JP2013020954A5 - プラズマ・イオン源内において異なる処理ガスを迅速に切り替える方法および構造 - Google Patents

Claims (19)

1. プラズマを維持するプラズマ室と、
   前記プラズマ室にガスを供給するガス導管と、
   そこを通して前記プラズマ室からイオンが引き出されるアパーチャと、
   前記プラズマ室からのガス・コンダクタンスを選択的に増大させる弁であり、動作中は第１の位置に置かれており、前記プラズマ室からガスをより迅速に除去するために第２の位置に置かれる弁と
   を備えるプラズマ・イオン源。
2. 前記弁が、前記源電極と同じ側の前記プラズマ室の端部に、開閉可能な開口を備える、請求項１に記載のプラズマ・イオン源。
3. 前記弁が、変位可能な部材によって覆うことができる前記源電極の開口を備える、請求項２に記載のプラズマ・イオン源。
4. 前記部材が、電場または磁場によって変位する、請求項３に記載のプラズマ・イオン源。
5. 前記電場が、プラズマ電極電圧源または引出し電極電圧源によって供給された電圧によって提供される、請求項４に記載のプラズマ・イオン源。
6. 前記弁が、前記ガス入口と同じ側の前記プラズマ室の端部に、開閉可能な開口を備える、請求項１に記載のプラズマ・イオン源。
7. 前記弁が、第１の位置ではシールを形成し、第２の位置では前記プラズマ室内へガスを通過させる可動構造物を含む、請求項６に記載のプラズマ・イオン源。
8. 前記プラズマ室に入るガスを調節する毛管をさらに備え、前記可動構造物が前記毛管を支持している、請求項７に記載のプラズマ・イオン源。
9. 前記ガス入口の一部分が、前記プラズマ室をシールしまたは前記プラズマ室のシールを解除するように変位可能である、請求項６に記載のプラズマ・イオン源。
10. ガス圧の差が、バイアス力に逆らい打ち勝って動作している間、前記可動構造物をシールされた位置に維持する、請求項６に記載のプラズマ・イオン源。
11. 排気しているときに、前記弁を手動で移動させる必要なしに、前記バイアス力によって前記弁が開く、請求項１０に記載のプラズマ・イオン源。
12. ばねが前記バイアス力を提供する、請求項１０または請求項１１に記載のプラズマ・イオン源。
13. 前記弁がラビリンス・シールを含む、請求項１０から１２のいずれかに記載のプラズマ・イオン源。
14. 前記プラズマ室を排気しているときに、前記弁を自動的に開くバイアス手段をさらに備える、請求項１に記載のプラズマ・イオン源。
15. プラズマ・イオン源システムから処理ガスを排出する方法であって、
    排気可能なプラズマ室、
    流量絞りを含むガス入口であり、前記プラズマ室にガスを供給するガス入口、
    そこを通して前記プラズマ室からイオンが引き出されるアパーチャ、および
    前記プラズマ室からの選択的な開閉式ガス通路であり、前記流量絞りおよび前記アパーチャ以外を通るガス通路
    を有するプラズマ・イオン源システムを提供するステップと、
    第１のガス源から前記プラズマ室内へ処理ガスを供給するステップと、
    前記プラズマ室内でプラズマに点火するステップと、
    源電極の前記アパーチャを通して前記プラズマ室からイオンを引き出すステップと、
    前記プラズマ室内の前記プラズマを消火するステップと、
    前記開閉式ガス通路を開くステップと、
    前記開閉式通路を通して前記プラズマから前記ガスをポンピングするステップと
    を含む方法。
16. 前記開閉式通路を通して前記プラズマ室をポンピングする前記ステップの後に、
    前記開閉式通路を閉じるステップと、
    流量絞りを含む前記ガス入口を通して前記プラズマ室内へ第２の処理ガスを供給するステップと、
    前記プラズマ室内でプラズマに点火するステップと
    をさらに含む、請求項１５に記載の方法。
17. 前記開閉式ガス通路を開く前記ステップが、前記源アパーチャの穴を露出させるステップを含む、請求項１５または請求項１６に記載の方法。
18. 前記開閉式ガス通路を開く前記ステップが、前記ガス入口を移動させて通路のシールを解除するステップを含む、請求項１５または請求項１６に記載の方法。
19. 前記開閉式ガス通路を開く前記ステップが、前記ガス供給管路を通してガスを排出しているときに、前記ガス入口を自動的に開いて通路のシールを解除するステップを含む、請求項１８に記載の方法。