The cover layer can be obtained.

(iv)絶縁層形成工程
絶縁層形成工程は、上記絶縁部材をエッチングし、絶縁層を形成する工程である。
(Iv) Insulating layer forming step The insulating layer forming step is a step of etching the insulating member to form an insulating layer.

絶縁層の形成方法としては、例えば、絶縁部材に対して、ドライフィルムレジスト(DFR)等を用いてレジストパターンを形成し、そのレジストパターンから露出する絶縁部材をウェットエッチングする方法を挙げることができる。ウェットエッチングに用いるエッチング液の種類は、絶縁部材の種類に応じて適宜選択することが好ましく、例えば絶縁部材の材料がポリイミド樹脂である場合は、アルカリ系エッチング液等を用いることができる。   Examples of the method for forming the insulating layer include a method of forming a resist pattern on the insulating member using a dry film resist (DFR) or the like, and wet etching the insulating member exposed from the resist pattern. . The type of etchant used for wet etching is preferably selected as appropriate according to the type of insulating member. For example, when the material of the insulating member is a polyimide resin, an alkaline etchant or the like can be used.

(v)保護めっき部形成工程
保護めっき部形成工程は、上記端子部の表面に保護めっき部を形成する工程である。保護めっき部の形成方法としては、例えば、電解めっき法、無電解めっき法等を挙げることができ、電解めっき法が好ましい。
(V) Protection plating part formation process A protection plating part formation process is a process of forming a protection plating part on the surface of the above-mentioned terminal part. Examples of the method for forming the protective plating portion include an electrolytic plating method and an electroless plating method, and the electrolytic plating method is preferable.

(vi)金属支持基板形成工程
金属支持基板形成工程は、上記金属支持部材をエッチングし、金属支持基板を形成する工程である。本工程において、通常は、金属支持基板の外形加工を行う。
(Vi) Metal Support Substrate Formation Step The metal support substrate formation step is a step of etching the metal support member to form a metal support substrate. In this step, the outer shape of the metal support substrate is usually processed.

金属支持部材をエッチングする方法は特に限定されるものでないが、具体的には、ウェットエッチング等を挙げることができる。ウェットエッチングに用いるエッチング液の種類は、金属支持部材の種類に応じて適宜選択することが好ましく、例えば金属支持部材の材料がステンレス鋼である場合は、塩化鉄系エッチング液等を用いることができる。   Although the method for etching the metal support member is not particularly limited, specific examples include wet etching. The type of etchant used for wet etching is preferably selected as appropriate according to the type of metal support member. For example, when the material of the metal support member is stainless steel, an iron chloride-based etchant or the like can be used. .

(2)アディティブ法
アディティブ法による前駆部材の形成方法の具体例としては、金属支持部材を準備する金属支持部材準備工程と、上記金属支持部材上に、絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、上記絶縁層上に、外部回路基板との接続を行う端子部を有する配線層を形成する配線層形成工程と、上記配線層上に、カバー層を形成するカバー層形成工程と、上記金属支持部材をエッチングし、金属支持基板を形成する金属支持基板形成工程とを有する形成方法を挙げることができる。
(2) Additive method As a specific example of the forming method of the precursor member by the additive method, a metal support member preparation step of preparing a metal support member, an insulating layer formation step of forming an insulating layer on the metal support member, A wiring layer forming step of forming a wiring layer having a terminal portion for connection to an external circuit board on the insulating layer, a cover layer forming step of forming a cover layer on the wiring layer, and the metal support member And a metal support substrate forming step of forming a metal support substrate by etching.

