JP2012511428A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012511428A5 JP2012511428A5 JP2011540856A JP2011540856A JP2012511428A5 JP 2012511428 A5 JP2012511428 A5 JP 2012511428A5 JP 2011540856 A JP2011540856 A JP 2011540856A JP 2011540856 A JP2011540856 A JP 2011540856A JP 2012511428 A5 JP2012511428 A5 JP 2012511428A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fabric
- slurry
- less
- particles
- particle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 45
- 239000004744 fabric Substances 0.000 claims description 36
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims description 30
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 14
- 229920005594 polymer fiber Polymers 0.000 claims description 9
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 7
- 210000000538 Tail Anatomy 0.000 claims description 6
- 230000000717 retained Effects 0.000 claims description 4
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- 238000003490 calendering Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000003466 anti-cipated Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000001523 electrospinning Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
Description
本明細書で関与している教示から逸脱することなく本発明に一定の変更を加えてよいということが予想されることから、以上の記述中に含まれている全ての事柄は、限定的な意味で解釈されるのではなく一例として解釈されるものとする。
次に、本発明の好ましい態様を示す。
1 スラリー中により小さい粒子を残留させながらスラリーの粒度分布の高粒度テールを除去するための方法において、
(i) 第1および第2の側面を有し、ファブリックの少なくとも1枚のシートで形成されており、前記ファブリックが1000nm未満の平均数平均繊維径を有するポリマー繊維を含む少なくとも1つの層を含んでいる濾材を提供するステップと;
(ii) 前記濾材の前記第1の側面に対して、0.1ミクロン未満の最大寸法を有する第1の粒子セットと0.45ミクロン超の最大個別寸法を有するより大きい粒子の第2のセットとを含む多数の粒度を有するスラリー流を供給するステップと;
(iii) 前記濾材を通してその前記第2の側面までスラリー流を通過させ、こうして前記スラリー中の前記より大きい粒子の少なくとも一部分が前記濾材の前記第1の側面上に保持されるステップと、
を含み、
前記第1の粒子セットに対する前記ファブリックの濾過効率が0.05未満であり、前記第2の粒子セットに対する濾過効率が0.8超である、方法。
2 前記ポリマー繊維がナノウェブを形成する、上記1に記載の方法。
3 前記ポリマー繊維が、エレクトロスピニング法、エレクトロブロー法、スパンボンディング法およびメルトブロー法からなる群から選択されたプロセスによって製造される、上記1に記載の方法。
4 前記粒子が、セラミクス、金属または金属酸化物材料またはそれらの混合物からなる群から選択された材料を含む、上記1に記載の方法。
5 ステップ(i)の前記ファブリックの厚み寸法が約150〜200μmである、上記1に記載の方法。
6 ステップ(a)の前記ファブリックの前記ポリマー繊維が150nm〜600nmの数平均繊維径を有する、上記1に記載の方法。
7 ステップ(i)の前記ファブリックが、前記ファブリックのカレンダ加工の前の第1の細孔サイズに比べて約20〜50%だけ前記ファブリックの細孔サイズを削減するのに有効な形でカレンダ加工されている、上記1に記載の方法。
8 ステップ(i)の前記ファブリックの前記細孔サイズが約0.5〜10μmである、上記1に記載の方法。
9 スラリー中により小さい粒子を残留させながらスラリーの粒度分布の高粒度テールを除去するための方法において、
(i) 第1および第2の側面を有し、ファブリックの厚み寸法をその間で画定する第1および第2の表面を有する前記ファブリックの少なくとも1枚のシートで形成されており、前記ファブリックが1000nm未満の平均数平均繊維径を有するポリマー繊維を含む少なくとも1つの層を含んでいる濾材を提供するステップと;
(ii) 前記濾材の前記第1の側面に対して、0.2ミクロン未満の最大寸法を有する第1の粒子セットと0.45ミクロン超の最大個別寸法を有するより大きい粒子の第2のセットとを含む多数の粒度を有するスラリー流を供給するステップと;
