JP2012227353A - レーザ発振器制御装置 - Google Patents

レーザ発振器制御装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2012227353A
JP2012227353A JP2011093684A JP2011093684A JP2012227353A JP 2012227353 A JP2012227353 A JP 2012227353A JP 2011093684 A JP2011093684 A JP 2011093684A JP 2011093684 A JP2011093684 A JP 2011093684A JP 2012227353 A JP2012227353 A JP 2012227353A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
output
oscillation
laser
module
laser oscillator
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2011093684A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5729107B2 (ja
Inventor
Takashi Senda
孝志 千田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Machinery Ltd
Original Assignee
Murata Machinery Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Machinery Ltd filed Critical Murata Machinery Ltd
Priority to JP2011093684A priority Critical patent/JP5729107B2/ja
Priority to CN2012100777374A priority patent/CN102751652A/zh
Priority to US13/446,956 priority patent/US8599892B2/en
Priority to EP12164721.8A priority patent/EP2515394A3/en
Publication of JP2012227353A publication Critical patent/JP2012227353A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5729107B2 publication Critical patent/JP5729107B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/0604Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams
    • B23K26/0613Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams having a common axis
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/10069Memorized or pre-programmed characteristics, e.g. look-up table [LUT]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/23Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
    • H01S3/2383Parallel arrangements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

【課題】 発振モジュールの構成を変えることなく、レーザ発振器の全体としての出力の細かな調整が可能なレーザ発振器制御装置を提供する。
【解決手段】 制御対象となるレーザ発振器2は、レーザ加工機に装備可能であって、それぞれがレーザビームを発振する発振モジュール7を複数有し、これら複数の発振モジュール7の発振したレーザビームRbを集めて出力する。レーザ発振器制御装置4に、駆動する発振モジュール7を選択するモジュール選択手段12を設ける。モジュール選択手段12は、レーザ加工機のレーザ加工時の出力に応じて、定められた選択条件Rに従い、駆動する発振モジュール7の数を定める選択条件判定部13を有する。
【選択図】 図1