図15は、アディティブ法による前駆部材の形成方法の一例を示す概略断面図である。なお、図15は、図1(b)と同様に、図1(a)のA−A断面図に相当する断面図である。図15においては、まず、金属支持部材1Xを準備する(図15(a))。次に、金属支持部材1Xの表面上に、パターン状の絶縁層2を形成する(図15(b))。次に、絶縁層2側の表面上に配線層3を形成する(図15(c))。次に、配線層3を覆うようにカバー層4を形成する(図15(d))。次に、図示しないが、配線層の端子部に保護めっき部を形成する。最後に、金属支持部材1Xの外形加工を行い、金属支持基板1を形成する(図15(e))。これにより、金属バンプ部を形成する前のサスペンション用基板(前駆部材)を得る。   FIG. 15 is a schematic cross-sectional view showing an example of a method for forming a precursor member by an additive method. 15 is a cross-sectional view corresponding to the AA cross-sectional view of FIG. 1A, as in FIG. In FIG. 15, first, a metal support member 1X is prepared (FIG. 15 (a)). Next, the patterned insulating layer 2 is formed on the surface of the metal support member 1X (FIG. 15B). Next, the wiring layer 3 is formed on the surface on the insulating layer 2 side (FIG. 15C). Next, the cover layer 4 is formed so as to cover the wiring layer 3 (FIG. 15D). Next, although not shown, a protective plating portion is formed on the terminal portion of the wiring layer. Finally, the outer shape of the metal support member 1X is processed to form the metal support substrate 1 (FIG. 15E). Thereby, a suspension substrate (precursor member) before forming the metal bump portion is obtained.

(i)金属支持部材準備工程
金属支持部材準備工程は、金属支持部材を準備する工程である。金属支持部材には、例えば市販の金属支持部材を用いることができる。
(I) Metal support member preparation process A metal support member preparation process is a process of preparing a metal support member. For example, a commercially available metal support member can be used as the metal support member.

(ii)絶縁層形成工程
絶縁層形成工程は、上記金属支持部材上に、絶縁層を形成する工程である。
(Ii) Insulating layer forming step The insulating layer forming step is a step of forming an insulating layer on the metal support member.

絶縁層の形成方法は、特に限定されるものではなく、絶縁層の材料に応じて適宜選択することが好ましい。例えば、絶縁層の材料が感光性材料である場合には、全面形成した絶縁層に露光現像を行うことによりパターン状の絶縁層を得ることができる。また、絶縁層の材料が非感光性材料である場合は、全面形成した絶縁層の表面に所定のレジストパターンを形成し、そのレジストパターンから露出した部分を、ウェットエッチングにより除去することによりパターン状の絶縁層を得ることができる。   The method for forming the insulating layer is not particularly limited, and it is preferable to select appropriately according to the material of the insulating layer. For example, when the material of the insulating layer is a photosensitive material, a patterned insulating layer can be obtained by exposing and developing the insulating layer formed on the entire surface. In addition, when the material of the insulating layer is a non-photosensitive material, a predetermined resist pattern is formed on the surface of the insulating layer formed on the entire surface, and a portion exposed from the resist pattern is removed by wet etching to form a pattern. Insulating layer can be obtained.

(iii)配線層形成工程
配線層形成工程は、上記絶縁層上に、外部回路基板との接続を行う端子部を有する配線層を形成する工程である。配線層の形成方法としては、例えば電解めっき法等を挙げることができる。電解めっき法を用いる場合、配線層の形成前に、スパッタリング法等により絶縁層の表面にシード層を形成することが好ましい。
(Iii) Wiring layer forming step The wiring layer forming step is a step of forming a wiring layer having a terminal portion for connection to an external circuit board on the insulating layer. Examples of the method for forming the wiring layer include an electrolytic plating method. When the electrolytic plating method is used, it is preferable to form a seed layer on the surface of the insulating layer by sputtering or the like before forming the wiring layer.

(iv)その他の工程
その他の工程については、上記サブトラクティブ法における工程と同様であるので、ここでの記載は省略する。
(Iv) Other steps Since the other steps are the same as those in the subtractive method, description thereof is omitted here.

2.金属バンプ部形成工程
次に、本発明における金属バンプ部形成工程について説明する。本発明における金属バンプ部形成工程は、上記前駆部材の上記端子部上に、平面視上、長手方向における第一辺および第二辺を有する金属バンプ部を形成する工程である。
2. Metal bump part formation process Next, the metal bump part formation process in this invention is demonstrated. The metal bump portion forming step in the present invention is a step of forming a metal bump portion having a first side and a second side in the longitudinal direction in plan view on the terminal portion of the precursor member.