(iii) 前記濾材を通してその前記第2の側面までスラリー流を通過させ、こうして前記スラリー中の前記より大きい粒子の少なくとも一部分が前記濾材の前記第1の側面上に保持されるステップと;
(iv) 前記ファブリックを横断する圧力降下が415kPaである場合にファブリックを通るスラリー流を停止させるステップと;
(v) 背圧が約3kPa未満で持続時間が300秒未満である前記スラリー流とは反対の方向に、前記ファブリックを横断する前記流体背圧を適用するステップと;
(vi) 当初の方向での前記ファブリックを通る前記スラリー流を再開させるステップと、
を含み、
前記第1の粒子セットに対する前記ファブリックの濾過効率が0.01未満であり、前記第2の粒子セットに対する濾過効率が0.8超であり、ステップ(vi)の後の前記ファブリックを横断する圧力降下が、ステップ(iii)で前記流れが開始したときの圧力降下より25%以下の割合しか高くならない、方法。
10 第1および第2の側面を有し、ファブリックの少なくとも1枚のシートで形成されており、前記ファブリックが1000nm未満の平均数平均繊維径を有するポリマー繊維を含む少なくとも1つの層を含んでいる濾材を含む、スラリー中により小さい粒子を残留させながらスラリーから大粒度テールを除去するための装置において、0.1ミクロン未満の最大寸法を有する第1の粒子セットに対する前記ファブリックの濾過効率が0.05未満であり、0.45ミクロン超の最大個別寸法を有するより大きい粒子の第2のセットに対する濾過効率が0.8超である、装置。
次に、本発明の好ましい態様を示す。
1 スラリー中により小さい粒子を残留させながらスラリーの粒度分布の高粒度テールを除去するための方法において、
(i) 第1および第2の側面を有し、ファブリックの少なくとも1枚のシートで形成されており、前記ファブリックが1000nm未満の平均数平均繊維径を有するポリマー繊維を含む少なくとも1つの層を含んでいる濾材を提供するステップと;
(ii) 前記濾材の前記第1の側面に対して、0.1ミクロン未満の最大寸法を有する第1の粒子セットと0.45ミクロン超の最大個別寸法を有するより大きい粒子の第2のセットとを含む多数の粒度を有するスラリー流を供給するステップと;
(iii) 前記濾材を通してその前記第2の側面までスラリー流を通過させ、こうして前記スラリー中の前記より大きい粒子の少なくとも一部分が前記濾材の前記第1の側面上に保持されるステップと、
を含み、
前記第1の粒子セットに対する前記ファブリックの濾過効率が0.05未満であり、前記第2の粒子セットに対する濾過効率が0.8超である、方法。
2 前記ポリマー繊維がナノウェブを形成する、上記1に記載の方法。
3 前記ポリマー繊維が、エレクトロスピニング法、エレクトロブロー法、スパンボンディング法およびメルトブロー法からなる群から選択されたプロセスによって製造される、上記1に記載の方法。
4 前記粒子が、セラミクス、金属または金属酸化物材料またはそれらの混合物からなる群から選択された材料を含む、上記1に記載の方法。
5 ステップ(i)の前記ファブリックの厚み寸法が約150〜200μmである、上記1に記載の方法。
6 ステップ(a)の前記ファブリックの前記ポリマー繊維が150nm〜600nmの数平均繊維径を有する、上記1に記載の方法。
7 ステップ(i)の前記ファブリックが、前記ファブリックのカレンダ加工の前の第1の細孔サイズに比べて約20〜50%だけ前記ファブリックの細孔サイズを削減するのに有効な形でカレンダ加工されている、上記1に記載の方法。
8 ステップ(i)の前記ファブリックの前記細孔サイズが約0.5〜10μmである、上記1に記載の方法。
9 スラリー中により小さい粒子を残留させながらスラリーの粒度分布の高粒度テールを除去するための方法において、
(i) 第1および第2の側面を有し、ファブリックの厚み寸法をその間で画定する第1および第2の表面を有する前記ファブリックの少なくとも1枚のシートで形成されており、前記ファブリックが1000nm未満の平均数平均繊維径を有するポリマー繊維を含む少なくとも1つの層を含んでいる濾材を提供するステップと;
(ii) 前記濾材の前記第1の側面に対して、0.2ミクロン未満の最大寸法を有する第1の粒子セットと0.45ミクロン超の最大個別寸法を有するより大きい粒子の第2のセットとを含む多数の粒度を有するスラリー流を供給するステップと;
(iii) 前記濾材を通してその前記第2の側面までスラリー流を通過させ、こうして前記スラリー中の前記より大きい粒子の少なくとも一部分が前記濾材の前記第1の側面上に保持されるステップと;
(iv) 前記ファブリックを横断する圧力降下が415kPaである場合にファブリックを通るスラリー流を停止させるステップと;
(v) 背圧が約3kPa未満で持続時間が300秒未満である前記スラリー流とは反対の方向に、前記ファブリックを横断する前記流体背圧を適用するステップと;
(vi) 当初の方向での前記ファブリックを通る前記スラリー流を再開させるステップと、
を含み、
前記第1の粒子セットに対する前記ファブリックの濾過効率が0.01未満であり、前記第2の粒子セットに対する濾過効率が0.8超であり、ステップ(vi)の後の前記ファブリックを横断する圧力降下が、ステップ(iii)で前記流れが開始したときの圧力降下より25%以下の割合しか高くならない、方法。
10 第1および第2の側面を有し、ファブリックの少なくとも1枚のシートで形成されており、前記ファブリックが1000nm未満の平均数平均繊維径を有するポリマー繊維を含む少なくとも1つの層を含んでいる濾材を含む、スラリー中により小さい粒子を残留させながらスラリーから大粒度テールを除去するための装置において、0.1ミクロン未満の最大寸法を有する第1の粒子セットに対する前記ファブリックの濾過効率が0.05未満であり、0.45ミクロン超の最大個別寸法を有するより大きい粒子の第2のセットに対する濾過効率が0.8超である、装置。