Description

この発明は、板金加工等のレーザ加工機に装備されるレーザ発振器を制御するレーザ発振器制御装置に関する。
レーザ加工に用いられるレーザ発振器として、それぞれがレーザビームを発振する発振モジュールを数台程度有し、これら複数の発振モジュールの発振したレーザビームを集光して出力とするものがある。各発振モジュールは、1台でレーザ発振器を構成可能なものであり、1台の発振モジュールでは不足する大出力のレーザ発振器が必要な場合に、要求される出力に応じて複数台を組み合わせて用いられる。切断加工等を行うレーザ加工機では、要求される切断能力を向上していく為に、発振モジュールの搭載数が増加する傾向にある。
複数台の発振モジュールを備えたレーザ発振器の出力の制御は、従来はレーザ発振器の全体として行っていて、各発振モジュールを同じ割合で制御する。例えば、レーザ発振器の最大定格出力に対して50%の出力に制御する場合は、全ての発振モジュールの出力を50%に制御している。
特開2003−37316号公報
レーザ発振器は、その最大定格出力に対して、低い出力の加工は安定しないという問題がある。これは、一般的にレーザ発振器の出力制御の分解能が低くて、例えば10%未満は制御できないことによる。そのため、加工中にパワー指令値を変化させるときに、出力変更を細かく行うことができず、その加工から見ると、バラツキが大きくなり、微調整が困難で加工品質が安定しない。また、任意の単位で出力指令できる場合であっても、小さな出力の指令(例えば10%の指令)に対して、大きな出力の指令(例えば40%の指令)である場合の方が、加工が安定する。
例えば、レーザ加工で板金の切断加工を行うときに、曲線部分では正しい形状に切断加工するには、直線部分に対して低速でレーザビームを移動させる必要がある。低速であると、レーザビームから素材に入る熱量が多くなるため、レーザ出力を低下させる必要があるが、微調整の性能上の制限で、適切なレーザ出力に制御できず、過熱状態となったり、あるいは熱量が不足となり、安定した加工が行えない。
この発明の目的は、発振モジュールの構成を変えることなく、レーザ発振器の全体としての出力の細かな調整が可能なレーザ発振器制御装置を提供することである。
この発明の他の目的は、適切な発振モジュールの選択によって、より効果的に出力の制御を可能とすることである。
この発明のさらに他の目的は、効果的な場合のみ発振モジュールの選択個数を減らすことで、偏った発振モジュールの使用による耐久性低下を防止することである。
この発明のレーザ発振器制御装置(4)は、レーザ加工機に装備可能であって、それぞれがレーザビームを発振する発振モジュール(7)を複数有し、これら複数の発振モジュール(7)の発振したレーザビームを集めて出力とするレーザ発振器(2)を制御する装置であって、駆動する発振モジュール(7)を選択するモジュール選択手段(12)を設けたことを特徴とする。
この構成によると、駆動する発振モジュール(7)をモジュール選択手段(12)で選択することができるため、小さな出力としたい場合に、駆動する発振モジュール(7)の数を減らし、一部の発振モジュール(7)のみを駆動して出力制御することにより、レーザ発振器(2)の全体として細かな出力制御が行える。簡単な例で説明すると、レーザ発振器(2)の発振モジュール(7)の個数が2台で、各発振モジュール(7)の出力制御が10%単位で行えるとすると、2台の発振モジュール(7)を共に使用する場合は、レーザ発振器(2)の全体に対する10%単位の出力制御しか行えないが、1台の発振モジュール(7)のみを使用すると、その発振モジュール(7)の出力制御を10%単位で行うことで、レーザ発振器(2)の全体に対する5%の単位で出力制御が行える。したがって、発振モジュール(7)自体の構成を細かな出力制御が可能なものに変えることなく、レーザ発振器(2)の全体としての出力の細かな調整が可能となる。また、出力の細かな調整が可能になるだけでなく、発振モジュール(7)は、小さな出力で駆動する場合よりも、大きな出力で駆動する場合の方が安定した出力になる傾向があり、発振モジュール(7)の駆動台数を減らして大きな出力指令で駆動することで、レーザ出力が安定して加工が安定する。さらに、個々の発振モジュール(7)が出力調整機能を持たないものであっても、レーザ発振器(2)の全体としては、出力調整が可能となる。
この発明において、前記モジュール選択手段(12)は、前記レーザ加工機のレーザ加工時の出力に応じて、定められた選択条件に従い、駆動する発振モジュール(7)の数を定める選択条件判定部(13)を有するものとしても良い。
上記構成の選択条件判定部(13)を設けることで、レーザ加工機のレーザ加工時に要求される出力に応じて、駆動する発振モジュール(7)の数を適切な個数とすることができる。このため、作業者が考えて駆動台数を切り換えることが不要となり、かつ選択条件を適切な条件に設定しておくことで、発振モジュール(7)の好ましい駆動台数とでき、より効果的な出力の制御が可能となる。
この構成の場合に、前記選択条件判定部(13)の前記定められた条件は、駆動する発振モジュール(7)の個数を減らすことで、レーザ発振器(2)の出力の制御の分解能が上げられる場合に、駆動する発振モジュール(7)の個数を減らすこととしても良い。
