JP2013030420A5 - - Google Patents
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Description
フッ素化処理に用いられるフッ素含有ガスとしては、フッ素（Ｆ２）ガスのほか、三フッ化窒素（ＮＦ３）、ペルフルオロトリメチルアミン（Ｎ（ＣＦ３）３）、三フッ化塩素（ＣｌＦ３）ガス等を用いることができる。フッ素化処理においてこのようなガスは、単体で用いられてもよく、他種の不活性ガス（例えば窒素ガス、アルゴンガス）と混合し希釈されて使用されてもよい。フッ素化処理に用いられるガス中の、フッ素含有化合物の濃度は１００％であることが好適であるが、窒素、アルゴンガス等で希釈した０．０１容量％以上、好ましくは０．１容量％以上、より好ましくは１容量％以上のフッ素含有ガスも使用できる。フッ素含有化合物の濃度が０．０１％未満であると、処理効率が低いためフッ素化が効率的に行われない。
Claims (1)
- フッ素含有ガスが、フッ素（Ｆ２）、三フッ化窒素（ＮＦ３）、ペルフルオロトリメチルアミン（Ｎ（ＣＦ３）３）、三フッ化塩素（ＣｌＦ３）ガスからなる群から選択されるフッ素化合物を含有するガスであることを特徴とする、請求項３又は４に記載の方法。
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