Claims (3)
- スラリー中により小さい粒子を残留させながらスラリーの粒度分布の高粒度テールを除去するための方法において、
(i) 第1および第2の側面を有し、ファブリックの少なくとも1枚のシートで形成されており、前記ファブリックが1000nm未満の平均数平均繊維径を有するポリマー繊維を含む少なくとも1つの層を含んでいる濾材を提供するステップと;
(ii) 前記濾材の前記第1の側面に対して、0.1ミクロン未満の最大寸法を有する第1の粒子セットと0.45ミクロン超の最大個別寸法を有するより大きい粒子の第2のセットとを含む多数の粒度を有するスラリー流を供給するステップと;
(iii) 前記濾材を通してその前記第2の側面までスラリー流を通過させ、こうして前記スラリー中の前記より大きい粒子の少なくとも一部分が前記濾材の前記第1の側面上に保持されるステップと、
を含み、
前記第1の粒子セットに対する前記ファブリックの濾過効率が0.05未満であり、前記第2の粒子セットに対する濾過効率が0.8超である、方法。 - スラリー中により小さい粒子を残留させながらスラリーの粒度分布の高粒度テールを除去するための方法において、
(i) 第1および第2の側面を有し、ファブリックの厚み寸法をその間で画定する第1および第2の表面を有する前記ファブリックの少なくとも1枚のシートで形成されており、前記ファブリックが1000nm未満の平均数平均繊維径を有するポリマー繊維を含む少なくとも1つの層を含んでいる濾材を提供するステップと;
(ii) 前記濾材の前記第1の側面に対して、0.2ミクロン未満の最大寸法を有する第1の粒子セットと0.45ミクロン超の最大個別寸法を有するより大きい粒子の第2のセットとを含む多数の粒度を有するスラリー流を供給するステップと;
(iii) 前記濾材を通してその前記第2の側面までスラリー流を通過させ、こうして前記スラリー中の前記より大きい粒子の少なくとも一部分が前記濾材の前記第1の側面上に保持されるステップと;
(iv) 前記ファブリックを横断する圧力降下が415kPaである場合にファブリックを通るスラリー流を停止させるステップと;
(v) 背圧が約3kPa未満で持続時間が300秒未満である前記スラリー流とは反対の方向に、前記ファブリックを横断する前記流体背圧を適用するステップと;
(vi) 当初の方向での前記ファブリックを通る前記スラリー流を再開させるステップと、
を含み、
前記第1の粒子セットに対する前記ファブリックの濾過効率が0.01未満であり、前記第2の粒子セットに対する濾過効率が0.8超であり、ステップ(vi)の後の前記ファブリックを横断する圧力降下が、ステップ(iii)で前記流れが開始したときの圧力降下より25%以下の割合しか高くならない、方法。 - 第1および第2の側面を有し、ファブリックの少なくとも1枚のシートで形成されており、前記ファブリックが1000nm未満の平均数平均繊維径を有するポリマー繊維を含む少なくとも1つの層を含んでいる濾材を含む、スラリー中により小さい粒子を残留させながらスラリーから大粒度テールを除去するための装置において、0.1ミクロン未満の最大寸法を有する第1の粒子セットに対する前記ファブリックの濾過効率が0.05未満であり、0.45ミクロン超の最大個別寸法を有するより大きい粒子の第2のセットに対する濾過効率が0.8超である、装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US12099508P | 2008-12-09 | 2008-12-09 | |
US61/120,995 | 2008-12-09 | ||
PCT/US2009/067272 WO2010077718A2 (en) | 2008-12-09 | 2009-12-09 | Filters for selective removal of large particles from particle slurries |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012511428A JP2012511428A (ja) | 2012-05-24 |
JP2012511428A5 true JP2012511428A5 (ja) | 2013-01-31 |
JP5661642B2 JP5661642B2 (ja) | 2015-01-28 |
Family
ID=42260309
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011540856A Active JP5661642B2 (ja) | 2008-12-09 | 2009-12-09 | 粒子スラリーから大型粒子を選択的に除去するためのフィルタ |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100200519A1 (ja) |
EP (1) | EP2355915B1 (ja) |
JP (1) | JP5661642B2 (ja) |
KR (1) | KR20110104007A (ja) |
CN (2) | CN104107589B (ja) |
BR (1) | BRPI0916466A2 (ja) |
WO (1) | WO2010077718A2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5470276B2 (ja) * | 2009-01-16 | 2014-04-16 | 藤森工業株式会社 | 防食方法および防食構造 |
JP2012095520A (ja) * | 2010-10-01 | 2012-05-17 | Canon Inc | アクチュエータ |
