JP2013021097A - 仕掛りカセット搬送制御システム - Google Patents

Abstract

【課題】処理ラインの生産効率を低下させることなく、カセット搬送を行うことを可能とする仕掛りカセット搬送制御システムを提供する。
【解決手段】ガラス基板を処理する処理ラインの基板回収装置から、仕掛り中の基板を収納するカセットを搬送制御するシステムであって、カセットに収納されたガラス基板を一時的に保管するストッカ設備を管理するストッカ設備管理システムと、予め設定されたカセット搬送の優先度情報と、過去のカセット搬送における目標時間に対するカセット搬送情報と、ガラス基板の処理ラインにおけるカセット搬送に影響を与える要因情報と、に基づいてカセット搬送の指示を行う工程管理システムと、を備えたことを特徴とする仕掛りカセット搬送制御システム。
【選択図】図７

Description

本発明は、カラーフィルター製造工程、液晶表示装置製造工程、半導体製造工程において仕掛り中のガラス基板を収納するカセットの搬送を制御する仕掛りカセット搬送制御システムに関するものである。

カラーフィルター製造工程や液晶表示装置製造工程ならびに半導体製造工程において用いられるガラス基板（以下、基板）として、カラーフィルター基板を例として説明する。

図１は基板の一例としてカラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルター基板の断面を示した図である。カラーフィルター１は、基板２上にブラックマトリックス（以下、ＢＭ）３、レッドＲの着色画素（以下、Ｒ画素）４−１、グリーンＧの着色画素（以下、Ｇ画素）４−２、ブルーＢの着色画素（以下、Ｂ画素）４−３、透明電極５、及びフォトスペーサー（Ｐｈｏｔｏ Ｓｐａｃｅｒ）（以下、ＰＳ）６、バーティカルアライメント（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）（以下、ＶＡ）７が順次形成されたものである。

上記構造のカラーフィルターの製造方法は、フォトリソグラフィー法、印刷法、インクジェット法が知られているが、図２は一般的に用いられているフォトリソグラフィー法の工程を示すフロー図である。カラーフィルターは、先ず、基板上にＢＭを形成処理する工程（Ｋ１）、基板を洗浄処理する工程（Ｋ２）、着色フォトレジストを塗布および予備乾燥処理する工程（Ｋ３）、着色フォトレジストを乾燥、硬化処理するプリベーク工程（Ｋ４）、露光処理する工程（Ｋ５）、現像処理する工程（Ｋ６）、着色フォトレジストを硬化処理する工程（Ｋ７）、透明電極（例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ））を成膜処理する工程（Ｋ８）、ＰＳ、ＶＡを形成処理する工程（Ｋ９）がこの順に行われ製造される。

例えば、Ｒ画素、Ｇ画素、Ｂ画素の順に画素が形成される場合には、カラーフィルター用基板を洗浄処理する工程（Ｋ２）から、着色フォトレジストを硬化処理する工程間（Ｋ７）ではレッドＲ、グリーンＧ、ブルーＢの順に着色レジストを変更して３回繰り返されてＲ画素、Ｇ画素、Ｂ画素が形成される。

上記各処理工程を例えば、ＢＭを形成処理（Ｋ１）する処理ライン、Ｒ画素を形成処理（Ｋ２〜Ｋ７）する処理ライン、Ｇ画素を形成処理（Ｋ２〜Ｋ７）する処理ライン、Ｂ画素を形成処理（Ｋ２〜Ｋ７）する処理ライン、透明電極を成膜処理する（Ｋ８）処理ライン、ＰＳ／ＶＡを形成処理（Ｋ９）形成処理する処理ラインで構成した場合には、各処理ライン間の基板搬送は、次の処理ラインに直接搬送される場合や、仕掛り基板として一時的に保管する設備（以下、ストッカ設備）に保管される場合がある。この場合のストッカ設備は、各処理ラインと連結された構成を有している。

