JP2012254588A - ハニカム構造体封口用マスクの洗浄方法及び洗浄装置、並びに、ハニカムフィルタの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】ハニカム構造体封口用マスクを良好に洗浄することが可能な洗浄方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る洗浄方法は、上面１ａから下面１ｂにかけて厚さ方向Ｄ１に貫通している複数の貫通孔５を有するマスク１の洗浄方法であって、マスク１を厚さ方向Ｄ１に直交する搬送方向Ｄ２に搬送する工程と、搬送されるマスク１の上面１ａ及び下面１ｂに対し、厚さ方向Ｄ１に対して搬送方向Ｄ２の上流側に傾斜する方向Ｄ６に洗浄液３４を供給する洗浄工程と、を備える。
【選択図】図８

Description

本発明は、ハニカム構造体封口用マスクの洗浄方法及び洗浄装置、並びに、ハニカムフィルタの製造方法に関する。

従来、ハニカムフィルタは、ＤＰＦ（Diesel particulate filter）等に用いられることが知られている。ハニカムフィルタは、多数の貫通孔を有するハニカム構造体の一部の貫通孔の一端側を封口材で封じると共に、残りの貫通孔の他端側を封口材で封じた構造を有する。

ハニカム構造体の一端側の所望の貫通孔のみを封口材により封じるに際しては、ハニカム構造体の封口すべき貫通孔に対応する箇所に貫通孔が設けられた封口用マスクが使用される。下記特許文献１，２には、封口用マスクを用いてハニカム構造体を封口する方法が記載されている。

特開２００４−２９０７６６号公報 特開２００８−１３２７４９号公報

ところで、封口工程で使用された封口用マスクは、当該マスクを繰り返し使用する観点から、マスクに付着した異物（封口工程においてマスクに残存した封口材や、空気中のダスト等）を除去するために洗浄される。しかしながら、従来の封口用マスクの洗浄方法では、異物を充分に除去することが困難であり、封口用マスクを良好に洗浄することが困難である。そのため、封口用マスクの洗浄方法に対しては、従来に比してマスクを良好に洗浄することが求められている。

本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、一方の主面から他方の主面にかけて厚さ方向に貫通している複数の貫通孔を有するハニカム構造体封口用マスクを良好に洗浄することが可能な洗浄方法及び洗浄装置を提供することを目的とする。また、本発明は、このような洗浄方法により洗浄されたマスクを用いるハニカムフィルタの製造方法を提供することを目的とする。

本発明に係る洗浄方法は、一方の主面から他方の主面にかけて厚さ方向に貫通している複数の貫通孔を有するハニカム構造体封口用マスクの洗浄方法であって、マスクを厚さ方向に直交する方向に搬送する工程と、搬送されるマスクの一方の主面又は他方の主面の少なくとも一方に対し、マスクの厚さ方向に対してマスクの搬送方向の上流側に傾斜する方向に洗浄液を供給する洗浄工程と、を備える。

本発明に係る洗浄方法では、洗浄工程において、厚さ方向に直交する方向に搬送されるマスクの主面に対し、マスクの厚さ方向に対してマスクの搬送方向の上流側に傾斜する方向に洗浄液を供給する。これにより、異物が洗浄液によって搬送方向の上流側に排除され易くなり、マスクの主面における搬送方向の下流側の領域に、マスクを搬送するに伴い異物が残存することを抑制することができる。したがって、本発明に係る洗浄方法では、マスクに付着した異物を充分に除去することが可能であり、マスクを良好に洗浄することができる。

本発明に係る洗浄方法では、洗浄工程において一方の主面及び他方の主面のそれぞれに洗浄液を供給することが好ましい。この場合、マスクを更に良好に洗浄することができる。

一方の主面における洗浄液の供給位置と他方の主面における洗浄液の供給位置とは、マスクの厚さ方向に互いに対向していてもよく、マスクの搬送方向において互いに離間していてもよい。

洗浄液を供給する方向の傾斜角度は、マスクの厚さ方向に対して１０〜４５°であることが好ましい。この場合、マスクを更に良好に洗浄することができる。

本発明に係る洗浄方法は、洗浄工程の前に、上記搬送されるマスクの一方の主面又は他方の主面の少なくとも一方に対して貫通孔の軸方向に洗浄液を供給する工程を更に備えることが好ましい。この場合、マスクを更に良好に洗浄することができる。

本発明に係るハニカムフィルタの製造方法は、上記洗浄方法によりマスクを洗浄する工程と、洗浄されたマスクを介してハニカム構造体の一部の貫通孔に封口材を供給する工程と、を備える。本発明に係るハニカムフィルタの製造方法では、上記洗浄方法により異物が充分に除去されたマスクを介してハニカム構造体の貫通孔に封口材を供給することができるため、所望の貫通孔が確実に封口されたハニカムフィルタを容易に得ることができる。

本発明に係る洗浄装置は、一方の主面から他方の主面にかけて厚さ方向に貫通している複数の貫通孔を有するハニカム構造体封口用マスクの洗浄装置であって、マスクを厚さ方向に直交する方向に搬送する搬送手段と、搬送されるマスクの一方の主面又は他方の主面の少なくとも一方に対し、マスクの厚さ方向に対してマスクの搬送方向の上流側に傾斜する方向に洗浄液を供給する供給手段と、を備える。

本発明に係る洗浄装置では、厚さ方向に直交する方向に搬送手段により搬送されるマスクの主面に対し、マスクの厚さ方向に対してマスクの搬送方向の上流側に傾斜する方向に洗浄液を供給手段により供給することができる。これにより、異物が洗浄液によって搬送方向の上流側に排除され易くなり、マスクの主面における搬送方向の下流側の領域に、マスクを搬送するに伴い異物が残存することを抑制することができる。したがって、本発明に係る洗浄装置では、マスクに付着した異物を充分に除去することが可能であり、マスクを良好に洗浄することができる。

本発明に係る洗浄方法及び洗浄装置によれば、一方の主面から他方の主面にかけて厚さ方向に貫通している複数の貫通孔を有するハニカム構造体封口用マスクに付着した異物を充分に除去して清浄度を向上させることが可能であり、ハニカム構造体封口用マスクを良好に洗浄することができる。また、本発明に係る洗浄方法及び洗浄装置によれば、ハニカム構造体封口用マスクの洗浄効率を向上させることが可能であり、洗浄時間を短縮することもできる。本発明に係るハニカムフィルタの製造方法によれば、このような洗浄方法により洗浄されたマスクを用いることにより、所望の貫通孔が確実に封口されたハニカムフィルタを容易に得ることができる。