SI2959509T1 (sl) | 2013-02-14 | 2018-11-30 | Nanopareil, Llc | Polst iz elektropredenih hibridnih nanovlaken, postopek za izdelavo le-te in postopek čiščenja biomolekul |
CN108507814A (zh) * | 2018-03-06 | 2018-09-07 | 冯悦然 | 一种碎屑的取样及运输方法 |
WO2019173752A1 (en) * | 2018-03-08 | 2019-09-12 | Repligen Corporation | Tangential flow depth filtration systems and methods of filtration using same |
CN112165983A (zh) | 2018-05-25 | 2021-01-01 | 瑞普利金公司 | 切向流过滤系统和方法 |
US20210114170A1 (en) * | 2019-10-22 | 2021-04-22 | Xia Tai Xin Semiconductor (Qing Dao) Ltd. | Container for storing slurry having fumed silica particles and cmp apparatus having the same |
Family Cites Families (59)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7007A (en) * | 1850-01-08 | Improvement in machinery for making cotton cordage | ||
US3852134A (en) * | 1969-05-05 | 1974-12-03 | Gen Electric | Method for forming selectively perforate bodies |
GB1522605A (en) | 1974-09-26 | 1978-08-23 | Ici Ltd | Preparation of fibrous sheet product |
US4056476A (en) | 1975-02-27 | 1977-11-01 | Johnson & Johnson | Blood filter media |
US4104170A (en) | 1975-08-28 | 1978-08-01 | Met-Pro Corporation | Liquid filter having improved extended polypropylene element |
US4025679A (en) | 1976-08-06 | 1977-05-24 | W. L. Gore & Associates, Inc. | Fibrillated polytetrafluoroethylene woven filter fabric |
US4225642A (en) | 1976-12-08 | 1980-09-30 | Teijin Limited | Raised and fused fabric filter and process for producing the same |
JPS6058208A (ja) | 1983-09-09 | 1985-04-04 | Kurabo Ind Ltd | フイルタ−エレメントとその製法 |
DE3445291C1 (de) | 1984-12-12 | 1986-04-30 | Gesellschaft für Schwerionenforschung mbH, 6100 Darmstadt | Verfahren zum Trennen von gas- bzw. dampffoermigen oder fluessigen Stoffgemischen voneinander mittels Diffusion durch Membranen |
JPS61222506A (ja) * | 1985-03-29 | 1986-10-03 | Japan Vilene Co Ltd | 半透膜支持体及びその製造方法 |
US4795559A (en) | 1985-03-29 | 1989-01-03 | Firma Carl Freudenberg | Semipermeable membrane support |
US4836934A (en) * | 1986-02-26 | 1989-06-06 | General Signal Corporation | System for removing liquid from slurries of liquid and particulate material |
CA1311886C (en) | 1986-06-12 | 1992-12-29 | Satoshi Nagou | Microporous film and process for production thereof |
US4863604A (en) * | 1987-02-05 | 1989-09-05 | Parker-Hannifin Corporation | Microporous asymmetric polyfluorocarbon membranes |
US5084071A (en) * | 1989-03-07 | 1992-01-28 | International Business Machines Corporation | Method of chemical-mechanical polishing an electronic component substrate and polishing slurry therefor |