また、本発明においては、上記第一辺および上記第二辺の少なくとも一方が、平面視上、中央部が両端部よりも突出しない非突出形状となるように、上記金属バンプ部を形成する。なお、金属バンプ部の非突出形状については、上記「A.サスペンション用基板」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。   In the present invention, the metal bump portion is formed so that at least one of the first side and the second side has a non-projecting shape in which the central portion does not protrude from both end portions in plan view. The non-protruding shape of the metal bump portion is the same as the content described in the above “A. Suspension substrate”, and the description is omitted here.

金属バンプ部を形成する方法としては、所望の金属バンプ部を得ることができる方法であれば特に限定されるものではないが、例えば図13に示したように、端子部3a上に金属板部形成用層5aを形成し、金属板部形成用層5aを溶融固化させることにより金属バンプ部5を形成する方法を挙げることができる。金属バンプ部形成用層の材料としては、例えば、金属含有ペーストを挙げることができる。金属含有ペーストは、少なくとも金属(例えば半田)を含有するものであり、さらに、フラックス等の添加剤を含有していても良い。また、金属バンプ部形成用層の形成方法としては、特に限定されるものではないが、例えばスクリーン印刷等の一般的な印刷法を挙げることができる。   The method for forming the metal bump portion is not particularly limited as long as it can obtain a desired metal bump portion. For example, as shown in FIG. 13, the metal plate portion is formed on the terminal portion 3a. A method of forming the metal bump portion 5 by forming the forming layer 5a and melting and solidifying the metal plate portion forming layer 5a can be exemplified. Examples of the material for the metal bump portion forming layer include a metal-containing paste. The metal-containing paste contains at least a metal (for example, solder), and may further contain an additive such as a flux. In addition, the method for forming the metal bump portion forming layer is not particularly limited, and examples thereof include a general printing method such as screen printing.

また、本発明においては、端子部が、平面視上、長手方向における第三辺および第四辺を有し、第三辺および第四辺の少なくとも一方が、平面視上、中央部が両端部よりも突出しない非突出形状を有し、端子部の非突出形状に追従するように、金属バンプ部の非突出形状を形成することが好ましい。端子部の形状を利用して、金属バンプ部に対して、所望の非突出形状を付与できるからである。また、本発明においては、端子部の表面に、親液部および疎液部から構成されるパターンが形成され、上記パターンに追従するように、金属バンプ部の非突出形状を形成することが好ましい。濡れ性の違いを利用して、金属バンプ部に対して、所望の非突出形状を付与できるからである。これらの事項については、「A.サスペンション用基板」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。   Further, in the present invention, the terminal portion has a third side and a fourth side in the longitudinal direction in plan view, and at least one of the third side and the fourth side has both ends at the center portion in plan view. It is preferable to form the non-projecting shape of the metal bump portion so as to have a non-projecting shape that does not protrude more and to follow the non-projecting shape of the terminal portion. This is because a desired non-projecting shape can be imparted to the metal bump portion by utilizing the shape of the terminal portion. In the present invention, it is preferable that a pattern composed of a lyophilic part and a lyophobic part is formed on the surface of the terminal part, and the non-projecting shape of the metal bump part is formed so as to follow the pattern. . This is because a desired non-projecting shape can be imparted to the metal bump portion by utilizing the difference in wettability. Since these matters are the same as those described in “A. Suspension substrate”, description thereof is omitted here.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the technical idea described in the claims of the present invention has substantially the same configuration and exhibits the same function and effect regardless of the case. It is included in the technical scope of the invention.

以下、実施例を用いて、本発明をさらに具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.