図３にカラーフィルター製造工程におけるストッカ設備と処理ラインの間の基板投入、回収装置の構成の一例を示す。カラーフィルター製造工程は、ＢＭ形成処理ライン（処理ラインＡ）、Ｒ／Ｇ／Ｂ着色画素形成処理ライン（処理ラインＢ）、透明電極形成処理ライン（処理ラインＣ）、ＰＳ形成処理ライン（処理ラインＤ）があり、これらの処理ラインで処理を行うために、処理用基板は各処理ラインに搬送される。

図３においてＢＭ形成処理ライン（処理ラインＡ）に投入される基板は、ストッカ設備
１１のカセット（図示せず）に保管されている。これらのカセットは、ストッカ設備１１からＢＭ形成処理ラインの基板投入装置１２に搬送される。基板投入装置１２は、搬送されたカセットから基板を一枚ずつ抜き取り、ＢＭ膜塗布装置１３へと搬送する。ＢＭ膜塗布装置１３で処理された基板は、露光装置１４、現像装置１５、及びオーブン１６などの処理装置で処理された後、基板回収装置１７でカセットに一旦収納される。

基板回収装置１７によって、回収用カセット（図示せず）の基板収納枚数が上限値に達した後、回収用カセットはストッカ設備１１内に設けられた図示しない搬送コンベアによって、次の処理ライン（この場合は、処理ラインＢを指す）の基板投入装置２２へ直接搬送されるか、あるいは次の処理ラインである処理ラインＢの仕掛りカセットとしてストッカ設備１１に一時保管される。

上記ストッカ設備１１に一時保管されたＲ／Ｇ／Ｂ着色画素形成処理ラインの前記仕掛りカセットは、ストッカ設備１１からＲ／Ｇ／Ｂ着色画素形成処理ライン（処理ラインＢ）の基板投入装置２２に搬送される。基板投入装置２２は、搬送されたカセットから基板を一枚ずつ抜き取り、Ｒ／Ｇ／Ｂ膜塗布装置２３へ搬送する。Ｒ／Ｇ／Ｂ膜塗布装置２３で処理された基板は、露光装置２４、現像装置２５、及びオーブン２６で処理された後、基板回収装置２７で回収用カセット（図示せず）に一旦収納される。基板回収装置２７によって回収用カセットの基板収納枚数が上限値に達した後、回収用カセットはストッカ設備１１内に設けられた図示しない搬送コンベアによって、次の処理ライン（この場合は、処理ラインＣを指す）の基板投入装置２８へ直接搬送されるか、あるいは次の処理ラインである処理ラインＣの仕掛りカセットとしてストッカ設備１１に一時保管される。

以降、処理ラインＣ、処理ラインＤにおいても同様に、各処理ラインで処理を行うため処理ラインに搬送された仕掛カセットは処理された後、基板回収装置にて回収用カセットに収納され、次の処理ラインへ搬送されか、ストッカ設備に搬送され一旦保管される。

上記任意の処理ラインの基板回収装置から払い出されるカセットは、工程管理システムと呼ばれるシステムによって、決定された搬送先（次ラインの基板投入装置、あるいはストッカ設備内の次ラインの近傍）へ搬送される。その際、工程管理システムがストッカ管理システムと呼ばれるシステムに行うカセット搬送指示には、搬送先に加え、対象カセットの搬送優先度を表す値が付加される場合がある。

図４に工程管理システム、ストッカ管理システム及びストッカ設備が行うカセット搬送処理フロー例を記す。任意のラインの基板回収装置からカセット払出し指示が出てから（Ｕ１）、該当カセットを搬送するまでに、工程管理システムは搬送先の決定（Ｕ２）及び搬送優先度の決定（Ｕ３）を行う。ここで、搬送先は該当カセットの状態（該当カセットが次にどのラインで処理される基板を格納しているか）や、ストッカ状態（ストッカ棚数に対するカセット占有率）等のパラメーターによって決定される。また、搬送優先度は、ライン状態（該当カセットの次処理ラインにおける仕掛りカセットの有無）等のパラメーターによって決定される。