本発明の一実施形態に係るハニカムフィルタの製造方法で製造されるハニカムフィルタを示す図面である。 本発明の一実施形態に係るハニカムフィルタの製造方法のフローチャートを示す図面である。 本発明の一実施形態に係る洗浄方法により洗浄されるマスクを示す図面である。 本発明の一実施形態に係る洗浄装置を示す図面である。 本発明の一実施形態に係る洗浄方法の一工程を示す図面である。 本発明の一実施形態に係る洗浄方法の一工程を示す図面である。 本発明の一実施形態に係る洗浄方法の一工程を示す図面である。 本発明の一実施形態に係る洗浄方法の一工程を示す図面である。 本発明の一実施形態に係る洗浄方法の一工程を示す図面である。

以下、図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、寸法の比率は図面に示すものに限定されない。

（ハニカムフィルタ）
図１は、本実施形態に係るハニカムフィルタの製造方法で製造されるハニカムフィルタを示す図面である。ハニカムフィルタ１００は、例えばＤＰＦとして用いることができる。

ハニカムフィルタ１００は、図１に示すように、互いに平行に配置された複数の流路１１０ａ，１１０ｂを有する円柱体である。流路１１０ａ，１１０ｂは、ハニカムフィルタ１００の中心軸に平行に延びる隔壁１１２により仕切られている。流路１１０ａの一端は、ハニカムフィルタ１００の一端面１００ａにおいて封口部１１４により封口されており、流路１１０ａの他端は、ハニカムフィルタ１００の他端面１００ｂにおいてガス流出口として開口している。一方、流路１１０ｂの一端は、一端面１００ａにおいてガス流入口として開口しており、流路１１０ｂの他端は、他端面１００ｂにおいて封口部１１４により封口されている。

ハニカムフィルタ１００では、流路１１０ａと流路１１０ｂとが交互に配置されて格子構造が形成されている。流路１１０ａ，１１０ｂは、ハニカムフィルタ１００の両端面１００ａ，１００ｂに垂直であり、一方の端面側から見て正方形配置、すなわち、流路１１０ａ，１１０ｂの中心軸が、正方形の頂点にそれぞれ位置するように配置されている。流路１１０ａ，１１０ｂの断面形状は、例えば略正方形である。

ハニカムフィルタ１００が円柱体である場合、流路１１０ａ，１１０ｂの長手方向におけるハニカムフィルタ１００の長さは、例えば４０〜３５０ｍｍであり、ハニカムフィルタ１００の外径は、例えば１００〜３２０ｍｍである。また、流路１１０ａ，１１０ｂの長手方向に垂直な断面の内径（断面形状が略正方形の場合は一辺の長さ）は、例えば０．８〜２．５ｍｍである。隔壁１１２の厚みは、例えば０．０５〜０．５ｍｍである。

隔壁１１２は、多孔性セラミクス（焼成体）から形成されている。セラミクスとしては、例えばアルミナ、シリカ、ムライト、コーディエライト、ガラス、チタン酸アルミニウム等の酸化物、シリコンカーバイド、窒化珪素、金属等が挙げられる。なお、チタン酸アルミニウムは、マグネシウム及び／又はケイ素を含むことができる。封口部１１４の材質は、隔壁１１２と同様の材質とすることができる。

なお、上記実施形態では、流路１１０ａ，１１０ｂの断面形状が略正方形であるがこれに限定されず、矩形、円形、楕円形、３角形、６角形、８角形等であってもよい。また、流路１１０ａ，１１０ｂには、径の異なるもの、断面形状の異なるものが混在していてもよい。また、流路の配置は、図１では正方形配置であるが、これに限定されず、断面において流路の中心軸が正三角形の頂点に配置される正三角形配置、千鳥配置等であってもよい。さらに、ハニカムフィルタ１００は、円柱体に限られず、３角柱、４角柱、６角柱、８角柱等であってもよい。

ハニカムフィルタ１００は、図１（ｂ）に示すように、一端面１００ａから流路１１０ｂに供給されたガスＧが隔壁１１２を通過して隣の流路１１０ａに到達し、他端面１００ｂから排出される。このとき、ガスＧ中の粒子（例えば、ディーゼルエンジン等の内燃機関から排出される排気ガスに含まれる微細粒子（ＰＭ））が隔壁１１２によって除去されることにより、ハニカムフィルタ１００はフィルタとして機能する。

図２は、本実施形態に係るハニカムフィルタの製造方法のフローチャートを示す図面である。本実施形態に係るハニカムフィルタ１００の製造方法は、ハニカム構造体封口用マスクを洗浄する洗浄工程Ｓ１００と、ハニカム構造体を準備する準備工程Ｓ２００と、洗浄されたマスクを用いてハニカム構造体の貫通孔を封口する封口工程Ｓ３００とを備えている。

＜洗浄工程Ｓ１００＞
図３は、洗浄工程Ｓ１００において本実施形態に係る洗浄方法により洗浄されるマスクを示す図面である。マスク１は、互いに対向する上面（一方の主面）１ａ及び下面（他方の主面）１ｂを洗浄面３として有しており、例えば円板状を呈している。マスク１の直径は、例えば１５０〜５００ｍｍである。マスク１の厚さは、例えば０．１〜３．０ｍｍである。なお、マスク１の材質は特に限定されず、例えば、金属や樹脂が挙げられる。

マスク１は、上面１ａから下面１ｂにかけて厚さ方向に貫通している複数の貫通孔５を有している。貫通孔５は、ハニカム構造体において封口される貫通孔の配列と同様に配列されており、例えば千鳥状に配列されている。貫通孔５の軸方向に垂直な断面形状は、ハニカム構造体において封口される貫通孔と同様の断面形状を有しており、例えば略正方形状である。貫通孔５の内径（断面形状が略正方形の場合は一辺の長さ）は、例えば０．８〜２．５ｍｍである。

洗浄工程Ｓ１００では、封口材等の異物が付着したマスク１に対して洗浄液及び乾燥風を供給することによってマスク１から異物を除去してマスク１を洗浄する。異物は、例えば上面１ａや下面１ｂ、貫通孔５の内壁に付着している。洗浄液は、例えば水である。