希望するレーザ発振器(2)の出力によっては、発振モジュール(7)の個数を減らしても、レーザ発振器(2)の出力の制御の分解能が上げらない場合がある。そのような場合に、発振モジュール(7)の駆動個数を減らすことは、レーザ発振器(2)の全体の中で一部の発振モジュール(7)のみを偏って使用することになり、耐久性の低下に繋がるが、分解能が上げられる場合のみに、駆動する発振モジュール(7)の個数を減らすことで、偏った発振モジュール(7)の使用による耐久性低下を防止することができる。
この発明のレーザ発振器制御装置は、レーザ加工機に装備可能であって、それぞれがレーザビームを発振する発振モジュールを複数有し、これら複数の発振モジュールの発振したレーザビームを集めて出力とするレーザ発振器を制御する装置であって、駆動する発振モジュールを選択するモジュール選択手段を設けたため、発振モジュールの構成を変えることなく、レーザ発振器の全体としての出力の細かな調整が可能になる。
前記モジュール選択手段が、前記レーザ加工機のレーザ加工時の出力に応じて、定められた選択条件に従い、駆動する発振モジュールの数を定める選択条件判定部を有する場合は、適切な発振モジュールの選択によって、より効果的に出力の制御を行うことが可能となる。
前記選択条件判定部の前記定められた条件が、駆動する発振モジュールの個数を減らすことで、レーザ発振器の出力の制御の分解能が上げられる場合に、駆動する発振モジュールの個数を減らすことであるときは、効果的な場合のみ発振モジュールの選択個数を減らすことで、偏った発振モジュールの使用による耐久性低下を防止することができる。
この発明の一実施形態に係るレーザ発振器制御装置を備えたレーザ加工装置の概念構成を示すブロック図である。 同レーザ発振器制御装置の各発振モジュールの出力を示すモニタ画面例の説明図である。 同レーザ発振器制御装置のモジュール選択手段が行う処理の流れ図である。 同レーザ発振器制御装置のモジュール選択手段による各種の計算例の説明図である。
この発明の一実施形態を図1ないし図4と共に説明する。図1はレーザ加工機の全体の概念構成を示すブロック図である。このレーザ加工機は、加工機本体1と、レーザ発振器2と、加工機本体1を制御する加工機制御装置3と、レーザ発振器2を制御するレーザ発振器制御装置4とで構成される。加工機本体1は、レーザビームをワーク(図示せず)に対して照射するレーザヘッド5を有する加工機であり、例えば、板材の切断加工、および模様やマーク等の溝加工を行う板材加工機や、基板の穴明け加工用の加工機、立体物の外面を削り取る加工を行う加工機、レーザ溶接加工を行う加工機等からなる。加工機本体1が板材加工機の場合、レーザヘッド5とワークとを相対移動させる移動機構(図示せず)を備える。移動機構(図示せず)は、レーザヘッド5を移動させるものであっても、レーザヘッド5が位置固定とされてワークを移動させるものであっても良い。
レーザ発振器2は、レーザビームRBを発生させる装置であり、発生させたレーザビームRBは導光路6により、加工機本体1のレーザヘッド5に案内する。導光路6は、光ファイバまたはダクト等により構成される。
レーザ発振器2は、それぞれがレーザビームRbを発振する複数台の発振モジュール7と、これら複数の発振モジュール7の発振したレーザビームRbを集めて1本のレーザビームRBの出力とする集光手段8とを備える。発振モジュール7は、レーザ発振器2に1台設だけ設けても使用可能なものであるが、必要な最大定格出力に応じて複数台が並列に用いらられる。集光手段8は、複数のレンズ9等で構成される。
発振モジュール7は、金属加工等の加工に用いられるレーザビームRbを発生させることができるものであり、励起光源として、ファイバレーザ等の固体レーザや、半導体レーザ等を発振源とする。半導体レーザの場合、多数(例えば数十ないし数百)の励起光源を備えたものとされる。発振モジュール7は、図示は省略するが、励起光源の他に、集光器や増幅器を有する。また、各発振モジュール7は、個々に出力制御が可能なものが用いられる。
加工機制御装置3は、レーザ発振器制御装置手段4へレーザ出力の制御指令を与えるレーザ出力制御手段10と、加工機本体1の制御を行う加工機本体制御手段11とを有する。加工機制御装置3は、コンピュータ式の数値制御装置とプログラマブルコントローラ等からなり、加工プログラム(図示せず)を解読して実行することで、加工機本体1やレーザ発振器制御装置4に制御指令の出力を行う。
レーザ発振器制御装置4は、レーザ発振器2の出力やオンオフを制御する手段であり、マイクロコンピュータ等のコンピュータやその制御用のプログラム、および電子回路等により構成される。このレーザ発振器制御装置4に、レーザ発振器2の駆動する発振モジュール7を選択するモジュール選択手段12が設けられている。モジュール選択手段12は、選択条件判定部13、モジュール選択部14、およびモジュール出力制御部15を有していて、選択条件判定部13は、レーザ加工機1のレーザ加工時の出力の指令値に応じて、定められた選択条件Rに従い、駆動する発振モジュール7の数、及びどの発振モジュール7を駆動かを定める。レーザ加工機1のレーザ加工時の出力の指令値は、加工機制御装置3のレーザ出力制御手段10から指令される。