工程管理システムは、各ラインの基板回収装置からカセットの払出し指示を受信した後、搬送先の決定（Ｕ２）及び搬送優先度の決定（Ｕ３）を経てストッカ管理システムへ該当カセットの搬送指示を出す（Ｕ４）。ストッカ管理システムは受信した搬送指示内容に基づき、ストッカ設備を制御しカセットの搬送を開始し（Ｕ５）、その後搬送は終了する（Ｕ６）。

特開２００４−１０９９６８号公報

前記工程管理システムで行われる、ストッカ管理システムに対して搬送指示を行う際の搬送先や搬送優先度の決定は、事前に運用者で設定された情報（事前搬送情報）に基づいている。

搬送先情報としては、例えば、払出しカセットの種類をもとに搬送先を決定したり、また、次処理ラインの装置状態（基板投入装置の状態）を参考にする。即ち、基板回収装置からカセットが払い出された際、次処理ラインの基板投入装置に既にカセットが存在する場合は、一旦次処理ラインの近傍ストッカに搬送する。基板回収装置からカセットが払い出された際、次処理ラインの基板投入装置にカセットが存在しない場合は、直接該当の基板投入装置に搬送する。

搬送優先度情報としては、例えば、搬送をパターン分けし、それぞれに応じた搬送優先度を設定する。基板投入装置へのカセット搬送は、高い優先度で搬送（ラインの投入基板切れを発生させないため）したり、各ストッカに存在するカセット数の偏りをなくすことを目的としたストッカ間移動のカセット搬送は、上記と比べ低い優先度で搬送する。

上記事前搬送情報は、ラインの理想的な運用状態を想定し決定されるため、ストッカ設備の稼動率が高い場合、本来優先すべき搬送（基板投入設備への仕掛りカセットの搬送など）に待ちが発生する場合がある。その結果、優先度を設定したにもかかわらず、基板投入装置へのカセット搬送が実施されず、ラインではカセットが到着せずに処理ライン内のプロセス装置の処理待ちが発生し、処理ラインの生産効率を低下させる可能性がある。

また、一度設定された値は、運用者によって変更しない限り不変であるため、処理ラインが理想的な運用状態ではない場合（即ち、製品管理上のトラブルが発生した場合、ストッカ設備の稼働率が極端に高い状況が生じた場合など）、その都度処理ライン状況に応じた対処を運用者が行なう必要がある。

このように予め事前に設定した搬送先情報やや搬送優先度情報といった搬送情報に従って処理ラインを運用した場合には、処理ラインの生産効率を下げたり、また設定情報変更を運用者によって行なわなければならない。

その結果、処理装置が処理基板を待つ間に発生による稼動率低下や、処理装置が処理基板を待つ間に発生する材料費の消費の増加や、仕掛カセット保管のためのストッカ設備容積増加に伴う、設備導入や維持費用の増加といった問題が発生する。

本発明は係る問題に鑑みて、処理ラインの生産効率を低下させることなく、カセット搬送を行うことを可能とする仕掛りカセット搬送制御システムを提供することを目的とする。

本発明の請求項１に係る発明は、ガラス基板を処理する処理ラインの基板回収装置から、仕掛り中の基板を収納するカセットを搬送制御するシステムであって、
カセットに収納されたガラス基板を一時的に保管するストッカ設備を管理するストッカ設備管理システムと、
予め設定されたカセット搬送の優先度情報と、過去のカセット搬送における目標時間に対するカセット搬送情報と、ガラス基板の処理ラインにおけるカセット搬送に影響を与え
る要因情報と、に基づいてカセット搬送の指示を行う工程管理システムと、を備えたことを特徴とする仕掛りカセット搬送制御システムである。

本発明の請求項２に係る発明は、前記ストッカ設備管理システムは、前記工程管理システムからのカセット払い出し指示によって、ガラス基板を収納したカセットを搬送先に搬送することを特徴とする請求項１に記載の仕掛りカセット搬送制御システムである。