洗浄工程Ｓ１００は、図２に示すように、水洗工程Ｓ１１０と乾燥工程Ｓ１２０とを備える。水洗工程Ｓ１１０は、マスク１を水洗（前処理）する第１水洗工程Ｓ１１０ａと、マスク１を水洗（本洗浄）する第２水洗工程Ｓ１１０ｂと、マスク１を水洗（後処理、リンス）する第３水洗工程Ｓ１１０ｃとをこの順に有する。

図４は、本実施形態に係る洗浄装置を示す図面であり、洗浄工程Ｓ１００で用いられる洗浄装置５０を示す図面である。なお、図４においては、マスク１における貫通孔５の図示を便宜上省略する。

洗浄装置５０は、ホイールコンベア（搬送手段）７と、第１水洗工程Ｓ１１０ａが実施される前処理部１０と、第２水洗工程Ｓ１１０ｂが実施される洗浄部２０と、第３水洗工程Ｓ１１０ｃが実施される後処理部３０と、乾燥工程Ｓ１２０が実施される乾燥部４０とを有している。洗浄装置５０においてマスク１の供給方式は、例えば枚葉式であり、単一のマスク１が順次搬送される。マスク１は、上面１ａが鉛直方向上方を向くと共に下面１ｂが鉛直方向下方を向いた状態で、ホイールコンベア７によって前処理部１０、洗浄部２０、後処理部３０及び乾燥部４０の順にマスク１の厚さ方向（鉛直方向）Ｄ１に直交する搬送方向（水平方向）Ｄ２に搬送される（搬送工程）。なお、マスク１の供給方式は、複数のマスク１を一括して搬送し同時に水洗又は乾燥するバッチ式であってもよい。洗浄装置５０では、搬送動作が連続的に行われてマスク１が連続的に搬送されてもよく、搬送動作が断続的に行われてマスク１が断続的に搬送されてもよい。

前処理部１０、洗浄部２０、後処理部３０及び乾燥部４０において、ホイールコンベア７は、厚さ方向Ｄ１に互いに対向するように、搬送されるマスク１の上面１ａ側及び下面１ｂ側のそれぞれに配置されている。前処理部１０、洗浄部２０、後処理部３０及び乾燥部４０では、図５（ａ）に示すようにマスク１がホイールコンベア７により厚さ方向Ｄ１に挟持された状態で、ホイールコンベア７によりマスク１を搬送方向Ｄ２に搬送すると共にマスク１の洗浄面３に対して洗浄液又は乾燥風を供給する。

前処理部１０、洗浄部２０、後処理部３０及び乾燥部４０におけるホイールコンベア７は、搬送方向Ｄ２に複数配列された一対のホイール７ａ，７ｂを有している。ホイール７ａ，７ｂは、例えば、回転駆動するコロ式のホイールであり、一対のホイールコンベア７において厚さ方向Ｄ１に互いに対向している。一対のホイール７ａ，７ｂは、図５（ｂ）に示すように、搬送方向Ｄ２に沿って千鳥状に配列されている。例えば、厚さ方向Ｄ１及び搬送方向Ｄ２に直交する方向（水平方向）Ｄ３に一対のホイール７ａ，７ｂが３対配列された領域と、方向Ｄ３に一対のホイール７ａ，７ｂが４対配列された領域とが搬送方向Ｄ２に沿って交互に配置されている。

前処理部１０、洗浄部２０、後処理部３０及び乾燥部４０では、隣接する貫通孔５の配列方向と搬送方向Ｄ２とが一致するようにマスク１を搬送することが好ましい。また、貫通孔５の軸方向に垂直な断面形状が矩形である場合、貫通孔５の長辺方向又は短辺方向の少なくとも一方の搬送方向Ｄ２に対する角度は、４５°であることが好ましい。これらの場合、貫通孔５の内部を更に良好に水洗及び乾燥することができる。

前処理部１０、洗浄部２０、後処理部３０及び乾燥部４０以外の領域（前処理部１０へ搬送される前の領域、乾燥部４０から搬送された後の領域）において、ホイールコンベア７は、搬送されるマスク１の下方にのみ配置されている（図４参照）。マスク１は、ホイールコンベア７上に載置されて、ホイールの回転に伴い搬送方向Ｄ２に搬送される。

本実施形態では、前処理部１０、洗浄部２０、後処理部３０及び乾燥部４０において、マスク１がホイールコンベア７により厚さ方向Ｄ１に挟持された状態で、搬送方向Ｄ２に搬送されるマスク１の洗浄面３に対して洗浄液又は乾燥風が供給されている。これにより、マスク１が洗浄液や乾燥風に押圧されてマスク１の配置位置が変動してしまうことを抑制することができる。また、本実施形態では、マスク１がホイールコンベア７により厚さ方向Ｄ１に挟持された状態でマスク１を搬送しているものの、ホイールコンベア７を構成する一対のホイール７ａ，７ｂが搬送方向Ｄ２に沿って千鳥状に配列されているため、方向Ｄ３に延びる長尺状のホイールを有するホイールコンベア等を用いる場合に比して、マスク１とホイールコンベア７との接触領域の面積を低減することができる。これにより、ホイールコンベア７に異物が付着していたとしても、マスク１を搬送している間に当該異物が、洗浄面３における洗浄された領域に対して供給されてしまうことを抑制することができる。以上のような本実施形態によれば、マスク１に付着した異物を除去し易くなり、マスク１を更に良好に洗浄することができる。

なお、ホイールコンベア７は、上記に限られるものではなく、前処理部１０、洗浄部２０、後処理部３０及び乾燥部４０において、搬送されるマスク１の下方にのみ配置されていてもよい。また、ホイールコンベア７は、前処理部１０、洗浄部２０、後処理部３０及び乾燥部４０以外の領域において、厚さ方向Ｄ１に対向する一対のコロ式のホイールが搬送方向Ｄ２に複数並列してなる形態であってもよい。さらに、ホイールコンベア７は、搬送方向Ｄ２に沿って千鳥状に配置されることに限定されるものではなく、方向Ｄ３に延びる長尺状のホイールが搬送方向Ｄ２に複数並列してなる形態であってもよい。

（第１水洗工程Ｓ１１０ａ）
第１水洗工程Ｓ１１０ａでは、異物が付着したマスク１を前処理部１０に搬送し、搬送されるマスク１に前処理を施す。前処理部１０は、図６に示すように、複数の一対のホイール７ａ，７ｂから構成されるホイールコンベア７と、一対のローラブラシ１２ａ，１２ｂと、洗浄液１４を供給する一対のスプレーノズル１６ａ，１６ｂとを有している。