モジュール選択部14は、選択条件判定部13で選択された発振モジュール7を駆動する指令をモジュール出力制御部15に与える。モジュール出力制御部15は、選択された発振モジュール7の出力の合計が、上記レーザ加工時の出力の指令値となるように、各発振モジュール7へ出力の指令および停止の指令を与える。
選択条件判定部13における前記の定められた条件Rは、例えば、駆動する発振モジュール7の個数を減らすことで、レーザ発振器2の出力の制御の分解能が上げられる場合にのみ、駆動する発振モジュール1の個数を減らすこととされる。前記定められた条件Rのより具体的な例、およびモジュール選択手段12のより具体的な処理の流れは、以下の動作説明欄において説明する。
この構成によると、駆動する発振モジュール7をモジュール選択手段12で選択することができるため、小さな出力としたい場合に、駆動する発振モジュール7の数を減らし、一部の発振モジュール7のみを駆動して出力制御することにより、レーザ発振器2の全体として細かな出力制御が行える。図示の例のように、レーザ発振器2の発振モジュールの個数が4台で、各発振モジュール1の出力制御が10%単位で行えるとすると、4台の発振モジュール1を共に使用する場合は、レーザ発振器2の全体に対する10%単位を出力制御しか行えないが、1台の発振モジュール7のみを使用すると、その発振モジュール7の出力制御を10%単位で行うことで、レーザ発振器2の全体に対する2.5%の単位で出力制御が行える。したがって、発振モジュール7自体の構成を細かな出力制御が可能なものに変えることなく、レーザ発振器2の全体としての出力の細かな調整が可能となる。また、個々の発振モジュール7が出力調整機能を持たないものであっても、レーザ発振器2の全体としては、フル出力、3/4、1/2、1/4、の4種類に出力調整が可能となる。
また、上記構成の選択条件判定部13を設けることで、加工機本体1のレーザ加工時の必要な出力に応じて、駆動する発振モジュール7の数を適切な個数とすることができる。このため、作業者が考えて駆動台数を切り換えることが不要となり、かつ選択条件を適切な条件に設定しておくことで、発振モジュール7の好ましい駆動台数とでき、より効果的な出力の制御が可能となる。
前記選択条件判定部13の前記定められた条件が、駆動する発振モジュール7の個数を減らすことで、レーザ発振器1の出力の制御の分解能が上げられる場合に、駆動する発振モジュール7の個数を減らすこととしたため、次の利点が得られる。すなわち、希望するレーザ発振器2の出力によっては、発振モジュール2の個数を減らしても、レーザ発振器2の出力の制御の分解能が上げらない場合がある。そのような場合に、発振モジュール7の駆動個数を減らすことは、レーザ発振器2の全体の中で一部の発振モジュール7のみを偏って使用することになり、耐久性の低下に繋がるが、分解能が上げられる場合のみに、駆動する発振モジュール7の個数を減らすことで、偏った発振モジュール7の使用による耐久性低下を防止することができる。
また、出力の細かな調整が可能になるだけでなく、発振モジュール7は、小さな出力で駆動する場合よりも、大きな出力で駆動する場合の方が安定した出力になる傾向があり、発振モジュール7の駆動台数を減らして大きな出力指令で駆動することで、レーザ出力が安定して加工が安定する。
上記構成において、レーザ発振器制御装置4には、ノーマルモードと安定モードとに切換可能なモード切換手段16を設けることが好ましい。ノーマルモードは、従来と同様に、レーザ発振器2の有する全て発振モジュール7を同じ出力となるように制御するモードである。安定モードは、上記のモジュール選択手段12で駆動する発振モジュール7を選択するモードである。また、ノーマルモードと安定モードとの区別と、各発振モジュール7がどのような出力となるように制御されているかを、表示装置17の画面に表示する出力モニタ手段18を設けることが好ましい。表示装置17は、例えば操作盤に備えられた液晶ディスプレイ等である。
図2は、上記出力モニタ手段18による表示例を示す。同図の例は、1台の発振モジュール7の最大定格出力が500Wで、4台の発振モジュール7を有し、レーザ発振器2の最大定格出力が2000Wの場合の例である。図中の4本の棒グラフは、各発振モジュール7の出力を示す。黒塗り部分が出力である。レーザ発振器制御装置4(図1)に加工機制御装置3から与えられる出力指令が2000W指令の場合は、ノーマルモードおよび安定モードの場合を図2(A),(B)にそれぞれ示すように、いずれも、全ての発振モジュール7が最大出力となる。
1000W指令の場合は、ノーマルモードでは図2(C)に示すように、全ての発振モジュール7の出力がその発振モジュール7の最大定格出力の1/2であるが、安定モードでは、同図(D)に示すように、2台の発振モジュール7が最大出力とされ、残り2台の出力は零とされる。
200W指令の場合は、ノーマルモードでは図2(E)に示すように、全ての発振モジュール7の出力が、最大定格出力の1/10となる50Wであるが、安定モードでは、同図(F)のように、1台の発振モジュール7のみが駆動され、その出力が200Wとされる。
この例では、ノーマルモード、安定モードともに駆動可能であるが、100W指令の場合、1台の発振モジュール7の出力すべき値は25Wであり、発振モジュール7の制御可能な最小出力が定格最大出力500Wの十分の1の50Wであるとすると、ノーマルモードでは制御することができない。図1の選択条件判定部13と、例えばこのようにノーマルモードでは制御することができない出力を出したい場合に、発振モジュール7の駆動打数を減らすものとしても良い。