US4954142A (en) | 1989-03-07 | 1990-09-04 | International Business Machines Corporation | Method of chemical-mechanical polishing an electronic component substrate and polishing slurry therefor |
CA1278533C (en) | 1989-08-22 | 1991-01-02 | E. Lee Noddin | Polyimide composite filter fabrics |
US5154827A (en) | 1990-01-22 | 1992-10-13 | Parker-Nannifin Corporation | Laminated microporous fluorocarbon membrane and fluorocarbon filter cartridge using same |
JP2581994B2 (ja) | 1990-07-02 | 1997-02-19 | チッソ株式会社 | 高精密カートリッジフィルターおよびその製造方法 |
US5449917A (en) | 1992-02-06 | 1995-09-12 | Costar Corporation | Method and apparatus for forming a plurality of tracks in a flexible workpiece with a high energy particle |
US5314843A (en) | 1992-03-27 | 1994-05-24 | Micron Technology, Inc. | Integrated circuit polishing method |
US5264010A (en) * | 1992-04-27 | 1993-11-23 | Rodel, Inc. | Compositions and methods for polishing and planarizing surfaces |
US5209816A (en) * | 1992-06-04 | 1993-05-11 | Micron Technology, Inc. | Method of chemical mechanical polishing aluminum containing metal layers and slurry for chemical mechanical polishing |
JP2655975B2 (ja) | 1992-09-18 | 1997-09-24 | 三菱マテリアル株式会社 | ウェーハ研磨装置 |
GB9220975D0 (en) * | 1992-10-06 | 1992-11-18 | Air Prod & Chem | Apparatus for supplying high purity gas |
US5232875A (en) | 1992-10-15 | 1993-08-03 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for improving planarity of chemical-mechanical planarization operations |
US5543047A (en) | 1992-11-06 | 1996-08-06 | Pall Corporation | Filter with over-laid pleats in intimate contact |
US5607718A (en) * | 1993-03-26 | 1997-03-04 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Polishing method and polishing apparatus |
US5318927A (en) | 1993-04-29 | 1994-06-07 | Micron Semiconductor, Inc. | Methods of chemical-mechanical polishing insulating inorganic metal oxide materials |
US5407526A (en) * | 1993-06-30 | 1995-04-18 | Intel Corporation | Chemical mechanical polishing slurry delivery and mixing system |
JP2531486B2 (ja) * | 1993-06-30 | 1996-09-04 | 旭化成工業株式会社 | 無機質粒子が分散した排液を処理する濾材 |
US5395801A (en) * | 1993-09-29 | 1995-03-07 | Micron Semiconductor, Inc. | Chemical-mechanical polishing processes of planarizing insulating layers |
JPH07116427A (ja) | 1993-10-21 | 1995-05-09 | Tonen Chem Corp | フィルター用不織布及びその製造方法 |
US5340370A (en) * | 1993-11-03 | 1994-08-23 | Intel Corporation | Slurries for chemical mechanical polishing |
JPH07197363A (ja) * | 1993-11-26 | 1995-08-01 | Toyobo Co Ltd | 極細繊維不織布およびその製造方法 |