ローラブラシ１２ａ，１２ｂは、厚さ方向Ｄ１に互いに対向するように一対配置されており、ローラブラシ１２ａは、マスク１の上面１ａ側に配置されており、ローラブラシ１２ｂは、マスク１の下面１ｂ側に配置されている。ローラブラシ１２ａ，１２ｂは、洗浄面３と平行かつ搬送方向Ｄ２と交差する方向に延びる軸回りに回転可能であればよく、本実施形態では、洗浄面３と平行かつ搬送方向Ｄ２と直交する方向（本実施形態では方向Ｄ３と同一方向）に延びる軸回りに回転する。ローラブラシ１２ａの回転中心である軸Ａ１と、ローラブラシ１２ｂの回転中心である軸Ａ２とは、互いに平行に方向Ｄ３に延びている。ローラブラシ１２ａ，１２ｂは、マスク１を洗浄可能なブラシ１２ｃを有していればよく、例えば、方向Ｄ３に延びる長尺のホイールの表面にブラシ１２ｃが接続された部材である。ローラブラシ１２ａ，１２ｂは、マスク１に接したブラシ１２ｃが搬送方向Ｄ２と反対方向に移動するように回転方向Ｄ４に回転することが好ましい。この場合、マスク１を更に良好に洗浄することができる。

スプレーノズル１６ａ，１６ｂは、ローラブラシ１２ａ，１２ｂを介在させた状態で厚さ方向Ｄ１に互いに対向しており、搬送過程において上面１ａ及び下面１ｂの中心がスプレーノズル１６ａ，１６ｂの間を通過するように配置されている。スプレーノズル１６ａは、マスク１の上面１ａ側に配置されており、貫通孔５の軸方向（鉛直方向、本実施形態では方向Ｄ１と同一方向）に洗浄液１４を噴霧して上面１ａに洗浄液１４を供給する。スプレーノズル１６ｂは、マスク１の下面１ｂ側に配置されており、貫通孔５の軸方向に洗浄液１４を噴霧して下面１ｂに洗浄液１４を供給する。

スプレーノズル１６ａ，１６ｂは、洗浄面３に洗浄液１４を供給可能であればよく、例えば一流体ノズルや二流体ノズルであり、洗浄液１４の供給源１８に接続されている。スプレーノズル１６ａ，１６ｂが二流体ノズルである場合には、スプレーノズル１６ａ，１６ｂは、圧縮空気の供給源（図示せず）に更に接続されており、洗浄液１４の微細粒子から構成されるミストを噴霧することができる。スプレーノズル１６ａの先端（噴霧口）から上面１ａまでの距離、及び、スプレーノズル１６ｂの先端（噴霧口）から下面１ｂまでの距離は、例えば５０〜２００ｍｍである。洗浄液１４の温度は、例えば１０〜４０℃である。

本実施形態では、スプレーノズル１６ａ，１６ｂからローラブラシ１２ａ，１２ｂに対して洗浄液１４が噴霧された後、ローラブラシ１２ａ，１２ｂに付着した洗浄液１４は、ローラブラシ１２ａ，１２ｂが回転することやローラブラシ１２ａ，１２ｂの表面を流れることにより、洗浄面３とローラブラシ１２ａ，１２ｂとの間に供給されて洗浄面３の洗浄に用いられる。また、本実施形態では、スプレーノズル１６ａ，１６ｂから洗浄面３に供給された洗浄液１４が貫通孔５の内部に供給されることにより、貫通孔５の内壁を洗浄することもできる。

本実施形態では、第１水洗工程Ｓ１１０ａにおいて、ホイールコンベア７によって連続的又は断続的に搬送方向Ｄ２に搬送されるマスク１の洗浄面３に洗浄液１４が供給された状態で、洗浄面３と平行かつ搬送方向Ｄ２と直交する方向Ｄ３に延びる軸回りに回転するローラブラシ１２ａ，１２ｂのブラシ１２ｃを搬送方向Ｄ２の下流側から上流側に向かって順に洗浄面３に接触させて洗浄面３を洗浄する。これにより、本実施形態では、洗浄面３に付着した異物を除去し易くなり、マスク１を更に良好に洗浄することができる。

また、本実施形態では、第１水洗工程Ｓ１１０ａにおいて、上面１ａ及び下面１ｂのそれぞれに洗浄液１４が供給された状態で、ブラシ１２ｃを上面１ａ及び下面１ｂのそれぞれに接触させて洗浄面３を洗浄している。この場合、マスク１を更に良好に洗浄することができる。

なお、第１水洗工程Ｓ１１０ａは、上記に限られるものではなく、前処理部１０は、搬送方向Ｄ２に複数配置されたローラブラシやスプレーノズルを有していてもよい。また、前処理部１０は、単一のローラブラシやスプレーノズルを有していてもよく、例えば、スプレーノズルが上面１ａ側及び下面１ｂ側のいずれか一方のみに配置されていると共に、単一のローラブラシが単一のスプレーノズルとマスク１との間に配置されていてもよい。スプレーノズル１６ａ，１６ｂは、ローラブラシ１２ａ，１２ｂを介在させることなく厚さ方向Ｄ１に互いに対向していてもよく、搬送方向Ｄ２に互いに離間して配置されていてもよい。スプレーノズル１６ａ，１６ｂから洗浄液１４を供給する方向は、厚さ方向Ｄ１に対して傾斜していてもよい。

（第２水洗工程Ｓ１１０ｂ）
第２水洗工程Ｓ１１０ｂでは、第１水洗工程Ｓ１１０ａで前処理が施されたマスク１を洗浄部２０に搬送し、マスク１を本洗浄する。洗浄部２０は、図７に示すように、複数の一対のホイール７ａ，７ｂから構成されるホイールコンベア７と、洗浄液２４を供給する一対のスプレーノズル２６ａ，２６ｂとを有している。

スプレーノズル２６ａは、マスク１の上面１ａ側に配置されており、搬送過程においてスプレーノズル２６ａの下方を上面１ａの中心が通過するように配置されている。スプレーノズル２６ａは、貫通孔５の軸方向（鉛直方向）に洗浄液２４を噴霧して上面１ａ及び貫通孔５の内部に洗浄液２４を供給する。スプレーノズル２６ｂは、マスク１の下面１ｂ側に配置されており、搬送過程においてスプレーノズル２６ｂの上方を下面１ｂの中心が通過するように配置されている。スプレーノズル２６ｂは、貫通孔５の軸方向に洗浄液２４を噴霧して下面１ｂ及び貫通孔５の内部に洗浄液２４を供給する。