同図の例からわかるように、レーザ出力が2.0kwまで可能なレーザ発振器2では、加工条件が1.0kwの加工は、1/2の指令値となる。従来は、上記ノーマルモードのように、常に4つずつ全ての発振モジュール7を選択しているので、出力は、50%に相当する出力を指令値としていた。これに対して、発振モジュール7の駆動台数が選択可能である場合は、2つの発振モジュール7を選択することで、出力指令を100%とすることができ、安定した出力制御が行える。
特に、高出力を必要とする切断加工に対して、印字(マーキング)やケガキ加工等は低出力の加工となる。例えば、高出力で2000Wの切断加工に対して、印字では200Wのマーキング加工となる。このとき、従来では、10%以下の出力指令値となり、安定した加工が困難となる。これに対して、発振モジュール7の駆動する選択数を1台とすることで、40%の出力指令となるので、4倍の指令となり安定性が向上とする。
図3は、図1のモジュール選択手段12の処理の流れ図を示す。まず、オペレータの入力等により、モジュール選択手段12に対して、1台の発振モジュール7の最大定格出力と、搭載される発振モジュール7の台数を登録する(S1)。これより、モジュール選択手段12は、トータル最大定格出力を算出する(S2)。
次に、モジュール選択手段12は、加工機制御装置3から加工条件データのうちのレーザ出力を読み出す(S3)。ついで、その読み出した加工条件データのレーザ出力を用いて、(加工条件データレーザ出力)/(トータル最大定格出力)の割合である「標準レーザ出力指令比率」を算出する(S4)。「トータル最大定格出力」は、レーザ発振器2の最大定格出力、つまり全ての発振モジュール7の最大定格出力の和である。
ステップS5では、ステップS3で読みだした加工条件データレーザ出力を出すことができる最小の発振モジュール7の台数を算出する。この台数は、(加工条件データレーザ出力)/(1台の発振モジュール7の最大定格出力)で求められる。計算結果が、例えば「2.5」のように端数を生じる場合は、桁上げ処理、つまり端数分を1と見做して台数を増やす処理を行い、先の「2.5」の計算結果の場合は「3」台とする。
ステップ6では、ステップS5で算出した最小モジュール数による「出力指令比率」の算出を行う。すなわち、(出力指令比率)=(1モジュール最大定格出力)/(最小モジュール選択数)として求める。
ステップS7では、最小モジュール出力指令単位の算出を行う。最小指令単位を1/100とするとき、つぎのようになる。
・ (標準指令)=(トータル最大定格出力)/100
・ (最小指令)=(最小モジュール出力)/100
なお、標準指令は、全ての発振モジュール7を用いて各発振モジュール7を同じ出力とする場合の指令である。
ステップS8では改善率(%)の算出を行う。
(改善率)=〔(標準指令単位)/(最小指令範囲)〕×100
ステップS8では、定められた選択条件を充足するかの判定、具体的には、改善率(%)が設定割合(n%)以上であるか否かを判定する。例えば、nは400%、つまり改善率が標準の4倍以上であるか否かを判定する。
改善率(%)が設定割合(n%)以上である場合は、ステップS10に進み、また改善率(%)が設定割合(n%)未満である場合はステップS11に進み、それぞれのステップS10,S11で定められたモジュール選択数の決定を行う。ステップS10では、(モジュール設定数)=最小モジュール選択数である。ステップS11では、(モジュール設定数)=標準モジュール選択数である。
なお、図1の選択条件判定部は、図3のステップS3〜S9のまでの処理を行い、モジュール選択部14は、ステップS10,S11の処理を行う。
図4は、発振モジュール7の出力および搭載台数が種々異なる場合の、発振モジュール7の選択駆動による改善例を示す。同図は、図3の流れ図に従って計算した例である。なお、これらの例では、定格最大出力の1/100を制御可能な最小単位とする。
ケース1は、500Wの発振モジュール7を4台搭載した場合を示す。この場合、全ての発振モジュール7を同じ出力に制御する場合は、最小分解能が20Wであるが、発振モジュール7の選択駆動を可能とすることで、最小分解能が5Wに改善される。
ケース2は、600Wの発振モジュール7を4台搭載した場合を示す。この場合、全ての発振モジュール7を同じ出力に制御する場合は、最小分解能が24Wであるが、発振モジュール7の選択駆動を可能とすることで、最小分解能が6Wに改善される。
ケース3は、500Wの発振モジュール7を6台搭載した場合を示す。この場合、全ての発振モジュール7を同じ出力に制御する場合は、最小分解能が30Wであるが、発振モジュール7の選択駆動を可能とすることで、最小分解能が5Wに改善される。
1…加工機本体
2…レーザ発振器
3…加工機制御装置
4…レーザ発振器制御装置
5…レーザヘッド
7…発振モジュール
8…集光手段
10…レーザ出力制御手段
11…加工機本体制御手段
12…モジュール選択手段
13…選択条件判定部
14…モジュール選択部
16…モード切換手段
17…表示装置
R…選択条件
RB,Rb…レーザビーム

