JP2012242576A - フォトマスク及び露光装置 - Google Patents
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 27
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 6
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 30
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 22
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 10
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】マスクパターンを形成したパターン領域17外の部分にマスクの種類を識別するための第1の識別マーク18を形成した。
【選択図】図3
Description
先ず、ステップS1において、作業者は、露光開始に当っての事前準備として、使用する複数のフォトマスク10を第1の識別マーク18の色を確認しながらマスクストッカー14に収容する。そして、露光装置の図示省略のマスクストッカー取付部に取り付ける。さらに、露光レシピを制御手段7のメモリ32、例えばHDD等の記録媒体に記録すると共に、マスク保持部2に保持されたフォトマスク10の複数種のパターン領域17a〜17dから選択されるパターン領域17の選択情報、例えばX方向の位置情報を、データ入力部33を操作して入力しメモリ32に保存する。
3…マスクチェンジャー
4…第1の検出手段(検出手段)
7…制御手段
8…液晶表示用基板(被露光体)
10…フォトマスク
17,17a〜17d…パターン領域
18…第1の識別マーク
19,19a〜19d…第2の識別マーク
Claims (8)
- マスクパターンを形成したパターン領域外の部分にマスクの種類を識別するための第1の識別マークを形成したことを特徴とするフォトマスク。
- マスクパターンが異なる複数種の前記パターン領域をその中心軸が互いに平行となるように並べて設け、前記各パターン領域を間にしてその両側方の各中心軸の略軸線上に、前記マスクパターンを識別するための複数種の第2の識別マークを形成したことを特徴とする請求項1記載のフォトマスク。
- 前記第1の識別マークは、前記マスクの種類毎に色が異なることを特徴とする請求項1又は2記載のフォトマスク。
- 前記複数種の第2の識別マークは、互いに形状が異なるものであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のフォトマスク。
- 前記複数種の第2の識別マークは、メインマークと該メインマークを取り囲む円周上の異なる位置に形成されたサブマークとから成ることを特徴とする請求項1記載のフォトマスク。
- 前記サブマークは、前記マスクパターンのパターン情報を記録したバーコードであることを特徴とする請求項5記載のフォトマスク。
- 前記複数種の第2の識別マークは、互いに色が異なるものであることを特徴とする請求項2〜5のいずれか1項に記載のフォトマスク。
- 被露光体を一定方向に搬送しながら、移動中の前記被露光体に露光光を照射して露光する露光装置であって、
前記被露光体の上面に平行な面内にて前記被露光体の搬送方向と交差する方向に、マスクパターンを形成したパターン領域外の部分にマスクの種類を識別するための第1の識別マークを形成した複数のフォトマスクを並べて保持するマスク保持部と、
前記マスク保持部に保持される前記複数のフォトマスクを交換するためのマスクチェンジャーと、
前記フォトマスクの第1の識別マークを検出する検出手段と、
前記検出手段で取得された前記第1の識別マークと、予め登録して保存された第1の識別マークとを比較して保持されたフォトマスクの正否を判定する制御手段と、
を備えたことを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2011112069A JP5770014B2 (ja) | 2011-05-19 | 2011-05-19 | フォトマスク及び露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2011112069A JP5770014B2 (ja) | 2011-05-19 | 2011-05-19 | フォトマスク及び露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012242576A true JP2012242576A (ja) | 2012-12-10 |
| JP5770014B2 JP5770014B2 (ja) | 2015-08-26 |
Family
ID=47464360
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011112069A Active JP5770014B2 (ja) | 2011-05-19 | 2011-05-19 | フォトマスク及び露光装置 |
Country Status (1)
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| JP (1) | JP5770014B2 (ja) |
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