スプレーノズル２６ａ，２６ｂは、搬送方向Ｄ２に沿った同一直線上において搬送方向Ｄ２に互いに離間して配置されており、スプレーノズル２６ａは、スプレーノズル２６ｂよりも搬送方向Ｄ２の下流側に配置されている。すなわち、上面１ａに対して噴霧される洗浄液２４の噴霧軸Ａ３と、下面１ｂに対して噴霧される洗浄液２４の噴霧軸Ａ４とは、搬送方向Ｄ２において互いに離間しており、噴霧軸Ａ３は、噴霧軸Ａ４よりも搬送方向Ｄ２の下流側に位置している。これにより、上面１ａにおける洗浄液２４の供給位置（洗浄液２４が吹き付けられる領域）Ｐ１は、下面１ｂにおける洗浄液２４の供給位置Ｐ２よりも搬送方向Ｄ２の下流側に位置することとなる。

スプレーノズル２６ａ，２６ｂは、洗浄面３に洗浄液２４を吹き付けることが可能な二流体ノズルであり、洗浄液の供給源２８ａと、圧縮空気の供給源２８ｂとに接続されている。スプレーノズル２６ａの先端（噴霧口）から上面１ａまでの距離、及び、スプレーノズル２６ｂの先端（噴霧口）から下面１ｂまでの距離は、例えば１０〜２００ｍｍである。スプレーノズル２６ａ，２６ｂの噴霧広がり角θ１は、例えば６０〜８０°である。噴霧圧力は、例えば０．１〜０．７ＭＰａである。噴霧量は、例えば０．２〜４．０リットル／ｍｉｎである。洗浄液２４の温度は、例えば１０〜４０℃である。スプレーノズル２６ａ，２６ｂの噴霧パターンは、例えば膜状、扇状、円錐状であり、比較的均一な流量分布が得られる観点から、膜状が好ましい。スプレーノズル２６ａの先端とスプレーノズル２６ｂの先端との搬送方向Ｄ２における間隔Ｄ５は、上面１ａ側及び下面１ｂ側のそれぞれから同一の貫通孔５の内部に洗浄液２４が同時に供給されることが抑制され易くなる観点から、例えば５〜５０ｍｍである。

第２水洗工程Ｓ１１０ｂでは、ホイールコンベア７によって連続的又は断続的に搬送方向Ｄ２に搬送されるマスク１の上面１ａ及び下面１ｂのそれぞれに対してスプレーノズル２６ａ，２６ｂから貫通孔５の軸方向に洗浄液２４を噴霧して、搬送方向Ｄ２の下流側から上流側に向かって順にマスク１の上面１ａ及び下面１ｂ並びに貫通孔５の内部を洗浄する。

本実施形態では、第２水洗工程Ｓ１１０ｂにおいて、二流体ノズルであるスプレーノズル２６ａ，２６ｂから洗浄液２４を噴霧しているため、洗浄液２４の微細粒子から構成されるミストを洗浄面３に供給することが可能であり、マスク１から異物を除去し易い。また、本実施形態では、貫通孔５の軸方向に洗浄液２４を噴霧することにより、洗浄液２４が貫通孔５の内部に供給され易く、貫通孔５の内部を充分に洗浄することができる。さらに、本実施形態では、上面１ａに対して噴霧される洗浄液２４の噴霧軸Ａ３と下面１ｂに対して噴霧される洗浄液２４の噴霧軸Ａ４とが、搬送方向Ｄ２において互いに離間している。この場合、本実施形態では、上面１ａ及び下面１ｂのそれぞれに対して洗浄液２４を噴霧しているものの、上面１ａ側及び下面１ｂ側のそれぞれから同一の貫通孔５の内部に洗浄液２４が同時に供給されることが抑制される。これにより、上面１ａ側及び下面１ｂ側のうちの一方側から供給された洗浄液２４による洗浄が、他方側から供給された洗浄液２４により妨げられることが抑制される。以上のような本実施形態によれば、マスク１の洗浄面３に付着した異物に加えて貫通孔５の内壁に付着した異物を除去し易くなり、マスク１を更に良好に洗浄することができる。

また、本実施形態に係る洗浄方法は、第１水洗工程Ｓ１１０ａの後に第２水洗工程Ｓ１１０ｂを備えている。この場合、第１水洗工程Ｓ１１０ａにおいて前処理としてマスク１を洗浄した後に第２水洗工程Ｓ１１０ｂにおいてマスク１が本洗浄されるため、マスク１を更に良好に洗浄することができる。

本実施形態では、第２水洗工程Ｓ１１０ｂにおいて、上面１ａが鉛直方向上方を向くと共に下面１ｂが鉛直方向下方を向いた状態でマスク１が搬送され、噴霧軸Ａ３が噴霧軸Ａ４よりも搬送方向Ｄ２の下流側に位置している。この場合、鉛直方向下方を向いた下面１ｂ側からスプレーノズル２６ｂによって貫通孔５の内部に供給された洗浄液２４が、異物を除去しつつ貫通孔５の内部を通過して、鉛直方向上方を向いた上面１ａに付着したとしても、搬送方向Ｄ２の下流側においてスプレーノズル２６ａによって供給される洗浄液２４により、上面１ａに付着した洗浄液２４を除去することができる。これにより、マスク１を更に良好に洗浄することができる。

なお、第２水洗工程Ｓ１１０ｂは、上記に限られるものではなく、スプレーノズル２６ａがスプレーノズル２６ｂよりも搬送方向Ｄ２の上流側に配置されることにより、噴霧軸Ａ３が噴霧軸Ａ４よりも搬送方向Ｄ２の上流側に位置していてもよい。また、洗浄部２０は、搬送方向Ｄ２に複数配置されたスプレーノズルを有していてもよい。

（第３水洗工程Ｓ１１０ｃ）
第３水洗工程Ｓ１１０ｃでは、第２水洗工程Ｓ１１０ｂで洗浄されたマスク１を後処理部３０に搬送し、マスク１に後処理を施す。後処理部３０は、図８に示すように、複数の一対のホイール７ａ，７ｂから構成されるホイールコンベア７と、洗浄液３４を供給する一対のスプレーノズル（供給手段）３６ａ，３６ｂとを有している。