Claims (3)

  1. レーザ加工機に装備可能であって、それぞれがレーザビームを発振する発振モジュールを複数有し、これら複数の発振モジュールの発振したレーザビームを集めて出力とするレーザ発振器を制御する装置であって、
    駆動する発振モジュールを選択するモジュール選択手段を設けたことを特徴とするレーザ発振器制御装置。
  2. 前記モジュール選択手段は、前記レーザ加工機のレーザ加工時の出力に応じて、定められた選択条件に従い、駆動する発振モジュールの数を定める選択条件判定部を有する請求項1記載のレーザ発振器制御装置。
  3. 前記選択条件判定部の前記定められた条件は、駆動する発振モジュールの個数を減らすことで、レーザ発振器の出力の制御の分解能が上げられる場合に、駆動する発振モジュールの個数を減らすことである請求項2記載のレーザ発振器制御装置。
JP2011093684A 2011-04-20 2011-04-20 レーザ発振器制御装置 Active JP5729107B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011093684A JP5729107B2 (ja) 2011-04-20 2011-04-20 レーザ発振器制御装置
CN2012100777374A CN102751652A (zh) 2011-04-20 2012-03-22 激光振荡器控制装置
US13/446,956 US8599892B2 (en) 2011-04-20 2012-04-13 Laser oscillator controller
EP12164721.8A EP2515394A3 (en) 2011-04-20 2012-04-19 Laser oscillator controller

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011093684A JP5729107B2 (ja) 2011-04-20 2011-04-20 レーザ発振器制御装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012227353A true JP2012227353A (ja) 2012-11-15
JP5729107B2 JP5729107B2 (ja) 2015-06-03