[条件1]
切欠を有する端子部、および、切欠を有しない端子部の上に、金属バンプ部(半田バンプ部)を形成し、半田ブリッジ発生率を求めた。切欠を有する端子部は、図16(a)に示すように、長手方向の長さL=0.500mm、短手方向の長さ0.150mm、ピッチL=0.370mm、長手方向における端部から切欠までの長さL=L1×20%mm、切欠の深さL=0.02mmとした。一方、切欠を有しない端子部は、図16(b)に示すように、長手方向の長さL=0.500mm、短手方向の長さ0.150mm、ピッチL=0.370mmとした。
[Condition 1]
A metal bump part (solder bump part) was formed on the terminal part having the notch and the terminal part not having the notch, and the solder bridge occurrence rate was determined. As shown in FIG. 16A, the terminal portion having the notch has a length L 1 in the longitudinal direction = 0.500 mm, a length in the short direction 0.150 mm, a pitch L 3 = 0.370 mm, The length from the end to the notch was L 4 = L 1 × 20% mm, and the notch depth L 5 was 0.02 mm. On the other hand, as shown in FIG. 16B, the terminal portion having no notch has a length L 1 in the longitudinal direction = 0.500 mm, a length in the short direction 0.150 mm, and a pitch L 3 = 0.370 mm. did.

半田高さは以下式により試算した。
半田高さ=半田ペーストの印刷体積/端子面積×補正値
<切欠なしの端子>
上記端子面積において、種々の半田マスク開孔を設けてブリッジ発生有無をテストで確認した。また、これにより、はんだブリッジの発生しない半田ペースト印刷体積を求めた。
<切欠ありの端子>
上記で得られたはんだペースト印刷体積と、切欠ありの端子面積とからブリッジが発生しない半田高さを試算した。
The solder height was calculated by the following formula.
Solder height = Solder paste printing volume / terminal area x correction value <terminal without notch>
In the above terminal area, various solder mask openings were provided, and the presence or absence of the bridge was confirmed by a test. In addition, the solder paste printing volume at which no solder bridge was generated was obtained.
<Terminal with notch>
From the solder paste printing volume obtained above and the notched terminal area, the solder height at which no bridge is generated was estimated.

[条件2〜6]
端子部の寸法およびピッチを表1に示した内容に変更したこと以外は、条件1と同様にして、半田ブリッジの発生を確認した。
[Conditions 2-6]
The occurrence of solder bridges was confirmed in the same manner as in Condition 1 except that the dimensions and pitch of the terminal portions were changed to the contents shown in Table 1.

Figure 2013033570
Figure 2013033570

条件1では、半田高さが200μmであっても、非突出形状を有する金属バンプ部が得られ、半田ブリッジも発生しなかった。条件2、3では、半田高さが200μmになると、非突出形状を有する金属バンプ部が得られず、半田ブリッジの発生が確認された。条件4、5では、半田高さが190μmになると、非突出形状を有する金属バンプ部が得られず、半田ブリッジの発生が確認された。条件6では、半田高さが170μmになると、非突出形状を有する金属バンプ部が得られず、半田ブリッジの発生が確認された。   Under Condition 1, even when the solder height was 200 μm, a metal bump portion having a non-projecting shape was obtained, and no solder bridge was generated. Under conditions 2 and 3, when the solder height was 200 μm, a metal bump portion having a non-projecting shape was not obtained, and it was confirmed that a solder bridge was generated. Under conditions 4 and 5, when the solder height was 190 μm, a metal bump portion having a non-projecting shape was not obtained, and it was confirmed that a solder bridge was generated. Under Condition 6, when the solder height was 170 μm, a metal bump portion having a non-projecting shape was not obtained, and it was confirmed that a solder bridge was generated.

1…金属支持基板、 2…絶縁層、 3…配線層、 3a…端子部、 4…カバー層、 5…金属バンプ部、 6a…親液部、6b…疎液部、 100…サスペンション用基板、 101…素子実装領域、 102…外部回路基板接続領域、 103…配線層   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Metal support board | substrate, 2 ... Insulating layer, 3 ... Wiring layer, 3a ... Terminal part, 4 ... Cover layer, 5 ... Metal bump part, 6a ... Lipophilic part, 6b ... Lipophilic part, 100 ... Suspension board, 101 ... Element mounting area, 102 ... External circuit board connection area, 103 ... Wiring layer

Claims (6)