スプレーノズル３６ａ，３６ｂは、厚さ方向Ｄ１に互いに対向するように一対配置されており、厚さ方向Ｄ１に対して搬送方向Ｄ２の上流側に傾斜する方向Ｄ６に洗浄液３４を供給する。スプレーノズル３６ａは、マスク１の上面１ａ側に配置されており、洗浄液３４を噴霧して上面１ａ及び貫通孔５の内部に洗浄液３４を供給する。スプレーノズル３６ｂは、マスク１の下面１ｂ側に配置されており、洗浄液３４を噴霧して下面１ｂ及び貫通孔５の内部に洗浄液３４を供給する。上面１ａにおける洗浄液３４の供給位置（洗浄液３４が吹き付けられる領域）Ｐ３と下面１ｂにおける洗浄液３４の供給位置Ｐ４とは、厚さ方向Ｄ１に互いに対向している。

スプレーノズル３６ａ，３６ｂは、洗浄面３に洗浄液３４を吹き付けることが可能であればよく、例えば一流体ノズルや二流体ノズルであり、洗浄液３４の供給源３８に接続されている。スプレーノズル３６ａ，３６ｂが二流体ノズルである場合には、スプレーノズル３６ａ，３６ｂは、圧縮空気の供給源（図示せず）に更に接続されている。

スプレーノズル３６ａ，３６ｂにおいて洗浄液３４を供給する方向Ｄ６の傾斜角度θ２は、厚さ方向Ｄ１に対して例えば１０〜４５°である。スプレーノズル３６ａの先端（噴霧口）から上面１ａまでの最短距離、及び、スプレーノズル３６ｂの先端（噴霧口）から下面１ｂまでの最短距離は、例えば５０〜２００ｍｍである。噴霧圧力は、例えば０．１〜２ＭＰａである。噴霧量は、例えば０．２〜１５リットル／ｍｉｎである。洗浄液３４の温度は、例えば１０〜４０℃である。スプレーノズル３６ａ，３６ｂの噴霧パターンは、例えば膜状、扇状、円錐状である。

本実施形態では、第３水洗工程Ｓ１１０ｃにおいて、ホイールコンベア７によって連続的又は断続的に搬送方向Ｄ２に搬送されるマスク１の洗浄面３に対し、厚さ方向Ｄ１に対して搬送方向Ｄ２の上流側に傾斜する方向Ｄ６に洗浄液３４を供給して、搬送方向Ｄ２の下流側から上流側に向かって順にマスク１を洗浄する。これにより、異物が洗浄液３４によって搬送方向Ｄ２の上流側に排除され易くなり、洗浄面３における搬送方向Ｄ２の下流側の領域に、マスク１を搬送するに伴い異物が残存することを抑制することができる。したがって、本実施形態では、マスク１に付着した異物を充分に除去することが可能であり、マスク１を良好に洗浄することができる。

また、本実施形態では、第３水洗工程Ｓ１１０ｃにおいて上面１ａ及び下面１ｂのそれぞれに洗浄液３４を供給している。この場合、マスク１を更に良好に洗浄することができる。

また、本実施形態に係る洗浄方法は、第３水洗工程Ｓ１１０ｃの前に第２水洗工程Ｓ１１０ｂを備えている。この場合、第２水洗工程Ｓ１１０ｂにおいてマスク１を本洗浄した後に第３水洗工程Ｓ１１０ｃにおいて後処理としてマスク１が洗浄されるため、マスク１を更に良好に洗浄することができる。

なお、第３水洗工程Ｓ１１０ｃは、上記に限られるものではなく、スプレーノズル３６ａ，３６ｂが搬送方向Ｄ２に互いに離間して一対配置されることにより、供給位置Ｐ３と供給位置Ｐ４とが搬送方向Ｄ２において互いに離間していてもよい。また、後処理部３０は、搬送方向Ｄ２に複数配置されたスプレーノズルを有していてもよく、上面１ａ側及び下面１ｂ側のいずれか一方のみに単一のスプレーノズルを有していてもよい。

（乾燥工程Ｓ１２０）
乾燥工程Ｓ１２０では、第３水洗工程Ｓ１１０ｃで後処理が施されて洗浄液が付着したマスク１を乾燥部４０に搬送し、マスク１に付着した洗浄液を除去する。除去されるべき洗浄液は、例えば、マスク１の上面１ａや下面１ｂ、貫通孔５の内壁に付着している。乾燥部４０は、図９に示すように、複数の一対のホイール７ａ，７ｂから構成されるホイールコンベア７と、第１乾燥工程として乾燥風４２ａを送風するスプレーノズル４４と、第２乾燥工程として乾燥風４２ｂを送風するエアナイフ４６ａ，４６ｂとを有している。

スプレーノズル４４及びエアナイフ４６ａ，４６ｂは、乾燥風４２ａや乾燥風４２ｂの供給源４８に接続されている。スプレーノズル４４は、マスク１を乾燥するための乾燥風４２ａを貫通孔５の軸方向に送風し、乾燥風４２ａを洗浄面３に吹き付けることが可能である。エアナイフ４６ａ，４６ｂは、マスク１を乾燥するための乾燥風４２ｂを厚さ方向Ｄ１に対して搬送方向Ｄ２の上流側に傾斜する方向Ｄ７に送風し、マスク１における方向Ｄ３の全長にわたって乾燥風４２ｂを洗浄面３に吹き付けることが可能である。

乾燥風４２ａは、上面１ａ側及び下面１ｂ側のいずれか一方のみからマスク１に対して供給されていることが好ましく、本実施形態では、マスク１の上面１ａ側のみからスプレーノズル４４によってマスク１に対して供給されている。スプレーノズル４４は、上面１ａ側のみに配置されており、搬送過程においてスプレーノズル４４の下方を上面１ａの中心が通過するように配置されている。スプレーノズル４４は、乾燥風４２ａを送風して上面１ａ及び貫通孔５の内部に乾燥風４２ａを供給する。スプレーノズル４４の先端（送風面）から上面１ａまでの距離は、例えば５０〜２００ｍｍである。乾燥風４２ａの圧力は、例えば０．１〜１ＭＰａである。乾燥風４２ａの供給量は、例えば１００〜１０００リットル／ｍｉｎである。乾燥風４２ａは、例えば５〜２００℃の風または温風である。