本発明の請求項３に係る発明は、前記カセット搬送の優先度情報は、ガラス基板の処理工程から払い出されるガラス基板を収納したカセットの搬送先を示す搬出先情報と、搬送優先度を示す搬送優先度情報と、到達目標時間情報を有することを特徴とする請求項１または２に記載の仕掛りカセット搬送制御システムである。

本発明の請求項４に係る発明は、前記ガラス基板の処理ラインにおけるカセット搬送に影響を与える要因情報は、カセットが搬送される処理ラインの処理時間と、処理ラインの良品率と、処理ラインの仕掛りカセット数と、を含む情報であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の仕掛りカセット搬送制御システムである。

本発明の請求項５に係る発明は、前記ガラス基板の処理ラインにおけるカセット搬送に影響を与える要因情報は、振れ幅を有する管理情報であることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の仕掛りカセット搬送制御システムである。

本発明の請求項６に係る発明は、前記工程管理システムは、前記カセットを搬送する際の搬送優先度を、前記カセット搬送の優先度情報と、過去の各カセット搬送の搬送所要時間の実績値情報と、前記カセット搬送に影響を与える要因情報と、に基づいて変更する搬送優先度変更手段を有することを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の仕掛りカセット搬送制御システムである。

本発明の仕掛りカセット搬送制御システムによれば、処理ラインの仕掛りカセットの待ち時間をなくすことが可能となり、処理ラインの生産効率を低下させる要因を取り除くことが可能となる。その結果、処理ラインの稼働率向上が可能となり、また材料消費のムダを防ぐことができる。更には、仕掛カセット保管のためのストッカ設備容積の増大を防ぎ、設備費用を抑制することができる。

カラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルターの一例を断面で示した図。 一般的に用いられているフォトリソグラフィー法の処理ラインフロー図。 カラーフィルター製造工程におけるストッカ設備と処理ラインの間の基板投入、回収装置の構成の一例を示す図。 従来の工程管理システム、ストッカ管理システム及びストッカ設備が行うカセット搬送処理フロー例を示す図。 本発明の実施環境例を示す図。 本発明に係る搬送実績情報をプロットした図。 本発明に係る工程管理システムによって、搬送優先度を変更してカセット搬送を所定の時間内で完了させる場合の処理フローを示す図。

以下、図面を参照して本発明の基板を収納する仕掛りカセット搬送制御システムを実施するための形態を説明する。

図５に、本発明の実施環境例を示す。基板投入装置や基板回収装置や各処理装置の各装置が持つコントローラ（即ちＰＬＣ：ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ ｌｏｇｉｃ ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ）と、ストッカ設備を管理するストッカ設備管理システムと、工程管理システムと、がＴＣＰ／ＩＰやＵＤＰ／ＩＰといった通信規格によりデータの送受信が行われる。このようなネットワーク環境下において、各システムと装置は互いに管理する情報を送受信し、物流制御を実現する。

上記ストッカ設備管理システム、工程管理システムは、カラーフィルター製造ラインにおいて、それぞれ次に示す機能を有している。

ストッカ設備管理システムは、
１．ストッカに存在する各装置の制御
２．ストッカに存在する各カセットの搬送制御を行い、工程管理システムよりカセットの搬送指示を受信し、その搬送指示内容をもとにカセット搬送を制御
３．ストッカに存在する各カセットの在庫情報、及び搬送状況の管理
といった機能を有している

工程管理システムは、
１．各生産基板の処理ラインの進捗情報の管理
２．生産基板が格納されているカセットの所在、搬送状況の管理
３．ストッカに存在するカセットへの搬送指示
といった機能を有している。

ストッカ設備管理システム及び工程管理システムは、互いに管理する情報をネットワークを介した信号を受信、送信することによって、各装置に動作指示を与える。またその履歴をデータとしてデータベース（ＤＢ）に保持する機能を備えている。

本発明に係る仕掛りカセット搬送制御システムでは、搬送先及び搬送優先度の決定に関して事前に設定された搬送優先度情報を、工程管理システムによって現在の処理ラインの状況に応じて適宜変更して搬送指示を行う。