US5643053A (en) | 1993-12-27 | 1997-07-01 | Applied Materials, Inc. | Chemical mechanical polishing apparatus with improved polishing control |
US5650039A (en) * | 1994-03-02 | 1997-07-22 | Applied Materials, Inc. | Chemical mechanical polishing apparatus with improved slurry distribution |
US5607341A (en) * | 1994-08-08 | 1997-03-04 | Leach; Michael A. | Method and structure for polishing a wafer during manufacture of integrated circuits |
US5597443A (en) | 1994-08-31 | 1997-01-28 | Texas Instruments Incorporated | Method and system for chemical mechanical polishing of semiconductor wafer |
US5655954A (en) | 1994-11-29 | 1997-08-12 | Toshiba Kikai Kabushiki Kaisha | Polishing apparatus |
US5637185A (en) | 1995-03-30 | 1997-06-10 | Rensselaer Polytechnic Institute | Systems for performing chemical mechanical planarization and process for conducting same |
US5665201A (en) | 1995-06-06 | 1997-09-09 | Advanced Micro Devices, Inc. | High removal rate chemical-mechanical polishing |
JP3311203B2 (ja) | 1995-06-13 | 2002-08-05 | 株式会社東芝 | 半導体装置の製造方法及び半導体製造装置、半導体ウェーハの化学的機械的ポリッシング方法 |
US5658185A (en) * | 1995-10-25 | 1997-08-19 | International Business Machines Corporation | Chemical-mechanical polishing apparatus with slurry removal system and method |
US5709593A (en) * | 1995-10-27 | 1998-01-20 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for distribution of slurry in a chemical mechanical polishing system |
US5700383A (en) | 1995-12-21 | 1997-12-23 | Intel Corporation | Slurries and methods for chemical mechanical polish of aluminum and titanium aluminide |
US5645682A (en) * | 1996-05-28 | 1997-07-08 | Micron Technology, Inc. | Apparatus and method for conditioning a planarizing substrate used in chemical-mechanical planarization of semiconductor wafers |
KR100202659B1 (ko) | 1996-07-09 | 1999-06-15 | 구본준 | 반도체웨이퍼의 기계화학적 연마장치 |
US5705435A (en) | 1996-08-09 | 1998-01-06 | Industrial Technology Research Institute | Chemical-mechanical polishing (CMP) apparatus |
US6015499A (en) * | 1998-04-17 | 2000-01-18 | Parker-Hannifin Corporation | Membrane-like filter element for chemical mechanical polishing slurries |
US6260709B1 (en) * | 1998-11-09 | 2001-07-17 | Parker-Hannifin Corporation | Membrane filter element for chemical-mechanical polishing slurries |
US20070017879A1 (en) * | 1998-12-03 | 2007-01-25 | Stephen Proulx | Filtration cartridge and process for filtering a slurry |
JP2003509186A (ja) * | 1999-09-17 | 2003-03-11 | マイクロリス・コーポレイシヨン | スラリーを濾過するためのフィルタカートリッジ |