Family

ID=46025521

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011093684A Active JP5729107B2 (ja) 2011-04-20 2011-04-20 レーザ発振器制御装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US8599892B2 (ja)
EP (1) EP2515394A3 (ja)
JP (1) JP5729107B2 (ja)
CN (1) CN102751652A (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016006099A1 (ja) * 2014-07-11 2016-01-14 ギガフォトン株式会社 レーザシステム
WO2017073609A1 (ja) * 2015-10-30 2017-05-04 株式会社フジクラ ファイバレーザシステム、その耐反射性評価方法および耐反射性向上方法、ならびにファイバレーザ
DE102016120175A1 (de) 2015-10-28 2017-05-04 Fanuc Corporation Laseroszillationsvorrichtung zur Multiplexierung und Ausgabe von Laserlicht
JP6261810B1 (ja) * 2016-10-25 2018-01-17 三菱電機株式会社 レーザ加工機及びレーザ加工機の演算装置
JP2018503966A (ja) * 2014-10-15 2018-02-08 ルーメンタム オペレーションズ エルエルシーLumentum Operations LLC レーザシステム、及び、レーザシステムの出力パワーを調整する方法
US10092979B2 (en) 2015-12-25 2018-10-09 Gigaphoton Inc. Laser irradiation apparatus
US10186830B2 (en) 2017-04-06 2019-01-22 Fanuc Corporation Laser apparatus including plurality of laser modules
US10431953B2 (en) 2017-04-06 2019-10-01 Fanuc Corporation Laser apparatus including plurality of laser modules

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101733334B1 (ko) * 2013-02-27 2017-05-08 고마쓰 산기 가부시키가이샤 파이버 레이저 가공기의 출력 제어 방법 및 파이버 레이저 가공기
JP6267165B2 (ja) 2015-09-09 2018-01-24 ファナック株式会社 複数のレーザダイオードモジュールを有する長寿命高効率レーザ装置
JP6325506B2 (ja) * 2015-11-09 2018-05-16 ファナック株式会社 故障診断機能を有するレーザ装置
DE102017129790A1 (de) * 2017-12-13 2019-06-13 Osram Opto Semiconductors Gmbh Verfahren zum Betreiben einer Laservorrichtung und Laservorrichtung
CN110773736B (zh) * 2018-05-18 2022-05-13 Ii-Vi特拉华有限公司 利用光纤阵列激光源和自适应多光束整形的金属中的增材制造

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63157776A (ja) * 1986-12-22 1988-06-30 Mitsubishi Electric Corp レ−ザ加工装置
WO1994013045A1 (en) * 1992-11-30 1994-06-09 Diomed Limited Method and apparatus for operating a plurality of laser diodes
JP2002219588A (ja) * 2001-01-23 2002-08-06 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd レーザ加工方法及び装置
JP2005192924A (ja) * 2004-01-09 2005-07-21 Nidek Co Ltd レーザ治療装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3743902A1 (de) * 1986-12-26 1988-07-07 Mitsubishi Electric Corp Laserbearbeitungsvorrichtung
JP3830364B2 (ja) 2001-07-24 2006-10-04 ファナック株式会社 固体レーザ励起用光源装置
JP2006012888A (ja) * 2004-06-22 2006-01-12 Fuji Photo Film Co Ltd 合波レーザ光照射方法および装置
JP4822737B2 (ja) * 2005-04-22 2011-11-24 ミヤチテクノス株式会社 レーザ溶接方法及びレーザ溶接装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63157776A (ja) * 1986-12-22 1988-06-30 Mitsubishi Electric Corp レ−ザ加工装置
WO1994013045A1 (en) * 1992-11-30 1994-06-09 Diomed Limited Method and apparatus for operating a plurality of laser diodes
JP2002219588A (ja) * 2001-01-23 2002-08-06 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd レーザ加工方法及び装置
JP2005192924A (ja) * 2004-01-09 2005-07-21 Nidek Co Ltd レーザ治療装置