金属支持基板と、前記金属支持基板上に形成された絶縁層と、前記絶縁層上に形成された配線層と、を有するサスペンション用基板であって、
前記配線層は外部回路基板との接続を行う端子部を有し、
前記端子部上に、平面視上、長手方向における第一辺および第二辺を有する金属バンプ部を備え、
前記第一辺および前記第二辺の少なくとも一方が、平面視上、中央部が両端部よりも突出しない非突出形状を有することを特徴とするサスペンション用基板。
A suspension substrate having a metal support substrate, an insulating layer formed on the metal support substrate, and a wiring layer formed on the insulating layer,
The wiring layer has a terminal portion for connection with an external circuit board,
On the terminal portion, in plan view, provided with a metal bump portion having a first side and a second side in the longitudinal direction,
A suspension substrate, wherein at least one of the first side and the second side has a non-projecting shape in which a central portion does not project from both ends in plan view.
前記端子部が、平面視上、長手方向における第三辺および第四辺を有し、
前記第三面および前記第四面の少なくとも一方が、平面視上、中央部が両端部よりも突出しない非突出形状を有し、
前記金属バンプ部の非突出形状が、前記端子部の非突出形状に追従するように形成されていることを特徴とする請求項1に記載のサスペンション用基板。
The terminal portion has a third side and a fourth side in the longitudinal direction in plan view,
At least one of the third surface and the fourth surface has a non-protruding shape in which the central portion does not protrude from both end portions in plan view,
The suspension board according to claim 1, wherein the non-projecting shape of the metal bump portion is formed so as to follow the non-projecting shape of the terminal portion.
請求項1または請求項2に記載のサスペンション用基板と、前記サスペンション用基板の前記金属支持基板側の表面に設けられたロードビームと、を有することを特徴とするサスペンション。   A suspension board comprising: the suspension substrate according to claim 1; and a load beam provided on a surface of the suspension substrate on the metal support substrate side. 請求項3に記載のサスペンションと、前記サスペンションに実装された素子と、を有することを特徴とする素子付サスペンション。   A suspension with an element, comprising: the suspension according to claim 3; and an element mounted on the suspension. 金属支持基板と、前記金属支持基板上に形成された絶縁層と、前記絶縁層上に形成された配線層と、を有するサスペンション用基板の製造方法であって、
外部回路基板との接続を行う端子部を有する配線層を形成するサスペンション用基板の前駆部材を形成する前駆部材形成工程と、
前記前駆部材の前記端子部上に、平面視上、長手方向における第一辺および第二辺を有する金属バンプ部を形成する金属バンプ部形成工程と、を有し、
前記第一辺および前記第二辺の少なくとも一方が、平面視上、中央部が両端部よりも突出しない非突出形状となるように、前記金属バンプ部を形成することを特徴とするサスペンション用基板の製造方法。
A method for manufacturing a suspension substrate, comprising: a metal support substrate; an insulating layer formed on the metal support substrate; and a wiring layer formed on the insulating layer.
A precursor member forming step of forming a precursor member of a suspension substrate for forming a wiring layer having a terminal portion for connection to an external circuit board;
On the terminal portion of the precursor member, a metal bump portion forming step of forming a metal bump portion having a first side and a second side in the longitudinal direction in plan view,
The suspension substrate, wherein the metal bump portion is formed such that at least one of the first side and the second side has a non-projecting shape in which a central portion does not protrude from both end portions in plan view. Manufacturing method.
前記端子部が、平面視上、長手方向における第三辺および第四辺を有し、
前記第三辺および前記第四辺の少なくとも一方が、平面視上、中央部が両端部よりも突出しない非突出形状を有し、
前記端子部の非突出形状に追従するように、前記金属バンプ部の非突出形状を形成することを特徴とする請求項5に記載のサスペンション用基板の製造方法。
The terminal portion has a third side and a fourth side in the longitudinal direction in plan view,
At least one of the third side and the fourth side has a non-projecting shape in which the central part does not project from both ends in plan view,
The suspension board manufacturing method according to claim 5, wherein the non-projecting shape of the metal bump portion is formed so as to follow the non-projecting shape of the terminal portion.
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