乾燥風４２ｂは、上面１ａ側及び下面１ｂ側のそれぞれからエアナイフ４６ａ，４６ｂによってマスク１に対して供給されている。エアナイフ４６ａ，４６ｂは、マスク１の上面１ａ側及び下面１ｂ側のそれぞれに配置されており、厚さ方向Ｄ１に互いに対向するように一対配置されている。エアナイフ４６ａは、マスク１の上面１ａ側に配置されており、乾燥風４２ｂを送風して上面１ａに乾燥風４２ｂを供給する。エアナイフ４６ｂは、マスク１の下面１ｂ側に配置されており、乾燥風４２ｂを送風して下面１ｂに乾燥風４２ｂを供給する。上面１ａにおける乾燥風４２ｂの供給位置（乾燥風４２ｂが吹き付けられる位置）Ｐ５と下面１ｂにおける乾燥風４２ｂの供給位置Ｐ６とは、厚さ方向Ｄ１に互いに対向している。

エアナイフ４６ａの先端（送風面）から上面１ａまでの最短距離、及び、エアナイフ４６ｂの先端（送風面）から下面１ｂまでの最短距離は、例えば１〜２００ｍｍである。乾燥風４２ｂの圧力は、例えば０．１〜１ＭＰａである。乾燥風４２ｂの供給量は、例えば１００〜５０００リットル／ｍｉｎである。乾燥風４２ｂは、例えば５〜２００℃の風または温風である。エアナイフ４６ａ，４６ｂにおいて乾燥風４２ｂを供給する方向Ｄ７の傾斜角度θ３は、厚さ方向Ｄ１に対して例えば１０〜４５°である。

乾燥工程Ｓ１２０では、上面１ａにおける乾燥風４２ａが供給された領域Ｐ７に対して乾燥風４２ｂを供給する。具体的には、スプレーノズル４４から送風された乾燥風４２ａが供給された領域Ｐ７は、ホイールコンベア７によって連続的又は断続的に搬送方向Ｄ２に搬送されるマスク１の移動に伴って搬送方向Ｄ２の下流側に移動する。そして、領域Ｐ７には、エアナイフ４６ａから送風された乾燥風４２ｂが供給される。このようにマスク１が搬送方向Ｄ２に搬送されつつ上面１ａに対して乾燥風４２ａ及び乾燥風４２ｂが供給されることにより、上面１ａには、搬送方向Ｄ２の下流側から上流側にかけて乾燥風４２ａ及び乾燥風４２ｂが供給されることとなる。

本実施形態では、第１乾燥工程として、ホイールコンベア７によって連続的又は断続的に搬送方向Ｄ２に搬送されるマスク１の上面１ａに対し、搬送方向Ｄ２の下流側から上流側に向かって順に、貫通孔５の軸方向にスプレーノズル４４から乾燥風４２ａを供給することにより、洗浄面３に付着した洗浄液に加えて貫通孔５の内部に付着した洗浄液を除去することができる。

続いて、第２乾燥工程として、ホイールコンベア７によって連続的又は断続的に搬送方向Ｄ２に搬送されるマスク１の上面１ａ及び下面１ｂに対し、搬送方向Ｄ２の下流側から上流側に向かって順に、厚さ方向Ｄ１に対して搬送方向Ｄ２の上流側に傾斜する方向Ｄ７にエアナイフ４６ａ，４６ｂから乾燥風４２ｂを供給することにより、上面１ａ及び下面１ｂに付着した洗浄液を除去することができる。

本実施形態では、第１乾燥工程及び第２乾燥工程を行うことにより、洗浄面３に付着した洗浄液、及び、貫通孔５の内部に付着した洗浄液を充分に除去することが可能である。したがって、本実施形態では、マスク１を更に良好に洗浄することができる。

また、本実施形態では、第１乾燥工程において上面１ａ側のみからマスク１に対して乾燥風４２ａを供給している。この場合、貫通孔５の上面１ａ側から供給された乾燥風４２ａが下面１ｂ側より排除され易くなる。これにより、貫通孔５の内部に付着した洗浄液を除去し易くなり、マスク１を更に良好に洗浄することができる。

また、本実施形態では、第２乾燥工程において上面１ａ側及び下面１ｂ側のそれぞれから乾燥風４２ｂを供給している。この場合、上面１ａに付着した洗浄液と共に下面１ｂに付着した洗浄液を除去することができるため、マスク１を更に良好に洗浄することができる。

なお、乾燥工程Ｓ１２０は、上記に限られるものではない。上記実施形態ではマスク１を水平方向に搬送しているが、水平方向から傾斜した方向にマスク１を搬送してもよい。例えば、搬送方向Ｄ２の上流側よりも下流側が鉛直方向上方に位置するように傾斜させてマスク１を搬送してもよく、傾斜角度は、水平方向に対して例えば５〜２０°である。この場合、マスク１に付着した洗浄液が乾燥風４２ａ，４２ｂにより搬送方向Ｄ２の上流側に更に排除され易くなり、洗浄面３における搬送方向Ｄ２の下流側の領域に洗浄液が残存することや、乾燥風４２ａ，４２ｂにより排除された洗浄液が洗浄面３における搬送方向Ｄ２の下流側の領域に再度付着することを抑制することができる。また、乾燥工程Ｓ１２０では、洗浄面３における搬送方向Ｄ２の下流側の領域に洗浄液が残存することや再度付着することを更に抑制する観点から、ドラフト設備や気液分離器を用いてもよい。

また、上記実施形態では、上面１ａにおける乾燥風４２ａが供給された領域Ｐ７に対して乾燥風４２ｂを供給しているが、エアナイフ４６ａ，４６ｂをスプレーノズル４４よりも搬送方向Ｄ２の上流側に配置して、上面１ａにおける乾燥風４２ｂが供給された領域に対して乾燥風４２ａを供給してもよい。さらに、上記実施形態では、同一のマスク１の洗浄面３に対して同時に乾燥風４２ａ及び乾燥風４２ｂをそれぞれ供給しているが、洗浄面３の搬送方向Ｄ２の全長にわたって乾燥風４２ａを供給した後に、同一の洗浄面３の搬送方向Ｄ２の全長にわたって乾燥風４２ｂを供給してもよい。

乾燥部４０は、搬送方向Ｄ２に複数配列されたスプレーノズル４４及びエアナイフ４６ａ，４６ｂを有していてもよい。乾燥部４０は、スプレーノズル４４に代えて、マスク１における方向Ｄ３の全長にわたって乾燥風４２ａを送風可能なエアナイフを有していてもよい。また、スプレーノズル４４がマスク１の上面１ａ側及び下面１ｂ側のうち下面１ｂ側のみに配置されて、乾燥風４２ａがマスク１の下面１ｂ側のみからマスク１に対して供給されていてもよい。