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170030483A (ko) * 2014-07-11 2017-03-17 기가포톤 가부시키가이샤 레이저 시스템
JPWO2016006099A1 (ja) * 2014-07-11 2017-04-27 ギガフォトン株式会社 レーザシステム
KR102245053B1 (ko) * 2014-07-11 2021-04-26 기가포톤 가부시키가이샤 레이저 시스템
US10050408B2 (en) 2014-07-11 2018-08-14 Gigaphoton Inc. Laser system
WO2016006099A1 (ja) * 2014-07-11 2016-01-14 ギガフォトン株式会社 レーザシステム
JP2018503966A (ja) * 2014-10-15 2018-02-08 ルーメンタム オペレーションズ エルエルシーLumentum Operations LLC レーザシステム、及び、レーザシステムの出力パワーを調整する方法
DE102016120175B4 (de) 2015-10-28 2019-01-24 Fanuc Corporation Laseroszillationsvorrichtung zur Multiplexierung und Ausgabe von Laserlicht
DE102016120175A1 (de) 2015-10-28 2017-05-04 Fanuc Corporation Laseroszillationsvorrichtung zur Multiplexierung und Ausgabe von Laserlicht
JP2017084964A (ja) * 2015-10-28 2017-05-18 ファナック株式会社 レーザ光を合波して出力するレーザ発振器
WO2017073609A1 (ja) * 2015-10-30 2017-05-04 株式会社フジクラ ファイバレーザシステム、その耐反射性評価方法および耐反射性向上方法、ならびにファイバレーザ
US10530118B2 (en) 2015-10-30 2020-01-07 Fujikura Ltd. Fiber laser system, reflection resistance evaluation method and reflection resistance improvement method for same, and fiber laser
US10092979B2 (en) 2015-12-25 2018-10-09 Gigaphoton Inc. Laser irradiation apparatus
JP6261810B1 (ja) * 2016-10-25 2018-01-17 三菱電機株式会社 レーザ加工機及びレーザ加工機の演算装置
US10431953B2 (en) 2017-04-06 2019-10-01 Fanuc Corporation Laser apparatus including plurality of laser modules
US10186830B2 (en) 2017-04-06 2019-01-22 Fanuc Corporation Laser apparatus including plurality of laser modules

Also Published As

Publication number Publication date
US8599892B2 (en) 2013-12-03
JP5729107B2 (ja) 2015-06-03
CN102751652A (zh) 2012-10-24
EP2515394A3 (en) 2017-01-18
US20120269217A1 (en) 2012-10-25
EP2515394A2 (en) 2012-10-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5729107B2 (ja) レーザ発振器制御装置
CN101978332B (zh) 用于创建nc控制程序的方法
KR101233506B1 (ko) 레이저 발진기 내 출사미러의 열화상태 측정방법 및 레이저 가공장치
CN203418238U (zh) 一种管板一体激光切割机
JPWO2014133013A1 (ja) ファイバレーザ加工機の出力制御方法及びファイバレーザ加工機
JP2007029972A (ja) レーザ加工装置
JP2013233556A (ja) レーザー加工装置
JP6764394B2 (ja) 半田付け装置
CN104602859B (zh) 激光加工装置
CN101617448A (zh) 产生用于材料处理的脉冲列的方法和系统
WO2017051850A1 (ja) レーザ加工データ作成装置とその制御プログラム及びレーザ加工データの作成方法
JP2017100138A (ja) レーザ加工装置及びレーザ加工装置の制御方法
JP6604078B2 (ja) レーザ加工装置
JPH06254800A (ja) 迅速かつ能率的にワークピースに穴をあける方法およびボール盤
JP4072544B2 (ja) ガスレーザ装置
JPH06120334A (ja) シリコンウエハ切断装置
CN108695682B (zh) 具备多个激光模块的激光装置
JP2004042103A (ja) レーザ加工装置のトリガコントローラ
JP2016155169A (ja) 出力指令を切換えるタイミングを調整可能なレーザ加工システム
JPH11243245A (ja) レーザ加工装置
JP5361814B2 (ja) レーザ加工装置
JP2016187830A (ja) レーザ加工装置
JP7195186B2 (ja) レーザ加工機のレーザ制御方法及びレーザ切断加工方法
JP2015087517A (ja) 露光装置
JP2562367B2 (ja) レーザ発振装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140225

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20141202

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20141203

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150128

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20150310

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150323

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5729107

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250