カセット搬送の優先度を変更する手段について説明する。変更する手段は次に示す各情報に基づいて変更される。（ア）カセット搬送優先度情報と、（イ）各カセット搬送の搬送所要時間（実績値）情報と、（ウ）カセット搬送に影響を与える要因情報と、に基づいて優先度を変更するか否かの判定をする。

（ア）カセット搬送優先度情報
表１に搬送優先度情報の一例を示す。工程管理システムは、任意の基板回収設備を搬送元とし基板回収設備から払い出されるカセットの搬送先ストッカやそれらに対応する搬送優先度を複数設定可能とする。搬送優先度は、数値が大きいほど緊急を要するものとして扱う。搬送先ストッカ設備は、優先度が異なる搬送指示を同時に受信した場合には、搬送優先度が大きいものから順に処理を行う。表１に示される例（１）では、基板回収設備ＵＬＤ１から払い出されたカセットが優先度４でストッカＣＳＫ１に搬送されるまでの到達目標時間は１０分以内とすることを示している。同様に、例（２）では、基板回収設備ＵＬＤ１から払い出されたカセットが優先度２でストッカＣＳＫ１に搬送されるまでの到達目標時間は２０分以内とすることを示している。更に、例（３）では、基板回収設備ＵＬＤ１から払い出されたカセットが優先度６で次の処理ラインの基板投入装置ＬＤ２に搬送されるまでの到達目標時間は５分以内とすることを示している。搬送優先度は、例（３）→例（１）→例（２）の順となる。尚、表１では優先度５、３、１は実際には存在する情報であるが示されていない。

（イ）各カセット搬送の搬送所要時間（実績値）
工程管理システムは、任意の基板回収設備から払い出されたカセットの搬送所要時間（工程管理システムが、ストッカ管理システムへ搬送指示を送信してから搬送が終了するまでに要した時間）を、搬送優先度情報（上記（ア））と紐付けて管理する。

（ウ）カセット搬送に与える要因情報
工程管理システムはカセット搬送に影響を与える要因情報を管理する。要因情報の一例を表２に示す。表２に示される要因情報は、Ａｎ（任意の処理ラインにおける現在の処理タクト時間情報）と、Ｂｎ（任意の処理ラインにおける現在の良品率情報）と、Ｃｎ（任意の処理ラインに存在する現在の仕掛りカセット数情報）と、を含んでいる。

また上記要因情報は、振れ幅を有する管理情報であって、表３にＡｎ（任意の処理ラインにおける現在の処理タクト時間情報）の一例を示す。表３に示される任意の処理ラインにおける現在のタクト時間情報は、運用者により振れ幅を有する複数のタクト（秒）で管理される。表３は例えば任意の処理ラインＡ_１おける基板処理タクトを因子とした場合の振れ幅を示す。表３の例では任意のラインＡ_１おいて、タクト０秒〜３０秒で処理されている場合のシステムＩＤをＡ_１１として管理する。また、タクト３０秒〜３２秒で処理されている場合をＡ_１２として管理する

図６は搬送実績を示した図で、上記（ア）搬送優先度情報、（イ）各カセット搬送の搬送所要時間情報（実績値）、（ウ）カセット搬送に与える要因情報とを用いて工程管理システムは、図６のように搬送実績情報を管理する。図６は、ある搬送元（任意の基板回収設備）から払い出されたカセットに対し、搬送優先度を横軸に、実際に要した搬送時間を縦軸に記したものである。曲線３１は到達目標時間を示したもので、曲線３１よりも下にプロットされている搬送は、搬送所要時間が到達目標時間よりも少なくて済んだことを意味し、上にプロットされている搬送実績は、目標到達時間よりもより多くの時間を要したことを意味する。