エアナイフ４６ａ，４６ｂは、搬送方向Ｄ２に互いに離間して一対配置されていてもよく、供給位置Ｐ５と供給位置Ｐ６とは、搬送方向Ｄ２において互いに離間していてもよい。この場合、上面１ａ側及び下面１ｂ側のそれぞれから同一の貫通孔５の内部に乾燥風４２ｂが同時に供給されることが抑制されるため、貫通孔５の内部に付着した洗浄液を更に除去し易くなる。また、エアナイフ４６ａ及びエアナイフ４６ｂのいずれか一方のみが配置されて、乾燥風４２ｂがマスク１の一方側のみからマスク１に対して供給されていてもよい。

＜準備工程Ｓ２００＞
洗浄工程Ｓ１００に続く準備工程Ｓ２００について説明する。準備工程Ｓ２００では、ハニカム構造体を準備する。例えば、原料混合物を押出成形して、隔壁により区画された複数の貫通孔を有するグリーンハニカム成形体を得た後に、当該グリーンハニカム成形体を焼成してハニカム構造体（未封口ハニカム焼成体）を得る。

原料混合物は、セラミクス材料や有機バインダを含有し、必要に応じてその他の添加剤を含有する。ハニカムフィルタ１００がチタン酸アルミニウムを含む場合、原料混合物は、セラミクス材料として例えばアルミニウム源粉末やチタニウム源粉末を含有し、必要に応じてマグネシウム源粉末やケイ素源粉末を更に含有する。有機バインダは、例えばメチルセルロースである。添加剤は、例えば造孔剤、潤滑剤、可塑剤、分散剤、溶媒である。

＜封口工程Ｓ３００＞
封口工程Ｓ３００では、ハニカム構造体における封口すべき貫通孔に対応する箇所に貫通孔５が設けられたマスク１をハニカム構造体の一端面に密着させ、ハニカム構造体の一部の貫通孔にマスク１を介して封口材を供給する。次に、マスク１をハニカム構造体の他端面に密着させ、ハニカム構造体の一端面側の端部が封口されていない貫通孔にマスク１を介して封口材を供給する。これにより、ハニカム構造体の一端側の端部及び他端側の端部のいずれかが封口された流路が形成される。本実施形態では、図１に示したように、ハニカムフィルタ１００の一端面１００ａ側の端部が封口された流路１１０ａと、ハニカムフィルタ１００の他端面１００ｂ側の端部が封口された流路１１０ｂとが交互に配置されるように、ハニカム構造体の貫通孔を封口する。封口材は、ハニカム構造体の貫通孔を封口可能であれば特に限定されず、ハニカム構造体を得るための上記原料混合物と同様の材料を用いることができる。

続いて、貫通孔が封口されたハニカム構造体を加熱し、貫通孔内に供給した封口材を硬化させて封口部１１４を形成する。以上により、図１に示すハニカムフィルタ１００を得ることができる。なお、上記実施形態では、準備工程Ｓ２００においてグリーンハニカム成形体を焼成した後に封口工程Ｓ３００において貫通孔を封口しているが、準備工程Ｓ２００において得られたグリーンハニカム成形体の貫通孔を封口した後に焼成してハニカムフィルタ１００を得ることもできる。

１…マスク、１ａ…上面（一方の主面）、１ｂ…下面（他方の主面）、５…貫通孔、７…ホイールコンベア（搬送手段）、３４…洗浄液、３６ａ，３６ｂ…スプレーノズル（供給手段）、５０…洗浄装置、１００…ハニカムフィルタ、Ｄ１…マスクの厚さ方向、Ｄ２…マスクの搬送方向、Ｄ６…洗浄液を供給する方向、Ｐ３，Ｐ４…洗浄液の供給位置、Ｓ１００…洗浄工程、Ｓ１１０ｂ…第２水洗工程、Ｓ１１０ｃ…第３水洗工程、Ｓ３００…封口工程、θ２…傾斜角度。

Claims (8)

1. 一方の主面から他方の主面にかけて厚さ方向に貫通している複数の貫通孔を有するハニカム構造体封口用マスクの洗浄方法であって、
   前記マスクを前記厚さ方向に直交する方向に搬送する工程と、
   前記搬送されるマスクの前記一方の主面又は前記他方の主面の少なくとも一方に対し、前記厚さ方向に対して前記マスクの搬送方向の上流側に傾斜する方向に洗浄液を供給する洗浄工程と、を備える、洗浄方法。
2. 前記洗浄工程において前記一方の主面及び前記他方の主面のそれぞれに前記洗浄液を供給する、請求項１に記載の洗浄方法。
3. 前記一方の主面における前記洗浄液の供給位置と前記他方の主面における前記洗浄液の供給位置とが、前記厚さ方向に互いに対向している、請求項２に記載の洗浄方法。
4. 前記一方の主面における前記洗浄液の供給位置と前記他方の主面における前記洗浄液の供給位置とが、前記搬送方向において互いに離間している、請求項２に記載の洗浄方法。
5. 前記洗浄液を供給する方向の傾斜角度が、前記厚さ方向に対して１０〜４５°である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の洗浄方法。
6. 前記洗浄工程の前に、前記搬送されるマスクの前記一方の主面又は前記他方の主面の少なくとも一方に対して前記貫通孔の軸方向に洗浄液を供給する工程を更に備える、請求項１〜５のいずれか一項に記載の洗浄方法。
7. 請求項１〜６のいずれか一項に記載の洗浄方法により前記マスクを洗浄する工程と、
   前記洗浄されたマスクを介してハニカム構造体の一部の貫通孔に封口材を供給する工程と、を備える、ハニカムフィルタの製造方法。
8. 一方の主面から他方の主面にかけて厚さ方向に貫通している複数の貫通孔を有するハニカム構造体封口用マスクの洗浄装置であって、
   前記マスクを前記厚さ方向に直交する方向に搬送する搬送手段と、
   前記搬送されるマスクの前記一方の主面又は前記他方の主面の少なくとも一方に対し、前記厚さ方向に対して前記マスクの搬送方向の上流側に傾斜する方向に洗浄液を供給する供給手段と、を備える、洗浄装置。

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