JP2013022354A - 治療用処置装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】エネルギ処置具120がコネクタ165を介して制御装置170に接続されると初期設定処理が実施される。この処理では、第1の高周波電極132及び第2の高周波電極134に配置された発熱チップ140に係る係数C1及び係数C2が取得される。装置毎の不均一さが小さい係数C2は、メモリ123に予め格納されている。制御部180は、発熱チップ駆動回路182を介して発熱チップ140の抵抗パターンに微小電圧を印加し、そのときの電流値に基づいて抵抗値Rを取得する。また、温度センサ189は、環境温度Tを取得する。これらに基づいて係数C1を算出する。制御部180は、加熱処置において、温度TをT=C1×R+C2によって算出し、その温度に基づいて、発熱チップ140の温度を制御する。
【選択図】図6
Description
筒体242の内部には、その基端側で操作ノブ232の一つと接続した駆動ロッド252が、筒体242の軸方向に沿って移動可能に配設されている。駆動ロッド252の先端側には、先端側に刃が形成された薄板状のカッタ254が配設されている。操作ノブ232を操作すると、駆動ロッド252を介してカッタ254は、筒体242の軸方向に沿って移動させられる。カッタ254が先端側に移動するとき、カッタ254は、保持部125に形成された後述するカッタ案内溝264,274内に収まる。
第1の高周波電極132には、図2に示すように、高周波電極用通電ライン268が電気的に接続している。第1の高周波電極132は、この高周波電極用通電ライン268を介して、ケーブル160に接続されている。
第1の保持部材127及び第2の保持部材128は更に、第1の高周波電極132及び第2の高周波電極134に接した生体組織を焼灼するために、発熱のための機構を有する。第1の保持部材127に設けられた発熱機構と、第2の保持部材128に設けられた発熱機構とは、同様の形態を持つ。ここでは第1の保持部材127に形成された発熱機構を例に挙げて説明する。
また、発熱チップ駆動回路182は、発熱チップ140に電圧を印加した際に流れる電流を計測する機能を有する。発熱チップ駆動回路182は、計測した電流値を制御部180に出力する。
T=C1×R+C2 (1)
ここで、係数C1及び係数C2は所定の定数である。したがって、係数C1及び係数C2が既知であれば、式(1)に基づいて抵抗パターン143の抵抗値Rから温度Tを求めることができる。以下、係数C1及び係数C2について説明する。
T1=C1×R1+C2 (2)
T2=C1×R2+C2 (3)
α=R2/R1 (4)
すると、式(2)(3)(4)より、次式(5)が得られる。
C2=(T1×α―T2)/(α−1) (5)
ここで、αは抵抗パターン143の材料によって決まる値である。すなわち、製造工程で不均一さが生じる抵抗パターン143の線幅や厚さには依存しない。したがって、同一材料を用いた同一構造の発熱チップ140では、個体間の係数C2の差異はごく小さい。係数C2の導出には2つの異なる温度で抵抗値を計測する必要がある。しかしながら、個体間の差異が小さいことから、全ての発熱チップ140について計測する必要はなく、例えは発熱チップ140の製造ロット毎に抜き取り検査を行って平均値を算出することで十分な精度でそのロットの発熱チップ140の係数C2を得ることができる。
C1=(T−C2)/R (6)
この式から明らかなとおり、係数C2が既知であれば、ある一つの温度における抵抗値を計測することで係数C1を取得することができる。
Rm=Vm/Im (7)
さらに、得られたRmと、ステップS201で取得した係数C2と、ステップS203で計測した環境温度Tmと、式(6)とに基づいて、次式(8)により、係数C1を算出する。
C1=(Tm−C2)/Rm (8)
なお、ケーブル160のコネクタ165への接続直後にこの計測が行われることから、発熱チップの温度は環境温度と等しいとみなすことができる。
P=C3×(Top−T)+Pnow (9)
ここで、C3は制御ゲインであり、所定の値が与えられている。Topは目標温度であり、Pnowは現在投入されている電力である。ここでは制御ゲインをC3とする単純な比例制御としているが、より安定した制御を行うために、PID制御を用いてもよい。
V=(P×R)0.5 (10)
ステップS306において制御部180は、発熱チップ駆動回路182に指令して、算出した印加電圧Vを抵抗パターン143に印加させる。
T=C1´×R2+C1×R+C2 (11)
この場合は抵抗温度係数の温度依存性は、係数C1´と関係する。ここでC1´もC1と同様に抵抗パターン143の材質に依存する。このため、係数C1´を用いる場合は、これをC1と同様にメモリ123に記憶させておくことができる。
Claims (6)
- 生体組織を目標温度で加熱して治療するための治療用処置装置であって、
前記生体組織に接触して該生体組織に熱を伝える伝熱部と、
電力が投入されることによって前記伝熱部を加熱する抵抗素子と、
を有する処置具と、
前記処置具と着脱可能であり、前記抵抗素子の抵抗値Rを計測でき、前記目標温度で前記生体組織を加熱するために前記抵抗素子に電力を供給して前記伝熱部の温度を制御する制御装置と、
前記処置具又は前記制御装置に設けられた、係数C2を格納するための記憶部と、
を具備し、
前記制御装置は、
前記処置具と前記制御装置とが接続された状態で、校正温度に基づいて係数C1を算出し、
前記抵抗素子の温度Tを、前記抵抗値R、前記係数C1、及び前記係数C2を用いて
T=C1×R+C2
により算出し、
前記温度Tを用いて前記伝熱部の温度を制御する、
ことを特徴とする治療用処置装置。 - 前記係数C1の算出は、前記処置具と前記制御装置とが接続された後、前記加熱の開始前に行われることを特徴とする請求項1に記載の治療用処置装置。
- 前記校正温度は、環境温度であり、
前記係数C1は、前記環境温度と、計測した前記抵抗値Rと、読み出した前記係数C2とに基づいて算出される、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の治療用処置装置。 - 前記処置具又は前記制御装置に設けられた、前記環境温度を計測するための温度センサをさらに具備することを特徴とする請求項3に記載の治療用処置装置。
- 前記処置具又は前記制御装置に設けられた算出係数記憶部をさらに具備し、
前記制御装置は、算出した前記係数C1を前記算出係数記憶部に格納する、
ことを特徴とする請求項1乃至4のうち何れか1項に記載の治療用処置装置。 - 前記制御装置は、前記処置具と前記制御装置とが初めて接続された際には前記係数C1を算出し、2回目以降に接続された際には前記算出係数記憶部に格納された前記係数C1を読み出し、前記伝熱部の温度を制御することを特徴とする請求項5に記載の治療用処置装置。
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