また、図６中にプロットされた各点は、搬送優先度に対する搬送所要時間を示したものであるが、各点は上記搬送優先度に対する搬送所要時間を示すと同時に、カセットを搬送する次処理ライン状態情報を含むものとなっている。即ち、搬送所要時間の群を囲む破線は、カセット搬送する次処理ライン状態を分類したものである。処理ライン状態の分類は、（ウ）カセット搬送に与える要因情報の組み合わせで規定する。例えば、Ａ_１の値がＡ_１１からＡ_１２、Ａ_１３からＡ_１４Ａ_１５からＡ_１ｎの３群とし、同様にＢ_１の値がＢ_１１からＢ_１３、Ｂ_１４からＢ_１６、Ｂ_１７からＢ_１ｎの３群とし、更にＣ_１の値がＣ_１１からＣ_１３、Ｃ_１４からＣ_１６、Ｃ_１７からＣ_１ｎの３群とし、すべての組み合わせ（この場合は２７通りの組み合わせができる）の中から合致する１つのグループとしてライン状態を分類する。

例えば、図６における破線で囲まれた３２−１〜３２−６は上記２７通りの組み合わせのうちの６つのグループを例示したものである。

目標到達時間よりもより多くの時間を要している場合、処理ラインの状況（ラインの処
理タクト、良品率、仕掛りカセット数）に起因し、事前に設定された搬送優先度情報に基づいた搬送では、搬送所用時間内に搬送が終了しなかったと想定される。そこで、本発明に係る工程管理システムでは、事前に設定された搬送優先度を変更して、変更した搬送優先度に従って、カセットの搬送をストッカ管理システムへ搬送指示を出すものである。

図７は本発明に係る工程管理システムによって、搬送優先度を変更して処理ライン状況如何に関わらずカセット搬送を所定の時間内で完了させる場合の処理フローを示したものである。図７の処理フローを説明する。任意のラインの基板回収装置からカセットの払い出し指示があった場合（Ｓ１）、搬送先を決定する（Ｓ２）。その後、搬送優先度の決定を行い（Ｓ３）、次にステップ（Ｓ４）に移行する。ステップ（Ｓ４）では、現在の搬送ルートと同一の搬送ルートの搬送履歴を確認する。図５に記載した搬送実績例において、搬送所要時間が到達目標時間を超過している搬送履歴が存在する場合（Ｓ４のＹＥＳ）、アラームを発令し（Ｓ５）、次に搬送優先度を変更する手段によってルールを満足するか否かを判定する（Ｓ６）。搬送優先度を変更するルールを満足する場合には（Ｓ６のＹＥＳ）、変更を実施し（Ｓ７）、その後ストッカ管理システムへ搬送指示を出し（Ｓ８）、ストッカ設備による搬送を開始（Ｓ９）した後、搬送を終了する（Ｓ１０）。ステップ（Ｓ４）で搬送所要時間が到達目標時間を超過している搬送履歴が存在していない場合（Ｓ４のＮＯ）は、ステップ（Ｓ８）に移行する。また、ステップ（Ｓ６）で搬送優先度を変更するルールを満足しない場合（Ｓ６のＮＯ）には、ステップ（Ｓ８）に移行する。ここでいう搬送優先度を変更するルールとは、例えば、過去の搬送実績において、プロットされたグループ内に１点でも到達目標時間を越えたプロットが存在する場合や、ある割合以上（例えば２０％以上）のプロットが到達目標時間を超えている場合などのルールを事前に設定したものであって、そのルールを満足した場合には優先度を変更する。例えば、表１に示す搬送優先度情報において、搬送元の基板回収装置ＵＬＤ１から搬送先のＣＳＫ１の場合には、先ず搬送優先度２で到達目標時間２０分とした場合に、上記搬送優先度を変更するルールを満足した場合には搬送優先度を４に変更し、１０分以内に搬送するように搬送優先度を変更する。この場合、変更された搬送優先度においても、上記ルールを満足するかどうかを判定し、ルールを満足しない場合に、工程管理システムは搬送指示をストッカ管理システムに出力する。