US6746517B2 (en) * | 2000-09-05 | 2004-06-08 | Donaldson Company, Inc. | Filter structure with two or more layers of fine fiber having extended useful service life |
TW522038B (en) * | 2001-05-03 | 2003-03-01 | Mykrolis Corp | Process for regenerating a filtration cartridge for filtering a slurry |
KR100549140B1 (ko) | 2002-03-26 | 2006-02-03 | 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 | 일렉트로-브로운 방사법에 의한 초극세 나노섬유 웹제조방법 |
US7235122B2 (en) * | 2004-11-08 | 2007-06-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Filtration media for filtering particulate material from gas streams |
US8689985B2 (en) * | 2005-09-30 | 2014-04-08 | E I Du Pont De Nemours And Company | Filtration media for liquid filtration |
EP2364196B1 (en) * | 2008-12-05 | 2013-03-20 | E. I. du Pont de Nemours and Company | Filter media with nanoweb layer |
-
2009
- 2009-12-09 CN CN201410347222.0A patent/CN104107589B/zh active Active
- 2009-12-09 WO PCT/US2009/067272 patent/WO2010077718A2/en active Application Filing
- 2009-12-09 US US12/633,825 patent/US20100200519A1/en not_active Abandoned
- 2009-12-09 JP JP2011540856A patent/JP5661642B2/ja active Active
- 2009-12-09 CN CN200980149648.2A patent/CN102271782B/zh active Active
- 2009-12-09 EP EP09768579.6A patent/EP2355915B1/en active Active
- 2009-12-09 KR KR1020117015799A patent/KR20110104007A/ko active Search and Examination
- 2009-12-09 BR BRPI0916466A patent/BRPI0916466A2/pt not_active IP Right Cessation
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2012511428A5 (ja) | ||
JP2011504138A5 (ja) | ||
BE1022526B1 (nl) | Coalescentiefilter | |
JP5784458B2 (ja) | エアフィルタ濾材 | |
CA2845554C (en) | Filtration media fiber structure and method of making same | |
US7754123B2 (en) | High performance filter media with internal nanofiber structure and manufacturing methodology | |
JP2012512731A5 (ja) | ||
JP2013542902A5 (ja) | ||
JP2013521105A5 (ja) | ||
JP2008518780A (ja) | ガス流から粒子状物質を濾過する濾過媒体 | |
JP6138812B2 (ja) | フィルター材料 | |
JP2011501703A5 (ja) | ||
JP2018525225A5 (ja) | ||
JP5966733B2 (ja) | 分離膜エレメントおよび膜モジュール | |
WO2010077718A3 (en) | Filters for selective removal of large particles from particle slurries | |
JP6158061B2 (ja) | エアフィルタ用濾材 | |
JP2010125404A (ja) | 液体用フィルタ | |
TW201815452A (zh) | 具有複數有機及/或無機材料之深度過濾媒介 | |
US9993761B2 (en) | Filtration media fiber structure and method of making same | |
TW201119726A (en) | Filter structure and method for filtrating | |
JP2007301481A (ja) | オイル含浸濾過材 | |
JP2010137121A (ja) | 高耐差圧性能とゲル状異物除去性能を有するフィルター | |
JP2006334511A (ja) | エアフィルタ | |
KR101377477B1 (ko) | 절곡형 심층필터 | |
JP2005246162A (ja) | 濾過材および濾過方法 |