上記ステップ（Ｓ７）での搬送優先度を変更する場合は、システムによる自動変更によって行われが、ライン運用者によるマニュアル変更であっても良い。

上記説明は、カラーフィルター製造工程での基板搬送の場合を例示したが、液晶表示装置製造工程、半導体製造工程における仕掛り中の基板を収納するカセットの搬送を制御する場合にも広く適用することが出来る。

このようにして、本発明による仕掛りカセット搬送制御システムによれば、基板の処理ラインのタクト時間や、良品率や、処理ライン内の仕掛りカセット数といった情報を管理しながら、同時に過去の搬送所要時間と目標時間とを比較することによって、予め設定した搬送優先度を適宜変更してカセットの搬送を制御することが可能となる。その結果、基板投入装置でのカセット待ちによる処理ラインの生産効率を低下させる要因を取り除くことが可能となり、処理ラインの稼働率向上が可能となり、また材料消費のムダを防ぐことができる。更には、仕掛カセット保管のためのストッカ設備容積の増大を防ぎ、設備費用を削減することができる。

１・・・カラーフィルター
２・・・基板
３・・・ブラックマトリックス（ＢＭ）
４−１・・・レッドＲの着色画素（Ｒ画素）
４−２・・・グリーンＧの着色画素（Ｇ画素）
４−３・・・ブルーＢの着色画素（Ｂ画素）
５・・・透明電極
６・・・フォトスペーサー（ＰＳ）
７・・・バーティカルアライメント（ＶＡ）
１１・・・ストッカ設備
１２・・・ＢＭ形成処理ラインの基板投入装置
１３・・・ＢＭ膜塗布装置
１４・・・露光装置
１５・・・現像装置
１６・・・オーブン
１７・・・基板回収装置
２２・・・処理ラインＢの基板投入装置
２３・・・Ｒ／Ｇ／Ｂ膜塗布装置
２４・・・露光装置
２５・・・現像装置
２６・・・オーブン
２７・・・基板回収装置
２８・・・基板投入装置
３１・・・到達目標時間を示す曲線
３２−１〜３２−６・・・要因情報に基づいたグループ群

Claims (6)

1. ガラス基板を処理する処理ラインの基板回収装置から、仕掛り中の基板を収納するカセットを搬送制御するシステムであって、
   カセットに収納されたガラス基板を一時的に保管するストッカ設備を管理するストッカ設備管理システムと、
   予め設定されたカセット搬送の優先度情報と、過去のカセット搬送における目標時間に対するカセット搬送情報と、ガラス基板の処理ラインにおけるカセット搬送に影響を与える要因情報と、に基づいてカセット搬送の指示を行う工程管理システムと、を備えたことを特徴とする仕掛りカセット搬送制御システム。
2. 前記ストッカ設備管理システムは、前記工程管理システムからのカセット払い出し指示によって、ガラス基板を収納したカセットを搬送先に搬送することを特徴とする請求項１に記載の仕掛りカセット搬送制御システム。
3. 前記カセット搬送の優先度情報は、ガラス基板の処理工程から払い出されるガラス基板を収納したカセットの搬送先を示す搬出先情報と、搬送優先度を示す搬送優先度情報と、到達目標時間情報を有することを特徴とする請求項１または２に記載の仕掛りカセット搬送制御システム。
4. 前記ガラス基板の処理ラインにおけるカセット搬送に影響を与える要因情報は、カセットが搬送される処理ラインの処理時間と、処理ラインの良品率と、処理ラインの仕掛りカセット数と、を含む情報であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の仕掛りカセット搬送制御システム。
5. 前記ガラス基板の処理ラインにおけるカセット搬送に影響を与える要因情報は、振れ幅を有する管理情報であることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の仕掛りカセット搬送制御システム。
6. 前記工程管理システムは、前記カセットを搬送する際の搬送優先度を、前記カセット搬送の優先度情報と、過去の各カセット搬送の搬送所要時間の実績値情報と、前記カセット搬送に影響を与える要因情報と、に基づいて変更する搬送優先度変更手段を有することを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の仕掛りカセット搬送制御システム。

Images